JP6955516B2 - ベンゾトリアゾール誘導体、その製造方法及び応用 - Google Patents

ベンゾトリアゾール誘導体、その製造方法及び応用 Download PDF

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Description

本発明は、ベンゾトリアゾール誘導体に関し、特に潤滑油添加剤として適用できるベンゾトリアゾール誘導体に関する。さらに、本発明は、前記ベンゾトリアゾール誘導体の製造方法及び誘導体を滑油組成物の製造に適用する応用に関する。
潤滑油の耐磨耗性は、常に潤滑油の最も重要な性能指標の1つであった。耐磨耗性を改善するために、従来、多種多様な潤滑油添加剤を開発してきた。近年、環境保護の要求の向上やオイル交換間隔の延長に伴い、潤滑油添加剤の性能(耐摩耗性を含む)に対する要求が高まっている。
中国特許出願CN1161970Aは、硫化物、ホスフィット、脂肪族アミン、ホウ化物およびホルムアルデヒドを反応させてチオホスファートアミン塩を生成する方法を開示している。この特許出願によれば、製造されたチオホスファートアミン塩は、潤滑油添加剤として使用することができ、優れた極圧性および耐摩耗性を示す。
しかしながら、先行技術の課題として、優れた極圧性及び耐摩耗性を有するだけでなく、熱酸化安定性、耐食性、防錆性及び摩擦低減性能のうち、1つ以上性能にも優れている潤滑油添加剤が依然として必要とされている。
本発明者らは、先行技術を踏まえて鋭意検討した結果、新規なベンゾトリアゾール誘導体を見出し、更に、該ベンゾトリアゾール誘導体を潤滑油添加剤として用いることにより、前記の先行技術の課題を解決し、本発明を完成するに至った。
特に、本発明は、以下の態様に関する。
1. 下記式(I)で表されるベンゾトリアゾール誘導体であって、
Figure 0006955516
式(I)において、基R'はC1-25ヒドロカルビル基、C3-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるヒドロカルビル基から選択される基であり、又はC1-20ヒドロカルビル基とC3-20直鎖又は分岐のヘテロアルキル基から選択される基であり、好ましくはC10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキニル基、C10-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるポリイソブチレン基から選択される基であり、更に好ましくはC10-25直鎖又は分岐のアルキル基であり;nは0-10の整数であり、好ましくは0-5の整数であり、更に好ましくは0であり;n個基R0は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-10直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立にC2-5直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基であり;n+2個基Aは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子、式(I-1)で表される基、式(I-2)で表される基、C1-25ヒドロカルビル基と数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるヒドロカルビル基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立に水素原子、式(I-1)で表される基、式(I-2)で表される基、C1-6直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基と数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるポリイソブチレン基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立に水素原子、式(I-1)で表される基、式(I-2)で表される基とC1-4直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立に水素原子、式(I-1)で表される基と式(I-2)で表される基から選択される基であり、前提として、前記n+2個基Aのうち少なくとも一つは式(I-1)で表される基であり、それに前記n+2個基Aのうち少なくとも一つは式(I-2)で表される基であり;少なくとも一つ前記の基AはC10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基或いは数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるヒドロカルビル基であると、前記基R'は水素原子でもよく、
Figure 0006955516
式(I-1)と式(I-2)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-20ヒドロカルビル基(特にC1-20直鎖又は分岐のアルキル基)から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立にC1-15直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、更に好ましくはそれぞれ独立にC3-12直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり;基XとYは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に酸素原子と硫黄原子から選択される基であり、好ましくは二つ基Xは共に硫黄原子であり、二つ基Yは共に酸素原子であり;二つ基R''は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-20ヒドロカルビル基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立に水素原子とC1-20直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、更に好ましくはそれぞれ独立に水素原子とC1-6直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、更に好ましくは共に水素原子であり;基R1、R2、R3、R4は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-20ヒドロカルビル基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立に水素原子とC1-10直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、更に好ましくはR1とR4は共に水素原子であり、R2とR3の内一つはC1-10直鎖又は分岐のアルキル基(好ましくはC1-6直鎖又は分岐のアルキル基)であり、もう一つは水素原子であり、
前記直鎖又は分岐のヘテロアルキル基とは、直鎖又は分岐のアルキル基の炭素鎖は一つ以上の(例えば1-5個、1-4個、1-3個、1-2個或いは1個)-O-、-S-と-NR-(その内、基RはHとC1-4直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、好ましくはHとメチル基から選択される基である)から選択されるヘテロ基によって挿入された基であるベンゾトリアゾール誘導体。
2. 以下の具体的な化合物又はいずれの二つ以上の混合物である前記いずれかの態様に記載のベンゾトリアゾール誘導体:
Figure 0006955516
Figure 0006955516
3. 式(I-A)で表される含リン化合物、式(I-B)で表されるアミン化合物と式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物を式(I-D)で表されるアルデヒド類の存在下で反応させる工程を備えるベンゾトリアゾール誘導体の製造方法。
Figure 0006955516
その内、基R'はC1-25ヒドロカルビル基、C3-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるヒドロカルビル基から選択される基であり、或いはC1-20ヒドロカルビル基とC3-20直鎖又は分岐のヘテロアルキル基から選択される基であり、好ましくはC10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキニル基、C10-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるポリイソブチレン基から選択される基であり、更に好ましくはC10-25直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり;nは0-10の整数であり、好ましくは0-5の整数であり、更に好ましくは0であり;n個基R0は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-10直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立にC2-5直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基であり;n+2個基A'は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子、C1-25ヒドロカルビル基と数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるヒドロカルビル基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立に水素原子、C1-6直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基と数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるポリイソブチレン基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立に水素原子とC1-4直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、前提として、前記n+2個基A'のうち少なくとも二つは水素原子であり;少なくとも一つ前記の基A'はC10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基或いは数量平均分子量Mnが300-3000(好ましくは500-2000、更に好ましくは500-1500)であるヒドロカルビル基であると、前記基R'は水素原子でもよく;基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-20ヒドロカルビル基(特にC1-20直鎖又は分岐のアルキル基)から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立にC1-15直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、更に好ましくはそれぞれ独立にC3-12直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり;基XとYは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に酸素原子と硫黄原子から選択される基であり、好ましくは二つ基Xは共に硫黄原子であり、二つ基Yは共に酸素原子であり;基R''水素原子とC1-20ヒドロカルビル基から選択される基であり、好ましくは水素原子とC1-20直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、更に好ましくは水素原子とC1-6直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、更に好ましくは水素原子であり;基R1、R2、R3、R4は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-20ヒドロカルビル基から選択される基であり、好ましくはそれぞれ独立に水素原子とC1-10直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、更に好ましくはR1とR4は共に水素原子であり、R2とR3の内一つはC1-10直鎖又は分岐のアルキル基(好ましくはC1-6直鎖又は分岐のアルキル基)であり、もう一つは水素原子であり、
