JP6961465B2 - 電子線検出素子、電子顕微鏡、および、透過型電子顕微鏡 - Google Patents

電子線検出素子、電子顕微鏡、および、透過型電子顕微鏡 Download PDF

Info

Publication number
JP6961465B2
JP6961465B2 JP2017214833A JP2017214833A JP6961465B2 JP 6961465 B2 JP6961465 B2 JP 6961465B2 JP 2017214833 A JP2017214833 A JP 2017214833A JP 2017214833 A JP2017214833 A JP 2017214833A JP 6961465 B2 JP6961465 B2 JP 6961465B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
output
detecting element
memories
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2017214833A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2019087407A (ja
JP2019087407A5 (ja
Inventor
享裕 黒田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP2017214833A priority Critical patent/JP6961465B2/ja
Priority to US16/179,783 priority patent/US11164718B2/en
Priority to CN201811315638.9A priority patent/CN109752092B/zh
Publication of JP2019087407A publication Critical patent/JP2019087407A/ja
Publication of JP2019087407A5 publication Critical patent/JP2019087407A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6961465B2 publication Critical patent/JP6961465B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/244Detectors; Associated components or circuits therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/26Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
    • H01J37/28Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2441Semiconductor detectors, e.g. diodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/244Detection characterized by the detecting means
    • H01J2237/2446Position sensitive detectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/26Electron or ion microscopes
    • H01J2237/28Scanning microscopes
    • H01J2237/2801Details

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)
  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)

