JP6926527B2 - 波長可変干渉フィルター及び光学モジュール - Google Patents

Description

本発明は、波長可変干渉フィルター及び光学モジュールに関する。

従来、一対の反射膜を有する波長可変干渉フィルターが知られている（例えば、特許文献１参照）。
このような波長可変干渉フィルターでは、一方の反射膜が設けられる基板に、反射膜が設けられる可動部と、可動部の外周を囲み、可動部を変位可能に保持する保持部とが設けられている。そして、可動部が変位することで、一対の反射膜間のギャップ量が変化し、これにより、透過する光の波長が変化する。

特開２０１０−１３９５５２号公報

ところで、波長可変干渉フィルターは、例えば、波長可変干渉フィルターを透過した光を受光する受光センサーなどと組み合わされて使用される。このため、受光センサーの受光面が長方形状や正方形状の場合、これに合わせて、反射膜及び可動部の平面形状も長方形状や正方形状とする場合がある。しかしながら、可動部を長方形状や正方形状にした場合、次のような問題がある。
すなわち、反射膜を撓ませないためには、可動部を撓ませずに変位させる必要がある。しかしながら、平板に対して厚み方向の力を掛けた時の撓み形状は、その厚み方向から見た平面視において、中心部分に対して、そこから距離が長い位置ほど変位量は小さくなる事から、変位量の差の大きさを撓み量の大きさとすると、可動部が長方形状であり、かつ、保持部の剛性が均一である場合、可動部の長辺方向の撓み量は、短辺方向の撓み量よりも大きくなる。このため、反射膜の面内でギャップ量が不均一となる。
また、可動部が長方形状や正方形状の場合、保持部における可動部の角部に接する部分は他の部分よりも撓みにくい。このため、可動部が変位した際、可動部の角部が保持部に引っ張られ、可動部が撓みやすくなるという問題がある。
上記のように可動部に撓みが生じると、反射膜も撓み、波長可変干渉フィルターから出力される光の波長が面内でばらつき、波長可変干渉フィルターの精度が低下するという問題がある。

本発明は、可動部の撓みによって波長可変干渉フィルターの精度が低下することを抑制できる波長可変干渉フィルター及び光学モジュールを提供することを目的とする。

本発明の一適用例に係る波長可変干渉フィルターは、第一反射膜が設けられた第一基板と、前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、長辺及び短辺を有し、前記保持部は、前記長辺に沿って設けられる長辺側保持部と、前記短辺に沿って設けられる短辺側保持部とを有し、前記短辺側保持部の剛性は、前記長辺側保持部の剛性よりも低いことを特徴とする。

本適用例では、短辺側保持部の剛性は、長辺側保持部の剛性よりも低い。この構成によれば、短辺側保持部の剛性が、長辺側保持部の剛性と同じ場合と比べて、可動部が変位した際、短辺側保持部が撓みやすくなり、短辺側保持部が可動部を引っ張る力が弱くなる。このため、可動部の長辺方向の撓みを低減できる。したがって、可動部に設けられた第二反射膜の撓みも抑制され、出力波長が面内でばらつくことを抑制でき、波長可変干渉フィルターを高精度にできる。

本適用例に係る波長可変干渉フィルターにおいて、前記長辺側保持部は、前記長辺に沿った方向において、前記可動部の中心からの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されていることが好ましい。
保持部の剛性が均一の場合、可動部を変位させた時の撓み形状は、長辺方向において中心からの距離が長い位置ほど変位量が小さい形となる。これに対して、本適用例によれば、可動部が変位した際、長辺側保持部は、長辺方向における中心からの距離が長い位置ほど撓みやすくなり、可動部を引っ張る力が弱くなる。
このため、可動部の変位量を長辺方向において一定にでき、可動部における長辺方向の撓みを低減できる。

本適用例に係る波長可変干渉フィルターにおいて、前記短辺側保持部は、前記短辺に沿った方向において、前記可動部の中心からの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されていることが好ましい。
保持部の剛性が均一の場合、可動部を変位させた時の撓み形状は、短辺方向において中心からの距離が長い位置ほど変位量が小さい形となる。これに対して、本適用例によれば、可動部が変位した際、短辺側保持部は、短辺方向における中心からの距離が長い位置ほど撓みやすくなり、可動部を引っ張る力が弱くなる。
このため、可動部の変位量を短辺方向において一定にでき、可動部における短辺方向の撓みを低減できる。

本適用例に係る波長可変干渉フィルターにおいて、前記保持部は、前記平面視において、前記長辺側保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記長辺に沿った一対の線と、前記短辺側保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記短辺に沿った一対の線とで囲まれる角保持部を備え、前記角保持部は、前記長辺側保持部及び前記短辺側保持部よりも剛性が低いことが好ましい。
本適用例によれば、角保持部の剛性が、長辺側保持部または短辺側保持部の剛性と同じ場合と比べて、可動部が変位した際、角保持部が撓みやすくなり、角保持部が可動部を引っ張る力が弱くなる。このため、可動部が撓みにくくなる。

本適用例に係る波長可変干渉フィルターにおいて、前記短辺側保持部の厚さは、前記長辺側保持部の厚さよりも小さいことが好ましい。
本適用例によれば、短辺側保持部の剛性を、長辺側保持部の剛性よりも低くできる。また、例えば、短辺側保持部を長辺側保持部よりも剛性が低い材料によって構成することで短辺側保持部の剛性を長辺側保持部の剛性よりも低くする場合と比べて、製造工程を簡略化できる。

本適用例に係る波長可変干渉フィルターにおいて、前記短辺側保持部の前記長辺に沿った方向の長さは、前記長辺側保持部の前記短辺に沿った方向の長さよりも大きいことが好ましい。
本適用例によれば、短辺側保持部の剛性を、長辺側保持部の剛性よりも低くできる。また、例えば、短辺側保持部を長辺側保持部よりも剛性が低い材料によって構成することで短辺側保持部の剛性を長辺側保持部の剛性よりも低くする場合と比べて、製造工程を簡略化できる。
また、例えば第二基板をエッチングして保持部を形成する場合は、マスクパターンを長辺側保持部及び短辺側保持部に応じた形状とするだけでよいので、製造工程が増えることを回避できる。