前記直鎖又は分岐のヘテロアルキル基とは、直鎖又は分岐のアルキル基の炭素鎖は一つ以上の(例えば1-5個、1-4個、1-3個、1-2個或いは1個)-O-、-S-と-NR-(その内、基RはHとC1-4直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、好ましくはHとメチル基から選択される基である)から選択されるヘテロ基によって挿入された基である。
4. 前記反応は、反応時間が0.1-24hで、好ましくは0.5-6hであり、反応温度が0-250℃で、好ましくは60-120℃である前記いずれかの態様に記載の製造方法。
5. 前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-B)で表されるアミン化合物とのモル比は1:0.1-10で、好ましくは1:0.6-1.5であり;前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物とのモル比は1:0.1-10で、好ましくは1:0.6-1.5であり;前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-D)で表されるアルデヒド類とのモル比は1:1-10で、好ましくは1:2-4である前記いずれかの態様に記載の製造方法。
6. 前記いずれかの態様に記載のベンゾトリアゾール誘導体或いは前記いずれかの態様に記載の製造方法によって製造されたベンゾトリアゾール誘導体の潤滑油添加剤(例えば潤滑油耐摩耗剤)への応用。
7. 潤滑油基油と、前記いずれかの態様に記載のベンゾトリアゾール誘導体或いは前記いずれかの態様に記載の製造方法によって製造されたベンゾトリアゾール誘導体を含む潤滑油組成物。
8. 質量で、前記ベンゾトリアゾール誘導体は前記潤滑油組成物全質量に対して0.001-30%を占め、好ましくは0.1-10%を占める前記いずれかの態様に記載の潤滑油組成物。
本発明のベンゾトリアゾール誘導体によれば、金属元素を含まず、灰分と沈積物が生じにくい、環境に優しい潤滑油添加剤を製造できる。
本発明のベンゾトリアゾール誘導体によれば、従来の潤滑油添加剤と比べて、耐磨耗性と極圧性能を顕著に改善し、さらに潤滑油の耐磨耗性と耐荷重性を著しく向上する。
本発明のベンゾトリアゾール誘導体によれば、好ましい態様において、優れた耐磨耗性を示す以上、さらに優れた熱酸化安定性(熱安定性)を表す。当該物性は、従来の潤滑油添加剤に具備しないものである。
本発明のベンゾトリアゾール誘導体によれば、好ましい態様において、優れた耐磨耗性を示す以上、さらに優れた耐食性を表す。当該物性は、従来の潤滑油添加剤に具備しないものである。
本発明のベンゾトリアゾール誘導体によれば、好ましい態様において、優れた耐磨耗性を示す以上、さらに優れた防錆性を表す。当該物性は、従来の潤滑油添加剤に具備しないものである。
本発明のベンゾトリアゾール誘導体によれば、好ましい態様において、優れた耐磨耗性を示す以上、さらに優れた摩擦低減性能を表す。当該物性は、従来の潤滑油添加剤に具備しないものである。
本発明のベンゾトリアゾール誘導体の製造方法は、簡単なプロセスで、排ガスなし、少ない排水、高安全性且つ環境に優しいなどの特徴を有する。
以下、発明の実施態様を以下に詳細に説明するが、本発明の範囲はこれらの具体的な実施態様によって限定されるものではなく、添付の特許請求の範囲によって決定されることに留意されたい。
本明細書において言及される全ての刊行物、特許出願、特許、及び他の参考文献は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる。別段の定義がない限り、本明細書で使用される全ての技術用語及び科学用語は、一般に、本発明が属する技術分野の当業者によって理解されるものと同じ意味を有する。定義を含め矛盾が生じた場合には、本明細書が優先するものとする。
本明細書の「当業者に公知の」又は「当技術分野で慣用的に公知の」又は類似の用語が、材料、方法、構成要素、デバイス又は装置を説明するために使用される場合、当技術分野で認められているように、当該用語は、本記載が、本出願が出願された時に日常的に使用されているものばかりではなく、まだ一般的に使用されていないが同様の目的のために適切であるもしくは適切であろうと認識されるものも含む。
本明細書の文脈において、言及されていない事項は、特に明記されている場合を除き、当技術分野で知られている事項を変更なしに直接適用することができる。さらに、本明細書に記載された実施態様のいずれも、本明細書に記載された1つまたは複数の他の実施態様と自由に組み合わせることができ、このように得られた技術的態様または技術的思想は本発明の開示または記載の一部であると考えられる。これは、当業者がその組み合わせが明らかに不合理であると信じる以外、本明細書において開示されないまたは予期されない新しい内容とみなされないものである。
本明細書において、用語「ハロゲン」はフッ素、塩素、臭素又はヨードを指す。
本明細書において、用語「ヒドロカルビル基」は、当業者に公知の基を意味し、直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のアルケニル基、直鎖又は分岐のアルキニル基、環状アルキル基、環状アルケニル基、アリール基或いはそれらを組み合わせた基を含む。前記ヒドロカルビル基として、好ましくは直鎖又は分岐のアルキル基、直鎖又は分岐のアルケニル基、アリール基或いはそれらを組み合わせた基である。前記ヒドロカルビル基として、具体的には、例えばC1-30ヒドロカルビル基が挙げられ、更に具体的にC1-30直鎖又は分岐のアルキル基、C2-30直鎖又は分岐のアルケニル基、C3-20環状アルキル基、C3-20環状アルケニル基、C6-20アリール基或いはそれらを組み合わせた基が挙げられる。
本明細書において、用語“C3-20環状アルキル基”とは、炭素数3-20の環形成炭素を有する単環式、ビス環式或いは多環式のアルキル基を意味する。前記C3-20環状アルキル基として、例えばシクロプロピル、シクロヘキシルとシクロペンチルなどの単環式アルキル基、オクタヒドロペンタレニル、デカリニル基、 アダマンタニル基、スピロ[2.4]ヘプチル基、スピロ[4.5]デシル基、ビスシクロ[3.2.1]オクチル基、トリシクロ[2.2.1.02,6]オクチル基、ノルボルナニル、
Figure 0006955516
などのスピロ-環型、架け橋環型、或いは縮合環型のビス環式或いは多環式のアルキル基が挙がられる。 前記C3-20環状アルキル基として、更に好ましくはC3-15環状アルキル基である。
本明細書において、用語“C3-20環状アルケニル基”とは、前記C3-20環状アルキル基の環における少なくとも一つ炭素-炭素単結合(C-C)が炭素-炭素二重結合(C=C)によって置換された基である。前記C3-20環状アルケニル基として、例えばシクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロペンタジエニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロヘプテニル基、シクロヘプタジエニル基、シクロオクタテトラエニルなどの単環式アルケニル、ジシクロペンタジエニル基、ノルボルネニル基、ノルボルナジエニル基、
Figure 0006955516
などのスピロ-環型、架け橋環型、或いは縮合環型のビス環式或いは多環式のアルケニル基が挙げられる。前記C3-20環状アルケニル基として、更に好ましくはC3-15環状アルケニル基である。
本明細書において、用語“C6-20アリール基”とは、環形成炭素数6-20の芳香族ヒドロカルビル基を意味する。前記C6-20アリール基として、例えばフェニル基、ビフェニル基、トリフェニル基などの二つ以上のベンゼン環が直接に結合された基、及びナフチル基、アントリル基、フェナントリル基など二つ以上のベンゼン環が縮合された基が挙げられる。前記C6-20アリール基として、更に好ましくはフェニル基とビフェニル基である。
本明細書において、C1-4直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばメチル基、エチル基或いはプロピル基などが挙げられる。また、C2-4直鎖又は分岐のアルケニル基として、例えばエテニル基、アリル基或いはプロペニル基などが挙げられる。
本明細書において、用語“直鎖又は分岐のヘテロアルキル基”とは、直鎖又は分岐のアルキル基の炭素鎖は一つ以上の(例えば1-5個、1-4個、1-3個、1-2個或いは1個)-O-、-S-と-NR-(その内、基RはHとC1-4直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、好ましくはHとメチル基から選択される基である)から選択されるヘテロ基によって挿入された基である。構造安定性から、複数のヘテロ基の場合、いずれの前記ヘテロ基の二つが直接に結合しないことが好ましい。前記ヘテロ基は、前記直鎖又は分岐のアルキル基或いは前記直鎖又は分岐のヘテロアルキル基の炭素鎖の末端に位置しない。なお、前記挿入によって(例えばヘテロ基-NR-によって挿入され、且つRがC1-4直鎖又は分岐のアルキル基である場合)、前記直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と前記挿入前の直鎖又は分岐のアルキル基とは、合計炭素数が異なることがあるが、便宜を図るために、挿入する前の前記直鎖又は分岐のアルキル基の炭素数で挿入した後の前記直鎖又は分岐のヘテロアルキル基の炭素数を表す。具体的には、C4直鎖アルキル基(CH3-CH2-CH2-CH2-)が一つヘテロ基-O-で挿入されて、CH3-O-CH2-CH2-CH2-、CH3-CH2-O-CH2-CH2-或いはCH3-CH2-CH2-O-CH2-などC4直鎖ヘテロアルキル基が得られる。また、二つヘテロ基-O-で挿入されて、CH3-O-CH2-O-CH2-CH2-、CH3-CH2-O-CH2-O-CH2-或いはCH3-O-CH2-CH2-O-CH2-などC4直鎖ヘテロアルキル基が得られる。三つヘテロ基-O-で挿入されて、CH3-O-CH2-O-CH2-O-CH2-などC4直鎖ヘテロアルキル基が得られる。或いは、C4直鎖アルキル基(CH3-CH2-CH2-CH2-)は一つヘテロ基-NCH3-で挿入されて、CH3-NCH3-CH2-CH2-CH2-、CH3-CH2-NCH3-CH2-CH2-或いはCH3-CH2-CH2-NCH3-CH2-などC4直鎖ヘテロアルキル基が得られ、二つヘテロ基-NCH3-で挿入されて、CH3-NCH3-CH2-NCH3-CH2-CH2-、CH3-CH2-NCH3-CH2-NCH3-CH2-或いはCH3-NCH3-CH2-CH2-NCH3-CH2-などC4直鎖ヘテロアルキル基が得られ、三つヘテロ基-NCH3-で挿入されて、CH3-NCH3-CH2-NCH3-CH2-NCH3-CH2-などC4直鎖ヘテロアルキル基が得られる。
本明細書において、特に断らない限り、数量平均分子量(Mn) は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)によって測定される。
本明細書において、特に断らない限り、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)は、Waters 2695 Gel Permeation Chromatograph (Waters社製、 USA)に基づいて、テトラフランの移動相を用い、流速を1mL/分とし、カラム温度を35℃とし、溶出時間を40分とし、サンプルの重量分画を0.16%-0.20%として行われる。
本明細書において、特に断らない限り、パーセント、部、割合、比などは、いずれも重量基準である。重量基準の適用は技術分野の一般知識を相反することを除く。
本発明によれば、式(I)で表されるベンゾトリアゾール誘導体を提供する。
Figure 0006955516
本発明によれば、式(I)において、基R'はC1-25ヒドロカルビル基、C3-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、基R'はC1-20ヒドロカルビル基とC3-20直鎖又は分岐のヘテロアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、基R'はC10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキニル基、C10-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが300-3000であるポリイソブチレン基から選択される基である。