Description

本発明は、電子線検出素子、電子顕微鏡、および、透過型電子顕微鏡に関する。
電子銃より発せられる電子線を試料に照射し、当該試料を透過する電子、あるいは当該試料より放出される二次電子を検出する電子線検出素子を備えた顕微鏡が知られている。
この電子線検出素子の一例として、特許文献1に記載された光検出装置がある。特許文献1には、電子線が照射される範囲に位置するダイオードをアクティブ化し、その他の範囲に位置するダイオードを非アクティブ化することが記載されている。
特開2013−20972号公報
電子線検出素子においては、複数のフレームの撮像を高速に行うことが求められる。特許文献1は、電子線検出素子の詳細な構成を開示していないため、高速な撮像が困難である。
以上の課題に鑑み、本発明は、高速な撮像を可能とすることを目的とする。
本発明の1つの側面に係る電子線検出素子は、複数の単位セルを備える電子線検出素子であって、前記複数の単位セルのそれぞれが、電子線を受けるアバランシェ増幅型のダイオードと、前記ダイオードから出力される異なるフレームの信号を保持する複数のメモリと、を含む、ことを特徴とする。
本発明に係るいくつかの実施例によれば、高速に撮像を行うことができる。
(a)電子線検出素子の構成を模式的に示す図。(b)電子線検出素子の単位セルの構成を模式的に示す図。 電子線検出素子の動作を示すタイミングチャート図。 電子線検出素子の構成を模式的に示す図。 電子線検出素子の単位セルの構成を模式的に示す図。 電子線検出素子の動作を示すタイミングチャート図。 (a)電子線検出システムの構成を模式的に示すブロック図。(b)フレームメモリの構成を模式的に示す図。 信号処理装置の出力する画像データを模式的に表す図。 電子線検出素子の構成を模式的に示す図。 電子線検出素子の単位セルの構成を模式的に示す図。 電子線検出素子の動作を示すタイミングチャート図。 透過型電子顕微鏡の実施例のブロック図。
〔実施例1〕
本実施例に係る電子線検出素子を説明する。図1(a)は、電子線検出素子の構成を模式的に示す図である。電子線検出素子10は、複数の単位セル100を備える。単位セル100は、電子線の入射に応じて信号を出力する。複数の単位セル100は、電子線検出エリア11に行列状に配置される。
電子線検出素子10は、単位セル100を駆動する垂直走査回路12、単位セル100から出力された信号を処理する信号処理回路13、信号処理回路13から信号を読み出すための水平走査回路14を備える。電子線検出素子10は、さらに、信号を外部へ出力する出力回路15、および、各回路の動作を制御する制御回路16を備える。
複数の単位セル100の成す複数の列に対応して、複数の信号処理回路13が設けられる。信号処理回路13は、単位セル100から出力された信号を保持する機能を持つ。1つの列の単位セル100に、複数の出力信号線(図1ではn本の出力信号線)が接続される。従って、各列に対応する信号処理回路13は、1つの単位セルから出力される複数の信号を保持しうる。
電子線検出素子10の動作を説明する。図2は、電子線検出素子10に用いられる制御信号および出力信号のタイミングチャートを模式的に表す図である。垂直走査回路12の供給する制御信号PVSEL[1]〜[3]に基づいて、複数の単位セル100が行単位で信号を出力する。制御信号PVSEL[k]がハイレベルの期間に、対応する第k行の単位セル100が信号を出力する。複数の信号処理回路13は、1行に含まれる複数の単位セル100の信号を同時に保持する。複数の信号処理回路13に保持された信号は、水平走査回路14の供給する制御信号PHSEL[1]〜[3]に基づいて読み出される。制御信号PHSEL[k]がハイレベルの期間に、対応する第k列の信号処理回路13から信号が読み出される。
図1(a)において、単位セル100を区別するため、P11〜P33の符号を付してある。出力信号SOUTのデータD11〜D33は、同じ符号の単位セル100から出力された信号を表す。例えば、符号P11が付された単位セル100は、データD11を出力する。本実施例では、1つの単位セル100が複数のフレームに対応する信号を、まとめて出力する。換言すると、データD11には、複数のフレームの情報が含まれる。
複数のフレームの情報を出力するための単位セル100の構成を説明する。図1(b)は、単位セル100の構成を模式的に示す図である。単位セル100は、電子線を受ける受光手段110、受光手段110への電子線の入射を検出する検出部120、および、受光手段110からの信号を保持するメモリ部130を含む。
受光手段110は、アバランシェ増幅型のダイオードである。1つの電子線の入射に応じてアバランシェ現象が生じ、結果として、複数の電子(及び正孔)が発生する。検出部120は、アバランシェ現象による受光手段110の電位の変化を検知することで、電子線の入射を検出する。メモリ部130は、複数のメモリを備える。各メモリは、検出部120の出力信号を保持する。複数のメモリは、互いに異なる期間(異なる電子線照射期間)における受光手段110へ電子線の入射の情報を保持する。このような構成により、1つの単位セル100が複数のフレームの情報を保持することができる。
1つの単位セル100は、複数の出力信号線に接続される。複数の出力信号線は、複数のメモリにそれぞれ接続される。図1(a)および図1(b)では、簡略化のため、n本の出力信号線を1つのバス配線で示している。このような構成により、複数のフレームの情報を並列に信号処理回路13へ出力することが可能である。
以上に説明した通り、電子線検出素子10は、複数のメモリを含む単位セル100を備える。このような構成によれば、1つの単位セル100が複数のフレームの情報を保持することができる。したがって、電子線検出素子10は、信号の読み出しのための期間を介することなく、複数のフレームの撮像を行うことができる。結果として、高速に複数フレームの撮像を行うことができる。