本適用例に係る波長可変干渉フィルターにおいて、前記保持部には複数の穴が形成され、前記短辺側保持部における単位面積当たりの前記穴の開口面積は、前記長辺側保持部における前記開口面積よりも大きいことが好ましい。
本適用例によれば、短辺側保持部の剛性を、長辺側保持部の剛性よりも低くできる。また、例えば、短辺側保持部を長辺側保持部よりも剛性が低い材料によって構成することで短辺側保持部の剛性を長辺側保持部の剛性よりも低くする場合と比べて、製造工程を簡略化できる。

本発明の一適用例に係る波長可変干渉フィルターは、第一反射膜が設けられた第一基板と、前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、第一方向に沿った第一辺、及び、前記第一方向と交差する第二方向に沿った第二辺を有し、前記保持部は、前記第一辺に沿って設けられる第一保持部と、前記第二辺に沿って設けられる第二保持部と、前記平面視において、前記第一保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記第一方向に沿った一対の線と、前記第二保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記第二方向に沿った一対の線とで囲まれる角保持部と、前記角保持部の外周縁の一部から突出する突出保持部と、を備えることを特徴とする。
本適用例によれば、可動部が変位した際、突出保持部が撓むことで、角保持部が可動部を引っ張る力が弱くなり、可動部が撓みにくくなる。したがって、可動部に設けられた第二反射膜の撓みも抑制され、出力波長が面内でばらつくことを抑制でき、波長可変干渉フィルターを高精度にできる。

本適用例に係る波長可変干渉フィルターにおいて、前記突出保持部は、前記第一保持部の一部及び前記第二保持部の一部の少なくともいずれかの部分と連続し、かつ、前記可動部から遠ざかる方向に突出していることが好ましい。
本適用例によれば、可動部が変位した際、突出保持部が撓むことで、第一保持部の一部及び第二保持部の一部の少なくともいずれかの部分が可動部を引っ張る力は弱くなる。このため、可動部の角部が保持部によって引っ張られる力をより弱くすることができ、可動部がより撓みにくくなる。
また、本発明では、突出保持部は、角保持部の外周縁から、可動部から遠ざかる方向に突出している。このため、例えば、突出保持部が、角保持部の外周縁から可動部に近づく方向に突出する場合のように、可動部の角部を、突出保持部に応じた形状とする必要もなく、そのために矩形の反射膜に対して必要以上に可動部を大きくする必要もない。

本発明の一適用例に係る光学モジュールは、上述したような波長可変干渉フィルターと、前記波長可変干渉フィルターを透過した光を受光する受光部と、を備えることを特徴とする。
本適用例によれば、波長可変干渉フィルターから高い分光精度で所望の目標波長の光を出射させることができ、その光を受光部において受光することで、入射光に含まれる目標波長の光の光強度を正確に測定することができる。

本発明の第一実施形態に係る波長可変干渉フィルターの概略構成を示す平面図。 図１における波長可変干渉フィルターをＡ−Ａ線で切断した際の断面図。 第一実施形態の可動基板を示す平面図。 本発明の第二実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の第三実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の第四実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の第五実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の第六実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の第七実施形態に係る分光器の概略構成を示す断面図。 本発明の他の実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の他の実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の他の実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の他の実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の他の実施形態に係る可動基板を示す平面図。 本発明の他の実施形態に係る波長可変干渉フィルターの断面図。

［第一実施形態］
以下、本発明の係る第一実施形態の波長可変干渉フィルターに関して説明する。
［波長可変干渉フィルターの構成］
図１は、第一実施形態に係る波長可変干渉フィルター５の概略構成を示す平面図である。
図２は、図１における波長可変干渉フィルター５をＡ−Ａ線で切断した際の断面図である。
波長可変干渉フィルター５は、図１及び図２に示すように、透光性の固定基板５１及び可動基板５２を備えている。これらの固定基板５１及び可動基板５２は、それぞれ例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等の各種ガラスや、水晶等により形成されている。そして、これらの固定基板５１及び可動基板５２は、例えばシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜等により構成された接合膜５３により接合されることで、一体的に構成されている。

固定基板５１の可動基板５２に対向する対向面には、本発明における第一反射膜である固定反射膜５４が設けられ、可動基板５２の固定基板５１に対向する対向面には、本発明における第二反射膜である可動反射膜５５が設けられている。これらの固定反射膜５４及び可動反射膜５５は、ギャップＧを介して対向配置されている。
また、波長可変干渉フィルター５には、ギャップＧの寸法（ギャップ寸法）を調整（変更）するのに用いられる静電アクチュエーター５６が設けられている。この静電アクチュエーター５６は、固定基板５１に設けられた固定電極５６１と、可動基板５２に設けられた可動電極５６２とにより構成される。
なお、以降の説明に当たり、固定基板５１又は可動基板５２の基板厚み方向から見た平面視、つまり、固定反射膜５４、可動反射膜５５の膜厚方向から波長可変干渉フィルター５を見た平面視を、フィルター平面視と称する。また、本実施形態では、フィルター平面視において、固定反射膜５４の中心点及び可動反射膜５５の中心点は、一致し、平面視におけるこれらの反射膜５４，５５の中心点をＯで示す。

（固定基板５１の構成）
固定基板５１は、本発明における第一基板を構成し、図２に示すように、例えばエッチング等により形成された電極配置溝５１１及び反射膜設置部５１２を備える。また、固定基板５１の一端側（図１における辺Ｃ１−Ｃ２）は、可動基板５２の基板端縁（図１における辺Ｃ５−Ｃ６）よりも外側に突出しており、第一端子取出部５１４を構成している。

電極配置溝５１１は、フィルター平面視で、固定基板５１のフィルター中心点Ｏを中心とした四角環状に形成されている。反射膜設置部５１２は、フィルター平面視において、電極配置溝５１１の中心部から可動基板５２側に突出して形成されている。この電極配置溝５１１の溝底面には、静電アクチュエーター５６の固定電極５６１が設けられている。また、反射膜設置部５１２の突出先端面は、固定反射膜５４が設けられている。
また、固定基板５１には、電極配置溝５１１から、固定基板５１の外周縁に向かって延出する電極引出溝（図示略）が設けられている。

