JP6932768B2 - イソシアネートの製造方法 - Google Patents

Description

本発明はイソシアネートの製造方法であって、燃焼を意図したオフガス流(offgas streams)が、オフガス燃焼に送られる前に、吸着装置を通って誘導され、この方法で溶媒が枯渇し、該吸着装置が交互に、
（ｉ）少なくとも１つのオフガス流で充填され、かつ
（ｉｉ）蒸気で再生される
平行に接続した少なくとも２つの吸着装置を備えてなるものであり、
プロセス段階(process stage)（ｉ）において、溶媒が枯渇したオフガス流が得られ、かつプロセス段階（ｉｉ）の間に水と溶媒とを含む流れが得られ、その溶媒画分がイソシアネートを調製する方法に再利用される方法に関する。

多くの産業上の製造プロセス（特に化学生成物の製造プロセス）では、製造プロセスの実際の生成物以外に気体性のプロセス生成物(process product)が得られ、これはそれらを環境中へオフガスとして放出する前に、経済的損失および環境破壊を最小化するために処理しなければならない。そのようなワークアップ（workup）工程には様々なプロセスが含まれ得る。そのような洗浄作業には、スクラビング、吸収（例えばＮＯ_ｘの吸収）、吸着、濃縮(condensation)および濾過が含まれる。先行技術において、予備洗浄（場合によっては、さらに事前の）のために行なわれたすべての洗浄作業の結果、この方法で予備洗浄に供されたそのような気体性のプロセス生成物を組み合わせて、このように得られたオフガス流を共通のオフガス燃焼に送ることが慣習的であり、ここで燃焼ガス（さらなる洗浄後に必要な場合、例えば酸性成分を結合させるための塩基スクラビング）は公式の環境条例に従いつつも環境へ放出することができる。

気体性のプロセス生成物が得られる産業上の製造プロセスの一例としては、対応するアミンのホスゲン化によるイソシアネートの製造である。ホスゲン化において塩化水素の共生成物および未変換のホスゲンからなる気体のプロセス流が得られる。また通常、使用される溶媒の残留物（ならびにホスゲン調製からの不活性物質あるいは過剰な一酸化炭素）もそこに存在する。続くワークアップ工程にはさらなる気体性のプロセス生成物が得られるかもしれず、それらの中には溶媒も含むものもある。この点に関して、異なる時点で得られた溶媒の、様々な気体性のプロセス生成物からの回収が重要である。イソシアネート製造プロセスにおける蒸留による溶媒回収の方法は、例えばＥＰ１５７５９０８Ｂ２およびＥＰ１５７５９０６Ｂ１において提起されている。これらの公報のいずれも、オフガス燃焼の直前の溶媒回収について記載していない。

ＷＯ２００４／０５６７５８Ａ１は、活性炭への不純物（ホスゲンおよびクロロベンゼンの残留物）の吸着による塩化水素／ホスゲン分離からの塩化水素のさらなる精製について記載している。

イソシアネート製造工場からのオフガス流からの溶媒回収に、オフガス燃焼中へのそれらの導入の前に信頼できるプロセスを利用可能にしておくことが好ましいであろう。

そのようなプロセスを単純なやり方で、変更された境界条件（例えば溶媒、エネルギーまたはオフガス燃焼について変更された費用）に適応させることが可能なことも好ましいであろう。

この条件を考慮して、本発明は、
以下の工程：
Ａ．溶媒（４）を使用してイソシアネート（１）に対応するアミン（２）とホスゲン（３）とを反応させて、イソシアネート（１）と溶媒（４）とを含んでなる液体流および少なくとも１種の溶媒含有オフガス流を得ること；
Ｂ．イソシアネートと溶媒とを含んでなる液体流をワークアップし、イソシアネートを分離することであって、ここで場合によりさらなる溶媒（４）を使用して、同様に少なくとも１種の溶媒含有オフガス流を得ること；
を含んでなるイソシアネート（１）の製造方法であって、
ａ）工程Ａおよび／または工程Ｂからの少なくとも１種の溶媒含有オフガス流が、
交互に(alternately)
（ｉ）少なくとも１つのオフガス流が充填され、かつ
（ｉｉ）蒸気で再生される
平行に接続している少なくとも２つの吸着ユニット（３０２１、３０２２）を備えてなる溶媒を吸着するための吸着装置（３０２０）へ誘導され、ここで
プロセス段階ａ）（ｉ）の間に溶媒が枯渇したオフガス流（２２０）が得られ、かつプロセス段階ａ）（ｉｉ）の間に、水および溶媒（２３０）を含んでなる流れが得られ、かつ、
ｂ）（ｉ）溶媒が枯渇した(solvent-depleted)オフガス流（２２０）がオフガス燃焼（６０００）へ送られ、かつ
（ｉｉ）水および溶媒（２３０）を含んでなる流れから水が枯渇し、かつ次いで工程Ａおよび／または工程Ｂへ再利用される、
方法を提供する。

本発明は、本発明による方法の実行に好適な、対応するアミン（２）のホスゲン化によりイソシアネート（１）を調製するためのプラント（１００００）をさらに提供する。

初めに本発明の様々な可能な実施態様の概要が続く：
本発明の第一の実施態様（これは他のすべての実施態様と組み合わせてもよい）において、工程Ａは、
Ｉ）アミン（２）とホスゲン（３）とを反応させ、得られたプロセス生成物をイソシアネートと溶媒とを含んでなる液体流（６０）、ならびにホスゲン、塩化水素および溶媒を含んでなる気体流（７０）へ分離すること
を含んでなり、
工程Ｂは、
ＩＩ）工程Ｉ）からの液体流（６０）から、蒸留装置（２１００）中でこの液体流（６０）を溶媒とイソシアネートとを含んでなる液体流（８０）、およびホスゲンと塩化水素を含んでなる気体流（９０）に分離することにより、ホスゲンおよび塩化水素とを枯渇させることを含んでなり、
該気体流（７０）および（９０）は、場合によりさらなる洗浄工程を通過した後に、少なくとも1種の溶媒含有オフガス流の構成要素として、適切な場合には唯一の構成要素として工程ａ）へ送られる。

本発明の第二の実施態様（これは第一の実施態様の特定の構成である）において、工程Ｂ．ＩＩ）の後に工程Ｂ．ＩＩＩ）およびＢ．ＩＶ）が続く：
ＩＩＩ）工程ＩＩ）からの液体流（８０）から、蒸留装置（２２００）中でこの液体流（８０）を、溶媒を含んでなる気体流（１１０）、およびイソシアネートを含んでなる液体流（１００）とに分離することにより、溶媒を枯渇させること；
ＩＶ）工程ＩＶ）からの気体流（１１０）から、この気体流（１１０）を好ましくは濃縮装置（２３１０）中でのその液化の後に、蒸留装置（２３００）中で溶媒を含んでなる液体流（１２０）と、ホスゲンを含んでなる気体流（１３０）とに分離することにより、ホスゲンを枯渇させること；
ここで、場合によりさらなる洗浄工程を通過した気体流（１３０）が、少なくとも１つの溶媒含有オフガス流の構成要素として工程ａ）に送られる。

本発明の第三の実施態様（これは第二の実施態様の特定の構成である）では、工程Ｂ．ＩＶ）の後に
Ｖ）液体流（１００）から液体イソシアネート流（１４０）を得て、場合により流れ（１４１）としてポリマー除去のための上流ユニット(upstream unit) （２４１０）中でのポリマーイソシアネート画分の除去を含んでなる蒸留装置（２４００）中で、二次成分と場合により溶媒とを含んでなる気体流（１５０）をもたらすこと
が続く。

本発明の第四の実施態様（これは第一、第二、および第三の実施態様の特定の構成である）では、工程Ｂはさらに、
ＶＩ）場合により濃縮の後に、溶媒（４）中での吸収によって気体流（７０）および（９０）、および存在する場合には気体流（１３０）、を洗浄して、吸収装置（２５００）中で溶媒とホスゲンとを含んでなる液体流（１６０）、および塩化水素と溶媒を含んでなる気体流（１７０）を得ること
を含んでなる。

本発明の第五の実施態様（これは第四の実施態様の特定の構成である）では、工程Ｂ．ＶＩ）の後に、
ＶＩＩ）さらなる吸収装置（２６００）中で、吸収剤（１８０）としての水または塩酸中で、気体流（１７０）を洗浄して、塩酸含有流（１９０）を得て、好ましくは蒸気濃縮装置（２６１０）を通過させた後に、溶媒と場合により気体性二次成分とを含んでなる気体流（２００）を得ること
が続く。

本発明の第六の実施態様（これは第五の実施態様の特定の構成である）では、工程Ｂ．ＶＩＩ）は、蒸気濃縮装置（２６１０）の通過を含み、この工程Ｂ．ＶＩＩ）はさらに以下、
蒸気濃縮装置（２６１０）中で得られた液体流（１９１）を、水相（１９２）と有機相（１９３）とに分離すること；
吸収剤（１８０）の構成要素として水相（１９２）を吸収装置（２６００）中へ再利用すること、および／または
好ましくは乾燥後に、有機相（１９３）を工程Ａ．Ｉ）、Ｂ．ＩＩＩ）、Ｂ．ＩＶおよびＢ．ＶＩ）の少なくとも１つへ再利用すること
を含んでなる。

本発明の第七の実施態様（これは第五および第六の実施態様の特定の構成である）では、工程Ｂ．ＶＩＩ）の後に、
ＶＩＩＩ）オフガス流（３０００）のワークアップ装置中で、溶媒および場合により気体性二次成分を含んでなる気体流（２００）を洗浄すること、ここで
ＶＩＩＩ−１）吸収装置（２６００）から生じる気体流（２００）を、好ましくは蒸気濃縮装置（２６１０）を通過させた後に、ホスゲンが水（２６０）を使用して触媒によって、好ましくは活性炭素で、分解されるホスゲン分解装置（３０１０）中へ誘導されて、溶媒と場合により気体性二次成分とを含んでなる気体流（２１０）、および塩酸を含んでなる液体流（２７０）を得て、
該気体流（２１０）が工程ａ）中で溶媒を吸着するための吸着装置（３０２０）へ誘導されること
が続く。

