JP6937296B2 - インターポーザなし積層ダイ相互接続 - Google Patents

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Description

本開示の例は概して半導体装置に関し、特に、チップパッケージにおけるダイからダイへの相互接続のための相互接続ダイを有する半導体アセンブリに関する。
背景
集積回路(IC)アーキテクチャは、単一のパッケージ中に複数の異種機能を組入れるように進化した。その場合、各々の機能は、別個のICダイまたはチップスケールパッケージ(CSP)によって果たされる。そのようなアーキテクチャは、システムインパッケージ(SiP)と称されることがある。ある種類のSiPアーキテクチャは、複数のICダイをインターポーザに搭載することに係り、その上でインターポーザがパッケージ基板に搭載される。インターポーザは、シリコン貫通ビア(TSV)とも称されるダイ貫通ビア(TDV)を含み、その上面および下面の両方でメタライゼーション層を接続する。メタライゼーション層を用いて、複数のICダイの相互の間のおよび複数のICダイの各々の間の電気信号をパッケージ基板に搬送する。この種類のSiPアーキテクチャは、2.5次元(2.5D)パッケージと称されることがある。しかしながら、SiPパッケージのために2.5Dアーキテクチャを用いるとコストが大幅に増大する。というのも、別個のインターポーザを設計し、製造し、かつ試験しなければならないからである。
要約
ダイからダイへの相互接続のための相互接続ダイを有する半導体アセンブリ、ICパッケージ、製造のための方法、およびICパッケージ中で信号をルーティングするための方法を提供するための技術が記載される。1つの実現例では、対向する側に第1の表面および第2の表面が規定される本体を含む相互接続ダイが設けられる。本体の第1の表面上に第1の複数の導電パッドと第2の複数の導電パッドとが形成される。第2の複数の導電パッドは、グループ化され、別個の集積回路(IC)ダイと相互接続ダイとの間で信号を渡すために電気的ダイ間接続部を介してICダイが相互接続ダイに物理的かつ電気的に接続するのを可能にするように構成される向きに第1の複数の導電パッドから物理的に離間される。本体は、第2の複数の導電パッドのうちの選択されるものとの接続のために第1の複数の導電パッドのうち1つを選択するように動作可能な固体回路構成を備える相互接続回路を含む。
任意に、固体回路構成は、相互接続ダイを通してデータをパイプライン化することと、相互接続ダイ上にプログラマブルポイントツーポイントネットワークを形成することとのうち少なくとも1つを行なうように動作可能なプログラマブル素子を含んでもよい。
任意に、相互接続ダイは、電気的ダイ間接続部を介して第1の複数の導電パッドに結合される第1のICダイと、電気的ダイ間接続部を介して第2の複数の導電パッドに結合される第2のICダイとをさらに含んでもよい。第1および第2のICダイは、同じ種類のダイでなくてもよい。
任意に、本体は、第1の表面と第2の表面との間に規定される250ミクロン未満の厚みを含んでもよい。
任意に、相互接続ダイは、本体の第1の表面上に形成される第3の複数の導電パッドを含んでもよく、第3の複数の導電パッドは、グループ化されて、1つ以上の別個の集積回路(IC)ダイと相互接続ダイとの間で信号を渡すために電気的ダイ間接続部を介してICダイが相互接続ダイに物理的かつ電気的に接続するのを可能にするように構成される向きに第1および第2の複数の導電パッドから物理的に離間される。相互接続回路は、第3の複数の導電パッドのうち選択される1つとの接続のために第1または第2の複数の導電パッドのうち1つを選択するように動作可能であってもよい。
任意に、相互接続ダイは、本体の第1の表面と第2の表面との間に延在する複数のビアをさらに含んでもよく、ビアは、1つ以上の第2の別々の領域とは別のかつ異なる1つ以上の第1の別々の領域に配置される。複数の導電パッドは、1つ以上の第2の別々の領域の中に閉じ込められる固体回路構成に選択的に結合されてもよく、本体の第1の表面と第2の表面との間に延在するビアは、1つ以上の第2の別々の領域の中には存在しない。
任意に、ビアは、電力を伝送するように構成されてもよい。
任意に、相互接続ダイは、ICダイのうち少なくとも1つよりも小さな計画面積(plan area)を有してもよい。
任意に、固体回路構成は、メモリ装置、論理装置、光信号伝送装置、およびMEMS装置のうち少なくとも1つ以上を含んでもよい。
別の実現例では、ダイ間接続部によって第1の集積回路(IC)ダイおよび第2のICダイに結合される第1の相互接続ダイを含む半導体アセンブリが設けられる。第1の相互接続ダイは、ICダイ同士の間の信号伝送経路を設ける固体回路構成を含む。
任意に、半導体アセンブリは、第1のICダイから延在する複数の導電性ピラーと、導電性ピラーの遠端と実質的に同一平面上にある表面とをさらに含んでもよい。
任意に、導電性ピラーは、第1のICダイから約60〜80μm延在してもよい。
任意に、半導体アセンブリは、ダイ間接続部によってICダイのうち少なくとも1つに結合される第2の相互接続ダイをさらに含んでもよい。
任意に、第1の相互接続ダイは、固体回路構成に結合されるメモリをさらに含んでもよい。
任意に、第1の相互接続ダイの固体回路構成は、第1の相互接続ダイを通してデータをパイプライン化することと、第1の相互接続ダイ上にプログラマブルポイントツーポイントネットワークを形成することとのうち少なくとも1つを行なうように動作可能なプログラマブル素子を含んでもよい。
任意に、半導体アセンブリは、複数の電気的相互接続部によってICダイに結合されるパッケージ基板をさらに含んでもよく、パッケージ基板は、複数の電気的相互接続部によって第1の相互接続ダイに結合される。
任意に、第1の相互接続ダイは250ミクロン未満の厚みを含んでもよい。
任意に、第1の相互接続ダイは、ICダイのうち少なくとも1つよりも小さな計画面積を有してもよい。
任意に、半導体アセンブリは、ダイ間相互接続部によって第1の相互接続ダイに結合される少なくとも第3のICダイをさらに含んでもよく、固体回路構成は、第1の相互接続ダイを通して第1、第2、および少なくとも第3のICダイ間のプログラマブルポイントツーポイント信号伝送経路を設けるように構成される。
任意に、第1の相互接続ダイは、80ミクロン未満の厚みをさらに含んでもよい。
別の実現例では、集積回路(IC)パッケージが設けられる。ICパッケージは、パッケージ基板と、第1の相互接続ダイと、第1の集積回路(IC)ダイおよび第2のICダイとを含む。第1の相互接続ダイは、ダイ間接続部によってICダイに結合される。パッケージ基板は、複数の電気的相互接続部によってICダイおよび第1の相互接続ダイに結合される。
別の実現例では、半導体アセンブリを製造する方法が提供される。方法は、少なくとも2つの集積回路(IC)ダイを担体基板に固着することを含み、ICダイは、ICダイ自身から延在する複数の導電性ピラーを有し、方法はさらに、相互接続ダイをICダイに接続することを含み、相互接続ダイとICダイとの間の接続はその間で信号を伝送するのに好適であり、方法はさらに、オーバーモールドを用いて相互接続ダイおよびICダイを被覆することと、相互接続ダイの一部およびオーバーモールドを除去して導電性ピラーを露出することと、導電性ピラーおよび相互接続ダイの上に電気的相互接続部を形成することと、担体基板を除去することと、電気的相互接続部を利用して相互接続ダイおよびICダイをパッケージ基板に接続することとを含む。