固定電極５６１は、例えば四角環状に形成されており、図１に示すように、辺Ｃ１−Ｃ２に近接する一部に開口部が設けられる。また、固定電極５６１上に、可動電極５６２との間の絶縁性を確保するための絶縁膜が積層される構成としてもよい。
そして、固定電極５６１は、電極引出溝に沿って第一端子取出部５１４まで延出する固定引出電極５６３を備えている。

反射膜設置部５１２は、図２に示すように、電極配置溝５１１の中心部から可動基板５２側に突出している。
この反射膜設置部５１２の突出先端面には、フィルター平面視において長方形状の固定反射膜５４が設けられる。
固定反射膜５４は、高屈折層（例えばＳｉ）と低屈折層（例えばＳｉＯ_２）とを交互に積層した誘電体多層膜により構成されている。このような誘電体多層膜では、各高屈折層及び各低屈折層の層厚寸法により、所望の反射特性を有する光学膜に形成することができる。
また、固定反射膜５４の可動基板５２側の表層には、例えばＩＴＯ等の電極材料により導電性膜が積層している。
この固定反射膜５４としては、広波長域に対して高反射率特性を有する、例えばＡｇ合金等の反射膜を用いてもよい。

そして、固定基板５１には、図１に示すように、固定反射膜５４（導電性膜）の外周縁に接続され、固定電極５６１の開口部を通り、第一端子取出部５１４に向かって延出する第一検出電極５４１が設けられている。この第一検出電極５４１は、固定反射膜５４の形成時に、同時に成膜されることで形成されている。または、第一検出電極５４１を固定反射膜５４と異なる材料、例えば、より外部機器との配線接続に適した金などで形成してもよい。

（可動基板５２の構成）
可動基板５２は、本発明における第二基板を構成し、静電アクチュエーター５６により静電引力を作用させた際に、可動基板５２の一部（可動部５２１）が固定基板５１側に撓むことにより、固定反射膜５４及び可動反射膜５５の間のギャップ寸法が変更される。
この可動基板５２は、図１に示すようなフィルター平面視において、フィルター中心点Ｏを中心とした長方形状の可動部５２１と、可動部５２１と同軸であり四角環状に形成された、可動部５２１を保持する保持部５２２と、保持部５２２の外側に設けられた基板外周部５２５と、を備えている。
また、可動基板５２には、図１に示すように、一端側（図１における辺Ｃ７−Ｃ８）は、固定基板５１の基板端縁（図１における辺Ｃ３−Ｃ４）よりも外側に突出しており、第二端子取出部５２４を構成している。

可動部５２１は、フィルター平面視において、少なくとも反射膜設置部５１２の外周縁の径寸法よりも大きい径寸法に形成されている。
図３は、可動基板５２の平面図である。可動部５２１は、図３に示すように、フィルター平面視において、長方形状に形成されている。すなわち、可動部５２１は、一対の第一辺としての長辺５２１Ａ，５２１Ｂと、一対の第二辺としての短辺５２１Ｃ，５２１Ｄとを備えている。
そして、この可動部５２１には、図１及び図２に示すように、可動反射膜５５、及び可動電極５６２が設けられている。

可動電極５６２は、フィルター平面視において、可動反射膜５５の外周側に設けられ、固定電極５６１に対してギャップを介して対向配置されている。この可動電極５６２は、四角環状に形成されており、図１に示すように、辺Ｃ７−Ｃ８に近接する一部に開口部が設けられている。また、固定電極５６１と同様に、可動電極５６２上に絶縁膜が積層される構成としてもよい。
ここで、図１に示すように、フィルター平面視において、可動電極５６２と固定電極５６１とが重なる領域（図１において右上がり斜線部で示される領域）により、静電アクチュエーター５６が構成されている。この静電アクチュエーター５６は、図１に示すように、フィルター平面視において、フィルター中心点Ｏに対して互いに点対称となる形状及び配置となる。したがって、静電アクチュエーター５６に電圧を印加した際に発生する静電引力も、フィルター中心点Ｏに対して点対称となる位置に作用し、バランスよく可動部５２１を固定基板５１側に変位させることが可能となる。

また、図１に示すように、可動電極５６２は、第二端子取出部５２４に向かって延出する可動引出電極５６４が設けられている。この可動引出電極５６４は、固定基板５１に設けられた電極引出溝に対向する位置に沿って配置される。

可動反射膜５５は、フィルター平面視において長方形状を備え、可動部５２１の固定基板５１に対向する面の中心部に設けられ、固定反射膜５４とギャップＧを介して対向する。この可動反射膜５５は、高屈折層（例えばＳｉ）と低屈折層（例えばＳｉＯ_２）と積層した誘電体多層膜を用いることができる。
また、可動反射膜５５の表層には、固定反射膜５４と同様、例えばＩＴＯ等の電極材料により構成される導電性膜が設けられている。
また、可動反射膜５５としては、固定反射膜５４と同様、広波長域に対して高反射率特性を有する、例えばＡｇ合金等の反射膜を用いてもよい。
そして、可動基板５２には、図１に示すように、可動反射膜５５（導電性膜）の外周縁に接続され、可動電極５６２の開口部を通り、第二端子取出部５２４に向かって延出する第二検出電極５５１が設けられている。

なお、本実施形態では、図２に示すように、電極５６１，５６２間のギャップがギャップＧよりも大きい例を示すがこれに限定されない。例えば、測定対象光として赤外光を対象とする場合等、測定対象波長域によっては、ギャップＧが、電極５６１，５６２間のギャップよりも大きくなる構成としてもよい。