本発明の第八の実施態様（これは他のすべての実施態様、特に第七の実施態様と組み合わせてもよい）では、工程Ａを実行するためのホスゲン（３）は一酸化炭素（３００）と塩素（３１０）とを反応させることによって調製され、一酸化炭素およびホスゲンを含んでなるオフガス流（３２０）が得られ、これは場合によりさらなる洗浄工程を通過させた後に、オフガス燃焼に送られる少なくとも1種の溶媒含有オフガス流に供給され、より具体的には工程ＶＩＩＩ．１）を実行する前に、場合によりさらなる精製工程を通過させた後にオフガス流（３２０）を気体流（２００）と組み合わせる。

本発明の第九の実施態様（これは第八の実施態様の特定の構成である）では、一酸化炭素（３００）と塩素（３１０）との反応からの一酸化炭素とホスゲンを含んでなるオフガス流（３２０）は、吸収カラム（４０１０）中で０．０℃から−２０．０℃の範囲の温度を有する溶媒（４）中で洗浄され、ホスゲンが枯渇したオフガス流（３３０）が工程ＶＩＩＩ．１）の実行に先立って得られ、このオフガス流（３３０）は、気体流（２００）と合わせられるものであり、吸収装置（２５００）に送られる吸収カラム（４０１０）中で溶媒含有およびホスゲン含有流（３４０）が得られる。

本発明の第十の実施態様（これは他のすべての実施態様、特に第四、第五、第六、第七、第八、または第九の実施態様と組み合わせてもよい）では、工程ｂ）（ｉｉ）において水と溶媒を含んでなる流れからの水の枯渇は、この流れが濃縮され、次いで水相（２５０）および有機相（２４０）に分離されるように行われ、該有機相（２４０）が場合によりさらに乾燥されてもよく、ここで水を枯渇した後に得られる流れの工程Ａおよび／または工程Ｂへの再利用が、有機相（２４０）が、場合によりさらに乾燥された後に、工程Ａおよび／または工程Ｂへ、より好ましくは工程Ａ．Ｉ）、Ｂ．ＩＩＩ）、Ｂ．ＩＶ）およびＢ．ＶＩ）の少なくとも１つへ再利用されるように行われる。

本発明の第十一の実施態様（これは第十の実施態様の特定の構成である）では、水相（２５０）は工程Ｂ．ＶＩＩ）において使用される吸収剤の構成要素として使用される。

本発明の第十二の実施態様（これは第二〜第十一の実施態様の特定の構成であり、特に第三〜第十一の実施態様の特定の構成である）では、装置（２２００）および（２３００）、特に装置（２２００）、（２３００）、（２４００）、そして存在する場合には（２４１０）は、大気圧力に対して減圧下で操作され、この目的のために必要な真空生成プラントからのオフガス流を冷却することなく、または１．０℃を下回らない温度に冷却した後に、場合により触媒性ホスゲン分解のための装置（３０１０）を通過させた後に工程ａ）に送られる。

本発明の第十三の実施態様（これは他のすべての実施態様と組み合わせてもよい）では、アミン（２）は、メチレンジフェニレンジアミン、ポリメチレンポリフェニレンポリアミン、メチレンジフェニレンジアミンとポリメチレンポリフェニレンポリアミンとの混合物、トリレンジアミン、キシリレンジアミン、ペンタン−１，５−ジアミン、ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミンおよびナフチルジアミンからなる群から選択される。好ましくは、アミンは、メチレンジフェニレンジアミン、ポリメチレンポリフェニレンポリアミン、メチレンジフェニレンジアミンとポリメチレンポリフェニレンポリアミンとの混合物、トリレンジアミン、キシリレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミンおよびナフチルジアミンからなる群から選択される。

上で簡潔に概説された実施態様および本発明のさらに可能な構成は、以下に詳細に説明される。当業者にとって文脈から反対が明白でない限り、様々な実施態様は互いに組み合わせ可能である。

本発明の方法は、原則的に任意の所望の芳香族、脂肪族、芳香脂肪族のイソシアネート（１）の調製に適している。本発明の方法は、メチレンジフェニレンジイソシアネート（メチレンジフェニレンジアミンから）、ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート（ポリメチレンポリフェニレンポリアミンから）、メチレンジフェニレンジイソシアネートとポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネートとの混合物、トリレンジイソシアネート（トリレンジアミンから）、キシリレンジイソシアネート（キシリレンジアミンから）、ペンタン１，５−ジイソシアネート（ペンタン−１，５−ジアミンから）、ヘキサメチレンジイソシアネート（ヘキサメチレンジアミンから）、イソホロンジイソシアネート（イソホロンジアミンから）、およびナフチルジイソシアネート（ナフチルジアミンから）の調製のために使用することが好ましく、より好ましいのはメチレンジフェニレンジイソシアネート、メチレンジフェニレンジイソシアネートとポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネートとの混合物およびトリレンジイソシアネートである。本発明の方法は、メチレンジフェニレンジイソシアネートおよびメチレンジフェニレンジイソシアネートとポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネートとの混合物の調製最も好ましく適している。メチレンジフェニレンジイソシアネートはジフェニルメタンシリーズのジアミンとも呼ばれる。ポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネートはジフェニルメタンシリーズのポリアミンとも呼ばれる。

工程Ａは気体相または液体相中で達成することができる。液体相ホスゲン化では、溶媒（４）中でアミン（２）とホスゲン（３）とを溶解して反応させることが慣習的である。気体相ホスゲン化では、生じる液体相に形成されたイソシアネートの変換と共に、イソシアネート（１）の沸点より下の、および対応する塩化カルバモイルの分解点より上の温度で、溶媒（４）（場合により再利用されたイソシアネートなどのさらなる液体）と接触させることにより、アミンとホスゲンとの反応からの粗製気体性のプロセス生成物を急速に冷却することが慣習的である。プロセスレジームに関係なく、したがって形成されるのはイソシアネート（１）と溶媒（４）を含む液体流である。さらなるワークアップに供される気体性のプロセス生成物の追加の形成とともに、最大限の価値のある原料の回収がある。先行技術において今日まで可能かつ経済的に実行可能である気体性のプロセス生成物のワークアップの手段を消尽した後には、常にオフガス流が残存する。気体性のプロセス生成物すべてからの溶媒の完全な回収は、目的のために要する不釣り合いに高いエネルギー入力のために非経済でありうるため、イソシアネートの調製のための方法では、通常少なくとも１種の溶媒を含有しているオフガス流が得られる。本発明によれば、この少なくとも１種の溶媒含有オフガス流は、オフガス燃焼（工程ｂ）（ｉ）に先立って、吸着法（工程ａ）によってさらに溶媒が枯渇する。ここでは、この溶媒の枯渇が、オフガス燃焼直前に起こることが好ましい（即ち、工程ａ）および工程ｂ）（ｉ）の間に起こるプロセス段階はそれ以上ない）。

本発明に従って使用可能な好適な不活性溶媒（４）は、反応条件下で不活発な溶媒であり、例えばモノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン（特にオルト異性体）、ジオキサン、トルエン、キシレン、塩化メチレン、ペルクロロエチレン、トリクロロフルオロメタン、または酢酸ブチルである。不活性溶媒（４）には、イソシアネート（質量による目標割合＜１００ｐｐｍ）が本質的に含まれず、ホスゲン（質量による目標割合＜１００ｐｐｍ）が本質的に含まれず、このことは再利用流を使用する場合に注意するべきである。したがって、ＥＰ１８５４７８３Ａ２に記載のような方法によって作業することが好ましい。溶媒は、個々にまたは例示を目的に言及された溶媒の任意の所望の組み合わせの形態で使用することができる。好ましいのはモノクロロベンゼン（ＭＣＢ）またはオルト−ジクロロベンゼン（ＯＤＢ）の使用である。

本発明の文脈では、工程Ｂは先行技術において慣習的なものとして実行することができる。好ましい実施態様はさらに以下で概説される。

本発明による方法の工程ａ）は、溶媒を吸着するための吸着装置中で燃焼される少なくとも１種の溶媒含有オフガス流からの溶媒の枯渇を含む。これは、吸着剤（好ましくは活性炭）を含む、平行に接続している少なくとも２つの吸着装置を備える。これらの吸着装置のうちの１つは、最大で吸着剤の飽和限界までａ）（ｉ）において後で燃焼される少なくとも１種の溶媒含有オフガス流で充填される。その後、燃焼される少なくとも１種の溶媒含有オフガス流は、ａ）（ｉｉ）において新鮮なまたは再生成された吸着剤を含む第二吸着装置へ誘導され、同時に第一吸着装置に含有されている吸着剤は蒸気で再生される。工程ａ）の好ましい構成はさらに下で詳細に説明される。

工程ｂ）（ｉ）において、溶媒が枯渇したオフガス流（２２０）は、好ましくはオフガス燃焼に直接供給される（即ち好ましくは工程ａ（ｉ）とｂ）（ｉ）との間に中間工程がない）。オフガス燃焼は、当業者に化学工学において知られた工程であり、先行技術において慣習的なものであるように本発明の文脈で実行することができる。

工程ａ）ｉｉ）、工程ｂ）（ｉｉ）において得られた水と溶媒とを含む流れからの水の枯渇は、この流れが濃縮されて次に水相と有機相へ分離されるように適切に行われ、ここで有機相は場合によりさらに乾燥されてもよく、工程Ａおよび／または工程Ｂへの、水の枯渇後に得られた流れの再利用が、場合によりさらに乾燥された有機相が工程Ａおよび／またはＢにおいて溶媒（４）の構成要素として使用されるように実行される。この工程の好ましい構成はさらに下で詳細に説明される。