〔実施例2〕
本実施例に係る電子線検出素子を説明する。本実施例は、単位セル100が信号を保持するメモリを選択する選択部を含む点で、実施例1と異なる。図3は、電子線検出素子の構成を模式的に示す図である。図1と同じ機能を有する部分には、図1と同じ符号を付す。
電子線検出素子10は、複数の単位セル100を備える。単位セル100は、電子線の入射に応じて信号を出力する。複数の単位セル100は、電子線検出エリア11に行列状に配置される。
電子線検出素子10は、単位セル100を駆動する垂直走査回路12、単位セル100から出力された信号を処理する信号処理回路13、信号処理回路13から信号を読み出すための水平走査回路14を備える。電子線検出素子10は、さらに、信号を外部へ出力する出力回路15、および、各回路の動作を制御する制御回路16を備える。
複数の単位セル100の成す複数の列に対応して、複数の信号処理回路13が設けられる。信号処理回路13は、単位セル100から出力された信号を保持する機能を持つ。1つの列の単位セル100に、複数の出力信号線(図1では3本の出力信号線)が接続される。従って、各列に対応する信号処理回路13は、1つの単位セルから出力される複数の信号を保持しうる。
次に、単位セル100の構成を説明する。図4は、単位セル100の構成を模式的に示す等価回路図である。単位セル100は、電子線を受ける受光手段110、受光手段110への電子線の入射を検出する検出部120、および、受光手段110からの信号を保持するメモリ部130を含む。
受光手段110は、アバランシェ増幅型のダイオード111と、クエンチ素子112を備える。ダイオード111には、ブレイクダウン電圧以上の大きさの逆バイアスが印可されおり、ガイガーモードで動作するように設定されている。112はクエンチ素子である。図4の例では、電圧VQNCが供給されたMOSトランジスタが、クエンチング抵抗を形成している。ダイオード111へ1つの電子線が入射すると、アバランシェ現象により複数の電子(及び正孔)が発生する。アバランシェ現象により発生した電流がクエンチ素子112を流れることで電圧降下が起こり、ダイオード111の動作領域は、ガイガーモードから外れる。これによりダイオード111のアバランシェ現象が停止し、クエンチ素子112による電圧降下が元に戻ることで、ダイオード111の動作領域は、再びガイガーモードとなる。
検出部120は、インバータ回路121を含む。インバータ回路121は、ダイオード111のカソードの電位の変化を反転増幅する。このような構成により、検出部120は、受光手段110への電子線の入射を高感度で検知することができる。
メモリ部130は、複数のメモリ134〜136を備える。各メモリは、検出部120の出力信号を保持する。本実施例では、各メモリは、SRラッチ回路によって構成される。したがって、複数のメモリ134〜136のそれぞれは1ビットの情報を保持する。SRラッチ回路の入力ノードSには、検出部120からの信号が入力される。入力ノードRには制御信号PRESが入力される。
メモリ部130は、さらに、選択部131〜133を含む。選択部131は、制御信号PM1と検出部120の出力信号を受ける。選択部131は、制御信号PM1がハイレベルの期間に、検出部120の出力信号をメモリ134へ出力する。
同様に、選択部132は、制御信号PM2と検出部120の出力信号を受ける。選択部132は、制御信号PM2がハイレベルの期間に、検出部120の出力信号をメモリ135へ出力する。また、選択部133は、制御信号PM3と検出部120の出力信号を受ける。選択部133は、制御信号PM3がハイレベルの期間に、検出部120の出力信号をメモリ134へ出力する。
すなわち、選択部131〜133は、制御信号PM1〜PM3に基づいて、信号を保持するメモリを選択する機能を持つ。異なる期間(異なる電子線照射期間)において、選択部131〜133が異なるメモリを選択する。それに対応して、複数のメモリ134〜136は、互いに異なる期間における受光手段110へ電子線の入射の情報を保持する。このような構成により、1つの単位セル100が複数のフレームの情報を保持することができる。
複数のメモリ134〜136は、それぞれ、接続スイッチ137〜139を介して、出力信号線に接続される。図4は、簡略化のため、3つの出力信号線を1つの配線で示している。このような構成によれば、複数のフレームの情報を並列に信号処理回路13に出力することが可能である。
電子線検出素子10の動作を説明する。図5は、電子線検出素子10に用いられる制御信号および出力信号のタイミングチャートを模式的に表す図である。
図5(a)は、1つの単位セル100での信号の保持動作を説明するための図である。時刻t1に、制御信号PRESがハイレベルとなる。これにより、複数のメモリ134〜136の出力Q[0]〜Q[2]が“0”にセットされる。続いて、時刻t2、時刻t4、時刻t5に、制御信号PM1〜PM3がそれぞれハイレベルになる。制御信号PM1〜PM3は、所定の期間経過後に、ローレベルになる。
図5(a)は、検出部120の出力信号PIXOUTを示している。受光手段110に電子線が入射すると、ダイオード111のカソードの電位が下がる。これに応じて、検出部120の出力信号PIXOUTがハイレベルになる。その後、クエンチ素子112により、ダイオード111のカソードの電位が上がる。これに応じて、検出部120の出力信号PIXOUTがローレベルに戻る。