保持部５２２は、可動部５２１の周囲を囲うダイヤフラムであり、可動部５２１よりも厚み寸法が小さく形成されている。このような保持部５２２は、可動部５２１よりも撓みやすく、僅かな静電引力により、可動部５２１を固定基板５１側に変位させることが可能となる。この際、可動部５２１が保持部５２２よりも厚み寸法が大きく、剛性が大きくなるため、保持部５２２が静電引力により固定基板５１側に引っ張られた場合でも、可動部５２１の形状変化が抑制される。
このような保持部５２２は、可動基板５２をエッチングすることで形成される。本実施形態では、等方性エッチングが用いられるため、エッチングにより可動基板５２に形成された溝の内面を湾曲面とすることができる。これにより、溝の内面の一部に応力が集中することを抑制できる。なお、本実施形態では、可動基板５２に対して、固定基板５１とは反対側からエッチングが行われているが、これに限定されない。すなわち、エッチングは、可動基板５２に対して、固定基板５１側、または、固定基板５１側及び固定基板５１とは反対側の両方から行われてもよい。

次に、保持部５２２の形状について詳細に説明する。保持部５２２は、図３に示すように、可動部５２１の長辺５２１Ａに沿って設けられる第一保持部としての長辺側保持部５２２Ａと、可動部５２１の長辺５２１Ｂに沿って設けられる第一保持部としての長辺側保持部５２２Ｂと、可動部５２１の短辺５２１Ｃに沿って設けられる第二保持部としての短辺側保持部５２２Ｃと、可動部５２１の短辺５２１Ｄに沿って設けられる第二保持部としての短辺側保持部５２２Ｄとを備えている。
長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂは、フィルター平面視において、矩形状に形成され、長辺５２１Ａ，５２１Ｂに沿った方向（長辺方向または第一方向とも称する）の端縁は、短辺５２１Ｃ，５２１Ｄと、同一直線上に位置している。
また、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄは、フィルター平面視において、矩形状に形成され、短辺５２１Ｃ，５２１Ｄに沿った方向（短辺方向または第二方向とも称する）の端縁は、長辺５２１Ａ，５２１Ｂと、同一直線上に位置している。

さらに、保持部５２２は、フィルター平面視において、長辺側保持部５２２Ａの長辺方向に沿った外周縁と接する一対の線Ｌ１、及び、短辺側保持部５２２Ｃの短辺方向に沿った外周縁と接する一対の線Ｌ２で囲まれた角保持部５２２Ｅを備えている。さらに、保持部５２２は、長辺側保持部５２２Ｂの長辺方向に沿った外周縁と接する一対の線Ｌ３、及び、線Ｌ２で囲まれた角保持部５２２Ｆと、線Ｌ１、及び、短辺側保持部５２２Ｄの短辺方向に沿った外周縁と接する一対の線Ｌ４とで囲まれた角保持部５２２Ｇと、線Ｌ３及び線Ｌ４で囲まれた角保持部５２２Ｈとを備えている。

本実施形態では、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄにおける長辺方向の寸法Ｄ２は、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂにおける短辺方向の寸法Ｄ１よりも長い。このため、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄは、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂよりも剛性が低い。

また、フィルター平面視において、角保持部５２２Ｅ〜５２２Ｈにおける、フィルター中心点Ｏに最も近い頂点Ａ１と、フィルター中心点Ｏから最も遠い頂点Ａ２との距離Ｄ３は、寸法Ｄ１及びＤ２よりも長い。このため、角保持部５２２Ｅ〜５２２Ｈは、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂ及び短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄよりも剛性が低い。

基板外周部５２５は、フィルター平面視において保持部５２２の外側に設けられる。基板外周部５２５の固定基板５１に対向する面は、接合膜５３を介して固定基板５１に接合される。

上記のような波長可変干渉フィルター５では、固定引出電極５６３及び可動引出電極５６４から、静電アクチュエーター５６を構成する固定電極５６１及び可動電極５６２に駆動電極を印加することで、固定反射膜５４及び可動反射膜５５の間（ギャップＧ）のギャップ寸法を変更することが可能となる。この際、第一検出電極５４１及び第二検出電極５５１を介して、固定反射膜５４（導電性膜）及び可動反射膜５５（導電性膜）間に高周波電圧を印加し、反射膜５４，５５間の静電容量を電圧値に変換して測定することができる。このような構成では、測定された静電容量に基づいて、静電アクチュエーター５６に印加する駆動電圧をフィードバック制御することで、ギャップＧのギャップ寸法をより精度よく制御することが可能となる。

［第一実施形態の作用効果］
本実施形態では、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性は、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性よりも低い。この構成によれば、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性が、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性と同じ場合と比べて、可動部５２１が変位した際、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄが撓みやすくなり、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄが可動部５２１を引っ張る力が弱くなる。このため、可動部５２１における長辺方向の撓み量を低減できる。したがって、可動部５２１に設けられた可動反射膜５５の撓みも抑制され、出力波長が面内でばらつくことを抑制でき、波長可変干渉フィルター５を高精度にできる。

本実施形態では、角保持部５２２Ｅ〜５２２Ｈは、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂ及び短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄよりも剛性が低い。この構成によれば、角保持部５２２Ｅ〜５２２Ｈの剛性が、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂまたは短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性と同じ場合と比べて、可動部５２１が変位した際、角保持部５２２Ｅ〜５２２Ｈが撓みやすくなり、角保持部５２２Ｅ〜５２２Ｈが可動部５２１を引っ張る力が弱くなる。このため、可動部５２１が撓みにくくなる。

本実施形態では、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの寸法Ｄ２を、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの寸法Ｄ１よりも長くすることで、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性を、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性よりも低くしている。この構成によれば、例えば、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄを長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂよりも剛性が低い材料によって構成することで、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性を長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性よりも低くする場合と比べて、製造工程を簡略化できる。また、可動基板５２をエッチングして保持部５２２を形成する際に、マスクパターンを長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂ及び短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄに応じた形状とするだけで、当該長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂ及び短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄを形成できるため、製造工程が増えることを回避できる。

［第二実施形態］
第二実施形態の波長可変干渉フィルターは、第一実施形態の波長可変干渉フィルター５に対して、可動基板における長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの平面形状が異なっている。その他の構成は、第一実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。