添付の図面に関して詳細な記載が続き、そこでは当業者に反対が文脈から明白でない限り、また異なる実施態様を所望に応じて互いに組み合わせ可能である。

連続的または半連続的な、好ましくは連続的な、工程Ａにおけるイソシアネートの製造は先行技術から知られた方法によって達成される。好適なプロセスは例えば、ＥＰ２０７７１５０Ａ１、ＥＰ１６１６８５７Ａ１、ＥＰ１８７３１４２ Ａ１、ＥＰ０７１６０７９Ａ１およびＥＰ０３１４９８５Ｂ１（液体相プロセス）、およびＥＰ２１９６４５５Ａ１、ＥＰ１４４９８２６Ａ１およびＷＯ２０１５／１４４６８１Ａ１（気体相プロセス）に記載されている。しかしながら、アミン（２）とホスゲン（３）との反応物の濃度および流量は、共反応物の混合において、好ましくはホスゲンの第一級アミンへのモル比として１．１：１から３０：１、より好ましくは１．２５：１から３：１が確立されるように選択される。

本発明による方法の好ましい実施態様では、工程Ａは、
Ｉ）アミン（２）とホスゲン（３）とを反応させ、得られたプロセス生成物を、イソシアネートと溶媒とを含む液体流（６０）、ならびにホスゲン、塩化水素および溶媒を含む気体流（７０）へ分離すること
を含む。

アミン（２）およびホスゲン（３）は、対応するレザーバー（reservoir）容器（１０２０、１０３０）からの（１１００）中でミキシングに供給される（図１を参照）。これは好ましくは溶媒（４）中の溶液（２０、３０）の形態で行われる。気体相プロセスの場合には、溶媒（４）中の反応物の分解とともに省略することが可能である。好適な混合ユニット１１００は、先行技術から十分に公知である。混合後に反応混合物（５０）を反応空間（１２００）へ誘導する。これは混合ユニット１１００で得られた混合物が完全に反応するまで十分な機会を与えられる滞留時間装置である。好適な装置は、先行技術から十分に公知である。粗製プロセス生成物の液体流６０および気体流７０への分離は、反応空間自体または下流の分離ユニット１２１０において達成される。混合ユニットと反応空間または混合ユニット、反応空間と分離ユニットまたは反応空間および分離ユニットを単一の装置（例えば対応する反応器中で）を統合することも可能である。本発明によれば、多数の混合ユニットおよび／または反応空間および／または、存在する場合に分離装置を直列にか平行して接続することも可能（例えば多数の直列に接続させた反応器のカスケードの形態）である。１２００で得られたプロセス生成物は、所望のイソシアネートと同様に溶解した塩素ガス、過剰な気体性ホスゲンと溶媒とを含む液体相（６０）と、塩化水素ガス過剰な気体性ホスゲンと気体性溶媒とを含む気体相（７０）とに分かれる。液体相および気体相は、反応空間（１２００）または分離ユニット（１２１０）から別々に除去される。反応空間の後に、必要に応じて塩化カルバモイルを開裂させるための装置（図１に示されない）が続いてもよい。そのような場合では、液体相（６０）は工程Ｂにおいてワークアップに供される前にこの装置を通過する。結果として生じた塩化水素が富化した気体相は、好ましくは気体相（７０）と組み合わさり、それらは一緒にさらなるワークアップに供される。

この実施態様では、工程Ｂ中のこのワークアップは少なくとも工程ＩＩ）を含む：
ＩＩ）工程Ｉ）からの液体流（６０）から、この液体流（６０）を蒸留装置（２１００；「脱ホスゲン化カラム」）中で溶媒とイソシアネートとを含む液体流（８０）と、ホスゲンと塩化水素とを含む気体流（９０）とに分離することによってホスゲンおよび塩化水素を枯渇すること。

液体粗製イソシアネート流６０からの、Ｂ．ＩＩ）における脱ホスゲン化カラム２１００と呼ばれるものの中での塩化水素およびホスゲンのさらなる除去は、好ましくはＥＰ１８５４７８３Ｂ１、特に段落［００１８］および［００２３］において記載されているような先行技術から公知の任意の所望の方法によって達成することができる。

記載された工程Ｉ）およびＩＩ）では、気体流（７０）および（９０）が得られる。これらは、好ましくはさらなる洗浄工程を通過した後に、少なくとも１種の溶媒含有オフガス流の構成要素として、適切な場合唯一の構成要素として工程にａ）に送られる。そのようなさらなる洗浄工程において、流れ（７０）および（９０）の組成は変更される（例えば、これらの流れからホスゲン、塩化水素および／または溶媒が枯渇されていてもよい）。

言及された気体流（７０）および（９０）に加えて、プロセス中での他の地点で気体流を得てもよく、概説された方法でイソシアネートの調製のための本発明の方法における気体性のプロセス生成物のワークアップの一部としてもよい。この一例は、結果的に流（１３０）による流れ（８０）からの溶媒のさらなる分離をもたらす気体流である。これは好ましくは工程Ｂ．ＩＩの後に、
ＩＩＩ）工程ＩＩ）からの液体流（８０）から、この液体流（８０）を蒸留装置（２２００；「溶媒カラム」）中で、溶媒を含む気体流（１１０）、およびイソシアネートを含む液体流（１００）とに分離することによって溶媒が枯渇させること；
ＩＶ）工程ＩＶ）からの気体流（１１０）から、この気体流（１１０）を好ましくは濃縮装置（２３１０）中で液化した後に、蒸留装置（２３００；「溶媒ストリッパー（solvent stripper）」）中で溶媒を含む液体流（１２０）と、ホスゲンを含む気体流（１３０）とに分離することにより、ホスゲンを枯渇させること
が続くような方法で達成される。

好ましくはＥＰ１８５４７８３Ｂ１、特に段落［００２４］から［００２７］に記載されているように工程Ｂ．ＩＩＩ）は、先行技術から知られた任意の方法によって達成することができる。蒸留装置（２２００）は、直列に接続された２つ以上の蒸留塔（この選択肢は図面を単純化する理由により図１には示されていない）を備えていてもよい。

好ましくはＥＰ１８５４７８３Ｂ１、特に段落［００２７］および［００２８］に記載されているように工程Ｂ．ＩＶ）は、先行技術から知られた任意の方法によって達成することができる。

工程Ｂ．ＩＶ）において、気体流（１３０）が得られる。これらは、好ましくはさらなる洗浄工程を通過した後に、少なくとも１種の溶媒含有オフガス流の構成要素として工程ａ）へ送られる。この点では、気体流（７０）および（９０）に関する言及を参照してもよい。

言及された工程ａ）の実行に先立った、気体流（７０）、（９０）および（１３０）のさらなる洗浄工程は、様々な方法で構成されてもよい。本発明の方法の好ましい実施態様では、工程Ｂ）はさらに工程ＶＩ）を含む：
ＶＩ）溶媒（４）中で気体流（７０）および（９０）および、存在する場合には気体流（１３０）を、吸収によって洗浄し（即ち、ホスゲンを実質的に除去する）、吸収装置（２５００；「ホスゲン吸収器」）中で溶媒とホスゲンとを含む液体流（１６０）および、塩化水素と溶媒とを含む気体流（１７０）を得て、ここで好ましくは、気体流（７０）および（９０）が第一に合わせられ、合わさった（７０）と（９０）の流れ、および存在する場合に流れ（１３０）が各々濃縮して、次に吸収装置（２５００）中へ液体形態で導入されること。

ＥＰ２０９３２１５Ａ１に記載されているように、好ましくは工程ＶＩ）は、先行技術から知られた任意の方法によって達成することができる。

原則として工程ＶＩ）中で形成された流れ（１７０）は工程ａ）に送ることができる。しかしながら、前もって気体流（１７０）をさらに精製することが好ましい。これは、工程ＶＩＩ）における塩化水素含有量の枯渇を包含する：
ＶＩＩ）追加の吸収装置（２６００；「ＨＣｌ吸収カラム」）において吸収剤（１８０）としての水または塩酸中で気体流（１７０）を洗浄し、塩酸含有流−場合により微量の溶媒を含む−（１９０）および好ましくは蒸気濃縮装置（２６１０）を通過させた後に溶媒と場合により気体性二次成分を含む気体流（２００）を得ること。

工程ＶＩＩ）は先行技術から知られた任意の方法によって達成することができる。好ましいのはＥＰ２０２１２７５Ｂ１に記載されているような方法である。

使用される吸収剤（１８０）は、水（例えばスチーム濃縮液）または０．５０質量％〜１５．０質量％の範囲の塩酸（希釈塩酸）である。塩酸含有流（１９０）は塩酸槽（２６３０）へ放出される。塩酸槽（２６３０）と同様に、必要に応じて流れ（１９０）を受け入れることができるようにさらなる貯溜槽（２６４０）が配置される。この「希釈酸槽」（２６４０）は流れ（１９０）の組成が塩酸に必要な仕様と著しく異なる場合に利用される。