また別の実現例では、ICパッケージ中で信号をルーティングするための方法が提供される。方法は、ダイ間接続部によって集積回路(IC)ダイに直接に結合される第1の相互接続ダイを通して第1のICダイから第2のICダイへ信号を伝送することと、電気的相互接続部によってICダイによってパッケージ基板に直接に結合される第1の相互接続ダイの間で信号を伝送することとを含む。
以下の詳細な説明を参照してこれらおよび他の局面が理解され得る。
以上記載した特徴を詳細に理解することができる態様のために、例示的な実現例を参照することによって、以上で簡単に要約した説明のより特定的な説明を有し得、その一部を添付の図面で示す。しかしながら、添付の図面は典型的な例示的な実現例を示すにすぎず、したがってその範囲を限定するものと考えるべきではないことに留意すべきである。
少なくとも2つのダイを結合する相互接続ダイを有する集積回路(IC)パッケージの例の概略断面図である。 図1に描かれるダイを結合する相互接続ダイの一部の拡大概略部分断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 半導体アセンブリおよび究極的にはICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。 少なくとも2つのダイを結合する少なくとも1つの相互接続ダイを有するICパッケージの異なる実現例の簡略化概略上面図である。 少なくとも2つのダイを結合する少なくとも1つの相互接続ダイを有するICパッケージの異なる実現例の簡略化概略上面図である。 少なくとも2つのダイを結合する少なくとも1つの相互接続ダイを有するICパッケージの異なる実現例の簡略化概略上面図である。 プログラマブル素子を有する相互接続ダイの1つの実現例の概略図である。 図7の実現例に描かれるプログラマブル素子の機能的実現例の一実施形態の概略図である。 プログラマブル素子を有する相互接続ダイの別の実現例の概略図である。 図9の実現例に描かれるプログラマブル素子の機能的実現例の一実施形態の概略図である。 図10に示されるプログラマブル素子の機能的実現例のための論理表である。 パッケージ基板を通して直接に電力を供給される相互接続ダイを有する半導体アセンブリの例の概略断面図である。 ダイを通して直接に電力を供給される相互接続ダイを有する半導体アセンブリの別の例の概略断面図である。 相互接続ダイを有するチップパッケージ中の電力送達方式の概略図である。
詳細な説明
理解を容易にするため、可能な場合は、図同士で共通の同一要素を指定するのに同一の参照番号を用いた。有益な場合は1つの例の中の要素を他の例に組入れることがあることが企図される。
図を参照してさまざまな特徴を以下に説明する。図は縮尺どおりに描かれていることもいないこともあり、かつ同様の構造または機能を有する要素は、図を通して同じ参照番号で表されることに留意すべきである。図は特徴の説明を容易にすることを意図するにすぎないことに留意すべきである。それらは請求される発明の網羅的な説明または請求される発明の範囲に対する限定として意図されるものではない。さらに、示される実施形態は、示されるすべての局面または利点を有する必要はない。特定の実施形態に関連して説明される局面または利点は必ずしもその実施形態に限定されるのではなく、そのように示されていなくてもまたはそのように明示的に説明されていなくても、任意の他の実施形態で実践可能である。
ダイからダイへの相互接続のための相互接続ダイを有する半導体アセンブリ、集積回路(IC)パッケージ、製造のための方法、およびICパッケージ中で信号をルーティングするための方法を提供するための技術が記載される。ある例では、半導体アセンブリは、少なくとも2つのICダイを電気的に接続するように構成される相互接続ダイを含む。相互接続ダイは、ICダイ上のダイ間接点への機械的かつ電気的な結合のために構成される回路構成を含む。ある実現例では、相互接続ダイの回路構成は、プログラマブル素子などの固体回路素子を含んでもよい。ある実現例では、相互接続ダイの回路構成は、パッケージ基板に対する機械的かつ電気的な結合のために構成されてもよい。インターポーザを利用する従来の設計と比較した、本明細書中に記載する実現例を通して実現し得る1つ以上の利点は、ダイを結合するのに従来必要であった面積の削減、向上したプログラミング柔軟性、相互接続ダイを通して信号をパイプライン化可能であること、低減された配線長さおよび容量、電力削減、向上した供給ロジスティクス(というのも、多くの現在のファブを利用して相互接続ダイを作製し得るからである)、ならびに向上した欠陥および故障許容度を含む。
図1は、パッケージ基板104に搭載される最小の2つの集積回路(IC)ダイ102を接続する1つ以上の相互接続ダイ106を有するICパッケージ100の例を示す概略断面図である。一例として、2つの相互接続ダイ106によって接続される3つのICダイ102を図1に示すが、利用可能な面積による制約下で任意の数のICダイを利用し得、ICダイのうち1つ以上が1つ以上の相互接続ダイを利用して接続され得ることが企図される。
ICダイ102は、相互接続ダイ106および任意にパッケージ基板104に搭載される。ICダイ102は、フィールドプログラマブルゲートアレイ(FPGA)、メモリ装置、光学装置、プロセッサ、または他のIC論理構造などのプログラマブル論理装置であり得る。光学装置は、光検出器、レーザー、光源などを含む。
ICダイ102は、はんだ、マイクロバンプ、または信号伝送に好適な他の接続部などの複数の電気的ダイ間接続部108によって相互接続ダイ106に搭載される。ICダイ102は、はんだ、C4(controlled collapse chip connection)バンプ、または信号伝送に好適な他の接続などの複数の電気的相互接続部110によってパッケージ基板104の頂面112にも搭載される。相互接続ダイ106がICダイ102とパッケージ基板104との間に存在することによってその間に加わる離間を補うために、導電性ピラー116がICダイ102から相互接続ダイ106に実質的に等しい距離へ延在してもよく、これにより、同じ大きさの電気的相互接続部110を利用して、ICダイ102と相互接続ダイ106との両方をパッケージ基板104に結合し得る。
ICパッケージ100を電子装置(図示せず)内に搭載した後に、はんだボール118または他の配線技術を利用してパッケージ基板104の底面114をプリント回路基板(PCB)ボード120に結合してもよい。図1では、はんだボール118およびPCBボード120の両者を想像線で示す。