図４は、第二実施形態の可動基板５２Ａの平面図である。なお、第一実施形態の可動基板５２と同じ構成については同じ符号を付けている。
図４に示すように、フィルター平面視において、可動基板５２Ａの長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂでは、基板外周部５２５に接する外周縁が、可動部５２１側に窪むように湾曲している。
すなわち、長辺側保持部５２２Ａでは、寸法Ｄ１が、角保持部５２２Ｅ，５２２Ｇと接する両端部から、長辺方向における中心に向かって徐々に短くなっている。また、長辺側保持部５２２Ｂでは、寸法Ｄ１が、角保持部５２２Ｆ，５２２Ｈと接する両端部から、長辺方向における中心に向かって徐々に短くなっている。
この構成によれば、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂは、フィルター平面視において、可動部５２１の中心、すなわち、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなる。

［第二実施形態の作用効果］
本実施形態では、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂは、長辺方向において、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されている。この構成によれば、可動部５２１が変位した際、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂは、長辺方向における中心からの距離が長い位置ほど撓みやすくなり、可動部５２１を引っ張る力が弱くなる。したがって、可動部５２１の変位量を長辺方向において一定にでき、可動部５２１における長辺方向の撓みを低減できる。
その他、第一実施形態と同じ構成により、同じ作用効果を得ることができる。

［第三実施形態］
第三実施形態の波長可変干渉フィルターは、第二実施形態の波長可変干渉フィルターに対して、可動基板における短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの平面形状が異なっている。その他の構成は、第二実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。

図５は、第三実施形態の可動基板５２Ｂの平面図である。なお、第一実施形態及び第二実施形態の可動基板と同じ構成については同じ符号を付けている。
図５に示すように、フィルター平面視において、可動基板５２Ｂの短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄでは、基板外周部５２５に接する外周縁が、可動部５２１側に窪むように湾曲している。
すなわち、短辺側保持部５２２Ｃでは、寸法Ｄ２が、角保持部５２２Ｅ，５２２Ｆと接する両端部から、短辺方向における中心に向かって徐々に短くなっている。また、短辺側保持部５２２Ｄでは、寸法Ｄ２が、角保持部５２２Ｇ，５２２Ｈと接する両端部から、短辺方向における中心に向かって徐々に短くなっている。
この構成によれば、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄは、フィルター平面視において、可動部５２１の中心、すなわち、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなる。

なお、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの寸法Ｄ１は、均一であってもよいが、第二実施形態と同様に、長辺方向における両端部から中心に向かって徐々に短くなっていることが好ましい。

［第三実施形態の作用効果］
本実施形態では、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄは、短辺方向において、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されている。この構成によれば、可動部５２１が変位した際、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄは、短辺方向における中心からの距離が長い位置ほど撓みやすくなり、可動部５２１を引っ張る力が弱くなる。したがって、可動部５２１の変位量を短辺方向において一定にでき、可動部５２１における短辺方向の撓みを低減できる。
その他、第一及び第二実施形態と同じ構成により、同じ作用効果を得ることができる。

［第四実施形態］
第四実施形態の波長可変干渉フィルターは、第一〜第三実施形態の波長可変干渉フィルターに対して、可動基板における保持部が、フィルター平面視において、角保持部５２２Ｅ〜５２２Ｈの外周縁から突出する突出保持部を備えている点で相違する。その他の構成は、第一〜第三実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。

第四実施形態の可動基板５２Ｃの保持部は、フィルター平面視において、図６に示すように、角保持部５２２Ｅの外周縁と、角保持部５２２Ｅと連続する短辺側保持部５２２Ｃの一部の外周縁と、角保持部５２２Ｅと連続する長辺側保持部５２２Ａの一部の外周縁とから、可動部５２１から遠ざかる方向に突出した突出保持部５２２Ｉを備えている。突出保持部５２２Ｉは、フィルター中心点Ｏから、角保持部５２２Ｅに向かう方向に沿って突出している。

なお、突出保持部５２２Ｉは、角保持部５２２Ｅの外周縁と、角保持部５２２Ｅと連続する長辺側保持部５２２Ａの一部の外周縁及び角保持部５２２Ｅと連続する短辺側保持部５２２Ｃの一部の外周縁のいずれかの外周縁とから突出していてもよい。

図示は省略するが、可動基板５２Ｃの保持部は、同様に、角保持部５２２Ｆ〜５２２Ｈから突出した突出保持部５２２Ｉも備えている。

［第四実施形態の作用効果］
本実施形態によれば、保持部が突出保持部５２２Ｉを備えている。この構成によれば、可動部５２１が変位した際、突出保持部５２２Ｉが撓むことで、角保持部５２２Ｆ〜５２２Ｈが可動部５２１を引っ張る力が弱くなり、可動部５２１が撓みにくくなる。したがって、出力波長が面内でばらつくことを抑制できる。
また、突出保持部５２２Ｉは、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの一部及び短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの一部の少なくともいずれかの部分と連続しているため、可動部５２１が変位した際、突出保持部５２２Ｉが撓むことで、前記いずれかの部分が可動部５２１を引っ張る力は弱くなる。このため、突出保持部５２２Ｉが前記いずれかの部分に連続していない場合と比べて、可動部５２１の角部が保持部によって引っ張られる力を弱くすることができ、可動部５２１がより撓みにくくなる。
また、突出保持部５２２Ｉは、角保持部５２２Ｆ〜５２２Ｈの外周縁から、可動部５２１から遠ざかる方向に突出している。このため、例えば、突出保持部が、角保持部５２２Ｆ〜５２２Ｈの外周縁から可動部５２１に近づく方向に突出する場合のように、可動部５２１の角部を、突出保持部に応じた形状とする必要もない。よって、そのために矩形の反射膜に対して必要以上に可動部を大きくする必要もない。
その他、第一〜第三実施形態と同様の構成により、同様の作用効果を得ることができる。

［第五実施形態］
第五実施形態の波長可変干渉フィルターは、第四実施形態の波長可変干渉フィルターに対して、突出保持部の位置及び形状が異なっている点で相違する。その他の構成は、第四実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。

第五実施形態の可動基板５２Ｄの保持部は、フィルター平面視において、図７に示すように、角保持部５２２Ｅの短辺方向に沿った外周縁と、角保持部５２２Ｅと連続する短辺側保持部５２２Ｃの一部の外周縁とから、長辺方向に突出した突出保持部５２２Ｊを備えている。