ここで、時刻t3に検出部120の出力信号PIXOUTがハイレベルになる。時刻t2は、制御信号PM1がハイレベルの期間に含まれる。つまり、選択部131がメモリ134を選択している。そのため、メモリ134の出力Q[0]が“1”になる。このように、メモリ134の出力Q[0]が、当該メモリ134が選択されている期間に受光手段110へ電子線が入射したか否かを表す。メモリ135の出力Q[1]、および、メモリ136の出力Q[2]も同様である。
図5(a)の例では、制御信号PM1がハイレベルの期間、および、制御信号PM3がハイレベルの期間に、それぞれ電子線が受光手段110へ入射している。一方、制御信号PM2がハイレベルの期間には、電子線が受光手段110へ入射していない。結果として、複数のメモリ134〜136の出力は、順に、“101”となる。垂直走査回路12の供給する制御信号PVSELがハイレベルの期間に、単位セル100は複数のメモリ134〜136に保持された信号(“101”)を出力する。
図5(b)は、複数の単位セル100による信号出力動作を説明するための図である。図5(a)に示された信号に加えて、図5(b)は水平走査回路14の供給する制御信号PHSEL[1]〜PHSEL[3]、および、出力回路15の出力信号SOUTを示している。
時刻t1から時刻t5までの動作は、図5(a)で説明した動作と同じである。本実施例では、複数の行の単位セル100において、同時に信号の保持が行われる。時刻t5において1行目の単位セル100に供給される制御信号PVSEL[1]がハイレベルになる。これにより、1行目の単位セル100に保持された信号が、信号処理回路13に並列に出力される。時刻t6以降、水平走査回路14が、制御信号PHSEL[1]〜PHSEL[3]を順にハイレベルにする。これにより、複数の信号処理回路13に保持された信号が、順に読み出される。
時刻t7以降には、2行目の単位セル100に対して、同様の読み出し動作が行われる。また、時刻t9以降には、3行目の単位セル100に対して、同様の読み出し動作が行われる。以上の動作により、複数の行の単位セル100から信号を読み出すことができる。
図5(b)が示すように、データD11、データD12、・・・、データD32、データD33の順に、複数の単位セル100からの信号が出力される。単位セル100とデータDとの対応は、実施例1で説明したものと同じである。
ここで、データD11は、符号P11の付された単位セル100における複数のフレームの情報を含む。すなわち、電子線検出素子10からは、単位セル100ごとに複数のフレームの情報が順に出力される。これらの情報をフレームごとに整理するため、本実施例の電子線検出素子10には信号処理装置1016が接続される。
図6(a)は、電子線検出システムの構成を模式的に示すブロック図である。電子線検出システムは、電子線検出素子10、信号処理装置1016、および、モニタ1017を含む。電子線検出システムは、例えば電子顕微鏡である。信号処理装置1016は、信号処理部200、および、フレームメモリ300を含む。モニタ1017は、複数の単位セル100から出力された信号に基づく画像を表示する。
図6(b)はフレームメモリ300の構成を模式的に示す図である。フレームメモリ300は、例えば、ランダムアクセスメモリ(RAM)である。フレームメモリ300は、入出力制御部301、行デコーダ302、列デコーダ303、および、RAMアレイ304を含む。電子線検出素子10から出力されたデータは、入出力制御部301の制御によりRAMアレイ304の所定のアドレスに保持される。また、入出力制御部301の制御により、フレームメモリ300はRAMアレイ304の所定のアドレスに保持されたデータを出力する。
前述の通り、符号P11の付された単位セル100は、3つのフレームの情報を含むデータD11を出力する。図5(b)の例では、データD11は“101”を含む。この3つのフレームの情報D11[0]〜D11[2]は、順に、アドレスA0D0のRAM、アドレスA3D0のRAM、および、アドレスA6D0のRAMに格納される。このようにして、RAMアレイ304は3つのフレームの情報をすべて保持する。
その後、入出力制御部301の制御により、フレームごとにデータが出力される。図7は、信号処理装置1016の出力する画像データを模式的に表す図である。
このように、本実施例の電子線検出システムは信号処理装置1016を備える。このような構成によれば、1つの単位セル100が複数のフレームの情報をまとめて出力する場合に、適切な信号処理を行い、モニタ1017に画像を表示することができる。
また、上述の通り、電子線検出素子10は、複数のメモリを含む単位セル100を備える。このような構成によれば、1つの単位セル100が複数のフレームの情報を保持することができる。したがって、電子線検出素子10は、信号の読み出しのための期間を介することなく、複数のフレームの撮像を行うことができる。結果として、高速に複数フレームの撮像を行うことができる。
また、本実施例では、単位セル100が選択部131〜133を含む。このような構成によれば、複数のメモリのうち一部のメモリのみをアクティブに制御することができる。結果として、消費電力を低減することが可能である。
〔実施例3〕
本実施例に係る電子線検出素子を説明する。本実施例は、単位セル100の複数のメモリ141〜143がシフトレジスタを構成する点で、実施例1および実施例2と異なる。図8は、電子線検出素子の構成を模式的に示す図である。図1あるいは図3と同じ機能を有する部分には、図1あるいは図3と同じ符号を付す。
電子線検出素子10は、複数の単位セル100を備える。単位セル100は、電子線の入射に応じて信号を出力する。複数の単位セル100は、電子線検出エリア11に行列状に配置される。
電子線検出素子10は、単位セル100を駆動する垂直走査回路12、単位セル100から出力された信号を処理する信号処理回路13、信号処理回路13から信号を読み出すための水平走査回路14を備える。電子線検出素子10は、さらに、信号を外部へ出力する出力回路15、および、各回路の動作を制御する制御回路16を備える。