このように、以下の技術のうち少なくとも1つ以上において、信号をICパッケージ100を通してルーティングして、ICパッケージ100の構成要素同士(すなわちダイ102,106およびパッケージ基板104)の間の通信を可能にし得る。たとえば、信号は、相互接続ダイ106のうち1つを通して直接にICダイ102同士の間でやり取りされてもよい。信号は、パッケージ基板104を通して直接にICダイ102同士の間でやり取りされてもよい。信号は、相互接続ダイ106およびパッケージ基板104の両方を通してICダイ102同士の間でやり取りされてもよい。信号は、相互接続ダイ106のうち1つを通しておよび/またはパッケージ基板104へ直接に、ICダイ102のうち1つとパッケージ基板104(および究極的にPCBボード120)との間でやり取りされてもよい。このように、相互接続ダイ106を用いることにより、従来の2.5Dおよび3D ICパッケージで利用されるようなインターポーザの必要性がなくなる。
ICパッケージ100は、電気的相互接続部110同士の間の空間を充填するアンダーモールド124も含んでもよい。アンダーモールド124は、ダイ102,106をパッケージ基板104に機械的に固着する。ICパッケージ100は、電気的ダイ間接続部108と、導電性ピラー116と、ダイ102との間の空間を充填するオーバーモールド122も含んでもよい。アンダーモールド124およびオーバーモールド122は、エポキシ成形化合物などの、そのような目的に好適な任意の種類の材料を備えることができる。オーバーモールド122は、ダイ102を相互接続ダイ106に機械的に固着する。
図2は、図1に描かれるダイ102のうち1つに結合される相互接続ダイ106の一部の拡大概略部分断面図である。相互接続ダイ106は、ダイ106の第1の表面204上に配設される複数の導電パッド202と、ダイ106の第2の表面208上に配設される複数の導電パッド206とを含む本体290を有する。導電パッド202は、ダイ102と相互接続ダイ106との間で信号を渡すために電気的ダイ間接続部108に物理的かつ電気的に接続するのに利用される。導電パッド206は、相互接続ダイ106とパッケージ基板104との間で信号を渡すために電気的相互接続部110に物理的かつ電気的に接続するのに利用される。
相互接続ダイ106の本体290は、ダイ106内に相互接続回路214を形成するように作製される複数の導電層210および誘電体層212を含む。相互接続ダイ106の導電層210および誘電体層212は、セラミック基板、有機基板、または半導体基板などの基板上に形成されてもよい。一例として、伝統的なまたは他の好適な半導体装置または相互接続処理技術を利用して、相互接続回路214をシリコン基板上に形成してもよい。相互接続回路214とパッド206との間の接続部は、当該技術分野で公知のようなビアを用いてまたは他の好適な技術によって形成されてもよい。
相互接続回路214は一般的に、ダイ同士を相互接続するのにインターポーザを利用するICパッケージと比較して、配線長さおよび合計容量が大幅に削減されており、これにより、性能を向上させつつRC負荷および電力消費を低減している。実現例に応じて、相互接続回路214は、所望により、2つの別個のパッド202同士を、2つの別個のパッド206同士を、パッド202の1つをパッド206の1つに、または他の組合せを接続してもよい。1つの実現例では、相互接続回路214は、さまざまなパッド202,206を接続する配線しか有しない受動回路であってもよい。別の実現例では、相互接続回路214は、抵抗器、コンデンサ、インダクタ、静電放電ウェル、変圧器などの1つ以上の受動回路素子を含んでもよい。別の実現例では、相互接続回路214は、1つ以上の能動回路素子を含んでもよい。別の実現例では、相互接続回路214は、メモリおよび/または論理装置のうち1つ以上などの固体回路構成を含んでもよい。また別の実現例では、相互接続回路214は、1つ以上のMEMS装置または光信号伝送素子を含んでもよい。相互接続回路214は、上述のさまざまな実現例のうち1つ以上からの1つ以上の要素を含んでもよいことが企図される。相互接続ダイ106の第1の表面204上に配設される複数の導電パッド202は、集積回路(IC)ダイと相互接続ダイとの間で信号を渡すために電気的ダイ間接続部を介して別々のICダイが物理的かつ電気的に相互接続ダイ106に接続するのを可能にするように、別個のかつ物理的に離間されるグループに配置され得る。たとえば、第1の複数の導電パッド202および第2の複数の導電パッド202を本体290の第1の表面204上に形成してもよい。第2の複数の導電パッドは、グループ化されて、集積回路(IC)ダイ102と相互接続ダイ106との間で信号を渡すために電気的ダイ間接続部を介して別個のICダイ102が相互接続ダイ106に物理的かつ電気的に接続するのを可能にするように構成される向きに第1の複数の導電パッドから物理的に離間される。
任意に、相互接続ダイ106の第1の表面204上に第3の複数の導電パッド202を形成してもよい。第3の複数の導電パッド202は、グループ化され、集積回路(IC)ダイ102と相互接続ダイ106との間で信号を渡すために電気的ダイ間接続部を介して1つ以上の別個のICダイが相互接続ダイ106に物理的かつ電気的に接続するのを可能にするように構成される向きに第1および第2の複数の導電パッド202から物理的に離間される。相互接続回路214は、第3の複数の導電パッド202のうち選択される1つとの接続のために第1または第2の複数の導電パッド202のうち1つを選択するように動作可能である。
図3A−図3Jは、半導体アセンブリおよび究極的には相互接続ダイ106を含む、図1に描かれるICパッケージ100などのICパッケージを製造するためのプロセスの一例を示す簡略化概略断面図である。半導体アセンブリおよび究極的に相互接続ダイ106を有するICパッケージに対して他のプロセスを利用してもよいことが企図される。
まず図3Aを参照して、好適な作製技術を利用して半導体ウェハ300を加工して、(図3Bに後に示すような)複数のダイ102を形成する。図3Aにパッド202は示されていないが、図2に示されるように存在する。導電性ピラー116は、たとえば、とりわけ、電気めっき、物理蒸着、スクリーン印刷、またはインクジェット印刷などの好適な堆積技術によってウェハ300の頂面上に形成される。導電性ピラー116の遠端は、均一な平面を設けるように平坦化され得る、または他のやり方で加工され得る。導電性ピラー116は、ウェハ300から約60〜80μm(および究極的にはダイ102から約60〜80μm)延在し得る。
ここで図3Bを参照して、ウェハ300をダイシングしてダイ102を切り離す。切り離しの後、図3Cに示すように個別のダイ102を担体ウェハ302に搭載し、図3Dおよび図3Eに示すように、電気的ダイ間接続部108を利用して相互接続ダイ106をダイ102に搭載する。担体ウェハ302に搭載される個別のダイ102は、異なるウェハ300からのものであってもよいことが企図される。
次に図3Fに示すように、ダイ102,106の上にオーバーモールド304が塗布される。オーバーモールド304は、エポキシ成形化合物などの、そのような目的に好適な任意の種類の材料を備えることができる。オーバーモールド304の頂面306は相互接続ダイ106の上方に延在し、相互接続ダイ106を効果的に封入する。オーバーモールド304の頂面306は導電性ピラー116を被覆する。オーバーモールド304は、より一層の加工のために、ダイ102,106をともに固着する機械的相互接続部を設ける。