本発明の一つ態様によれば、式(I)において、基R'はC10-25直鎖又は分岐のアルキル基を表す。ここで、前記C10-25直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC10-25直鎖アルキル基が挙げられ、又はn-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-エイコシル基、n-ヘンエイコシル基、n-テトラコシル基、ネオ-ドデシル基、ネオ-トリデシル基、ネオ-テトラデシル基、ネオ-ペンタデシル基、ネオ-ヘキサデシル基、ネオ-ヘプタデシル基、ネオ-オクタデシル基、ネオ-エイコシル基、ネオ-ヘンエイコシル基、ネオ-テトラコシルなどが挙げられる。
本発明の一つ態様によれば、式(I)において、基R'はC10-25直鎖又は分岐のアルケニル基を表す。ここで、前記C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基として、例えばC10-25直鎖アルケニル基が挙げられ、或いはn-6-ドデセニル基、n-6-トリデセニル基、n-7-テトラデセニル基、n-7-ペンタデセニル基、n-8-ヘキサデセニル基、n-8-ヘプタデセニル基、n-9-オクタデセニル基、n-9-エイコセニル基、n-10-ヘンエイコセニル基、n-12-テトラコセニル基、ネオ-6-ドデセニル基、ネオ-6-トリデセニル基、ネオ-7-テトラデセニル基、ネオ-7-ペンタデセニル基、ネオ-8-ヘキサデセニル基、ネオ-8-ヘプタデセニル基、ネオ-9-オクタデセニル基、ネオ-9-エイコセニル基、ネオ-10-ヘンエイコセニル基、ネオ-12-テトラコセニルなどが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、基R'は数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基を表す。ここで、前記数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基として、例えば数量平均分子量Mnが300-3000であるポリオレフィンから(特に、ポリオレフィン分子鎖の末端から)1つの水素原子を除去することによって得られるヒドロカルビル基(単にポリオレフィン残基とも称する)が挙げられる。ここで、前記ポリオレフィンまたはポリオレフィン残基の数量平均分子量Mnとして、好ましくは500〜2000であり、より好ましくは500〜1500である。前記ポリオレフィンとしては、例えばエチレン、プロピレンまたはC−C10α−オレフィン(例えば、n−ブテン、イソブテン、n−ペンテン、n−ヘキセン、n−オクテンまたはn−デセン)の単独重合によって、または、これらのオレフィンのうちの2つ以上のものの間の共重合によって生成されたものが挙げられ、より好ましくはポリイソブテン(PIB)である。
本発明によれば、式(I)において、nは0-10の整数である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、nは0-5の整数である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、nは0、1、2或いは3であり、例えば0が挙げられる。
本発明によれば、式(I)において、n個基R0は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-10直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、n個基R0は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC2-5直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基である。ここで、前記C2-5直鎖又は分岐のアルキレン基として、例えばエチレン基又はプロピレン基が挙げあれる。
本発明によれば、式(I)において、n+2個基Aは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子、式(I-1)で表される基、式(I-2)で表される基、C1-25ヒドロカルビル基と数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、n+2個基Aは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子、式(I-1)で表される基、式(I-2)で表される基、C1-6直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基と数量平均分子量Mnが300-3000であるポリイソブチレン基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、n+2個基Aは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子、式(I-1)で表される基、式(I-2)で表される基とC1-4直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、n+2個基Aは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子、式(I-1)で表される基と式(I-2)で表される基から選択される基である。
本発明の一つ態様によれば、式(I)において、基Aは水素原子である。
本発明の一つ態様によれば、式(I)において、基AはC1-4直鎖又は分岐のアルキル基を表す。
本発明の一つ態様によれば、式(I)において、基AはC10-25直鎖又は分岐のアルキル基を表す。ここで、前記C10-25直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC10-25直鎖アルキル基が挙げられ、或いはn-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-エイコシル基、n-ヘンエイコシル基、n-テトラコシル基、ネオ-ドデシル基、ネオ-トリデシル基、ネオ-テトラデシル基、ネオ-ペンタデシル基、ネオ-ヘキサデシル基、ネオ-ヘプタデシル基、ネオ-オクタデシル基、ネオ-エイコシル基、ネオ-ヘンエイコシル基、ネオ-テトラコシルなどが挙げられる。
本発明の一つ態様によれば、式(I)において、基AはC10-25直鎖又は分岐のアルケニル基を表す。ここで、前記C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基として、例えばC10-25直鎖アルケニル基が挙げられ、或いはn-6-ドデセニル基、n-6-トリデセニル基、n-7-テトラデセニル基、n-7-ペンタデセニル基、n-8-ヘキサデセニル基、n-8-ヘプタデセニル基、n-9-オクタデセニル基、n-9-エイコセニル基、n-10-ヘンエイコセニル基、n-12-テトラコセニル基、ネオ-6-ドデセニル基、ネオ-6-トリデセニル基、ネオ-7-テトラデセニル基、ネオ-7-ペンタデセニル基、ネオ-8-ヘキサデセニル基、ネオ-8-ヘプタデセニル基、ネオ-9-オクタデセニル基、ネオ-9-エイコセニル基、ネオ-10-ヘンエイコセニル基、ネオ-12-テトラコセニルなどが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、基Aは数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基を表す。ここで、前記数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基として、例えば数量平均分子量Mnが300-3000であるポリオレフィンから(特に、ポリオレフィン分子鎖の末端から)1つの水素原子を除去することによって得られるヒドロカルビル基(単にポリオレフィン残基とも称する)が挙げられる。ここで、前記ポリオレフィンまたはポリオレフィン残基の数量平均分子量Mnとして、好ましくは500〜2000であり、より好ましくは500〜1500である。前記ポリオレフィンとしては、例えばエチレン、プロピレンまたはC−C10α−オレフィン(例えば、n−ブテン、イソブテン、n−ペンテン、n−ヘキセン、n−オクテンまたはn−デセン)の単独重合によって、または、これらのオレフィンのうちの2つ以上のものの間の共重合によって生成されたものが挙げられ、より好ましくはポリイソブテン(PIB)である。
本発明によれば、式(I)において、前記n+2個基Aのうち少なくとも一つは式(I-1)で表される基であり、且つ前記n+2個基Aのうち少なくとも一つは式(I-2)で表される基である。具体的には、nは0であると、式(I)において、二つ前記基Aの一つは式(I-1)で表される基で、もう一つは式(I-2)で表される基である。又は、具体的には、nは1であると、式(I)において、三つ前記基Aのうち、一つは式(I-1)で表される基で、残り二つは式(I-2)で表される基であり、或いは三つ前記基Aのうち、二つは式(I-1)で表される基で、もう一つは式(I-2)で表される基である。或いは、具体的には、nは1であると、式(I)において、三つ前記基Aのうち、一つは式(I-1)で表される基で、一つは式(I-2)で表される基で、一つは水素原子、C1-4直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基或いは数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I)において、前記n+2個基Aのうち少なくとも一つは前記C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、前記C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基或いは前記数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基であると、前記基R'は水素原子でもよい。即ち、本発明の該特定の態様によれば、式(I)において、基Aと基R'のうち少なくとも一つは前記C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、前記C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基或いは前記数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基である必要がある。
Figure 0006955516
本発明によれば、式(I-1)において、基R1、R2、R3、R4は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-20ヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-1)において、基R1、R2、R3、R4は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-10直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。ここで、前記C1-10直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC1-6直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、更に具体的にC1-6直鎖アルキル基が挙げられ、更に具体的にメチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシルなどが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-1)において、R1とR4は共に水素原子であり、R2とR3の内、一つはC1-10直鎖又は分岐のアルキル基で、もう一つは水素原子である。ここで、前記C1-10直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC1-6直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、更に具体的に例えばC1-6直鎖アルキル基が挙げられ、更に具体的に例えばメチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシルなどが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-1)において、R1、R3とR4は共に水素原子であり、R2はC1-10直鎖又は分岐のアルキル基である。ここで、前記C1-10直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC1-6直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、更に具体的に例えばC1-6直鎖アルキル基が挙げられ、更に具体的に例えばメチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシルなどが挙げられる。