複数の単位セル100の成す複数の列に対応して、複数の信号処理回路13が設けられる。信号処理回路13は、単位セル100から出力された信号を保持する機能を持つ。1つの列の単位セル100に、複数の出力信号線(図8では3本の出力信号線)が接続される。従って、各列に対応する信号処理回路13は、1つの単位セルから出力される複数の信号を保持しうる。
次に、単位セル100の構成を説明する。図9は、単位セル100の構成を模式的に示す等価回路図である。単位セル100は、電子線を受ける受光手段110、受光手段110への電子線の入射を検出する検出部120、および、受光手段110からの信号を保持するメモリ部130を含む。
受光手段110の構成は、実施例2の受光手段110と同じである。そのため、実施例2の受光手段110についての説明を援用し、繰り返しの説明は省略する。
検出部120は、論理ゲート回路122を含む。論理ゲート回路122は、制御信号PRESがローレベルの期間およびハイレベルの期間の一方において、ダイオード111のカソードの電位の変化に応じて出力を変化させる。制御信号PRESがローレベルの期間およびハイレベルの期間の他方においては、論理ゲート回路122の出力は変化しない。論理ゲート回路122がNAND回路の場合、制御信号PRESがハイレベルの期間に論理ゲート回路122はダイオード111のカソードの電位の変化を反転増幅する。一方、制御信号PRESがローレベルの期間には、論理ゲート回路122の出力はダイオード111のカソードの電位に関わらず一定である。図9のように論理ゲート回路122がNOR回路の場合、制御信号PRESがローレベルの期間に論理ゲート回路122はダイオード111のカソードの電位の変化を反転増幅する。一方、制御信号PRESがハイレベルの期間には、論理ゲート回路122の出力はダイオード111のカソードの電位に関わらず一定である。このような構成により、検出部120は、受光手段110への電子線の入射を高感度で検知することができる。なお、後述する図10では、論理ゲート回路122がNOR回路の例を説明している。
メモリ部130は、入力用SRラッチ回路134、および、複数のメモリ141〜143を備える。各メモリは、検出部120の出力信号を保持する。本実施例では、各メモリは、Dラッチ回路によって構成される。したがって、複数のメモリ141〜143のそれぞれは1ビットの情報を保持する。
入力用SRラッチ回路134の入力ノードSには、検出部120からの信号が入力される。入力用SRラッチ回路134の入力ノードRには制御信号PRESが入力される。入力用SRラッチ回路134の出力ノードは、メモリ143を構成するDラッチ回路の入力ノードDに接続される。メモリ143を構成するDラッチ回路の出力ノードQは、メモリ142を構成するDラッチ回路の入力ノードDに接続される。
このように、複数のメモリ141〜143はシフトレジスタを構成する。そのため、制御信号PCKに基づいて、入力用SRラッチ回路134、メモリ143、メモリ142、そして、メモリ141の順に、順にデータが転送される。このデータは、所定の期間に受光手段110に電子線が入射したか否かを表す。したがって、複数のメモリ141〜143は、互いに異なる期間における受光手段110へ電子線の入射の情報を保持する。このような構成により、1つの単位セル100が複数のフレームの情報を保持することができる。
複数のメモリ141〜143の出力ノードQは、それぞれ、接続スイッチ137〜139を介して、出力信号線に接続される。したがって、例えば、メモリ143を構成するDラッチ回路の出力ノードQは、単位セル100の他のメモリ142および出力信号線の両方に接続される。図9は、簡略化のため、3つの出力信号線を1つの配線で示している。このような構成によれば、複数のフレームの情報を並列に信号処理回路13に出力することが可能である。
続いて、電子線検出素子10の動作を説明する。図10は、電子線検出素子10に用いられる制御信号および出力信号のタイミングチャートを模式的に表す図である。
図10(a)は、1つの単位セル100での信号の保持動作を説明するための図である。時刻t1に、制御信号PCLRがローレベルになる。これにより、複数のメモリ141〜143が信号を保持する状態になる。また、時刻t1に、制御信号PRESがローレベルとなる。制御信号PRESがローレベルである期間に受光手段110に電子線が入射すると、論理ゲート回路122の出力信号PIXOUTがハイレベルになる。図10(a)では、時刻t2に電子線が受光手段110へ入射している。なお、電子線が受光手段110へ入射したときの、受光手段110の動作は実施例2と同じである。
時刻t2に出力信号PIXOUTがハイレベルになることに応じて、時刻2以降、入力用SRラッチ回路134の出力信号SROUTがハイレベルになる。
時刻t3に、制御信号PCKがハイレベルになる。これにより、初段のメモリ143が、入力用SRラッチ回路134からの出力信号SROUTを保持する(ラッチする)。時刻t3では、出力信号SROUTがハイレベルであるため、時刻t3以降、メモリ143の出力信号Q[0]は“1”(ハイレベル)になる。なお、出力信号Q[1]、および、出力信号Q[2]はいずれも“0”である。
時刻t4に、制御信号PRESがハイレベルになる。これにより、入力用SRラッチ回路134の出力信号SROUTがローレベルにリセットされる。
続いて、制御信号PRESが再びローレベルになるが、時刻t4から時刻t5までの期間には電子線が入射しない。そのため、入力用SRラッチ回路134の出力信号SROUTがローレベルのままである。