オーバーモールド304の頂面306は、図3Gに示すように、裏面研削、化学機械研磨、エッチング、フライス削り、または相互接続ダイ106を薄肉化する他の好適な除去プロセスなどの材料除去プロセスの際に除去される。裏面研削の後、オーバーモールド304の新頂面308は、相互接続ダイ106の接地面312(図2では208)と実質的に同一平面にある。裏面研削プロセスは、相互接続ダイ106上に形成される(図2に示される)パッド206も露出する。加えて、現在オーバーモールド304から露出している導電性ピラー116の遠端310も、露出したパッド206を有する相互接続ダイ106の接地面312およびオーバーモールドの頂面308と実質的に同一平面にある。この平面により、図3Hに示すように、相互接続ダイ106のパッド206と導電性ピラー116との両方の上で大きさが均一の電気的相互接続部110を使用できるようになる。
図3Iに示すように、担体ウェハ302を除去して、電気的相互接続部110によって電気的かつ機械的に相互接続ダイ106に直接に結合されるダイ102を本質的に備える半導体アセンブリ314を残す。有利には、半導体アセンブリ314を試験して、付加的な時間および材料を投資することなくこの製造の段階でダイ102および相互接続ダイ106の機能性を確認して、完全なパッケージ基板を生成してもよい。たとえば、テスト機器は、プローブを利用して、半導体アセンブリ314を備えるICダイ102の導電性ピラー116および相互接続ダイ106のパッド206上に形成される相互接続部110に触れ、こうしてテスト機器がICダイ102および相互接続ダイ106の両方を調べられるようにし、これにより試験ルーチンを行なってダイ102,106の機能性を確認し得る。半導体アセンブリ314を洗浄し、梱包して、別の製造者に出荷してもよく、または図3Jに示すように、半導体アセンブリ314を、パッケージ基板104に直接に、電気的かつ機械的に結合してもよい。半導体アセンブリ314が一旦パッケージ基板104に搭載されると、図1を参照して示しかつ記載したようにアンダーモールド124を塗布して、完成ICパッケージ100を形成する。
以上で論じたように、単一の相互接続ダイ106を利用して2つ以上のダイ102を接続してもよい。加えて、2つ以上の相互接続ダイ106を利用して2つのダイ102を直接に接続してもよい。他の実現例では、2つ以上の相互接続ダイ106を利用して2つ以上のダイ102を接続してもよい。図4−図6は3つの非限定的例を提供し、これらは少なくとも2つのダイを結合する少なくとも1つの相互接続ダイを有するICパッケージの異なる実現例の簡略化概略上面図を描く。
最初に図4を参照して、図1および図2に示す態様と同様のパッケージ基板104に搭載される少なくとも2つのダイ102を結合する少なくとも1つの相互接続ダイ106を有するICパッケージ400を示す。相互接続ダイ106は、本明細書中に記載されるようにまたは2つのダイ102の間の通信を提供するのに好適な別の態様で構成されてもよい。図4に描く実現例では、3つのダイ102がパッケージ基板104に搭載され、各々の隣接する対のダイ102は、対のダイ102間の通信を提供する2つの相互接続ダイ106を有する。図2を参照して論じたように、相互接続ダイ106のうち1つ以上は、任意に、ダイ102のうち少なくとも1つとパッケージ基板104との間の直接通信のための信号経路を設けてもよい。
図5に描く実現例は、図1および図2に示す態様と同様のパッケージ基板104に搭載される複数のダイ102を結合する単一の相互接続ダイ106を有するICパッケージ500を示す。相互接続ダイ106は、本明細書中に記載のようにまたは2つのダイ102間の通信を提供するのに好適な別の態様で構成されてもよい。図5に描く実現例では、4つのダイ102がパッケージ基板104に搭載される一方で、各々のダイ102は、ダイ102の各々の間の通信を提供するために相互接続ダイ106に結合される。図2を参照して論じたように、相互接続ダイ106は、任意に、ダイ102のうち少なくとも1つとパッケージ基板104との間の直接通信を提供してもよい。
図6に描く実現例では、図1および図2に示す態様と同様のパッケージ基板104に搭載される少なくとも3つのダイ102を結合する少なくとも2つの相互接続ダイ106を有するICパッケージ600を示す。相互接続ダイ106は、本明細書中に記載のようにまたは2つのダイ102の間の通信を提供するのに好適な別の態様で構成されてもよい。図6に描く実現例では、4つのダイ102がパッケージ基板104に搭載される一方で、各々のダイ102は、ダイ102同士の間の通信を提供するために少なくとも1つの相互接続ダイ106によってその横方向に隣接するダイ102に結合される。図2を参照して論じたように、相互接続ダイ106は、任意に、ダイ102の少なくとも1つとパッケージ基板104との間の直接通信を提供してもよい。
図4−図6は、少なくとも、ICパッケージの2つのダイ102間の通信を提供するのに相互接続ダイ106を利用し得るICパッケージの2,3の可能な実現例に過ぎない。他の構成が企図される。インターポーザを利用する従来のICパッケージと比較した、1つ以上の相互接続ダイ106を用いることによって与えられるいくつかの利点は、単位面積あたりにより多くのICダイが許容されること、高価なインターポーザの排除、より短い配線ルートおよび低減された容量による向上した性能およびより低い電力消費、多くのファブがより小さな相互接続ダイを生産する技術を有する一方でより大きなインターポーザを生産することができるファブはごくわずかであることによるより大きな供給チェーンの柔軟性、ならびにダイ102への搭載前に相互接続ダイを試験することができ、かつ一度でもダイ102に搭載されると相互接続ダイ内で回路欠陥をバイパスするように特定の配線経路を変更し得るというより十分な欠陥および故障に対する許容度を含む。
以上で論じたように、相互接続ダイ106内の相互接続回路214のある実現例は、メモリ装置および論理装置のうち1つ以上などの固体回路構成を含んでもよい。固体回路構成に代えてまたはこれに加えて、相互接続ダイ106は、光信号伝送装置およびMEMS装置のうち1つ以上を含んでもよい。そのような固体回路構成は、ICパッケージ100の機能性を大きく向上させる。固体回路構成のいくつかの例は、とりわけ、相互接続ダイ106内の単一の導体上の双方向通信、相互接続ダイ106を通したデータのパイプライン化を可能にするプログラマブル素子、相互接続ダイ106を通したデータ同期化クロック遅延を可能にするプログラマブル素子、および相互接続ダイ106内のプログラマブル入力パッド−出力パッド選択を可能にするプログラマブル素子を含む。
たとえば、図7は、ネットワーク712を形成する複数のプログラマブル素子702を有する相互接続ダイ106の1つの実現例700の概略図である。ネットワーク712の各々のプログラマブル素子702は、相互接続ダイ106内に形成される論理回路構成を含む。プログラマブル素子702のための制御信号は、相互接続ダイ106上に配設される制御論理708によって与えられてもよい。他の実現例では、制御論理は、外部ソースから相互接続ダイ106へ設けられてもよい。プログラマブル素子702のネットワーク712を用いる利点は、出力ドライバの配線負荷の低減およびより低電力でのより高いデータレートを含む。