本発明によれば、式(I-1)において、基R''は水素原子とC1-20ヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-1)において、基R''は水素原子とC1-20直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-1)において、基R''は水素原子とC1-6直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。ここで、前記C1-6直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC1-6直鎖アルキル基が挙げられ、更に具体的に例えばメチル基、エチル基とn-プロピル基などが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-1)において、基R''水素原子である。
Figure 0006955516
本発明によれば、式(I-2)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-20ヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-2)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-20直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-2)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-15直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-2)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC3-12直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。ここで、前記C3-12直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばn-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基、n-デシル基、n-ドデシル基、イソブチル基、イソペンチル基、イソオクチル基、イソデシル基、イソドデシル基、2-エチル-n-ヘキシル基、2-エチル-n-ヘプチル基、2-エチル-n-オクチル基と2-エチル-n-デシルなどが挙げられる。
本発明によれば、式(I-2)において、基XとYは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に酸素原子と硫黄原子から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-2)において、二つ基Xは共に硫黄原子であり、二つ基Yは共に酸素原子である。
本発明によれば、式(I-2)において、基R''は水素原子とC1-20ヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-2)において、基R''は水素原子とC1-20直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-2)において、基R''は水素原子とC1-6直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。ここで、前記C1-6直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC1-6直鎖アルキル基が挙げられ、更に具体的にメチル基、エチル基とn-プロピル基などが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-2)において、基R''は水素原子である。
本発明の一つ特定の態様によれば、前記ベンゾトリアゾール誘導体は以下の具体的な化合物又はいずれの二つ以上の混合物である。
Figure 0006955516
Figure 0006955516
本発明によれば、前記ベンゾトリアゾール誘導体は、単一の(純)化合物として存在、製造又は使用することができ、二つ以上の混合物(任意的な割合)として存在、製造又は使用することができる。本発明の効果に影響を与えない。
本発明によれば、前記ベンゾトリアゾール誘導体は例えば以下の製造方法で製造することができる。
本発明によれば、前記製造方法は、式(I-A)で表される含リン化合物、式(I-B)で表されるアミン化合物と式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物を式(I-D)で表されるアルデヒド類の存在下で反応させる工程を備える。以下、該工程を単に反応工程と称することがある。
Figure 0006955516
本発明によれば、式(I-A)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-20ヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-A)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-20直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-A)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-15直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-A)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC3-12直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。ここで、前記C3-12直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばn-プロピル基、n-ブチル基、n-ヘキシル基、n-デシル基、n-ドデシル基、イソブチル基、イソペンチル基、イソオクチル基、イソデシル基、イソドデシル基、2-エチル-n-ヘキシル基、2-エチル-n-ヘプチル基、2-エチル-n-オクチル基と2-エチル-n-デシルなどが挙げられる。
本発明によれば、式(I-A)において、基XとYは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に酸素原子と硫黄原子から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-A)において、二つ基Xは共に硫黄原子であり、二つ基Yは共に酸素原子である。
本発明によれば、前記式(I-A)で表される含リン化合物は市販品として使うこともでき、当技術分野で慣用的に公知の方法で製造したものとして使うこともでき、特に限定されない。また、前記式(I-A)で表される含リン化合物は一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
Figure 0006955516
本発明によれば、式(I-B)において、基R'はC1-25ヒドロカルビル基、C3-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、基R'はC1-20ヒドロカルビル基とC3-20直鎖又は分岐のヘテロアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、基R'はC10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキニル基、C10-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが300-3000であるポリイソブチレン基から選択される基である。
本発明の一つ態様によれば、式(I-B)において、基R'はC10-25直鎖又は分岐のアルキル基を表す。ここで、前記C10-25直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC10-25直鎖アルキル基が挙げられ、或いはn-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-エイコシル基、n-ヘンエイコシル基、n-テトラコシル基、ネオ-ドデシル基、ネオ-トリデシル基、ネオ-テトラデシル基、ネオ-ペンタデシル基、ネオ-ヘキサデシル基、ネオ-ヘプタデシル基、ネオ-オクタデシル基、ネオ-エイコシル基、ネオ-ヘンエイコシル基、ネオ-テトラコシルなどが挙げられる。
本発明の一つ態様によれば、式(I-B)において、基R'はC10-25直鎖又は分岐のアルケニル基を表す。ここで、前記C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基として、例えばC10-25直鎖アルケニル基が挙げられ、或いはn-6-ドデセニル基、n-6-トリデセニル基、n-7-テトラデセニル基、n-7-ペンタデセニル基、n-8-ヘキサデセニル基、n-8-ヘプタデセニル基、n-9-オクタデセニル基、n-9-エイコセニル基、n-10-ヘンエイコセニル基、n-12-テトラコセニル基、ネオ-6-ドデセニル基、ネオ-6-トリデセニル基、ネオ-7-テトラデセニル基、ネオ-7-ペンタデセニル基、ネオ-8-ヘキサデセニル基、ネオ-8-ヘプタデセニル基、ネオ-9-オクタデセニル基、ネオ-9-エイコセニル基、ネオ-10-ヘンエイコセニル基、ネオ-12-テトラコセニルなどが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、基R'は数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基を表す。ここで、前記数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基として、例えば数量平均分子量Mnが300-3000であるポリオレフィンから(特に、ポリオレフィン分子鎖の末端から)1つの水素原子を除去することによって得られるヒドロカルビル基(単にポリオレフィン残基とも称する)が挙げられる。ここで、前記ポリオレフィンまたはポリオレフィン残基の数量平均分子量Mnとして、好ましくは500〜2000であり、より好ましくは500〜1500である。
本明細書において、最初ポリオレフィン種類或いは製造方法によって、前記ポリオレフィン残基は飽和の残基(長鎖のアルキル基の形式)でもよいし、ポリオレフィン鎖に一定量のエチレン性不飽二重結合(例えばポリオレフィン製造中に残留した二重結合)が存在してもよい。本発明の技術効果に影響を与えないから、該エチレン性不飽二重結合の量には特に限定されていない。
本発明の一つ特定の態様によれば、前記ポリオレフィンとして、例えばエチレン、プロピレンまたはC−C10α−オレフィン(例えば、n−ブテン、イソブテン、n−ペンテン、n−ヘキセン、n−オクテンまたはn−デセン)の単独重合によって、または、これらのオレフィンのうちの2つ以上のものの間の共重合によって生成されたものが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、前記ポリオレフィンとして、更に好ましくはポリブテンである。特に断らない限り、本明細書の用語「ポリブテン」は、1-ブテン又はイソブテンが単独重合によって生成されたポリマー、又は1-ブテン、2-ブテンとイソブテンのうちの二種類以上が共重合によって生成されたポリマーを含む。当該ポリマーは、市販品の場合、無視できる量の他のオレフィン成分を含むこともあるが、本発明に影響を与えないである。
本発明の一つ特定の態様によれば、前記ポリオレフィンとして、より好ましくはポリイソブテン(PIB)或いは高反応性のポリイソブテン(HR-PIB)。ポリイソブテンにおいて、少なくとも20wt%(好ましくは少なくとも50wt%、更に好ましくは少なくとも70wt%)の末端エチレン性不飽二重結合はメチル基ビニリデン基から提供される。