塩化水素の吸収で放出された熱は、流れ（１７０）中の溶媒を大部分、または完全に気体流（２００）に転送する。

蒸気濃縮装置（２６１０）を使用した好ましい実施態様では、その中で液体流（１９１）が得られる。流れ（１９１）は一般に水性かつ有機的な成分を含有している。したがってこの実施態様においては、相分離装置（２６２０）中で流れ（１９１）を水相（１９２）と有機相（１９３）とに分離することが適切かもしれない。水相（１９２）は好ましくは−特に好ましくは希釈酸槽（２６４０）中へ放出した後に−吸収剤（１８０）の構成要素としてＨＣｌ吸収カラム（２６００）へ再利用される。さらなる使用のために、水で飽和している有機相（１９３）は、レザーバー容器（２７１０）に回収され、好ましくは乾燥させた後に（特に乾燥容器２７１０中の分子櫛によって）工程Ａ．ＩおよびＢ．ＩＩＩの少なくとも１つへ再利用される。これはＡ．Ｉ）中で使用される新鮮な溶媒（４）を、それを乾燥させるかまたは溶媒槽（１０４０）へ直接誘導した後に有機相（１９３）と混合することにより達成することができる。好ましくは乾燥後に有機相（１９３）を蒸留塔（２２００）へ、例えばそれを流れ（８０）と混合することによって導入することも、または図１に示されているように、それを流れ（８０）とは関係なくこの蒸留塔へ導入することも可能であり、このようにして流れ（１１０）［蒸留装置（２２００）から、Ｂ．ＩＩＩ］と（１２０）［（（蒸留装置（２３００）、Ｂ．ＩＶから））］を介してそれを溶媒槽（１０４０）へ誘導する。また吸収装置（２５００）中で使用される溶媒（４）の構成要素として、有機相（１９３）を乾燥させた後に使用する（Ｂ−ＶＩ）ことも可能である。

工程ＶＩＩ）における吸収プロセスは流れ（１９０）中の溶媒含有量が最小であることを確保するために直接または間接のストリッピング(stripping)と組み合わせすることができる。

０．５℃から６０．０℃、好ましくは１０．０℃から３０．０℃の範囲の温度での冷却水で操作される蒸気濃縮装置（２６１０）の好ましい使用−特に追加のストリッピングの場合−は、受け入れ可能な枯渇で最大のカラム（２６００）からの気体性頂部流を濃縮する単純な手段を提示する。濃縮温度の好適な選択は、プロセスのこの時点で溶媒が濃縮し出されるか、工程ａ）へ再利用されるかの割合に影響する要因のうちの１つになり得る。

原則として気体流（２００）は工程ａ）に送ることができる。しかしながら、この流れを事前にさらに精製し、より詳しくは依然として分離させられていないホスゲンの残留物を分解することが好ましい。この目的のために、好ましい実施態様では、この後に工程Ｂ．ＶＩＩが続く：
ＶＩＩＩ）オフガス流（３０００）をワークアップするための装置中で溶媒と場合により気体性二次成分とを含む気体流（２００）を洗浄すること、
ここで（詳細に関しては図２を参照）
ＶＩＩＩ−１）吸着装置（２６００）から発生する、好ましくは蒸気濃縮装置（２６１０）を通過した後の気体流（２００）が、ホスゲンが水（２６０）を使用して触媒によって分解され、好ましくは活性炭上で分解される、ホスゲン分解（３０１０；「ホスゲン破壊」）のための装置へ誘導されて、溶媒と場合により気体性二次成分とを含む気体流（２１０）および塩酸を含む液体流（２７０）が得られ、ここで気体流（２１０）は工程ａ）における溶媒を吸着するための吸着装置（３０２０）へ誘導される。

ホスゲンの分解用の装置（３０１０）は、ホスゲンが、５．０℃から５０．０℃、好ましくは２０．０℃から４０．０℃の範囲における温度での水を使用し、触媒により、好ましくは活性炭上で分解されるように、操作されることが好ましい。冷水は、利水、蒸気濃縮液、脱塩水または少なくともこれらの２つの混合物であってもよい。蒸気濃縮液の使用が好ましい。ホスゲン分解は、特に直列に接続している２台の管型反応装置（「ホスゲン破壊塔」）中で、８００ｍｂａｒから１０００ｍｂａｒ（絶対圧）、好ましくは８５０ｍｂａｒから９５０ｍｂａｒ（絶対圧）の範囲での圧力で好ましくは達成される。

本発明のこの実施態様において、工程ａ）において吸着装置（３０２０）へ供給される流れは、したがって溶媒と、ホスゲン分解（３０１０）中で得られる任意の気体性二次成分（ホスゲン以外）とを含んだ、事実上ホスゲンを含まない気体流（２１０）からなる。また工程ａ）へ供給される流れは専らこの気体流（２１０）からなってもよい。

溶媒を吸着するための吸着装置（３０２０）は、少なくとも１種の溶媒含有オフガス流（即ち特に流れ（２１０））が、２０．０℃から６０．０℃、好ましくは３０．０℃から４５．０℃の範囲での温度および８５０ｍｂａｒから１０００ｍｂａｒ（絶対圧）、好ましくは９２０ｍｂａｒから９８０ｍｂａｒ（絶対圧）の範囲の圧力で活性炭上に通過されるように好ましくは操作され、この場合、溶媒が吸着装置（３０２１）中で活性炭の飽和限界を超過しない程度に活性炭上で吸着される。（３０１０）中でのホスゲン分解とは対照に、（３０２０）に水は加えられない。そのような充填間隔が終了した後に、その後装置（３０２１）中での活性炭は、蒸気を直接導入することによって活性炭から活性炭上に吸着された溶媒を再び脱着する(desorbing)ことにより再生成される（プロセス段階ａ）（ｉｉ）。結果生じる熱い水性の溶媒混合物（２３０）は濃縮装置（５０１０）中で冷却され、相分離装置（５０２０）中で、「希釈酸槽」（２６４０）へ誘導される水相（２５０）と、保管容器（２７００）へ誘導される溶媒を含む有機相（２４０）へ分離される。時間での充填間隔の長さは、少なくとも１種の溶媒含有オフガス流（即ち特に流れ（２１０））の溶媒濃度および利用可能な活性炭の容積に依存する。オフガス燃焼（６０００）に供給される、溶媒が枯渇したオフガス流（２２０）は、有機炭素について間隔的または連続的に、好ましくは連続的に分析器によりモニタリングされる。燃焼によって所望されない溶媒の損失がないように充填間隔の持続時間が選択される。吸着装置（３０２１）中の活性炭の再生中に、連続的なオフガス洗浄作業を操作できるように少なくとも１種の溶媒含有オフガス流（即ち特にオフガス流（２１０））は第二の、同一吸着装置（３０２１）へ送られ、その中で溶媒が枯渇する。充填間隔の長さは好ましくは１．０時間から２４時間、より好ましくは１．５時間から１２時間、最も好ましくは２．０から６．０時間である。

工程ａ）（ｉ）中で得られる吸収装置（３０２０）からの溶媒が枯渇したオフガス流（２２０）は、燃焼（６０００）に送られる。工程ａ）（ｉｉ）の中で得られる水および溶媒からなる流れ（２３０）は、
Ｘ）好ましくは、この流れ（２３０）が濃縮装置（５０１０）中で濃縮され、次に相分離装置（５０２０）中で水相（２５０）および有機相（２４０）へ分離されるような方法で水が枯渇し（図２を参照）、この場合に有機相（２４０）をさらに乾燥させてもよい。その後、任意にさらに乾燥させた有機相は、少なくとも工程Ａ．Ｉ）、Ｂ．ＩＩＩ）、Ｂ．ＩＶ）およびＢ．ＶＩ）の少なくとも１つに再利用される。水相（２５０）は、工程ＶＩＩ）で、吸収剤の構成要素として有利に使用することができ、中間保存のために水相（２５０）は、「希釈酸槽」（２６４０）へ好ましくは誘導される。

有機相（２４０）の好ましい乾燥は、例えばゼオライトで乾燥させることにより達成することができる。好適なゼオライトは例えば２．０Å〜１０Å、好ましくは３．０Å〜５．０Åの孔径を有している分子櫛である。

Ａ．Ｉ）で使用される新鮮な溶媒（４）は乾燥後に有機相（２４０）と混合するか、または溶媒槽（１０４０）へ直接誘導することができる。場合により乾燥させた有機相（２４０）は、例えばそれを流れ（８０）と混合することによって、または流れ（８０）とは無関係に蒸留塔（２２００）へそれを導入することにより同様に導入することができ、このようにしてそれを溶媒槽（１０４０）へ流れ（１１０）［蒸留装置（２２００）から、Ｂ．ＩＩＩ］および（１２０）［蒸留装置（２３００）、Ｂ．ＩＶから）を介して誘導することができる。また吸収装置（２５００）中で吸収剤として使用される溶媒（４）の構成要素として場合により乾燥させた有機相（２４０）を使用することも可能である。

安全上の理由で、本発明のすべての実施態様において、対応する装置（４０００）中で一酸化炭素（３００）と塩素（３１０）との反応によって工程Ａを実行するためにその場で（on site）必要なホスゲン（３）を調製することが好ましい。この工程の実行については、ＥＰ１６４０３４１Ｂ１によれば「低温合成器」あるいはＥＰ０１３４５０６Ｂ１によれば「高温合成器」を利用することが可能である。好ましく使用される高温合成（ＥＰ ０ １３４５０６Ｂ１参照）では触媒としての活性炭を含有している管型反応装置中の塩素の一酸化炭素との反応によってホスゲンを変換すること、同時に蒸気を生成させるために得られた反応熱の同時活用を含有している。これは粒状活性炭を含有し、かつ１００ｍｍ以下の明確な管状直径を有する第一管型反応装置中で、９５容積％〜９８容積％の使用する塩素を過剰な一酸化炭素と反応させることによって行われ、２５０．０℃を超える温度での反応でホスゲンを得る。ここで得られた反応熱は、１５０．０℃から３２０．０℃で沸騰する液体または沸騰しない液体の蒸発冷却によって除去され、その温度は強制循環ポンプおよび温度調節により反応器出口で１５０．０℃から３２０．０℃に維持される。反応器を出る液体または気体の熱担体は、冷却媒体としての水で充填した熱交換器中で濃縮されて蒸気を生成するか、および／または反応器出口での熱担体の温度より下の温度に冷却されて反応器へ再利用される。反応器を出る反応ガスは、５０．０℃〜１２０．０℃の温度に冷却され、次に、粒状活性炭を含有している第二反応器へ渡され、その温度は自動調温によって５０．０℃〜１００．０℃に設定され、変換は第二反応器を出るホスゲンが５０ｐｐｍｖ未満の残留塩素含有量を有するように完了するまで行われる。上で記載されるように、反応器の頂部に存在するホスゲンが縮合される。すべてのプロセスにおいて、一酸化炭素とホスゲンとの残留物を含むオフガス流（３２０）が発生し、それは好ましくはさらなる洗浄工程を通過した後に、オフガス燃焼（６０００）に送られる工程ａ）からの少なくとも１種の溶媒含有オフガス流に供給される。好適な洗浄工程は、吸収カラム（「ホスゲンスクラビング装置(phosgene scrubber)」；（４０１０））中で０．０℃から−２０．０℃の範囲の温度を有する溶媒（４）中でのオフガス流（３２０）の吸収を含んでいて、ここではホスゲンのうちのいくらかが一酸化炭素とホスゲンの残留物とを含むオフガス流（３２０）からスクラビングで排出される（scrubbed out）。吸収カラム（４０１０）中で得られた溶媒含有およびホスゲン含有流（３４０）は、吸収装置（２５００）に好ましくは送られる。依然として微量の溶媒を含有しているホスゲンが枯渇した残留オフガス流（３３０）は、図１に示されるように、ホスゲン分解（３０１０）に送られることが好ましい。このように、ホスゲン調製からのオフガス流は同様に本発明の吸着に送られる。