時刻t5に制御信号PCKがハイレベルになる。これにより、初段のメモリ143が、入力用SRラッチ回路134からの出力信号SROUTを保持する(ラッチする)。時刻t5では、出力信号SROUTがローレベルであるため、時刻t5以降、メモリ143の出力信号Q[0]は“0”(ローレベル)になる。
メモリ142は、前段のメモリ143の出力信号Q[0]をラッチする。そのため、時刻t5以降、メモリ142の出力信号Q[1]は“1”になる。この時点で、メモリ141の出力信号Q[2]は“0”である。
以降は同様の動作が繰り返される。図10(a)の例では、時刻t7に論理ゲート回路122の出力信号PIXOUTがハイレベルになる。そのため、最終的には、複数のメモリ141〜143は、“101”のデータを保持する。
垂直走査回路12の供給する制御信号PVSELがハイレベルの期間(時刻t10以降)に、単位セル100は複数のメモリ141〜143に保持された信号(“101”)を出力する。
図10(b)は、複数の単位セル100による信号出力動作を説明するための図である。図10(a)に示された信号に加えて、図10(b)は水平走査回路14の供給する制御信号PHSEL[1]〜PHSEL[3]、および、出力回路15の出力信号SOUTを示している。
時刻t1から時刻t9までの動作は、図10(a)で説明した動作と同じである。また、時刻t8以降の動作は、図5(b)の時刻t5以降の動作と同じである。そのため、実施例1の説明を援用し、繰り返しの説明は省略する。以上の動作により、複数の行の単位セル100から信号を読み出すことができる。
実施例1と同様に、本実施例の電子線検出素子10は、図6に示された電子線検出システムに用いられる。電子線検出システムの構成は実施例1と同じなので、実施例1の説明を援用し、繰り返しの説明は省略する。
以上に説明した通り、電子線検出素子10は、複数のメモリを含む単位セル100を備える。このような構成によれば、1つの単位セル100が複数のフレームの情報を保持することができる。したがって、電子線検出素子10は、信号の読み出しのための期間を介することなく、複数のフレームの撮像を行うことができる。結果として、高速に複数フレームの撮像を行うことができる。
また、本実施例では、単位セル100がシフトレジスタを構成する。このような構成によれば、単位セル100を制御するための制御配線の数を減らすことができる。
〔実施例4〕
図11は、電子顕微鏡の一例である透過型電子顕微鏡の構成を示す概略図である。電子線検出素子1100を有する透過型電子顕微鏡の構成を示す概略図である。電子顕微鏡本体1000の電子銃1002より放出された電子線1003は、照射レンズ1004によって集束され、試料台に保持されている試料Sに照射されるようになっている。そして、試料Sを透過した電子線1003は、対物レンズ1006と拡大レンズ系1007により拡大され、電子線検出素子1100に投影される。試料Sに電子線を照射するための電子光学系を照射光学系といい、試料Sを透過した電子線を電子線検出素子1100に結像させるための電子光学系を結像光学系という。試料Sが冷却された状態で測定できるように、低温状態を保持する試料保持台を試料台に設けてもよい。
電子銃1002は、電子銃制御装置1011によって制御される。照射レンズ1004は、照射レンズ制御装置1012によって制御される。対物レンズ1006は、対物レンズ制御装置1013によって制御される。拡大レンズ系1007は、拡大レンズ系制御装置1014によって制御される。試料台制御機構1005は、試料台駆動機構制御装置1015によって制御される。
試料Sを透過した電子線1003は、電子線検出素子1100で検出される。電子線検出素子1100からの出力信号に基づき、信号処理装置1016と画像処理装置1018によって画像信号が生成され、生成された画像信号(透過電子像)が画像表示用モニタ1020と解析用モニタ1021に表示される。
電子顕微鏡本体1000の下端部はカメラ室1009を形成し、カメラ室1009の中に蛍光板1010が設けられる。電子線検出素子1100を電子線1003の経路から外すことにより、電子線1003による試料Sの拡大画像が蛍光板1010の面上で観察できる。
電子銃制御装置1011と、照射レンズ制御装置1012と、対物レンズ制御装置1013と、拡大レンズ系制御装置1014と、試料台駆動機構制御装置1015のそれぞれは、画像処理装置1018と接続されている。これにより、電子銃制御装置1011と、照射レンズ制御装置1012と、対物レンズ制御装置1013と、拡大レンズ系制御装置1014と、試料台駆動機構制御装置1015のそれぞれは画像処理装置1018と相互にデータのやりとりを行う。これにより、画像処理装置1018は、電子顕微鏡の撮影条件を設定することができる。画像処理装置1018からの信号によって、試料台の駆動制御や各レンズの観察条件の設定ができる。さらに画像処理装置1018は、電子線検出素子1100に接続されており、電子線検出素子1100の動作を制御している。すなわち、画像処理装置1018は、電子線検出素子1100の動作を制御する制御部である。
オペレータは撮影対象となる試料Sを準備し、画像処理装置1018に接続されている入力機器1019を用いて撮影条件を設定する。電子銃制御装置1011と、照射レンズ制御装置1012と、対物レンズ制御装置1013と、拡大レンズ系制御装置1014に、それぞれ所定のデータを入力し、所望の加速電圧、倍率、観察モードが得られるようにする。また、オペレータは、連続視野像枚数、撮影開始位置、試料台の移動速度などの条件を、入力機器1019を用いて画像処理装置1018に入力する。オペレータの入力によらずに画像処理装置1018が自動的に条件を設定する仕様としてもよい。
100 単位セル
110 受光手段
111 アバランシェ増幅型のダイオード
134〜136、141〜143 メモリ