本発明によれば、式(I-B)において、nは0-10の整数である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、nは0-5の整数である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、n是0、1、2或いは3であり、例えば0が挙げられる。
本発明によれば、式(I-B)において、n個基R0は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-10直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、n個基R0は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC2-5直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基である。ここで、前記C2-5直鎖又は分岐のアルキレン基として、例えばエチレン基又はプロピレン基が挙げあれる。
本発明によれば、式(I-B)において、n+2個基A'は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子、C1-25ヒドロカルビル基と数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、n+2個基A'は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子、C1-6直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基と数量平均分子量Mnが300-3000であるポリイソブチレン基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、n+2個基A'は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-4直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ態様によれば、式(I-B)において、基A'は水素原子である。
本発明の一つ態様によれば、式(I-B)において、基A'はC1-4直鎖又は分岐のアルキル基を表す。
本発明の一つ態様によれば、式(I-B)において、基A'はC10-25直鎖又は分岐のアルキル基を表す。ここで、前記C10-25直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC10-25直鎖アルキル基が挙げられ、或いはn-ドデシル基、n-トリデシル基、n-テトラデシル基、n-ペンタデシル基、n-ヘキサデシル基、n-ヘプタデシル基、n-オクタデシル基、n-エイコシル基、n-ヘンエイコシル基、n-テトラコシル基、ネオ-ドデシル基、ネオ-トリデシル基、ネオ-テトラデシル基、ネオ-ペンタデシル基、ネオ-ヘキサデシル基、ネオ-ヘプタデシル基、ネオ-オクタデシル基、ネオ-エイコシル基、ネオ-ヘンエイコシル基、ネオ-テトラコシルなどが挙げられる。
本発明の一つ態様によれば、式(I-B)において、基A'はC10-25直鎖又は分岐のアルケニル基を表す。ここで、前記C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基として、例えばC10-25直鎖アルケニル基が挙げられ、或いはn-6-ドデセニル基、n-6-トリデセニル基、n-7-テトラデセニル基、n-7-ペンタデセニル基、n-8-ヘキサデセニル基、n-8-ヘプタデセニル基、n-9-オクタデセニル基、n-9-エイコセニル基、n-10-ヘンエイコセニル基、n-12-テトラコセニル基、ネオ-6-ドデセニル基、ネオ-6-トリデセニル基、ネオ-7-テトラデセニル基、ネオ-7-ペンタデセニル基、ネオ-8-ヘキサデセニル基、ネオ-8-ヘプタデセニル基、ネオ-9-オクタデセニル基、ネオ-9-エイコセニル基、ネオ-10-ヘンエイコセニル基、ネオ-12-テトラコセニルなどが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、基A'は数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基を表す。ここで、前記数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基として、例えば数量平均分子量Mnが300-3000であるポリオレフィンから(特に、ポリオレフィン分子鎖の末端から)1つの水素原子を除去することによって得られるヒドロカルビル基(単にポリオレフィン残基とも称する)が挙げられる。ここで、前記ポリオレフィンまたはポリオレフィン残基の数量平均分子量Mnとして、好ましくは500〜2000であり、より好ましくは500〜1500である。
本明細書において、最初ポリオレフィン種類或いは製造方法によって、前記ポリオレフィン残基は飽和の残基(長鎖のアルキル基の形式)でもよいし、ポリオレフィン鎖に一定量のエチレン性不飽二重結合(例えばポリオレフィン製造中に残留した二重結合)が存在してもよい。本発明の技術効果に影響を与えないから、該エチレン性不飽二重結合の量には特に限定されていない。
本発明の一つ特定の態様によれば、前記ポリオレフィンとして、例えばエチレン、プロピレンまたはC−C10α−オレフィン(例えば、n−ブテン、イソブテン、n−ペンテン、n−ヘキセン、n−オクテンまたはn−デセン)の単独重合によって、または、これらのオレフィンのうちの2つ以上のものの間の共重合によって生成されたポリオレフィンが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、前記ポリオレフィンとして、更に好ましくはポリブテンである。特に断らない限り、本明細書の用語「ポリブテン」は、1-ブテン又はイソブテンが単独重合によって生成されたポリマー、又は1-ブテン、2-ブテンとイソブテンのうちの二種類以上が共重合によって生成されたポリマーを含む。当該ポリマーは、市販品の場合、無視できる量の他のオレフィン成分を含むこともあるが、本発明に影響を与えないである。
本発明の一つ特定の態様によれば、前記ポリオレフィンとして、より好ましくはポリイソブテン(PIB)或いは高反応性のポリイソブテン(HR-PIB)。ポリイソブテンにおいて、少なくとも20wt%(好ましくは少なくとも50wt%、更に好ましくは少なくとも70wt%)の末端エチレン性不飽二重結合はメチル基ビニリデン基から提供される。
本発明によれば、式(I-B)において、前記n+2個基A'のうち少なくとも二つは水素原子である。具体的には、nは0であると、式(I-B)において、二つ前記基A'は共に水素原子である。又は、具体的には、nは1であると、式(I-B)において、三つ前記基A'のうち、二つは水素原子であり、もう一つは水素原子、C1-4直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基或いは数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-B)において、前記n+2個基A'のうち、少なくとも一つは前記C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、前記C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基或いは前記数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基であると、前記基R'は水素原子でもよい。即ち、本発明の該特定の態様によれば、式(I-B)において、基A'と基R'のうち少なくとも一つは前記C10-25直鎖又は分岐のアルキル基、前記C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基或いは前記数量平均分子量Mnが300-3000であるヒドロカルビル基である必要がある。
本発明によれば、前記式(I-B)で表されるアミン化合物は市販品として使うこともでき、当技術分野で慣用的に公知の方法で製造したものとして使うこともでき、特に限定されない。また、前記式(I-B)で表されるアミン化合物は一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
Figure 0006955516
本発明によれば、式(I-C)において、基R1、R2、R3、R4は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-20ヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-C)において、基R1、R2、R3、R4は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-10直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。ここで、前記C1-10直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC1-6直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、更に具体的にC1-6直鎖アルキル基が挙げられ、更に具体的にメチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシルなどが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-C)において、R1とR4は共に水素原子であり、R2とR3の内、一つはC1-10直鎖又は分岐のアルキル基で、もう一つは水素原子である。ここで、前記C1-10直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC1-6直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、更に具体的にC1-6直鎖アルキル基が挙げられ、更に具体的にメチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシルなどが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-C)において、R1、R3とR4は共に水素原子であり、R2はC1-10直鎖又は分岐のアルキル基である。ここで、前記C1-10直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC1-6直鎖又は分岐のアルキル基が挙げられ、更に具体的にC1-6直鎖アルキル基が挙げられ、更に具体的にメチル基、n-ブチル基、イソブチル基、n-ヘキシルなどが挙げられる。
本発明によれば、前記式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物は市販品として使うこともでき、当技術分野で慣用的に公知の方法で製造したものとして使うこともでき、特に限定されない。また、前記式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物は一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
Figure 0006955516
本発明によれば、式(I-D)において、基R''は水素原子とC1-20ヒドロカルビル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-D)において、基R''は水素原子とC1-20直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-D)において、基R''は水素原子とC1-6直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である。ここで、前記C1-6直鎖又は分岐のアルキル基として、例えばC1-6直鎖アルキル基が挙げられ、更に具体的にメチル基、エチル基とn-プロピル基などが挙げられる。
本発明の一つ特定の態様によれば、式(I-D)において、基R''は水素原子である。