なお、突出保持部５２２Ｊは、フィルター平面視において、角保持部５２２Ｅの長辺方向に沿った外周縁と、角保持部５２２Ｅと連続する長辺側保持部５２２Ａの一部の外周縁とから、短辺方向に突出していてもよい。または、突出保持部５２２Ｊは、角保持部５２２Ｅの短辺方向に沿った外周縁と、角保持部５２２Ｅと連続する短辺側保持部５２２Ｃの一部の外周縁とから長辺方向に突出し、かつ、角保持部５２２Ｅの長辺方向に沿った外周縁と、角保持部５２２Ｅと連続する長辺側保持部５２２Ａの一部の外周縁とから短辺方向に突出していてもよい。

図示は省略するが、可動基板５２Ｄの保持部は、同様に、角保持部５２２Ｆ〜５２２Ｈから突出した突出保持部５２２Ｊも備えている。

［第五実施形態の作用効果］
本実施形態においても、第四実施形態と同様に、可動部５２１の角部が保持部によって引っ張られる力を弱くすることができ、可動部５２１が撓みにくくなる。また、例えば、突出保持部が、角保持部５２２Ｆ〜５２２Ｈの外周縁から可動部５２１に近づく方向に突出する場合のように、可動部５２１の角部を、突出保持部に応じた形状とする必要もない。よって、そのために矩形の反射膜に対して必要以上に可動部を大きくする必要もない。
その他、第一〜第三実施形態と同様の構成により、同様の作用効果を得ることができる。

［第六実施形態］
第六実施形態の波長可変干渉フィルターは、第四及び第五実施形態の波長可変干渉フィルターに対して、突出保持部の位置及び形状が異なっている点で相違する。その他の構成は、第四及び第五実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。

第六実施形態の可動基板５２Ｅの保持部は、フィルター平面視において、図８に示すように、角保持部５２２Ｅにおけるフィルター中心点Ｏに最も近い頂点Ａ１と、角保持部５２２Ｅに連続する長辺側保持部５２２Ａの一部の外周縁と、角保持部５２２Ｅと連続する短辺側保持部５２２Ｃの一部の外周縁とから、可動部５２１に近づく方向に突出した突出保持部５２２Ｋを備えている。突出保持部５２２Ｋは、フィルター平面視において、三角形状を備えている。
図示は省略するが、可動基板５２Ｅの保持部は、同様に、角保持部５２２Ｆ〜５２２Ｈから突出した突出保持部５２２Ｋも備えている。

［第六実施形態の作用効果］
本実施形態においても、第四及び第五実施形態と同様に、可動部５２１の角部が保持部によって引っ張られる力を弱くすることができ、可動部５２１が撓みにくくなる。
その他、第一〜第三実施形態と同様の構成により、同様の作用効果を得ることができる。

［第七実施形態］
次に、本発明に係る第七実施形態について説明する。
第七実施形態では、上記第一〜第六実施形態において説明した波長可変干渉フィルターが組み込まれた分光器の一例を図面に基づいて説明する。ここでは、各実施形態の波長可変干渉フィルターを代表して、第一実施形態の波長可変干渉フィルター５が組み込まれた例を説明する。

［分光器の構成］
図９は、分光器１７の概略構成を示す断面図である。
分光器１７は、本発明における光学モジュールであり、図９に示すように、光源部１７１と、光学フィルターデバイス１７２、受光部１７３と、導光部１７４と、筐体１７５と、を備えている。
この分光器１７は、光源部１７１から測定対象Ａ上の測定位置Ｒに照明光を照射し、測定位置Ｒで反射された光成分を、導光部１７４により光学フィルターデバイス１７２に入射させる。そして、光学フィルターデバイス１７２は、この反射光から所定波長の光を出射（透過）させて、受光部１７３により受光させる。また、光学フィルターデバイス１７２は、図示しない制御ユニットの制御に基づいて、透過波長を選択可能であり、可視光における各波長の光の光量を測定することで、測定対象Ａ上の測定位置Ｒの分光測定が可能となる。

［光源部の構成］
光源部１７１は、光源１７１Ａと、集光部１７１Ｂとを備える。この光源部１７１は、光源１７１Ａから出射された光を測定対象Ａの測定位置Ｒ内に、測定対象Ａの表面に対する法線方向から照射する。
光源１７１Ａとしては、可視光域における各波長の光を出射可能な光源が好ましい。このような光源１７１Ａとして、例えばハロゲンランプやキセノンランプ、白色ＬＥＤ等を例示でき、特に、限られたスペース内で容易に設置可能な白色ＬＥＤが好ましい。集光部１７１Ｂは、例えば集光レンズ等により構成され、光源１７１Ａからの光を測定位置Ｒに集光させる。なお、図９においては、集光部１７１Ｂでは、１つのレンズ（集光レンズ）のみを表示するが、複数のレンズを組み合わせて構成されていてもよい。

［光学フィルターデバイスの構成］
光学フィルターデバイス１７２は、筐体６と、筐体６の内部に収納された波長可変干渉フィルター５とを備えている。筐体６は、内部に収容空間を有し、この収容空間内に波長可変干渉フィルター５が収納されている。また、筐体６は、波長可変干渉フィルターの固定引出電極５６３、可動引出電極５６４、第一検出電極５４１、及び第二検出電極５５１に接続された端子部を有し、当該端子部が制御ユニットに接続されている。そして、制御ユニットからの指令信号に基づいて、波長可変干渉フィルター５の静電アクチュエーター５６に所定の電圧が印加され、これにより、波長可変干渉フィルター５から印加電圧に応じた波長の光が出射される。また、第一検出電極５４１及び第二検出電極５５１からの信号に基づいて、反射膜５４，５５の間のギャップ寸法に応じた静電容量が検出される。