Claims (13)

  1. 複数の単位セルを備える電子線検出素子であって、
    前記複数の単位セルのそれぞれが、
    電子線を受けるアバランシェ増幅型のダイオードと、
    前記ダイオードから出力される異なるフレームの信号を保持する複数のメモリと、
    出力線に接続された複数の接続スイッチと、を含み、
    前記複数のメモリのそれぞれは、前記複数の接続スイッチのそれぞれと接続され、
    前記複数の単位セルのそれぞれが有する前記複数のスイッチのそれぞれは、同時にオンされる
    ことを特徴とする電子線検出素子。
  2. 前記複数の単位セルのそれぞれが、前記ダイオードへの電子線の入射を検出する検出部を含み、
    前記複数のメモリの少なくとも一部は、前記検出部の出力に接続される、
    ことを特徴とする請求項1に記載の電子線検出素子。
  3. 前記複数の単位セルのそれぞれが、前記検出部の出力と前記複数のメモリとの間に接続され、前記ダイオードからの信号を保持するメモリを選択する選択部を含む、
    ことを特徴とする請求項2に記載の電子線検出素子。
  4. 前記複数のメモリはシフトレジスタを構成する、
    ことを特徴とする請求項2に記載の電子線検出素子。
  5. 前記複数のメモリの1つの出力は、前記複数のメモリの他の1つ、および、出力信号線の両方に接続される、
    ことを特徴とする請求項4に記載の電子線検出素子。
  6. 前記検出部はインバータ回路を含む、
    ことを特徴とする請求項2乃至請求項5のいずれか一項に記載の電子線検出素子。
  7. 前記検出部は論理ゲート回路を含む、
    ことを特徴とする請求項2乃至請求項5のいずれか一項に記載の電子線検出素子。
  8. 前記複数の単位セルは行列状に配され、
    前記複数のメモリにそれぞれ接続された複数の出力信号線を備える、
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項7のいずれか一項に記載の電子線検出素子。
  9. 前記複数の単位セルのそれぞれが、前記ダイオードに接続されたクエンチ素子を含む、
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項8のいずれか一項に記載の電子線検出素子。
  10. 請求項1乃至請求項のいずれか1項に記載の電子線検出素子と、
    電子銃と、を備え、
    前記電子線検出素子は試料からの二次電子を受ける
    ことを特徴とする電子顕微鏡。
  11. 前記電子線が照射される試料台をさらに備え、
    前記試料台は試料を冷却するように構成されている
    ことを特徴とする請求項10に記載の電子顕微鏡。
  12. 請求項1乃至請求項のいずれか1項に記載の電子線検出素子と、
    電子銃と、を備え、
    前記電子線検出素子は試料を透過した電子を受ける
    ことを特徴とする透過型電子顕微鏡。
  13. 前記電子線が照射される試料台をさらに備え、
    前記試料台は、試料を冷却するように構成されている
    ことを特徴とする請求項12に記載の透過型電子顕微鏡。
JP2017214833A 2017-11-07 2017-11-07 電子線検出素子、電子顕微鏡、および、透過型電子顕微鏡 Active JP6961465B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017214833A JP6961465B2 (ja) 2017-11-07 2017-11-07 電子線検出素子、電子顕微鏡、および、透過型電子顕微鏡
US16/179,783 US11164718B2 (en) 2017-11-07 2018-11-02 Electron beam detection element, electron microscope, and transmission electron microscope
CN201811315638.9A CN109752092B (zh) 2017-11-07 2018-11-07 电子束检测元件、电子显微镜以及透射电子显微镜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017214833A JP6961465B2 (ja) 2017-11-07 2017-11-07 電子線検出素子、電子顕微鏡、および、透過型電子顕微鏡