図7に示す相互接続ダイ106は、相互接続106の第1の表面204上に形成されるパッド202を含む。図7の概略図では、プログラマブル素子702のネットワーク712の一方側のパッド202は、1つのICダイ102に結合され得る一方で、プログラマブル素子702のネットワーク712の反対側のパッド202は異なるICダイ102に結合され得る。これに代えて、図7に示すパッド202のうちあるものは、パッケージ基板104への結合のためのパッド206であってもよい。ルーティング710は一般的に、1組のパッド202の間を通って相互接続ダイ106を通してクロック信号を与える。別の組のパッド202の間に1つ以上のプログラマブル素子702を配置して双方向データ経路を設けて、相互接続ダイ106を通して伝送され得るデータの容量を増大させ、これによりICパッケージ100の速度および帯域幅を大きくする。双方向データ経路は、チャネルあたり単一のトラックも許容し、これにより、必要な導体の数が低減され、対応して容量および製造の複雑さが低減される。
図7に示す実現例では、プログラマブル素子702の複数の直列のストリングがパッド202の予め規定された対の間にルーティングされる。プログラマブル素子702の直列のストリングの中の各々のプログラマブル素子702は双方向導体704によって結合され、プログラマブル素子702の各々の直列のストリングの端にあるプログラマブル素子702も、双方向導体704によってそれぞれのパッド202に結合される。プログラマブル素子702はバイパス機能も含み、これはバイパス論理706によって制御される。プログラマブル素子702のためのバイパス制御信号は、相互接続ダイ106上に配設されるバイパス論理706によって与えられてもよい。他の実現例では、バイパス論理は、外部ソースから相互接続ダイ106へ設けられてもよい。
図8は、図7に示す実現例700に描かれるプログラマブル素子702の機能的実現例の一実施形態の概略図であり、これは、相互接続ダイ106上に形成される2つのパッド202,206の間での双方向信号伝送を可能にする。プログラマブル素子702は、第1のノード810および第2のノード812を含む。第1のノード810および第2のノード812は各々、素子702の外部の双方向導体704に結合する。導体704を用いて、パッド202,206または他の素子702に接続することができる。
第1のノード810は、第1のマルチプレクサ802の一方の入力に結合される。第1のノード810は、第1のスリーステートバッファ806の出力にも結合される。第2のノード812は、第1のスリーステートバッファ806の入力に結合される。以上で論じた制御論理708は、第1のスリーステートバッファ806のその状態を制御する。
第2のノード812は、第1のマルチプレクサ802の他方の入力に結合される。第1のマルチプレクサ802の状態は制御論理708によって制御される。第1のマルチプレクサ802の出力は、第2のマルチプレクサ804およびフリップフロップ800の両方に結合される。フリップフロップ800は、導体710上に与えられるクロック信号によって制御される。フリップフロップ800の出力は第2のマルチプレクサ804に結合される。
第2のマルチプレクサ804の出力は、スリーステートバッファ806の入力およびスリーステートバッファ808の入力の両方に結合される。以上で論じた制御論理708は、スリーステートバッファ806,808をともに、制御論理708の出力をマルチプレクサの選択入力として有するマルチプレクサとして考えることができるような態様でスリーステートバッファ808の状態を制御する。スリーステートバッファ808の出力は、第2のノード812に結合される。
動作の際、制御論理708およびバイパス論理706は、スリーステートバッファおよびマルチプレクサの状態を選択する。制御論理708の状態は、プログラマブル素子702が備える相互接続回路構成214を通る信号伝送の方向を設定する。バイパス論理の状態によって、ノード810からノード812へまたはその逆の信号伝送においてフリップフロップ800がバイパスされるか否かが決まる。
図9は、相互接続ダイ106上のプログラマブルポイントツーポイントネットワーク912を形成する複数のプログラマブル素子904を備える相互接続回路214を有する相互接続ダイ106の別の実現例900の概略図である。各々のプログラマブル素子904は、相互接続ダイ106内に形成される論理回路構成を含む。プログラマブル素子904のための制御信号は、相互接続ダイ106上に配設される(図7に示すものなどの)制御論理によって与えられてもよい。他の実現例では、制御論理は、外部ソースから相互接続ダイ106へ設けられてもよい。
図9に示す相互接続ダイ106は、相互接続106の第1の表面204上に形成されるパッド202を含む。図9の概略図では、プログラマブル素子904のネットワーク912の一方側のパッド202は1つのICダイ102に結合され得る一方で、プログラマブル素子904のネットワーク912の反対側のパッド202は異なるICダイ102に結合され得る。これに代えて、図9に示すパッド202のうちあるものは、パッケージ基板104への結合のためのパッド206であってもよい。複数のプログラマブル素子904は、双方向導電経路902を用いて複数のパッド202の間に配置される。制御論理は、プログラマブル素子904を通るデータの流れの方向およびどのプログラマブル素子904にデータがルーティングされるかを制御する態様で、各々のプログラマブル素子904の状態が設定されるようにする。このように、制御論理によって各々のプログラマブル素子904の状態が設定されるようになるので、各々のパッド202は、予め定められた方向の通信のために、パッド202のうち選択される別の1つに選択的に接続され得る。相互接続回路214のプログラマブルパッド202からパッド202への構成により、相互接続ダイ106によって接続されるダイ102同士の間の相互接続ルーティングの真にプログラミング可能な選択が可能になり、これにより、ICパッケージ100の機能的能力および設計の柔軟性が大きく高まる。
図9に描く実現例では、相互接続ダイ106の相互接続回路214は、双方向導電経路902によってパッド202間に接続されるプログラマブル素子904のネットワーク912を含む。プログラマブル素子904のネットワーク912の外側のプログラマブル素子904も双方向導電経路902によってパッド202に結合される。各々のプログラマブル素子904は、以上で論じたような制御論理によって制御される。各々のプログラマブル素子904は、状態を変更して、プログラマブル素子904を通したデータの方向を、たとえば左から右へまたは右から左へ設定し、かつどの隣接するプログラマブル素子904がプログラマブル素子904を出る信号を受けるかを設定し得る。
図10は、図9に示す実現例900に描かれるプログラマブル素子904のネットワーク912の機能的実現例の一実施形態の概略図であり、これは、相互接続ダイ106上に形成される2つのパッド202の間での信号の双方向伝送を可能にする。プログラマブル素子904は、第1のノード1002、第2のノード1004、第3のノード1006、および第4のノード1008を含み、各々は、図10に示すように、双方向導通経路902を通して他の構成要素に接続される。導体902を用いてパッド202,206または他の素子904に接続することができる。