本発明によれば、前記式(I-D)で表されるアルデヒド類は市販品として使うこともでき、当技術分野で慣用的に公知の方法で製造したものとして使うこともでき、特に限定されない。また、前記式(I-D)で表されるアルデヒド類は一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の一つ特定の態様によれば、前記式(I-D)で表されるアルデヒド類はホルムアルデヒドである。前記ホルムアルデヒドとして、例えばホルムアルデヒド水溶液、パラホルムアルデヒド或いはホルムアルデヒドオリゴマーの形式として使うことができ、特に限定されない。
本発明によれば、前記反応中、例えば、前記反応は、反応時間が0.1-24hで、好ましくは0.2-12hで、最も好ましくは0.5-6hであり、これに限定されない。
本発明によれば、前記反応中、例えば、前記反応は、反応温度が0-250℃で、好ましくは20-180℃で、最も好ましくは60-120℃であり、これに限定されない。
本発明によれば、前記反応中、例えば、前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-B)で表されるアミン化合物とのモル比が1:0.1-10で、好ましくは1:0.5-5.0で、更に好ましくは1:0.6-1.5であり、これに限定されない。
本発明によれば、前記反応中、例えば、前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物とのモル比が1:0.1-10で、好ましくは1:0.5-5.0で、更に好ましくは1:0.6-1.5であり、これに限定されない。
本発明によれば、前記反応中、例えば、前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-D)で表されるアルデヒド類とのモル比が1:1-10で、好ましくは1:1.5-6.0で、更に好ましくは1:2-4であり、これに限定されない。
本発明によれば、前記反応中、各反応原料の供給方法は特に限定されず、例えば、一度に添加してもよく、バッチで添加してもよいし、滴下してもよい。
本発明によれば、前記反応中、各反応原料の添加順序は特に限定されず、具体的には、例えば式(I-A)で表される含リン化合物、式(I-B)で表されるアミン化合物、式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物及び式(I-D)で表されるアルデヒド類を順に添加してもよく、任意の添加順序に添加してもよい。
本発明によれば、前記反応工程は希釈剤及び/又は溶剤の存在下で行ってもよく、希釈剤及び/又は溶剤を使わなくてもよい。
本発明によれば、前記反応中、前記希釈剤として、例えばポリオレフィン、鉱物基油及びポリエーテルが挙げられる。前記鉱物基油として、例えばAPI(米国石油協会)基油カテゴリーのグループI、II、IIIに分類される鉱物基油のいずれを挙げられ、更に具体的には例えば40℃での粘度が20-120cStで、粘度指数が50以上である潤滑油用鉱物基油が挙げられ、更に具体的に40℃の粘度が28-110cStで、粘度指数が80以上である潤滑油用鉱物基油が挙げられる。前記ポリオレフィンとして、例えば、エチレン、プロピレン又はC4-C10 α-オレフィンを単独重合させ、又はこれらのオレフィンの2種類以上を共重合させて、得られたポリオレフィンでもよく、好ましくは100℃での粘度が2-25cSt(好ましくは100℃での粘度が6-10cSt)のポリα-オレフィン(PAO)から選択される少なくとも一種である。その内、前記C4-C10 α-オレフィンとして、例えば、n-ブテン、イソブテン、n-ペンテン、n-ヘキセン、n-オクテン及びn-デセンが挙げられる。また、前記ポリオレフィンは、数量平均分子量Mnが一般に500-3000であり、好ましくは500-2500であり、最も好ましくは500-1500である。前記ポリエーテルとして、例えば、アルコールとエポキシドとを反応させ得られたポリマーが挙げられる。前記アルコールとして、例えば、エチレングリコール及び/又は1,3-プロピレングリコールが挙げられる。前記エポキシドとして、例えば、エチレンオキシド及び/又はプロピレンオキシドが挙げられる。また、前記ポリエーテルは数量平均分子量Mnが一般に500-3000であり、好ましくは700-3000であり、最も好ましくは1000-2500である。これらの希釈剤は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明によれば、前記反応中、前記溶剤として、例えばC2-10脂肪族ニトリル(例えばアセトニトリルなど)、C6-20芳香族炭化水素(例えばベンゼン、トルエン、キシレンとクメン)、C6-10アルカン(例えば、n-ヘキサン、シクロヘキサンおよび石油エーテル)、C1-6脂肪族アルコール(例えば、メタノール、エタノール、n-プロパノール、イソプロパノール、n-ブタノールおよびエチレングリコール)、C2-20ハロゲン化炭化水素(例えば、塩化メチレン、四塩化炭素、クロロベンゼンおよび1,2-ジクロロベンゼン)、C 3-10ケトン(例えばアセトン、メチルエチルケトンおよびメチルイソブチルケトン)、又はC3-10アミド(例えば、ジメチルアセトアミド、N-メチルピロリドン)などが挙げられる。これらの溶剤は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。
本発明の一つ特定の態様によれば、前記希釈剤及び/又は溶剤は前記反応工程のいずれの段階に当技術分野で慣用的な量で添加することができ、特に限定されない。
本発明によれば、前記反応工程は一般的に不活性ガス雰囲気の保護下で行われることは明らかである。前記不活性ガスとしては、窒素ガス、アルゴンガス等が挙げられ、特に限定されない。
本発明によれば、前記ベンゾトリアゾール誘導体の製造工程の終了後、ベンゾトリアゾール誘導体は、最終的に得られた反応混合物から、当技術分野で慣用的に公知の手段によって水分および存在可能な溶媒を除去することによって得られる。従って、本発明は、ベンゾトリアゾール誘導体の製造方法により製造されたベンゾトリアゾール誘導体にも関する。
本発明によれば、前記ベンゾトリアゾール誘導体の製造方法により、単一種類のベンゾトリアゾール誘導体を反応生成物として製造することができ、複数種類のベンゾトリアゾール誘導体を混合物として製造することもできる。または、1種類以上の前記ベンゾトリアゾール誘導体と(存在する場合の)前記希釈剤は混合物となる。これらの反応生成物はいずれも本発明に含まれ、異なった存在形態は本発明の効果の達成に影響を与えない。従って、本明細書の文脈において、これらの反応生成物は、区別なくベンゾトリアゾール誘導体と総称される。そこで、本発明によれば、反応生成物をさらに精製したり、特定構造のベンゾトリアゾール誘導体を反応生成物からさらに分離したりする必要は全くない。もちろん、該精製又は分離は、本発明の意図する効果をさらに高めるために好ましいが、本発明には必須ではない。精製または分離法としては、例えば反応生成物をカラムクロマトグラフィーまたは分取クロマトグラフィーにより精製または分離する方法などで、前記反応生成物を精製又は分離することができる。
本発明のベンゾトリアゾール誘導体は、耐摩耗剤の製造に又は耐摩耗剤、特に潤滑油耐摩耗剤としての使用に特に適している。本発明の耐摩耗剤は、優れた極圧性および耐摩耗性を有するだけでなく、熱酸化安定性、耐食性、防錆性及び摩擦低減性能のうち、少なくとも一つの物性にも優れている。本発明の特に好ましい実施形態によれば、前記耐磨耗剤は、優れた極圧性および耐摩耗性を有するだけでなく、優れた熱酸化安定性、耐食性、防錆性および摩擦低減性能も有する。
本発明によれば、耐摩耗剤は、本発明のベンゾトリアゾール誘導体(またはそれらの任意の混合物)のいずれか、または本発明のベンゾトリアゾール誘導体の製造方法により製造されたベンゾトリアゾール誘導体を含む。
本発明によれば、前記耐摩耗剤を製造するために、前記ベンゾトリアゾール誘導体には、前記希釈剤、又は耐摩耗剤の製造中従来から使用されている他の成分をさらに添加することもできる。この場合、前記希釈剤は、一種単独で又は二種以上を組み合わせて用いることができる。勿論、本発明のベンゾトリアゾール誘導体が上記のように製造後にある量の希釈剤を既に含有している場合には、希釈剤の量を対応して減らすことができ、又は添加しないこともある。このことは、当業者とって明らかなことである。
一般に、本発明の耐摩耗剤において、質量で、前記ベンゾトリアゾール誘導体は、前記耐摩耗剤の全質量に対して5〜100質量%、好ましくは30〜90質量%を占める。
本発明によれば、耐摩耗剤を製造するために、例えば、前記ベンゾトリアゾール誘導体、前記希釈剤及び(使用する場合)前記他の成分を20℃〜60℃で1h-6h混合することができ、特に限定されない。
本発明に用いられる前記希釈剤は、当技術分野で実際に潤滑油基油として使用されているため、以下の説明では潤滑油基油に直接分類され、別個の成分として別に記載されていない。
本発明のベンゾトリアゾール誘導体または耐摩耗剤は、潤滑油組成物の製造に特に適している。したがって、本発明はさらに、少なくとも前記いずれのベンゾトリアゾール誘導体(またはそれらの任意的な割合で混合した混合物)、本発明のベンゾトリアゾール誘導体の製造方法により製造されたベンゾトリアゾール誘導体又は本発明前記耐摩耗剤と、潤滑油基油とを含む潤滑油組成物に関する。
本発明によれば、例えばベンゾトリアゾール誘導体は、質量で、潤滑油組成物の全質量に対して0.001〜30質量%、好ましくは0.1〜10質量%を占める。
本発明において、前記潤滑油基油としては、例えば、鉱油系基油、動物油、植物油、合成基油などの当技術分野で慣用的な潤滑基油が挙げられる。鉱物基油としては、例えば、粘度指数が80を超える鉱物基油、或いは飽和炭化水素含有量が90%以上、硫黄分が0.03%未満の鉱物基油が挙げられる。合成基油としては、例えばポリオレフィン、合成エステル、シリコーン油、ポリエーテル等が挙げられる。これらの潤滑油基油は、単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明によれば、前記潤滑油組成物を製造するために、例えば、本発明の前記ベンゾトリアゾール誘導体(またはそれらの任意的な割合で混合した混合物)、本発明のベンゾトリアゾール誘導体の製造方法により製造されたベンゾトリアゾール誘導体又は本発明前記耐摩耗剤を潤滑油添加剤として、前記潤滑油基油及び必要に応じる他の潤滑油添加剤を所定の割合または添加量で均一に混合することができる。必要に応じて加熱することもでき、特に限定されない。
より具体的には、本発明の潤滑油組成物を製造するには、例えば、上記各潤滑油添加剤を潤滑油基油に別々に添加してもよいし、上記潤滑油添加剤を混合して濃縮物とした後、潤滑油基油中には、均一に加熱して混合することができる。ここで、例えば、混合温度は、通常、40℃〜90℃であり、混合時間は、通常、1時間〜6時間である。
本発明によれば、例えば、ベンゾトリアゾール誘導体の換算(質量)で、前記ベンゾトリアゾール誘導体又は前記耐磨耗剤が潤滑油組成物の全質量に対して0.001-30%、好ましくは0.1-10%を占めるように、前記ベンゾトリアゾール誘導体または前記耐磨耗剤を添加する。
本発明の潤滑油組成物は、極圧性、耐摩耗性に優れるだけでなく、熱酸化安定性、耐食性、防錆性、摩擦低減性能のうちの1種以上物性に優れた特性を有する。本発明の特に好ましい実施形態によれば、前記潤滑油組成物は、優れた極圧性及び耐摩耗性を有するばかりでなく、熱酸化安定性、耐食性、防錆性及び摩擦低減性能にも優れている。これらの優れた特性は、従来技術の潤滑油組成物では同時に備えていない。
本発明を以下の実施例によってさらに説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されない。
実施例および対比例の特性は、以下のように評価した。
(1)耐磨耗性評価
SH / T 0189標準に従って、実施例または対比例で製造された潤滑油組成物を試料として耐摩耗性の評価を行った。耐磨耗試験の試験条件は、392N(40kg)の荷重で、油浴温度75℃、上部ボール速度は1200r /minであり、時間は60minであった。試料の耐摩耗性は、下部の3つのボールの摩耗痕の平均直径によって評価した。
(2)極圧性評価
GB / T12853標準に従って、実施例または対比例で製造された潤滑油組成物を試料として極圧性の評価を行った。試験条件はスピンドル速度1760r / min、試料温度18〜35℃であった。784Nから荷重を段階的に増加させ、10sの試験を一連に実施して、焼結が起こるまで摩耗痕の直径を測定し記録した。測定された焼結負荷によって、試料の極圧性能を評価した。
(3)銅板の耐食性能の評価
ASTM D130標準に従って、実施例または対比例で製造された潤滑油組成物を試料として銅板の耐食性能の試験を行った。研磨した銅片を試料に浸漬し、121℃の試験温度に加熱し、3時間維持し、試験終了した後、銅片を取り出し、洗浄後に腐食標準カラープレートと比較して腐食レベルを測定した。