［受光部及び導光光学系の構成］
受光部１７３は、図９に示すように、波長可変干渉フィルター５の光軸上に配置され、当該波長可変干渉フィルター５を透過した光を受光する。そして、受光部１７３は、制御ユニットの制御に基づいて、受光量に応じた検出信号（電流値）を出力する。なお、受光部１７３により出力された検出信号は、Ｉ−Ｖ変換器（図示略）、増幅器（図示略）、及びＡＤ変換器（図示略）を介して制御ユニットに入力される。
導光部１７４は、反射鏡１７４Ａと、バンドパスフィルター１７４Ｂとを備えている。
この導光部１７４は、測定位置Ｒで、測定対象Ａの表面に対して４５°で反射された光を反射鏡１７４Ａにより、波長可変干渉フィルター５の光軸上に反射させる。バンドパスフィルター１７４Ｂは、可視光域（例えば３８０ｎｍ〜７２０ｎｍ）の光を透過させ、紫外光及び赤外光の光をカットする。これにより、波長可変干渉フィルター５には、可視光域の光が入射されることになり、受光部１７３において、可視光域における波長可変干渉フィルター５により選択された波長の光が受光される。

［第七実施形態の作用効果］
本実施形態の分光器１７は、上記第一〜第六実施形態にて説明した波長可変干渉フィルターと、波長可変干渉フィルターを透過した光を受光する受光部１７３とを備えている。
ここで、波長可変干渉フィルターは、上述のように、ギャップＧのギャップ寸法を制御した際のばらつきを低減でき、高い分光精度で所望波長の光を透過させることが可能である。よって、受光部１７３により当該光を受光することで、測定対象に対する分光測定を高精度に実施できる。

［その他の実施形態］
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。

例えば、上記第一実施形態では、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの寸法Ｄ２を、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの寸法Ｄ１より長くすることで、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性を、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性より低くしているが、これに限定されない。
例えば、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの厚み方向の寸法を、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの厚み方向の寸法よりも小さくすることで、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性を、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性より低くしてもよい。

また、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂ及び短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄに、図１０に示すように、穴Ｈ１を設け、単位面積当たりの穴Ｈ１の開口面積が、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの方が、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂよりも大きくなるようにすることで、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性を、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性より低くしてもよい。なお、前記開口面積は、穴Ｈ１の開口の大きさや、単位面積当たりの穴Ｈ１の数などに応じて設定できる。

上記第二及び第三実施形態では、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの寸法Ｄ１を、長辺方向における両端部から中心に向かって徐々に短くすることで、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性を、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって低くしているが、これに限定されない。
例えば、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの厚み方向の寸法を、長辺方向における両端部から中心に向かって徐々に大きくすることで、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性を、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって低くしてもよい。
また、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂに穴Ｈ１を設け、単位面積当たりの穴Ｈ１の開口面積を、長辺方向における両端部から中心に向かって徐々に小さくすることで、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの剛性を、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって低くしてもよい。

上記第三実施形態では、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの寸法Ｄ２を、短辺方向における両端部から中心に向かって徐々に短くすることで、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性を、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって低くしているが、これに限定されない。
例えば、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの厚み方向の寸法を、短辺方向における両端部から中心に向かって徐々に大きくすることで、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性を、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって低くしてもよい。
また、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄに穴Ｈ１を設け、単位面積当たりの穴Ｈ１の開口面積を、短辺方向における両端部から中心に向かって徐々に小さくすることで、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの剛性を、フィルター中心点Ｏからの距離が長くなるにしたがって低くしてもよい。

上記第一〜第六実施形態の波長可変干渉フィルターでは、保持部は、フィルター平面視において、角を備えているが、角を丸めた形状としてもよい。
例えば、図１１は、第五実施形態の保持部に対して、角を丸めた形状を示す。また、図１２は、第六実施形態の保持部に対して、角を丸めた形状を示す。
このように、角を丸めることで、保持部の一部に応力が集中することを抑制できる。
なお、可動基板をエッチングして、厚み方向の寸法が可動部５２１よりも小さい保持部を形成する場合、エッチングのマスクパターンの形状によって、角が丸められた保持部を形成できる。

上記第二実施形態では、可動基板５２Ａの長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂは、フィルター平面視において、基板外周部５２５に接する外周縁が、可動部５２１側に窪むように湾曲することで、寸法Ｄ１が、長辺方向における両端部から中心に向かって徐々に短くなっているが、これに限定されない。例えば、図１３に示すように、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂは、フィルター平面視において、可動部５２１に接する外周縁が、基板外周部５２５側に窪むように湾曲することで、寸法Ｄ１が、長辺方向における両端部から中心に向かって徐々に短くなる構成としてもよい。すなわち、可動部５２１の長辺は、フィルター平面視において湾曲していてもよい。つまり、本発明における可動部の長辺には、線分だけではなく、このように湾曲している辺も含まれる。

上記第三実施形態では、可動基板５２Ｂの短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄは、フィルター平面視において、基板外周部５２５に接する外周縁が、可動部５２１側に窪むように湾曲することで、寸法Ｄ２が、短辺方向における両端部から中心に向かって徐々に短くなっているが、これに限定されない。例えば、図１４に示すように、短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄは、フィルター平面視において、可動部５２１に接する外周縁が、基板外周部５２５側に窪むように湾曲することで、寸法Ｄ２が、短辺方向における両端部から中心に向かって徐々に短くなる構成としてもよい。すなわち、可動部５２１の短辺は、フィルター平面視において湾曲していてもよい。つまり、本発明における可動部の短辺には、線分だけではなく、このように湾曲している辺も含まれる。

上記第四及び第五実施形態において、突出保持部は、角保持部５２２Ｅ〜５２２Ｈの外周縁の一部のみから突出していてもよい。しかしながら、突出保持部が、長辺側保持部５２２Ａ，５２２Ｂの一部及び短辺側保持部５２２Ｃ，５２２Ｄの一部の少なくともいずれかの部分と連続している方が、可動部５２１の角部が保持部によって引っ張られる力をより弱くできるので好ましい。

上記第一〜第六実施形態の波長可変干渉フィルターでは、保持部は、可動部５２１よりも厚み方向の寸法が小さいことで、可動部５２１を変位可能に支持しているが、これに限定されない。例えば、保持部を、可動部５２１よりも剛性の低い材料によって構成することで、可動部５２１よりも撓みやすくし、可動部５２１を変位可能に支持する構成としてもよい。または、保持部に穴を設けることで、保持部を可動部５２１よりも撓みやすくし、可動部５２１を変位可能に支持する構成としてもよい。すなわち、保持部は、可動部５２１よりも剛性が低ければよい。