純粋な形態での所望のイソシアネート（１）の調製については、上記の溶媒カラム（２２００）中での溶媒の除去後に得られた流れ（１００）をさらに蒸留することが好ましい。これは、工程Ｂ．Ｖ）で好ましくは遂行される：
Ｖ）場合によりポリマー除去（２４１０）のための上流装置中で流れ（１４１）としてポリマーイソシアネート画分の除去を含む、液体流（１００）から液体イソシアネート流（１４０）を得て、蒸留装置（２４００）中で二次成分と場合により溶媒とを含む気体流（１５０）を得ること。

この実施態様では、したがって流れ（１４０）は精製された形態のイソシアネート（１）を含む。この文脈では、２４００での蒸留が洗浄作業だけでなく異性体分離も含有している場合（１４０）、異なる異性体組成（１４０−１、１４０−２、…）の異なるイソシアネート流（１）を累積的に表してもよい。さらに、特定の実施態様で得られた流れ１４１はアネート（１）も含有し、流れ１４１は特に、ポリマーイソシアネート画分（即ち重合されたアミンから派生し得るイソシアネート（１）、例えば３つ以上のベンゼン「核」を有するポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネート）を含む。特定の実施態様で得られた「残留物流」１４３−即ち、２４１０での上流のポリマー除去が特に無い−は依然としてイソシアネート（１）も含有していて、それはこの流れから得ることができる。後の実施態様は、トリレンジイソシアネートの調製に特に好適であり、その場合には、蒸留装置２４００は分割壁カラムとして好ましくは構成される。

工程Ｖ）は先行技術から知られた任意の方法によって達成することができる。好適な方法は、ＥＰ１４７５３６７Ｂ１あるいはＥＰ１３７１６３５Ｂ１に述べられている。

本発明による方法において、特にプロセス工程ＩＩＩ）、ＩＶ）およびＶ）におけるユニット［（即ち（２２００）、（２３００）、存在する場合（２４００）および（２４１０）］は大気圧に対して低減した圧力で操作される。この目的に必要な真空生成プラントはオフガス流（図１に示されない）を製造する。先行技術では、これらのオフガス流は典型的に、好ましくは精製後に、同伴溶媒を濃縮し出すために、比較的低温（−３０．０℃から０．０℃）で部分的に濃縮される。本発明の方法は、この濃縮をより高温（１．０℃から５０．０℃；冷凍エネルギーの削減）で行うことを可能にし、さらにこの濃縮を全体的に省略することも可能にする。また本発明に従って、該濃縮よりも、単純な液体分離（小滴分離）を行なうことも可能である（かつ好ましい）。この目的に好適な装置は当業者に知られていて、好ましくは重力による分離器、サイクロン、ラメラ分離器、ニット（knits）などが含まれる。比較的高温での濃縮によりまたは液体の分離により同伴液体が取り除かれたか、あるいはこのように得られた真空生成プラントからのオフガスは、原則として工程ａに直接送ることができる。しかしながら、丁度前の流れ（２００）のように、この流れを特に微量のホスゲンを分解するためにさらに精製することが好ましい。この目的のために、同伴液体が取り除かれた真空生成プラントからのオフガスは、オフガス流（３０００）のワークアップ装置中で洗浄され、ここでオフガス流は丁度流れ（２００）のように、ホスゲン分解（３０１０；「ホスゲン破壊」）用の装置へ最初に誘導され、次に気体流（２１０）の構成要素として工程ａ）からの溶媒を吸着するための吸着装置（３０２０）に供給される。

本発明は、さらに以下のプラント構成要素を備えてなる、対応するアミン（２）のホスゲン化によってイソシアネート（１）を調製するためのプラント（１００００）を提供する：
０）場合によりかつ好ましくは、一酸化炭素（３００）と塩素（３１０）との反応によりホスゲン（３）を製造するための、一酸化炭素およびホスゲンを含むオフガス流（３２０）をもたらす装置（４０００）；
Ｉ）場合により下流に接続された分離ユニット（１２１０）を有する、ホスゲン化を実行するための反応空間（１２００）を含んでなる反応ゾーン（１０００）（ここで反応空間または分離ユニットが液体流（６０）および気体流（７０）のための出口導管を備えているものである）；
ＩＩ）液体流（６０）を液体流（８０）と気体流（９０）とに分離するための蒸留装置（２１００）；
ＩＩＩ）場合によりかつ好ましくは、液体流（８０）を気体流（１１０）と液体流（１００）に分離するための蒸留装置（２２００）；
ＩＶ）場合によりかつ好ましくは、気体流（１１０）を、好ましくは濃縮装置（２３１０）中で液化した後に、液体流（１２０）と気体流（１３０）とに分離するための蒸留装置（２３００）；
Ｖ）場合によりかつ好ましくは、液体流（１００）から液体イソシアネート流（１４０）を得るための蒸留装置（２４００）であって、二次成分と場合により溶媒を含んでなる気体流（１５０）をもたらし、ポリマーイソシアネート画分（１４１）を除去するためのポリマー除去（２４１０）のための上流ユニットを備えてなる蒸留装置；
ＶＩ）気体流（７０）および（９０）、および存在する場合に気体流（１３０）を、場合により吸収装置（２５００）上流に接続した濃縮装置（２５１０）（図１に示されない）に通過させた後に、溶媒（４）中で吸収するための装置（２５００）であって、液体流（１６０）および気体流（１７０）を得るための装置；
ＶＩＩ）塩酸と場合により溶媒とを含んでなる流れ（１９０）、および溶媒と場合により気体性二次成分とを含んでなる気体流（２００）を得るための、好ましくは蒸気濃縮装置（２６１０）を備えてなる、水または塩酸の中で気体流（１７０）を吸収（２６００）するための装置；
ＶＩＩＩ）
ＶＩＩＩ−１）流れ（２００）中に存在するホスゲンを分解するための、そして好ましくは流れ（３２０）中に存在するホスゲンも分解するための、触媒によりホスゲンを分解するための装置（３０１０）であって、溶媒と場合により気体性二次成分とを含んでなる気体流（２１０）を得る、装置；
ＶＩＩＩ−２）流れ（２１０）からの溶媒を吸着するための吸着装置（３０２０）であって、該吸着装置（３０１０）が交互に、
（ｉ）流れ（２１０）で充填され得、かつ
（ｉｉ）蒸気で再生される得る
ように構成される、平行に接続した、少なくとも２つの吸着装置（３０２１、３０２２）を備えてなるものである、装置
を備えてなるオフガス流（３０００）のワークアップ装置；
ＩＸ）ＶＩＩＩ−２）（ｉ）で得られた気体流（２２０）を燃焼するためのオフガス燃焼装置（６０００）；
Ｘ）反応ゾーン（１０００）および／または吸収装置（２５００）中で、プロセス段階ＶＩＩＩ−２）（ｉｉ）で脱着された溶媒を再利用するためのユニット。

本発明の方法は少なくとも以下の利点を生じさせる：
ｉ）溶媒は、非常に低温（＜−３０．０℃）へエネルギー集約的に冷却することなく燃焼に送られるオフガス流から回収することができる。冷凍用の維持費がない。
ｉｉ）オフガス燃焼中での溶媒含有量の最小化、従って燃焼残留物の最小化。イソシアネート調製において使用される溶媒が塩素を含むことが多いために、燃焼オフガスの洗浄を単純化することがさらに可能である
ｉｉｉ）溶媒の回収は、新鮮な溶媒の購入を劇的に減少させるために資源を節約する。
ｉｖ）ホスゲン分解と排ガス燃焼の間、およびオフガス導管中の液体分離器との間での電気的なトレース加熱が省略される。

燃焼中の溶媒の純粋な熱の利用と比較した下流の溶媒吸着プラントの使用による溶媒回収のための本発明の手順の成功は、付加的な吸着段階の資本費用にもかかわらず当業者に驚くべきことであった。溶媒吸着での製造プラントは低い蒸気枯渇、および非常に低い維持費（５年後にのみ吸着のための活性炭の交換が頻繁に必要となる）で操作することができる。