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2019087407A JP2019087407A (ja) 2019-06-06
JP2019087407A5 JP2019087407A5 (ja) 2020-12-24
JP6961465B2 true JP6961465B2 (ja) 2021-11-05

Family

ID=66328847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017214833A Active JP6961465B2 (ja) 2017-11-07 2017-11-07 電子線検出素子、電子顕微鏡、および、透過型電子顕微鏡

Country Status (3)

Country Link
US (1) US11164718B2 (ja)
JP (1) JP6961465B2 (ja)
CN (1) CN109752092B (ja)

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5717204A (en) * 1992-05-27 1998-02-10 Kla Instruments Corporation Inspecting optical masks with electron beam microscopy
JP3441855B2 (ja) * 1995-08-25 2003-09-02 科学技術振興事業団 荷電粒子顕微鏡の観察装置
JP4135486B2 (ja) * 2002-12-06 2008-08-20 日本ビクター株式会社 イメージセンサ
JP4018655B2 (ja) 2004-03-19 2007-12-05 キヤノン株式会社 光電変換装置および読取装置
TWI559763B (zh) 2009-10-01 2016-11-21 索尼半導體解決方案公司 影像取得裝置及照相機系統
DE102011107645A1 (de) 2011-07-12 2013-01-17 Leica Microsystems Cms Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Detektieren von Licht
US9513382B2 (en) 2012-09-26 2016-12-06 Sony Semiconductor Solutions Corporation Image-capturing device and electronic device
US9449786B2 (en) * 2013-04-23 2016-09-20 Hitachi High-Technologies Corporation Charged particle radiation device and specimen preparation method using said device
JP6112960B2 (ja) * 2013-05-08 2017-04-12 キヤノン株式会社 光電変換装置
JP6218434B2 (ja) * 2013-05-24 2017-10-25 キヤノン株式会社 焦点検出センサ
JP6498786B2 (ja) * 2015-12-22 2019-04-10 株式会社日立ハイテクノロジーズ 荷電粒子線装置
US9985163B2 (en) * 2016-04-13 2018-05-29 Stmicroelectronics (Research & Development) Limited Single photon avalanche diode having pulse shaping filter

Also Published As

Publication number Publication date
CN109752092B (zh) 2022-03-15
US11164718B2 (en) 2021-11-02
JP2019087407A (ja) 2019-06-06
CN109752092A (zh) 2019-05-14
US20190139737A1 (en) 2019-05-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7136157B2 (en) Method and apparatus for testing image sensors
KR101446356B1 (ko) 데이터 전송 회로, 고체 촬상 소자, 및 카메라 시스템
JP5923061B2 (ja) 固体撮像装置
US20090206257A1 (en) Pattern inspection method and inspection apparatus
US10630968B2 (en) Solid-state image sensor and imaging apparatus
CN102498713A (zh) 成像装置、成像系统、该装置和系统的控制方法以及程序
CN102640017B (zh) 成像装置、成像系统和控制该装置的方法
US20130026349A1 (en) Photoelectric conversion apparatus, focus detecting apparatus, and imaging system
US8290743B2 (en) Charged particle beam writing apparatus and method for diagnosing DAC amplifier unit in charged particle beam writing apparatus
JP7471871B2 (ja) 電子デバイス、システム及び電子デバイスの制御方法
CN109887945B (zh) 光电转换器件、图像拾取系统和光电转换器件的驱动方法
US11050952B2 (en) Reading circuit for infrared detectors and method for inspecting same
JP6961465B2 (ja) 電子線検出素子、電子顕微鏡、および、透過型電子顕微鏡
JP2005160024A (ja) 画素構造のアレイ、および画素構造の行または列の選択方法
WO2017109843A1 (ja) 荷電粒子線装置
JP7135182B2 (ja) 電子線検出素子、電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡
JP2021069061A (ja) 光電変換装置、光電変換システム、移動体、光電変換装置の検査方法
WO2024009781A1 (ja) 検出装置
JP2017184017A (ja) 撮像装置、赤外線検出装置、及び赤外線検出器の暗電流の補正方法
JP7257299B2 (ja) 撮像システム及び撮像システム応用機器
JP2024085815A (ja) 放射線検出器、放射線検出器の駆動方法、および放射線撮像システム
KR100725836B1 (ko) 씨모스 이미지 센서의 노이즈 제거 회로
JP5509255B2 (ja) 試料検査装置及び吸収電流像の作成方法
JP5156767B2 (ja) 試料検査装置及び吸収電流像の作成方法
JP2008152930A (ja) 透過電子顕微鏡における画像の輝度調整方法及びシステム

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20201104

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20201104

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20210706

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20210831

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20210914

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20211013

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 6961465

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151