上記第一〜第六実施形態では、可動部５２１は、フィルター平面視において、長方形状を備えているが、本発明はこれに限定されない。例えば、可動部５２１は、楕円形状などの長軸を備える細長い形状や、正方形状であってもよい。
可動部５２１が細長い形状の場合、保持部において、可動部５２１の短軸に沿った短軸側保持部の剛性を、可動部５２１の長軸に沿った長軸側保持部の剛性よりも低くすることで、可動部５２１の長軸方向の撓み量と短軸方向の撓み量との差を低減できる。
また、可動部５２１が正方形状の場合、角保持部５２２Ｅ〜５２２Ｈに、突出保持部を設けることで、可動部５２１を撓みにくくできる。

上記実施形態では、波長可変干渉フィルターとして、入射光から所定波長の光を分光して透過させる光透過型の波長可変干渉フィルターを例示したが、これに限定されない。例えば、波長可変干渉フィルターとして、入射光から所定波長の光を分光して反射させる光反射型の波長可変干渉フィルターを用いてもよい。

上記実施形態では、固定引出電極５６３及び第一検出電極５４１は、第一端子取出部５１４に設けられ、可動引出電極５６４及び第二検出電極５５１は、第二端子取出部５２４に設けられているが、これに限定されない。例えば、固定引出電極５６３、第一検出電極５４１、可動引出電極５６４及び第二検出電極５５１は、第一端子取出部５１４及び第二端子取出部５２４のいずれか一方のみに設けられていてもよい。

上記実施形態では、可動電極５６２が可動部５２１に設けられているが、本発明はこれに限らない。例えば、図１５に示すように、可動電極５６２を、可動部５２１を保持する保持部５２２に設けてもよい。それによって、可動部５２１の面積をより小さくする事ができる。このとき、固定電極５６１は、上記実施形態と同様に、フィルター平面視において、可動電極５６２と重なる領域に設けられ、静電アクチュエーター５６を構成する。

その他、本発明の実施の際の具体的な構造は、本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等に適宜変更できる。

５…波長可変干渉フィルター、１７…分光器（光学モジュール）、５１…固定基板（第一基板）、５２，５２Ａ，５２Ｂ，５２Ｃ，５２Ｄ，５２Ｅ…可動基板（第二基板）、５４…固定反射膜（第一反射膜）、５５…可動反射膜（第二反射膜）、１７３…受光部、５２１…可動部、５２１Ａ，５２１Ｂ…長辺（第一辺）、５２１Ｃ，５２１Ｄ…短辺（第二辺）、５２２…保持部、５２２Ａ，５２２Ｂ…長辺側保持部（第一保持部）、５２２Ｃ，５２２Ｄ…短辺側保持部（第二保持部）、５２２Ｅ，５２２Ｆ，５２２Ｇ，５２２Ｈ…角保持部、５２２Ｉ，５２２Ｊ，５２２Ｋ…突出保持部、５２５…基板外周部、Ａ１，Ａ２…頂点、Ｏ…フィルター中心点。

Claims (9)

1. 第一反射膜が設けられた第一基板と、
   前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、
   前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、長辺及び短辺を有し、
   前記保持部は、前記長辺に沿って設けられる長辺側保持部と、前記短辺に沿って設けられる短辺側保持部とを有し、
   前記短辺側保持部の厚さが前記長辺側保持部の厚さよりも小さく、前記短辺側保持部の剛性は、前記長辺側保持部の剛性よりも低い
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
2. 第一反射膜が設けられた第一基板と、
   前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、
   前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、長辺及び短辺を有し、
   前記保持部は、前記長辺に沿って設けられる長辺側保持部と、前記短辺に沿って設けられる短辺側保持部とを有し、
   前記短辺側保持部の前記長辺に沿った方向の長さが前記長辺側保持部の前記短辺に沿った方向の長さよりも大きく、前記短辺側保持部の剛性は、前記長辺側保持部の剛性よりも低い
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
3. 第一反射膜が設けられた第一基板と、
   前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、
   前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、長辺及び短辺を有し、
   前記保持部は、前記長辺に沿って設けられる長辺側保持部と、前記短辺に沿って設けられる短辺側保持部とを有し、
   前記保持部には複数の穴が形成され、
   前記短辺側保持部における単位面積当たりの前記穴の開口面積が、前記長辺側保持部における前記開口面積よりも大きく、前記短辺側保持部の剛性は、前記長辺側保持部の剛性よりも低い
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
4. 請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記長辺側保持部は、前記長辺に沿った方向において、前記可動部の中心からの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されている
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
5. 請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記短辺側保持部は、前記短辺に沿った方向において、前記可動部の中心からの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されている
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
6. 請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記保持部は、前記平面視において、前記長辺側保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記長辺に沿った一対の線と、前記短辺側保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記短辺に沿った一対の線とで囲まれる角保持部を備え、
   前記角保持部は、前記長辺側保持部及び前記短辺側保持部よりも剛性が低い
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
7. 第一反射膜が設けられた第一基板と、
   前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、
   前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、第一方向に沿った第一辺、及び、前
   記第一方向と交差する第二方向に沿った第二辺を有し、
   前記保持部は、
   前記第一辺に沿って設けられる第一保持部と、
   前記第二辺に沿って設けられる第二保持部と、
   前記平面視において、前記第一保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記第一方向に沿った一対の線と、前記第二保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記第二方向に沿った一対の線とで囲まれる角保持部と、
   前記角保持部の外周縁の一部から突出する突出保持部と、
   を備える
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
8. 請求項７に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
   前記突出保持部は、前記第一保持部の一部及び前記第二保持部の一部の少なくともいずれかの部分と連続し、かつ、前記可動部から遠ざかる方向に突出している
   ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。
9. 請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の波長可変干渉フィルターと、
   前記波長可変干渉フィルターを透過した光を受光する受光部と、を備える
   ことを特徴とする光学モジュール。

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