本発明は、特定の例によって以下にさらに説明される。

実施例
通常作業におけるメチレンジフェニレンジイソシアネートとポリメチレンポリフェニレンポリイソシアネートの混合物（以下総称してＭＤＩ）を調製するための一般条件−プロセス段階ＩからＩＸ；図１も参照のこと
１１０．０℃の温度で２０．４ｔ／ｈのメチレンジフェニレンジアミンとポリメチレンポリフェニレンポリアミンの混合物（以下総称してＭＤＡ）を、３０．０℃の温度で溶媒として５５．０ｔ／ｈのモノクロロベンゼン（ＭＣＢ；４）と静的ミキサー（１０２０）によって混合して２７．１％のＭＤＡ溶液（２０）が得られた。ホスゲン（３）は、２つのホスゲン生成装置および２つのホスゲン液化装置を備えるホスゲンを製造するための装置（４０００）によって得られた（以下のプロセス段階０を参照）。その後、ホスゲン（３）をホスゲン溶液槽（１０３０）中で主としてＭＣＢ（４）からなる流れ１６０と混合させて３５．０％のホスゲン溶液（３０）を得た。ＥＰ１８７３１４２Ｂ１に記載されているように、０．０℃の温度での１時間あたりに１２０トンのこのホスゲン溶液（３０）を、断熱反応で４５．０℃の温度での１時間あたりに２０．４トンの２７．１％のＭＤＡ溶液（２０）と反応させた。２つの原料溶液を混合装置（１１００）中で混合した後に得られた反応溶液（５０）を熱したホスゲン化塔（１２００）へパイプライン（「サスペンション導管（suspension conduit）」）を通過させて８１．０℃の温度で流した。ホスゲン化塔の頂部では、絶対圧は１．６ｂａｒであり、温度は１１１．０℃である。反応で形成された塩化水素は、気体流（７０）として、微量のホスゲンとＭＣＢと一緒に除去された。液体の反応混合物（６０）はホスゲン化塔（１２００）から引き出され、ワークアップシーケンス（ＩＩ ｆｆ．）に供給された。この目的のために、それは最初に副流として熱した脱ホスゲン化カラム（２１００、ＩＩ）へ導入される。１１６．０℃の頂部温度および１．６ｂａｒの絶対圧で、ホスゲンは微量のＭＣＢと塩化水素と一緒に上（ｏｖｅｒｈｅａｄ）（９０）で除去された。ホスゲンはホスゲン吸収カラム（２５００、ＶＩ）でＭＣＢに吸収され、得られたホスゲン溶液は、ホスゲン溶液槽（１０３０）に流れた。塩化水素は塩化水素吸収器（２６００、ＶＩＩ）へ誘導され、そこに得られた塩酸は、さらなる使用のために塩酸槽（２６３０）へ誘導された。塩化水素吸収（２６００）からの蒸気は、濃縮装置２６１０中で部分的に液化され、残りの気体流（２００）は流動方向における第一装置として少なくとも１つのホスゲン分解（３０１０）を備えるオフガス流（３０００、ＶＩＩＩ）のワークアップのための装置へ送られた。塩化水素吸収（２６００、ＶＩＩ）への、そしてそれゆえにオフガス燃焼までのオフガス流（３０００、ＶＩＩＩ）のワークアップのための装置への気体相を介した、ホスゲン吸収カラム（２５００、ＶＩ）の気体相からのオフガス経路は開かれた。

イソシアネート含有反応溶液（６０）から塩化水素および過剰ホスゲンを除去した後に、粗製イソシアネート溶液（８０）が得られ、それを脱ホスゲン化カラム２１００の塔底から放出し、１５５．０℃の温度で溶媒蒸留（２２００、ＩＩＩ）の第一蒸留段階に流し、それからＭＣＢを除去した。この溶媒蒸留塔（２２００）の塔頂の絶対圧は、１４５．０℃の塔底温度で６００ｍｂａｒであった。ＭＣＢは気体形態で上部（１１０）から引き出され、このＭＣＢ気体流はで空気濃縮装置（２３１０）で濃縮された。可能性のある真空導管中へのイソシアネートのいかなる侵入を防ぐためにこの１８．０ｔ／ｈの行濃縮溶媒は、スクラビングカラム（図１に示されていない）へ噴霧された。残留する濃縮ＭＣＢ（１００ｔ／ｈ）は、ホスゲンからＭＣＢを除去する蒸留塔（２３００とＩＶ）中にポンプで送られ、ホスゲン含有蒸気（１３０）は濃縮されてホスゲン吸収器（２５００、ＶＩ）へポンプで送られ、かつ溶媒ストリッパー（１２０）の底部からのホスゲンを含まないＭＣＢは溶媒槽（１０４０）へ送られた。粗製ＭＤＩは塔底部２２００から放出され、第二蒸留塔（図１に示されない）中で１％まで残留ＭＣＢを除去した。この溶媒蒸留塔の塔頂の絶対圧は、塔低温度１５０．０℃で７０ｍｂａｒであった。ＭＣＢは、気体の形態で上部で引き出され、このＭＣＢ気体流は濃縮されて第一蒸留塔（２２００）の底部に再利用された。続けて、２０ｍｂａｒの絶対圧および１７０．０℃の頂部の温度で、向流の蒸発装置中にて生成物からフェニルイソシアネートなどの二次成分および残留ＭＣＢを除去した。２５．４５ｔ／ｈのＭＤＩを塔底生成物（１００）として得て、これをさらなる蒸留工程（２４１０／２４００）によってメチレンジフェニルジイソシアネート（１４０）、およびメチレンジフェニルジイソシアネートとポリメチレンポリフェニルポリイソシアネート（１４１）の混合物へ分離した。

ホスゲンの調製のための一般条件−プロセス段階０
混合チューブ内で、４４００ｍ^３（ＳＴＰ）／ｈの塩素と４６５０ｍ^３（ＳＴＰ）／ｈの一酸化炭素とを、１８．０℃および１．８ｂａｒ（絶対圧）の圧力で連続的に混合した。塩素の完全な反応後に、依然として９．０％の一酸化炭素がホスゲン中に残存しているほどに、塩素に比べて過剰な一酸化炭素を使用した。塩素および一酸化炭素からなる混合ガスを、シェルの基部とチューブホスゲン生成装置で存在している分配装置に流した。分配装置の上のチューブ内には触媒として存在する１０トンの活性炭（Ｎｏｒｉｔ ＲＢ４Ｃ）が存在している。高い発熱反応で混合ガスをこの触媒上で枯渇させてホスゲンを得た。その反応は蒸発による水冷を用いて水循環によって冷却した。生成装置の出口経路のホスゲンの温度は５５．０℃であり、圧力は１．５３ｂａｒ（絶対圧）であった。この時点では、反応の完了は残留塩素含有量および一酸化炭素含有量を連続的に測定することによってモニタリングした。その後、このように調製された過剰な一酸化炭素を含有している気体性のホスゲンは、−１７．０℃でホスゲン液化装置中で濃縮された。ホスゲン液化装置からの塔底生成物はホスゲン溶液槽（１０３０）に流した。過剰な一酸化炭素は濃縮せず、上で下流の同一の設計の第二ホスゲン生成装置へ流され、ここでそれは塩素が完全に変換した後に依然としてホスゲン中に９．０％の一酸化炭素が残存しているように適切な量の塩素と接触した。第二ホスゲン生成装置の下流も同様に、反応の完了は、残留塩素含有量と一酸化炭素含有量を連続的に測定することによりモニタリングされた。このように調製されたホスゲンは、−１７．０℃で第二ホスゲン液化装置中で濃縮された。第二ホスゲン液化装置からの塔底生成物は、同様にホスゲン溶液槽に流された。したがって、１時間あたりに４２トンのホスゲンがホスゲン溶液槽に到達した。

ホスゲン液化装置からの塔頂生成物（流れ３２０）として、１５０ｍ^３／ｈの過剰な一酸化炭素は微量のホスゲン（オフガス総量の０．５０％）で汚染され、−１７．０℃での冷溶媒（ＭＣＢ）で作動する吸収カラム（「ホスゲンスクラビング装置（phosgene scrubber）」（４０１０））ので予備洗浄に供して、気体流からホスゲンのうちのいくらかをスクラビングした。このように得られたホスゲン含有ＭＣＢ溶液は、液体流（３４０）としてホスゲン吸収（２５００）に送られた。微量の溶媒およびホスゲンで依然として汚染されている残存オフガス流（３３０）は、流れ（２００）と組み合わさり、ホスゲン分解（３０１０）に送られた。

ホスゲン溶液槽（１０３０）内では、ホスゲンは必要に応じてさらに溶媒（４）（溶媒は流れ１６０を介してホスゲン溶液槽中に常に存在する）と混合させてもよい。

アンモニアスクリュー圧縮機と呼ばれるものがホスゲン液化装置における冷凍に使用される。このように、反応で使用を見いだされるＭＣＢ溶媒、およびオフガス流の濃縮のための冷却器に供給されるＭＣＢ冷却液は、−１７．０℃に冷却される。

例１（比較例）：真空生成からのオフガスの濃縮のための、−１７．０℃の温度でのＭＣＢを使用した溶媒の部分的回収
ホスゲンの調製のためのプラント、およびＭＤＩの調製のためのプラントは、２つのセットでの一般的調製条件に述べられているような銘板負荷(nameplate)で操作した。２つのプラントからのオフガス流は同伴ＭＣＢを含んでいた。オフガス流は、プロセス段階０）中のホスゲン調製（１５０ｍ^３／ｈ）、プロセス段階Ｖ）中の蒸留のための真空生成（５０ｍ^３／ｈ）、およびプロセス段階ＶＩＩ）中の塩化水素吸収（１００ｍ^３／ｈ）からのオフガスからなっていた。プロセス段階ＩＩＩ、ＩＶおよびＶ中でのＭＤＩのプラント中の真空ポンプおよびそれらのレザーバーによる真空生成（図中で示されない）からのオフガスは組み合わせられ、−１７．０℃の温度でＭＣＢで操作された濃縮装置によってホスゲン分解（３０１０）に送られた。ホスゲン吸収（７５００ｍ^３／ｈ）からのオフガス流（１７０）は、塩化水素吸収器（２６００）へ誘導された。オフガス流中に存在しているＭＣＢ溶媒を回収するための手順は以下のとおりであった。ホスゲンプラント中のホスゲンガススクラビング装置（４０１０）からの１５０ｍ^３／ｈのオフガス流（３３０）を、ＭＤＩプラント中の塩化水素吸収（２６１０）中の濃縮装置からの１００ｍ^３／ｈのオフガス流（２００）と組み合わせ、ホスゲン分解（３０１０）に送った。組み合わせたオフガスは、その後ろに搭載された通気装置によるホスゲン分解を通過させた。銘板負荷では、合計３００ｍ^３／ｈのオフガスがホスゲン分解（３０１０）に流された。各々に１４ｍ^３のＮｏｒｉｔ ＲＢ４Ｃ活性炭が充填された直列に接続した２つのホスゲン破壊塔は、９３０ｍｂａｒ絶対圧の減圧下で操作された。ホスゲン分解は２５．０℃（流れ２６０）での冷濃縮液を循環させて操作され、それは活性炭を永久に湿潤にし、希釈酸槽（２６４０）に流れていた希釈塩酸（流れ２７０）をスクラビングで落とした。ホスゲン分解を離れた３００ ｍ^３／ｈのオフガス流（２１０）は、燃焼（６０００）に送られた。ホスゲン分解とオフガス燃焼との間のオフガス導管はＭＣＢの濃縮を最小化するためにトレース加熱（trace-heated）された。さらに、濃縮した、水で湿潤の、酸性のＭＣＢを放出するためにこのオフガス導管に液体分離器を組み入れた。