第1のスリーステートバッファ1010および第2のスリーステートバッファ1012の出力は第1のノード1002に結合される。第1のマルチプレクサ1030への入力は第1のノード1002に結合される。第1のノード1002は、双方向導電経路902によって、プログラマブル素子904の次の列の中のプログラマブル素子904のうち1つまたは相互接続ネットワーク912の一方側に形成されるパッド202,206に接続されてもよい。
第3のスリーステートバッファ1014および第4のスリーステートバッファ1016の出力は第2のノード1004に結合される。第2のマルチプレクサ1032への入力は第2のノード1004に結合される。第2のノード1004は、双方向導電経路902によって、プログラマブル素子904の次の列の中のプログラマブル素子904のうちの1つまたは相互接続ネットワーク912の一方側に形成されるパッド202,206に接続されてもよい。
第5のスリーステートバッファ1020および第6のスリーステートバッファ1022の出力は第3のノード1006に結合される。第1のマルチプレクサ1030への入力は第3のノード1006に結合される。第3のノード1006は、双方向導電経路902によって、プログラマブル素子904の次の列の中のプログラマブル素子904のうち1つまたは相互接続ネットワーク912の一方側に形成されるパッド202,206に接続されてもよい。
第7のスリーステートバッファ1024および第8のスリーステートバッファ1026の出力は第4のノード1008に結合される。第2のマルチプレクサ1032への入力は第4のノード1008に結合される。第4のノード1008は、双方向導電経路902によって、プログラマブル素子904の次の列の中のプログラマブル素子904のうち1つまたは相互接続ネットワーク912の一方側に形成されるパッド202,206に接続されてもよい。
第1のマルチプレクサ1030からの出力は、第1のフリップフロップ1040の入力および第3のマルチプレクサ1050の入力に結合される。第1のフリップフロップ1040からの出力は第3のマルチプレクサ1050の入力に結合される。
第2のマルチプレクサ1032からの出力は、第2のフリップフロップ1042の入力および第4のマルチプレクサ1052の入力に結合される。第2のフリップフロップ1042からの出力は第4のマルチプレクサ1052の入力に結合される。
第3のマルチプレクサ1050からの出力は、第2のスリーステートバッファ1012、第3のスリーステートバッファ1014、第6のスリーステートバッファ1022、および第7のスリーステートバッファ1024の入力に結合される。
第4のマルチプレクサ1052からの出力は、第1のスリーステートバッファ1010、第4のスリーステートバッファ1016、第5のスリーステートバッファ1020、および第8のスリーステートバッファ1026の入力に結合される。
プログラマブル素子904のさまざまなマルチプレクサ、フリップフロップ、およびバッファのための制御信号は、相互接続ダイ106上に配設される(たとえば図7に示すような)制御論理によって与えられてもよい。他の実現例では、制御論理は、外部ソースから相互接続ダイ106へ設けられてもよい。
図11は、図10に示すプログラマブル素子904の機能的実現例のための論理表1100である。表1100の見出し「コンフィギュレーション」下の列は、プログラマブル素子904の方向、経路、およびバイパス状況を与える。経路は、2つの付加的なモードである、(1)下からのブロードキャストおよび(2)上からのブロードキャストで設けられ得る。マルチプレクサおよびバッファの各々への「制御信号」を「コンフィギュレーション」の右側に列挙する。接続は、単一のプログラマブル素子904のどのノードが接続されるかの観点で設けられるが、図9に描くプログラマブル素子904のすべてにわたって分散されると、接続は、究極的に、ネットワーク912の一方側のパッド202,206とネットワーク912の反対側のパッド202,206との間の1対1マッピングまたは並べ換えである態様で、ネットワーク912の一方側のパッド202,206とネットワーク912の反対側のパッド202,206との間でなされる。ネットワーク912のプログラマブル素子904は、ネットワーク912の一方側のパッド202,206とネットワーク912の反対側のパッド202,206との間でのすべての可能な並べ換えを実現するように制御論理を用いてプログラミング可能である。テーブル1100の第1の行では、制御信号は、左から右への信号方向で、バイパスされていないフリップフロップ1040およびノード1004を通してノード1002およびノード1006を、バイパスされていないフリップフロップ1042を通してノード1008に接続する態様で設定される。表1100の第2の行では、制御信号は、フリップフロップ1040,1042がバイパスされることを除いて、表1100の第1の行と同じ態様で設定される。表1100の第3の行では、制御信号は、左から右への信号方向で、バイパスされていないフリップフロップ1040およびノード1004を通してノード1002およびノード1008を、バイパスされていないフリップフロップ1042を通してノード1006に接続する態様で設定される。表1100の第4の行では、制御信号は、フリップフロップ1040,1042がバイパスされることを除いて表1100の第3の行と同じ態様で設定される。テーブル1100の第5の行では、制御信号は、右から左への信号方向で、バイパスされていないフリップフロップ1040およびノード1008を通してノード1006およびノード1002を、バイパスされていないフリップフロップ1042を通してノード1004に接続する態様で設定される。表1100の第6の行では、制御信号は、フリップフロップ1040,1042がバイパスされることを除いて、表1100の第5の行と同じ態様で設定される。表1100の第7の行では、制御信号は、右から左への信号方向で、バイパスされていないフリップフロップ1040およびノード1008を通してノード1006およびノード1004を、バイパスされていないフリップフロップ1042を通してノード1002に接続する態様で設定される。表1100の第8の行では、制御信号は、フリップフロップ1040,1042がバイパスされることを除いて、表1100の第7の行と同様に設定される。このように、相互接続ダイ106の相互接続回路214内にアレイに配設されると、プログラマブル素子904は、異なるICダイ102に結合されるすべてのパッド202の間で、かつある実施形態では、1つ以上のICダイ102とパッケージ基板104に結合されるパッド206との間で、完全にアドレス指定可能なかつ双方向の信号伝送を可能にする。