(4)防錆性の評価
GB / T11143標準に従って、実施例または対比例で製造された潤滑油組成物を試料として耐食性試験を行った。試料300mLと蒸留水30mLを混合し、試験鋼棒を全体に浸漬し、60℃で24時間攪拌した。試験終了した後、試験鋼棒の腐食痕及び腐食の程度を観察した。
(5)熱酸化安定性
実施例または対比例で製造された潤滑油組成物を試料として、加圧示差走査熱量測定(PDSC)により試料の熱酸化安定性を評価し、試料の酸化誘導時間(min)として表した。 PDSC試験は、温度が180℃で、圧力が0.5MPaで、酸素流量が100mL /分であった。
(6)高周波往復摩擦試験の摩擦低減性能の評価
実施例または対比例で製造された潤滑油組成物を試料として、高周波往復摩擦試験を行った。この方法の試験条件は、荷重1000g、周波数20Hz、温度100℃、試験時間60 minであり、摩擦係数を記録した。摩擦係数が小さいほど、試料の摩擦低減性能が良好となった。
実施例1
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた250mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、オクタデシルアミン31.26g(116mmol)、パラホルムアルデヒド6.36g(212mmol)、ベンゾトリアゾール9.05g(76mmol)及びジ-n-ブチルジチオリン酸25.41g(105mmol)を仕込み、迅速に撹拌し、100℃に加熱し、3時間反応させた。反応が完了した後、残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間静置した。不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.88(3H),1.03-1.71(46H),2.61-3.93(6H), 4.22-4.54(2H), 5.20-6.15(2H),7.18-8.08(4H);
C34H63N4O2PS2計算値 C 62.35,H 9.70,N 8.55,O 4.89,P 4.73,S 9.79;測定値:C 63.25,H 10.0,N 8.45,O 4.89,P 4.41,S 9.32。
実施例2
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた500mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、オクタデシルアミン60.10g(223mmol)、パラホルムアルデヒド18.3g(610mmol)、5-メチルベンゾトリアゾール30.60g(230mmol)を仕込み、迅速に撹拌し、85℃に加熱し、イソプロピル2-エチルヘキシルジチオリン酸71.31g(251mmol)を滴下し、6h定温反応された。反応が完了した後、残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた。不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.88(9H),1.08-1.71(47H),2.43-3.93(7H), 4.22-4.54(2H), 4.74(1H),5.20-6.21(2H),7.39-7.75(3H);
C38H71N4O2PS2計算値C 64.18,H 10.06,N 7.88,O 4.50,P 4.36,S 9.02;測定値:C 63.93,H 9.85,N 7.75,O 4.50,P 4.66,S 9.31。
実施例3
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた250mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、オレイルアミン23.01g(86mmol)、ホルムアルデヒド溶液20.27g(250mmol)、ベンゾトリアゾール12.51g(105mmol)及びn-ブチル2-エチル基ヘキシルジチオリン酸32.79g(110mmol)を仕込み、迅速に撹拌し、90℃に加熱し、5h反応させた。反応が完了した後、残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた。不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.88(9H),1.03-1.72(40H),2.12-3.93(10H), 4.20-4.54(2H), 5.18-6.17(4H),7.18-8.08(4H);
C38H69N4O2PS2計算値C 64.37,H 9.81,N 7.90,O 4.51,P 4.37,S 9.04;測定値:C 64.57,H 10.05,N 7.54,O 4.37,P 4.42,S 9.05。
実施例4
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた500mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、オクタデシルプロピレンジアミン133.81g(410mmol)、パラホルムアルデヒド25.8g(860mmol)、5-エチルベンゾトリアゾール55.89g(380mmol)とn-ブチル1-メチルヘプチルジチオリン酸134.15g(450mmol)を仕込み、迅速に撹拌し、110℃に加熱し、4h反応させた。反応が完了した後、残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた。不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.88(6H),1.03-1.93(57H),2.43-2.74(8H),3.46-4.10(4H), 4.24-4.63(2H), 5.31-6.20(2H),7.19-7.82(3H);
C43H82N5O2PS2計算値C 64.86,H 10.38,N 8.80,O 4.02,P 3.89,S 8.05;測定値:C 64.57,H 10.05,N 7.54,O 4.37,P 4.42,S 9.05。
実施例5
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた500mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、t-ブチル一級アミン25.9g(130mmol)、パラホルムアルデヒド13.5g(450mmol)、6-ブチルベンゾトリアゾール21.89g(125mmol)とトルエン100mLを仕込み、迅速に撹拌し、95℃に加熱し、ジ(2-エチルヘキシル)ジチオリン酸55.23g(150mmol)を滴下し、5h定温反応された。反応が完了した後、溶剤と残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた。不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.89(18H),1.05-1.93(48H),2.34-2.50(2H),3.43-3.72(4H), 4.24-4.72(2H), 5.31-6.20(2H),7.19-7.82(3H);
C42H79N4O2PS2計算値C 65.75,H 10.38,N 7.30,O 4.17,P 4.04,S 8.36;測定値:C 64.50,H 10.12,N 7.43,O 4.32,P 4.57,S 9.26。
実施例6
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた500mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、N-水素化獣脂アルキルジプロピレントリアミン34.47g(90mmol)、パラホルムアルデヒド13.5g(450mmol)、ベンゾトリアゾール10.16g(85mmol)とトルエン100mLを仕込み、迅速に撹拌し、100℃に加熱し、ジn-ブチルジチオリン酸48.4g(200mmol)を滴下し、6h定温反応された。反応が完了した後、溶剤と残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた。不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.88(3H),1.03(12H),1.06-1.91(53H),2.34-3.46(10H),3.54-4.57(12H), 5.23-6.11(2H),7.19-8.08(4H);
C49H96N6O4P2S4計算値C 57.50,H 9.45,N 8.21,O 6.25,P 6.05,S 12.53;測定値:C 57.42,H 9.43,N 8.16,O 6.35,P 6.10,S 12.54。
実施例7
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた500mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、N-水素化獣脂アルキルジプロピレントリアミン34.47g(90mmol)、パラホルムアルデヒド13.5g(450mmol)、ベンゾトリアゾール17.93g(150mmol)と120mLトルエンを仕込み、迅速に撹拌し、100℃に加熱し、24.2g(100mmol)ジn-ブチルジチオリン酸を滴下し、8h定温反応された。反応が完了した後、溶剤と残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた。不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.88(3H),1.03-1.95(51H),2.45-3.30(9H),3.54-4.32(7H), 5.58-6.20(4H),7.19-8.08(8H);
C47H82N9O2PS2計算値C 62.70,H 9.18,N 14.00,O 3.55,P 3.44,S 7.12;測定値:C 62.81,H 9.22,N 13.85,O 3.56,P 3.41,S 7.15。
実施例8
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた500mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、N-水素化獣脂アルキルジプロピレントリアミン34.47g(90mmol)とパラホルムアルデヒド13.5g(450mmol)、10.16g(85mmol)ベンゾトリアゾールと100mLトルエンを仕込み、迅速に撹拌し、100℃に加熱し、48.4g(200mmol)ジn-ブチルジチオリン酸を滴下し、6h定温反応された。反応が完了した後、溶剤と残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた。不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.88(3H),1.03(12H),1.06-1.91(53H),2.34-3.46(10H),3.54-4.28(12H), 5.23-5.77(2H),7.19-8.08(4H);
C49H96N6O4P2S4計算値C 57.50,H 9.45,N 8.21,O 6.25,P 6.05,S 12.53;測定値:C 57.62,H 9.49,N 8.13,O 6.22,P 6.09,S 12.45。
実施例9
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた500mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、ポリイソブテンアミン(数量平均分子量が約600であった)45g、パラホルムアルデヒド9g(300mmol)、ベンゾトリアゾール10.16g(85mmol)とトルエン150mLを仕込み、迅速に撹拌し、100℃に加熱し、24.4g(100mmol)ジn-ブチルジチオリン酸を滴下し、5h定温反応された。反応が完了した後、溶剤と残留水を減圧下で留去し、不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.86(9H),0.97-1.91(86H),3.46-4.87(6H), 5.23-6.35(2H),7.19-8.08(4H);
元素含有量測定値:C 69.91,H 11.23,N 5.68,O 3.35,P 3.22,S 6.61。