全体評価：このように、８０００時間の操作でオフガス燃焼によって１年当たりに合計３３０トンの溶媒が失われ、液体分離器から放出されなければならなかった１年当たりに追加の１００トンの溶媒を別々に燃焼しなければならなかった。真空生成からのオフガスからの溶媒を濃縮するための冷凍エネルギーのために１０３ｋＷｈが必要であった。

例２（本発明）：オフガス中のＭＣＢを濃縮するための、−１７．０℃の温度でのＭＣＢを使用しない溶媒吸着のための装置による溶媒の回収
ホスゲンの調製、およびＭＤＩの調製用のプラントは、２組の一般調製条件に述べられているような銘板負荷で操作された。２つのプラントからのオフガス流はすべて同伴ＭＣＢを含んでいた。オフガス流は、プロセス段階０）におけるホスゲン調製からのオフガス（１５０ｍ^３／ｈ）、プロセス段階Ｖ）における蒸留のための真空生成からのオフガス（５０ｍ^３／ｈ）、およびプロセス段階ＶＩＩ）における塩化水素吸収からのオフガス（１００ｍ^３／ｈ）から構成されていた。プロセス段階ＩＩＩ、ＩＶおよびＶにおける真空ポンプおよびそれらのレザーバーによる真空生成からのオフガス流（図面の中で示されない）は合わせられ、液体の分離によって２９．０℃でホスゲン分解（３０１０）に送られた（この中でオフガス中に同伴されたＭＣＢおよびホスゲンを含有している小滴が重力によって分離された）。ホスゲン吸収（９０００ｍ^３／ｈ）からのオフガス流（１７０）は、塩化水素吸収器（２６００）へ誘導された。オフガス流中に存在するＭＣＢ溶媒の回収の手順は、以下のとおりであった。ホスゲンプラント中のホスゲンスクラビング装置（４０１０）からのオフガス流（３３０）の１５０ｍ^３／ｈを、ＭＤＩプラント中の塩化水素吸収（２６１０）中の濃縮装置からのオフガス流（２００）の１００ｍ^３／ｈと合わさり、ホスゲン分解（３０１０）に送られた。合わさったオフガスは、その後ろに搭載された通風装置によりホスゲン分解に流された。銘板負荷では、合計３００ｍ^３／ｈのオフガスがホスゲン分解（３０１０）に流された。直列に接続している２つのホスゲン破壊塔（その各々には１４ｍ^３のＮｏｒｉｔ ＲＢ４Ｃ活性炭が充填された）は、９００ｍｂａｒ絶対圧の減圧下で操作された。ホスゲン分解は２５．０℃（流れ２６０）で冷濃縮液の循環で操作され、それは活性炭を永久に湿潤にし、希釈酸槽（２６４０）に流れた希塩酸（流れ２７０）をスクラビングし出した。ホスゲン分解を出た３００ｍ^３／ｈのオフガス流（２１０）は、溶媒吸着（３０２０）に誘導された。

溶媒の吸着は、４７．０℃での流れ（２１０）からの溶媒含有オフガスが、Ｎｏｒｉｔ ＲＢ４Ｃ活性炭の２ｍ^３によって誘導されるように、溶媒が９５０ｍｂａｒ絶対圧で活性炭上の吸着するように操作された。オフガス流（２２０）は、分析器（ＦＩＤ）で有機炭素について連続的にモニタリングした。溶媒の損失がないように、充填間隔を同期した。２時間の充填間隔の後に、オフガス流（２２０）を介した溶媒との活性炭の飽和の結果の溶媒損失を回避するために、活性炭を１時間再生成した。この間に溶媒吸着を平行に接続された同一の構成の溶媒吸着によって継続した。活性炭の再生は活性炭上に吸着された溶媒が１時間に０．１５メートルトンの直接の２．５ｂａｒ蒸気で脱着されるように行われた。結果として生じた熱い水性溶媒混合物（２３０）は、冷却水で操作されていた濃縮装置（５０１０）により３０．０℃に冷却され、溶媒分離器（５０２０）中で希釈酸槽（２６４０）へ誘導された水相（２５０）と、１００ｋｇ／ｈでレザーバー容器（２７００）へ誘導された水で飽和したＭＣＢ含有の有機相（２４０）とに分離された。溶媒乾燥は、バッチ式モードで１週間に２度操作が行われた。乾燥は、４Åの孔径を有している分子櫛で達成された。この目的のために、５トンの湿潤なＭＣＢ溶媒が、乾燥容器（２７１０）を介して１５時間上向きに底部から５０ｋｇの分子櫛で充填されたレザーバー容器（２７００）からのポンプで誘導された。乾燥容器を出るＭＣＢは、依然として４０ｐｐｍの残留含水量を有していて、溶媒蒸留（２２００）へ再利用された。その後、分子櫛は２日間にわたって８０．０℃の温度で２０ｍ^３／ｈの窒素で再生成された。窒素は、２．５ｂａｒの過剰な、内部で上昇した蒸気での熱交換器によって加熱された。

全体的評価：このように、８０００時間の操作で１年当たりに合計３０トンの溶媒が失われた。真空生成からのオフガスから溶媒を濃縮し出すための冷凍エネルギーは必要ではなかった。２００００ｍ^３／ａの熱い窒素が溶媒の乾燥からの分子櫛を再生するために消費され、これは過剰な内部で上昇した２．５ｂａｒ蒸気で加熱された。分子櫛は１年に一度交換しなければならない。溶媒吸着中の活性炭の再生のために、６００ｔｏ／ａの過剰な、内部で上昇した２．５ｂａｒの蒸気が消費された。溶媒吸着中の活性炭は５年ごとに交換しなければならない。

結論：本発明は全体として４００トンのＭＣＢおよび８２８ｋＷの冷凍エネルギーを節約した。他方では、装置（溶媒吸着、溶媒濃縮装置、溶媒分離器、溶媒乾燥器、レザーバーおよびパイプライン）および補助としての窒素に追加の費用があった。しかしながら、これらの追加装置の操作は非常に低い資本費用および維持費用の悩みしかなかった。分子櫛および活性炭のための費用および窒素は低かった。必要な蒸気は、濃縮液処理を促進するために空気冷却器によって別途濃縮させなければならない、内部で上昇した過剰な蒸気であった。

Claims (15)