図12は、相互接続ダイ106を通して直接に電力を供給される、相互接続ダイ106を有する半導体アセンブリ1200の例の概略断面図である。半導体アセンブリ1200は一般的に、図1および図2を参照して記載したように同様に構築される。相互接続ダイ106は、能動固体素子を含む相互接続回路214を含み、したがって、相互接続ダイ106の相互接続回路214に電力を与える必要性が存在する。図12に描く実施形態では、電力は、相互接続ダイ106を(図1および図2に示す)パッケージ基板104に結合する電気的相互接続部110のうち1つを通して相互接続ダイ106に与えられる。たとえば、相互接続回路214への電力供給経路1202を、相互接続ダイ106をパッケージ基板104に結合する電気的相互接続部110のうち1つを通して設けてもよい一方で、電力帰還経路1204を、相互接続ダイ106をパッケージ基板104に結合する電気的相互接続部110の別の1つを通して設けてもよい。図12の構成の1つの利点は、ダイ102から分離される、相互接続ダイ106を通って延在するビアの形態であり得る電力供給および帰還経路1202,1204による、作製および動作の際にICパッケージ100に誘導される応力に対する寄与が最小限であるということである。図12に描く構成の別の利点は、電力供給ダイ102を相互接続ダイ106の電力供給設計とは独立して設計できることである。さらに、相互接続回路214のプログラマブル素子からの電力伝送をデータ伝送用に構成される相互接続回路214の一部から切り離す態様で、相互接続ダイ106にわたって複数の電力供給および帰還経路1202,1204を分散させてもよく、これは、相互接続ダイ106の相互接続回路214の性能を潜在的に低下させる可能性があるプログラマブル素子702および904を備える装置に影響を及ぼす、プログラマブル素子702および904の望まれない加熱および望まれない機械的応力を小さくしかつデータの潜在的な破壊を低減するように働く。
これに代えて、電力供給および帰還経路は、ダイ102を通して相互接続ダイ106へ設けられてもよい。たとえば図13の半導体アセンブリ1300の別の例の概略断面図に描くように、電力供給経路1302を、(図1および図2に示す)パッケージ基板104から相互接続ダイ106の相互接続回路構成214へダイ102を通してルーティングする。同様に、電力帰還経路1304を、相互接続ダイ106の相互接続回路構成214からダイ102を通ってパッケージ基板104へルーティングする。図13の構成は、電力供給および帰還経路1302,1304が両方のダイ102,106に共有電力を与え得る場合に有利であり得る。加えて、相互接続ダイ106は、電力供給および帰還経路1302,1304用のビアを要件としない。
図14は、相互接続ダイを有するチップパッケージ中の電力送達方式1400の概略図である。電力送達方式1400を、上述のチップパッケージおよび相互接続ダイまたは他の好適なチップパッケージとともに利用してもよい。
電力送達方式1400は、図12に示す電力供給および帰還経路1202,1204ならびに図13に示す電力供給および帰還経路1302,1304などの相互接続ダイ106に電力を供給するための電力供給および帰還経路が、ダイ102またはダイ106のいずれかと通信するための非電力信号経路から切り離される別々のグループにグループ化することを含む。たとえば、相互接続ダイ106に電力供給するための電力供給および帰還経路を、ダイ102またはダイ106のいずれかと通信するためのデータ伝送経路のために利用される領域1404とは別のかつ異なる別々の領域1402にグループ化し得る。ある実施形態では、電力を伝送するために利用される領域1402はビアを含み得る一方で、データ伝送に利用される領域1404はビアを含有しないことがある。
電力供給および帰還経路のための別々の領域1402は、ダイ102から分離されるデータ伝送領域1404からの分離の手段を提供し、したがって、作製および動作の間にICパッケージ100に誘導される応力に対する寄与が最小限である。図14に描く構成の別の利点は、電力供給および帰還経路の複数の領域1402を、相互接続回路214のプログラマブル素子からの電力伝送をデータ伝送用に構成される相互接続回路214の部分から切り離す態様で相互接続ダイ106にわたって分散し得ることであり、このことが、相互接続ダイ106の相互接続回路214の性能を潜在的に低下させる可能がある、プログラマブル素子を備える装置および構成要素に対する所望されない機械的応力およびプログラマブル素子の所望されない加熱を小さくし、かつデータの潜在的な破壊を小さくするように働くことである。
上述した実現例では、半導体アセンブリおよびICパッケージを改良する相互接続ダイの使用を示した。相互接続ダイは、より小さな設置面積でより高速の動作を可能にしつつ、電力消費およびRC負荷を低減するダイからダイへの相互接続を可能にする。ある実現例では、相互接続ダイは、ICパッケージの高められた機能性を可能にする固体相互接続回路構成を含む。たとえば、相互接続ダイの固体相互接続回路構成は、向上したプログラミング柔軟性と、相互接続ダイを通して信号をパイプライン化できることと、相互接続ダイを通して接続を多重化できることと、相互接続ダイ内で信号を再ルーティングして、後の使用で明らかになる現在の複数の欠陥または欠陥を回避できるようにすることによって欠陥および故障に対する許容度を向上できることとを可能にし得る。
本技術のある実施形態を方法として表現してもよい。第1の例では、半導体アセンブリを製造する方法が提供され、方法は、少なくとも2つの集積回路(IC)ダイを担体基板に固着することを含み、ICダイはICダイ自身から延在する複数の導電性ピラーを有し、方法はさらに、相互接続ダイをICダイに接続することを含み、相互接続ダイとICダイとの間の接続はその間で信号を伝送するのに好適であり、方法はさらに、オーバーモールドで相互接続ダイおよびICダイを被覆することと、相互接続ダイの一部およびオーバーモールドを除去して導電性ピラーを露出させることと、導電性ピラーおよび相互接続ダイ上に電気的相互接続部を形成することと、担体基板を除去することとを含む。
第2の例では、第1の例の方法は、電気的相互接続部を利用して相互接続ダイおよびICダイをパッケージ基板に接続することをさらに備えてもよい。
第3の例では、ICパッケージ中で信号をルーティングするための方法が提供され、方法は、第1の集積回路(IC)ダイから第2のICダイへ、ダイ間接続部によってICダイに直接に結合される第1の相互接続ダイを通して信号を伝送することと、電気的相互接続部によってICダイによってパッケージ基板に直接に結合される第1の相互接続ダイの間に信号を伝送することとをさらに含む。
第4の例では、第3の例の方法は、第1のICダイから第2のICダイへ信号を伝送することは、伝送された信号を、第1の相互接続ダイ中に形成される固体回路構成を通してルーティングすることをさらに含んでもよい。
第5の例では、第3の例の方法は、伝送された信号を固体回路構成を通してルーティングすることは、伝送された信号を第1の相互接続ダイを通してパイプライン化することと、第1の相互接続ダイを通過するクロック信号を遅延させることと、伝送された信号を第1の相互接続ダイ中のプログラマブルネットワーク形態を通して渡すこととのうち少なくとも1つをさらに含んでもよい。
第6の例では、第3の例の方法は、ダイ間接続部によって集積回路(IC)ダイに直接に結合される第2の相互接続ダイを通して第1のICダイから第2のICダイへ信号を伝送することをさらに含んでもよい。
第7の例では、第3の例の方法は、ダイ間接続部によって第1および第3の集積回路(IC)ダイに直接に結合される第2の相互接続ダイを通して第1のICダイから第3のICダイへ信号を伝送することをさらに含んでもよい。