実施例10
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた500mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、ポリイソブテンアミン(数量平均分子量が約600であった) 50g、パラホルムアルデヒド10.8g(360mmol)、ベンゾトリアゾール10.16g(85mmol)とトルエン150mLを仕込み、迅速に撹拌し、100℃に加熱し、ジn-ブチルジチオリン酸53.24g(220mmol)を滴下し、5h定温反応された。反応が完了した後、溶剤と残留水を減圧下で留去し、不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.86(9H),0.97-1.75(101H),2.54-4.03(16H), 4.26-5.93(6H),7.19-8.08(4H);
元素含有量測定値:C 63.62,H 10.55,N 6.32,O 4.95,P 4.68,S 9.88。
対比例1
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた250mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、オクタデシルアミン35.04g(130mmol)、パラホルムアルデヒド9g(300mmol)、ベンゾトリアゾール29.78g(250mmol)とトルエン100mLを仕込み、迅速に撹拌し、90℃に加熱し、6h定温反応された。反応が完了した後、溶剤と残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた後、不純物をろ別し、最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.88(3H),1.25-1.51(32H),3.27(2H), 5.55-6.24(4H),7.19-8.08(8H);
C32H49N7計算値C 72.27,H 9.29,N 18.44;測定値:C 72.95,H 10.32,N 16.73。
対比例2
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた250mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、ベンゾトリアゾール12.51g(105mmol)、パラホルムアルデヒド7.5g(250mmol)、ジn-オクチルジチオリン酸 42.54g(120mmol)とトルエン80mLを仕込み、迅速に撹拌し、95℃に加熱し、4h定温反応された。反応が完了した後、残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた。不純物をろ別し、カラムクロマトグラフィーで最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.88(6H),1.12-1.75(24H),5.66(2H),3.59-3.95(4H),7.18-8.08(4H);
C23H40N3O2PS2計算値C 56.88,H 8.30,N 8.65,O 6.59,P 6.38,S 13.20;測定値:C 56.94,H 8.35,N 8.39,O 6.64,P 6.43,S 13.25。
対比例3
Figure 0006955516
スターラー、温度計、コンデンサーおよび水分離器を備えた250mlの四つ口フラスコに、窒素雰囲気下、オクタデシルアミン29.65g(110mmol)、パラホルムアルデヒド9g(300mmol)、n-ブチル2-エチルヘキシルジチオリン酸65.58g(220mmol)を仕込み、迅速に撹拌し、100℃に加熱し、5h定温反応された。反応が完了した後、残留水を減圧下で留去し、室温まで冷却し、24時間沈殿させた後、不純物をろ別し、最終生成物が得られた。
生成物の同定データ:
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ 0.90(21H),1.11-1.23(22H),1.33-1.68(36H),2.34-3.95(10H),4.13-4.22(4H);
C44H93NO4P2S4計算値C 59.35,H 10.53,N 1.57,O 7.19,P 6.96,S 14.40;測定値:C 59.03,H 10.43,N 1.47,O 7.28,P 7.08,S 14.61。
実施例I-1-実施例I-13と対比例I-1-対比例I-10
実施例によって得られた生成物、対比例によって得られた生成物及び対比添加剤を表1に示した組成で潤滑油基油と40℃で2h混合し、実施例I-1-実施例I-13の潤滑油組成物、対比例I-1-対比例I-10の潤滑油組成物及びブランクサンプルが得られた。前記潤滑油基油は上海高橋石油化学のII類水添基油を用い、前記ベンゾトリアゾール脂肪族アミン塩は製品番号がT406で、
Figure 0006955516
で生産された。
Figure 0006955516
実施例I-1-実施例I-13で得られた潤滑油組成物、一部の対比例で得られた潤滑油組成物及び前記ブランクサンプルを試料として、耐磨耗性、極圧性能、銅板の耐食性能、防錆性、熱酸化安定性と摩擦低減性能について、評価した。成績は表2に示した。
Figure 0006955516
本発明の特定の実施態様を説明及び記載してきたが、本発明の本質及び範囲を逸することなく、種々のその他の変更及び修正を行うことができることは、当業者にとって明らかであろう。したがって、添付の請求の範囲において、本発明の範囲内のそのような変更及び修正のすべてを対象とすることが意図される。

Claims (10)

  1. 下記式(I)で表されるベンゾトリアゾール誘導体であって、
    Figure 0006955516
    式(I)において、基R'はC 10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基、C 10-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが500-1500であるポリイソブチレン基から選択される基であり;nは0-5の整数であり;n個基R0は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC2-5直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基であり;n+2個基Aは互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子、式(I-1)で表される基と式(I-2)で表される基から選択される基であり、前提として、前記n+2個基Aのうち少なくとも一つは式(I-1)で表される基で、且つ前記n+2個基Aのうち少なくとも一つは式(I-2)で表される基であり
    Figure 0006955516
    式(I-1)と式(I-2)において、基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-15直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり;二つ基Xは共に硫黄原子であり、二つ基Yは共に酸素原子であり;二つ基R''は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-6直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり;基R1、R2、R3、R4は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-10直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり
    前記直鎖又は分岐のヘテロアルキル基とは、直鎖又は分岐のアルキル基の炭素鎖は一つの-NR-(その内、基RはHとC1-4直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基である)から選択されるヘテロ基によって挿入された基である。
  2. 以下の具体的な化合物から選択される請求項1に記載のベンゾトリアゾール誘導体。
    Figure 0006955516
    Figure 0006955516
  3. 式(I-A)で表される含リン化合物、式(I-B)で表されるアミン化合物と式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物を式(I-D)で表されるアルデヒド類の存在下で反応させる工程を備えるベンゾトリアゾール誘導体の製造方法。
    Figure 0006955516
    その内、基R'はC 10-25直鎖又は分岐のアルキル基、C10-25直鎖又は分岐のアルケニル基、C 10-25直鎖又は分岐のヘテロアルキル基と数量平均分子量Mnが500-1500であるポリイソブチレン基から選択される基であり;nは0-5の整数であり;n個基R0は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC2-5直鎖又は分岐のアルキレン基から選択される基であり;n+2個基A'は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-4直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり、前提として、前記n+2個基A'のうち少なくとも二つは水素原子であり;基R5とR6は互いに同一又は異なり、それぞれ独立にC1-15直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり;二つ基Xは共に硫黄原子であり、二つ基Yは共に酸素原子であり;基R''は水素原子とC1-6直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり;基R1、R2、R3、R4は互いに同一又は異なり、それぞれ独立に水素原子とC1-10直鎖又は分岐のアルキル基から選択される基であり
    前記直鎖又は分岐のヘテロアルキル基とは、直鎖又は分岐のアルキル基の炭素鎖は一つの-NR-(その内、基RがHである)から選択されるヘテロ基によって挿入された基であり、
    前記反応は、反応時間が0.1-24hであり、反応温度が0-250℃であり、
    前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-B)で表されるアミン化合物とのモル比は1:0.1-10であり;前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物とのモル比は1:0.1-10であり;前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-D)で表されるアルデヒド類とのモル比は1:1-10である。
  4. 前記反応は、反応時間が0.5-6hであり、反応温度が60-120℃である請求項3に記載の製造方法。
  5. 前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-B)で表されるアミン化合物とのモル比は1:0.6-1.5であり;前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-C)で表されるベンゾトリアゾール化合物とのモル比は1:0.6-1.5であり;前記式(I-A)で表される含リン化合物と前記式(I-D)で表されるアルデヒド類とのモル比は1:2-4である請求項3に記載の製造方法。
  6. 請求項1に記載のベンゾトリアゾール誘導体或いは請求項3に記載の製造方法によって製造されたベンゾトリアゾール誘導体の潤滑油添加剤への応用。
  7. 請求項1に記載のベンゾトリアゾール誘導体或いは請求項3に記載の製造方法によって製造されたベンゾトリアゾール誘導体の潤滑油耐摩耗剤への応用。
  8. 潤滑油基油と、請求項1に記載のベンゾトリアゾール誘導体或いは請求項3に記載の製造方法によって製造されたベンゾトリアゾール誘導体を含む潤滑油組成物。
  9. 質量で、前記ベンゾトリアゾール誘導体は前記潤滑油組成物全質量に対して0.001-30%を占める請求項に記載の潤滑油組成物。
  10. 質量で、前記ベンゾトリアゾール誘導体は前記潤滑油組成物全質量に対して0.1-10%を占める請求項8に記載の潤滑油組成物。
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