1. 以下の工程：
   Ａ．溶媒（４）を使用してイソシアネート（１）に対応するアミン（２）とホスゲン（３）とを反応させて、イソシアネート（１）と溶媒（４）とを含んでなる液体流および少なくとも１種の溶媒含有オフガス流を得ること；
   Ｂ．イソシアネートと溶媒とを含んでなる液体流をワークアップし、イソシアネートを分離することであって、ここで、さらなる溶媒（４）を使用して、同様に少なくとも１種の溶媒含有オフガス流を得てもよく；
   を含んでなるイソシアネート（１）の製造方法であって、
   ａ）工程Ａおよび／または工程Ｂからの少なくとも１種の溶媒含有オフガス流が、
   交互に
   （ｉ）少なくとも１種のオフガス流で充填され、かつ
   （ｉｉ）蒸気で再生される
   平行に接続している少なくとも２つの吸着ユニット（３０２１、３０２２）を備えてなる溶媒を吸着するための吸着装置（３０２０）
   へ誘導され、ここで
   プロセス段階ａ）（ｉ）の間に溶媒が枯渇したオフガス流（２２０）が得られ、かつプロセス段階ａ）（ｉｉ）の間に、水と溶媒（２３０）とを含んでなる流れが得られ、かつ、
   ｂ）（ｉ）溶媒が枯渇したオフガス流（２２０）がオフガス燃焼（６０００）へ送られ、かつ
   （ｉｉ）水と溶媒（２３０）とを含んでなる流れから水を枯渇させ、かつ次いで工程Ａおよび／または工程Ｂへ再利用される、
   方法。
2. 工程Ａが、
   Ｉ）アミン（２）とホスゲン（３）とを反応させ、得られたプロセス生成物をイソシアネートと溶媒とを含んでなる液体流（６０）、ならびにホスゲン、塩化水素および溶媒を含んでなる気体流（７０）へ分離すること
   を含んでなり、
   工程Ｂが、
   ＩＩ）工程Ｉ）からの液体流（６０）から、蒸留装置（２１００）中でこの液体流（６０）を溶媒とイソシアネートとを含んでなる液体流（８０）、およびホスゲンと塩化水素とを含んでなる気体流（９０）に分離することにより、ホスゲンおよび塩化水素を枯渇させることを含んでなり、
   該気体流（７０）および（９０）が、場合によりさらなる洗浄工程を通過した後に、少なくとも1種の溶媒含有オフガス流の構成要素として、適切な場合には唯一の構成要素として工程ａ）へ送られる、
   請求項１に記載の方法。
3. 工程Ｂ．ＩＩ）の後に：
   ＩＩＩ）工程ＩＩ）からの液体流（８０）から、蒸留装置（２２００）中でこの液体流（８０）を溶媒を含んでなる気体流（１１０）と、イソシアネートを含んでなる液体流（１００）とに分離することにより、溶媒を枯渇させること；
   ＩＶ）工程ＩＶ）からの気体流（１１０）から、この気体流（１１０）を、場合により濃縮装置（２３１０）中でのその液化の後に、蒸留装置（２３００）中で溶媒を含んでなる液体流（１２０）と、ホスゲンを含んでなる気体流（１３０）とに分離することにより、ホスゲンを枯渇させること；
   が続き、
   ここで該気体流（１３０）が、場合によりさらなる洗浄工程を通過した後に、少なくとも１種の溶媒含有オフガス流の構成要素として工程ａ）に送られる、
   請求項２に記載の方法。
4. 工程Ｂ．ＩＶ）の後に、
   Ｖ）液体流（１００）から液体イソシアネート流（１４０）を得て、場合により流れ（１４１）としてポリマー除去のための上流ユニット（２４１０）中でのポリマーイソシアネート画分の除去を含んでなる蒸留装置（２４００）中で、二次成分と場合により溶媒とを含んでなる気体流（１５０）をもたらすこと
   が続く、請求項３に記載の方法。
5. 工程Ｂがさらに、
   ＶＩ）場合により濃縮の後に、溶媒（４）中での吸収によって、気体流（７０）および（９０）、および存在する場合には気体流（１３０）、を洗浄して、吸収装置（２５００）中で溶媒とホスゲンとを含んでなる液体流（１６０）、および塩化水素と溶媒を含んでなる気体流（１７０）を得ること
   を含んでなる、請求項２〜４のいずれか一項に記載の方法。
6. 工程Ｂ．ＶＩ）の後に、
   ＶＩＩ）さらなる吸収装置（２６００）中で、吸収剤（１８０）としての水または塩酸中で、気体流（１７０）を洗浄して塩酸含有流（１９０）を得て、場合により蒸気濃縮装置（２６１０）を通過させた後に、溶媒と場合により気体性二次成分とを含んでなる気体流（２００）を得ること
   が続く、請求項５に記載の方法。
7. 工程Ｂ．ＶＩＩ）が、蒸気濃縮装置（２６１０）の通過を含み、かつこの工程がさらに、
   蒸気濃縮装置（２６１０）中で得られた液体流（１９１）を、水相（１９２）と有機相（１９３）とに分離すること；
   吸収剤（１８０）の構成要素として水相（１９２）を吸収装置（２６００）中へ再利用すること、および／または
   場合により乾燥後に、有機相（１９３）を、工程Ａ．Ｉ）、Ｂ．ＩＩＩ）、Ｂ．ＩＶおよびＢ．ＶＩ）の少なくとも１つへ再利用すること
   を含んでなる、請求項６に記載の方法。
8. 工程Ｂ．ＶＩＩ）の後に、
   ＶＩＩＩ）オフガス流（３０００）のワークアップ装置中で、溶媒および場合により気体性二次成分を含んでなる気体流（２００）を洗浄すること、ここで
   ＶＩＩＩ−１）吸収装置（２６００）から生じる気体流（２００）を、場合により蒸気濃縮装置（２６１０）を通過させた後に、ホスゲンが水（２６０）を使用して触媒によって分解されるホスゲン分解装置（３０１０）中へ誘導されて、溶媒と場合により気体性二次成分とを含んでなる気体流（２１０）、および塩酸を含んでなる液体流（２７０）を得て、
   前記気体流（２１０）が工程ａ）中で溶媒を吸着するための吸着装置（３０２０）へ誘導されること
   が続く、請求項６および７のいずれかに記載の方法。
9. 工程Ａを実行するためのホスゲン（３）が、一酸化炭素（３００）と塩素（３１０）とを反応させることによって製造され、一酸化炭素およびホスゲンを含んでなるオフガス流（３２０）が得られ、これを場合によりさらなる洗浄工程を通過させた後に、オフガス燃焼に送られる少なくとも1種の溶媒含有オフガス流に供給する、請求項１〜８のいずれか一項、特に請求項８に記載の方法。
10. 一酸化炭素（３００）と塩素（３１０）との反応からの一酸化炭素とホスゲンを含んでなるオフガス流（３２０）が、吸収カラム（４０１０）中の０．０℃〜−２０．０℃の範囲の温度を有する溶媒（４）中で洗浄され、ホスゲンが枯渇したオフガス流（３３０）が工程ＶＩＩＩ．１）の実行に先立って得られ、このオフガス流（３３０）は気体流（２００）と合わせられるものであり、吸収装置（２５００）に送られる吸収カラム（４０１０）中で溶媒含有およびホスゲン含有流（３４０）が得られる、請求項９に記載の方法。
11. 工程ｂ）（ｉｉ）において水と溶媒を含んでなる流れからの水の枯渇が、この流れが濃縮され、次いで水相（２５０）および有機相（２４０）に分離されるように行われ、該有機相（２４０）が場合によりさらに乾燥されてもよく、かつ水を枯渇した後に得られる流れの工程Ａおよび／または工程Ｂへの再利用が、有機相（２４０）が、場合によりさらに乾燥された後に、工程Ａおよび／または工程Ｂへ再利用されるように行われる、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
12. 水相（２５０）が工程Ｂ．ＶＩＩ）において使用される吸収剤の構成要素として使用される、請求項１１に記載の方法。
13. 装置（２２００）および（２３００）、および場合により追加的に（２４００）、および存在する場合には（２４１０）が、大気圧力に対して減圧下で操作され、この目的のために必要な真空生成プラントからのオフガス流を冷却することなく、または１．０℃を下回らない温度に冷却した後に、場合により触媒によるホスゲン分解のための装置（３０１０）に通過させた後に、工程ａ）に送られる、請求項３〜１２に記載の方法。
14. アミン（２）が、メチレンジフェニレンジアミン、ポリメチレンポリフェニレンポリアミン、メチレンジフェニレンジアミンとポリメチレンポリフェニレンポリアミンとの混合物、トリレンジアミン、キシリレンジアミン、ペンタン−１，５−ジアミン、ヘキサメチレンジアミン、イソホロンジアミン、およびナフチルジアミンからなる群から選択される、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
15. 以下のプラント構成要素を備えてなる、対応するアミン（２）のホスゲン化によってイソシアネート（１）を製造するためのプラント（１００００）：
    ０）場合により、一酸化炭素（３００）と塩素（３１０）との反応によりホスゲン（３）を製造するための、一酸化炭素およびホスゲンを含むオフガス流（３２０）をもたらす装置（４０００）；
    Ｉ）場合により下流に接続された分離ユニット（１２１０）を有する、ホスゲン化を実行するための反応空間（１２００）を含んでなる反応ゾーン（１０００）であって、該反応空間または該分離ユニットが液体流（６０）および気体流（７０）のための出口導管を備えているものである、反応ゾーン；
    ＩＩ）液体流（６０）を液体流（８０）と気体流（９０）とに分離するための蒸留装置（２１００）；
    ＩＩＩ）場合により、液体流（８０）を気体流（１１０）と液体流（１００）に分離するための蒸留装置（２２００）；
    ＩＶ）場合により、気体流（１１０）を、場合により濃縮装置（２３１０）中で液化した後に、液体流（１２０）と気体流（１３０）とに分離するための蒸留装置（２３００）；
    Ｖ）場合により、液体流（１００）から液体イソシアネート流（１４０）を得るための蒸留装置（２４００）であって、二次成分と場合により溶媒とを含んでなる気体流（１５０）をもたらし、ポリマーイソシアネート画分（１４１）を除去するためのポリマー除去（２４１０）のための上流ユニットを備えてなる蒸留装置；
    ＶＩ）気体流（７０）および（９０）、および存在する場合に気体流（１３０）を、場合により吸収装置（２５００）上流に接続した濃縮装置（２５１０）に通過させた後に、溶媒（４）中で吸収するための装置（２５００）であって、液体流（１６０）および気体流（１７０）を得るための装置；
    ＶＩＩ）塩酸と場合により溶媒とを含んでなる流れ（１９０）、および溶媒と場合により気体性二次成分とを含んでなる気体流（２００）を得るための、場合により蒸気濃縮装置（２６１０）を備えてなる、水または塩酸の中で気体流（１７０）を吸収するための装置（２６００）；
    ＶＩＩＩ）
    ＶＩＩＩ−１）流れ（２００）中に存在するホスゲンを分解するための、そして場合により流れ（３２０）中に存在するホスゲンも分解するための、触媒によりホスゲンを分解するための装置（３０１０）であって、溶媒と場合により気体性二次成分を含んでなる気体流（２１０）を得る、装置；
    ＶＩＩＩ−２）流れ（２１０）からの溶媒を吸着するための吸着装置（３０２０）であって、該吸着装置（３０１０）が交互に、
    （ｉ）流れ（２１０）で充填され得、かつ
    （ｉｉ）蒸気で再生され得る
    ように構成される、平行に接続した、少なくとも２つの吸着装置（３０２１、３０２２）を備えてなる、装置
    を備えてなるオフガス流（３０００）のワークアップ装置；
    ＩＸ）ＶＩＩＩ−２）（ｉ）で得られた気体流（２２０）を燃焼するためのオフガス燃焼装置（６０００）；
    Ｘ）反応ゾーン（１０００）および／または吸収装置（２５００）中で、プロセス段階ＶＩＩＩ−２）（ｉｉ）で脱着された溶媒を再利用するためのユニット。

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