第8の例では、2つ以上のICダイに結合される相互接続ダイを試験するための方法が提供され、方法は、相互接続ダイおよびICダイをパッケージング基板に結合する前にICダイおよび相互接続ダイ中に形成される回路構成にプローブを電気的に接触させることと、相互接続ダイの機能性を試験することとを含む。
第9の例では、第8の例の方法は、相互接続ダイの機能性を試験する際に、2つ以上のICダイのうち第1のICダイを相互接続ダイに接続する第1の複数の導電パッドの各々1つが、2つ以上のICダイのうちの第2のICダイを相互接続ダイに接続する第2の複数の導電パッドのうち選択される1つに選択的に接続され得ることを確認することをさらに含んでもよい。
第10の例では、第8の例の方法は、相互接続ダイの機能性を試験する際に、信号が相互接続ダイを通してICダイ同士の間でパイプライン化され得ることを確認することをさらに含んでもよい。
理解を容易にするため、可能な場合は、図同士で共通の同一要素を指定するのに同一の参照番号を用いた。有益な場合には1つの例の要素を他の例で組入れることがあることが企図される。
以上は具体例に向けられたが、その基本的範囲から逸脱することなく、他のおよびさらなる例を工夫してもよく、その範囲は以下の請求項によって定められる。

Claims (14)

  1. 相互接続ダイであって、
    対向側に第1の表面および第2の表面が規定されるダイ本体と、
    前記ダイ本体の前記第1の表面上に形成される第1の複数の導電パッドと、
    前記ダイ本体の前記第1の表面上に形成される第2の複数の導電パッドとを備え、前記第2の複数の導電パッドは、グループ化されて、別個の集積回路(IC)ダイと前記相互接続ダイとの間で信号を渡すために電気的ダイ間接続部を介して前記ICダイが前記相互接続ダイに物理的かつ電気的に接続するのを可能にするように構成される向きに前記第1の複数の導電パッドから物理的に離間され、さらに
    前記ダイ本体の中に配設され、かつ前記第2の複数の導電パッドのうち選択される1つとの双方向接続のために前記第1の複数の導電パッドのうち1つを選択するように動作可能な固体回路構成を備える相互接続回路を備え、
    前記固体回路構成は、前記相互接続ダイを通してデータをパイプライン化することと、前記相互接続ダイ上にプログラマブルポイントツーポイントネットワークを形成することとのうち少なくとも1つを行なうように動作可能な複数のプログラマブル素子を備え、前記複数のプログラマブル素子の各々は、バイパス機能を有する、相互接続ダイ。
  2. 電気的ダイ間接続部を介して前記第1の複数の導電パッドに結合される第1のICダイと、
    電気的ダイ間接続部を介して前記第2の複数の導電パッドに結合される第2のICダイとをさらに備え、前記第1および第2のICダイは同じ種類のダイではない、請求項1に記載の相互接続ダイ。
  3. 前記ダイ本体は、前記第1の表面と前記第2の表面との間に規定される250ミクロン未満の厚みを備える、請求項1に記載の相互接続ダイ。
  4. 前記ダイ本体の前記第1の表面上に形成される第3の複数の導電パッドをさらに備え、前記第3の複数の導電パッドは、グループ化されて、1つ以上の別個の集積回路(IC)ダイと前記相互接続ダイとの間で信号を渡すために電気的ダイ間接続部を介して前記ICダイが前記相互接続ダイに物理的かつ電気的に接続するのを可能にするように構成される向きに前記第1および第2の複数の導電パッドから物理的に離間され、前記相互接続回路は、前記第3の複数の導電パッドのうち選択される1つとの接続のために前記第1または第2の複数の導電パッドのうち1つを選択するよう動作可能である、請求項1に記載の相互接続ダイ。
  5. 前記ダイ本体の前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在する複数のビアをさらに備え、前記ビアは、1つ以上の第2の別々の領域とは別のかつ異なる1つ以上の第1の別々の領域に配置され、前記複数の導電パッドは、前記1つ以上の第2の別々の領域の中に閉じ込められる前記固体回路構成に選択的に結合され、前記ダイ本体の前記第1の表面と前記第2の表面との間に延在するビアは前記1つ以上の第2の別々の領域の中には存在しない、請求項1に記載の相互接続ダイ。
  6. 前記相互接続ダイは、前記ICダイのうち少なくとも1つよりも小さな計画面積を有する、請求項1に記載の相互接続ダイ。
  7. 半導体アセンブリであって、
    第1の集積回路(IC)ダイと、
    第2のICダイと、
    ダイ間接続によって前記ICダイに結合される第1の相互接続ダイとを備え、前記第1の相互接続ダイは、前記第1の相互接続ダイを通して前記ICダイ同士の間にプログラマブル双方向信号伝送経路を設ける固体回路構成を有し、前記固体回路構成は、前記第1の相互接続ダイ上に形成される第2の複数の導電パッドのうち任意の1つとの接続のために、前記第1の相互接続ダイ上に形成される第1の複数の導電パッドのうち任意の1つとの間の前記双方向信号伝送経路のルーティングを選択するように動作可能であり、
    前記第1の相互接続ダイの前記固体回路構成は、前記第1の相互接続ダイを通してデータをパイプライン化することと、前記第1の相互接続ダイ上にプログラマブルポイントツーポイントネットワークを形成することとのうち少なくとも1つを行なうように動作可能な複数のプログラマブル素子を備え、前記複数のプログラマブル素子の各々は、バイパス機能を有する
    半導体アセンブリ。
  8. 前記第1のICダイから延在する複数の導電性ピラーと、
    前記導電性ピラーの遠端と実質的に同一平面上にあるオーバーモールドの表面とをさらに備える、請求項7に記載の半導体アセンブリ。
  9. ダイ間接続部によって前記ICダイのうち少なくとも1つに結合される第2の相互接続ダイをさらに備える、請求項7に記載の半導体アセンブリ。
  10. 複数の電気的相互接続部によって前記ICダイに結合されるパッケージ基板をさらに備え、前記パッケージ基板は、複数の電気的相互接続部によって前記第1の相互接続ダイに結合される、請求項7に記載の半導体アセンブリ。
  11. 前記第1の相互接続ダイは、前記ICダイのうち少なくとも1つよりも小さな計画面積を有する、請求項7に記載の半導体アセンブリ。
  12. ダイ間接続部によって前記第1の相互接続ダイに結合される少なくとも第3のICダイをさらに備え、前記固体回路構成は、前記第1の相互接続ダイを通して、前記第1、第2、および少なくとも第3のICダイの間にプログラマブルポイントツーポイント信号伝送経路を設けるように構成される、請求項7に記載の半導体アセンブリ。
  13. 第1の相互接続ダイは80ミクロン未満の厚みをさらに備える、請求項7に記載の半導体アセンブリ。
  14. 第1の側を有するパッケージ基板をさらに備え、前記ICダイの各々の底面は第1の複数の電気的相互接続部によって前記パッケージ基板の前記第1の側に直接に結合され、前記第1の側は、第2の複数の電気的相互接続部によって前記第1の相互接続ダイの底面に直接に結合され、前記第1の相互接続ダイの頂面は、前記ダイ間接続によって前記ICダイの各々の前記底面に結合される、請求項7に記載の半導体アセンブリ。
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