JP6926527B2 - 波長可変干渉フィルター及び光学モジュール - Google Patents
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Description
このような波長可変干渉フィルターでは、一方の反射膜が設けられる基板に、反射膜が設けられる可動部と、可動部の外周を囲み、可動部を変位可能に保持する保持部とが設けられている。そして、可動部が変位することで、一対の反射膜間のギャップ量が変化し、これにより、透過する光の波長が変化する。
すなわち、反射膜を撓ませないためには、可動部を撓ませずに変位させる必要がある。しかしながら、平板に対して厚み方向の力を掛けた時の撓み形状は、その厚み方向から見た平面視において、中心部分に対して、そこから距離が長い位置ほど変位量は小さくなる事から、変位量の差の大きさを撓み量の大きさとすると、可動部が長方形状であり、かつ、保持部の剛性が均一である場合、可動部の長辺方向の撓み量は、短辺方向の撓み量よりも大きくなる。このため、反射膜の面内でギャップ量が不均一となる。
また、可動部が長方形状や正方形状の場合、保持部における可動部の角部に接する部分は他の部分よりも撓みにくい。このため、可動部が変位した際、可動部の角部が保持部に引っ張られ、可動部が撓みやすくなるという問題がある。
上記のように可動部に撓みが生じると、反射膜も撓み、波長可変干渉フィルターから出力される光の波長が面内でばらつき、波長可変干渉フィルターの精度が低下するという問題がある。
保持部の剛性が均一の場合、可動部を変位させた時の撓み形状は、長辺方向において中心からの距離が長い位置ほど変位量が小さい形となる。これに対して、本適用例によれば、可動部が変位した際、長辺側保持部は、長辺方向における中心からの距離が長い位置ほど撓みやすくなり、可動部を引っ張る力が弱くなる。
このため、可動部の変位量を長辺方向において一定にでき、可動部における長辺方向の撓みを低減できる。
保持部の剛性が均一の場合、可動部を変位させた時の撓み形状は、短辺方向において中心からの距離が長い位置ほど変位量が小さい形となる。これに対して、本適用例によれば、可動部が変位した際、短辺側保持部は、短辺方向における中心からの距離が長い位置ほど撓みやすくなり、可動部を引っ張る力が弱くなる。
このため、可動部の変位量を短辺方向において一定にでき、可動部における短辺方向の撓みを低減できる。
本適用例によれば、角保持部の剛性が、長辺側保持部または短辺側保持部の剛性と同じ場合と比べて、可動部が変位した際、角保持部が撓みやすくなり、角保持部が可動部を引っ張る力が弱くなる。このため、可動部が撓みにくくなる。
本適用例によれば、短辺側保持部の剛性を、長辺側保持部の剛性よりも低くできる。また、例えば、短辺側保持部を長辺側保持部よりも剛性が低い材料によって構成することで短辺側保持部の剛性を長辺側保持部の剛性よりも低くする場合と比べて、製造工程を簡略化できる。
本適用例によれば、短辺側保持部の剛性を、長辺側保持部の剛性よりも低くできる。また、例えば、短辺側保持部を長辺側保持部よりも剛性が低い材料によって構成することで短辺側保持部の剛性を長辺側保持部の剛性よりも低くする場合と比べて、製造工程を簡略化できる。
また、例えば第二基板をエッチングして保持部を形成する場合は、マスクパターンを長辺側保持部及び短辺側保持部に応じた形状とするだけでよいので、製造工程が増えることを回避できる。
本適用例によれば、短辺側保持部の剛性を、長辺側保持部の剛性よりも低くできる。また、例えば、短辺側保持部を長辺側保持部よりも剛性が低い材料によって構成することで短辺側保持部の剛性を長辺側保持部の剛性よりも低くする場合と比べて、製造工程を簡略化できる。
本適用例によれば、可動部が変位した際、突出保持部が撓むことで、角保持部が可動部を引っ張る力が弱くなり、可動部が撓みにくくなる。したがって、可動部に設けられた第二反射膜の撓みも抑制され、出力波長が面内でばらつくことを抑制でき、波長可変干渉フィルターを高精度にできる。
本適用例によれば、可動部が変位した際、突出保持部が撓むことで、第一保持部の一部及び第二保持部の一部の少なくともいずれかの部分が可動部を引っ張る力は弱くなる。このため、可動部の角部が保持部によって引っ張られる力をより弱くすることができ、可動部がより撓みにくくなる。
また、本発明では、突出保持部は、角保持部の外周縁から、可動部から遠ざかる方向に突出している。このため、例えば、突出保持部が、角保持部の外周縁から可動部に近づく方向に突出する場合のように、可動部の角部を、突出保持部に応じた形状とする必要もなく、そのために矩形の反射膜に対して必要以上に可動部を大きくする必要もない。
本適用例によれば、波長可変干渉フィルターから高い分光精度で所望の目標波長の光を出射させることができ、その光を受光部において受光することで、入射光に含まれる目標波長の光の光強度を正確に測定することができる。
以下、本発明の係る第一実施形態の波長可変干渉フィルターに関して説明する。
[波長可変干渉フィルターの構成]
図1は、第一実施形態に係る波長可変干渉フィルター5の概略構成を示す平面図である。
図2は、図1における波長可変干渉フィルター5をA−A線で切断した際の断面図である。
波長可変干渉フィルター5は、図1及び図2に示すように、透光性の固定基板51及び可動基板52を備えている。これらの固定基板51及び可動基板52は、それぞれ例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラス等の各種ガラスや、水晶等により形成されている。そして、これらの固定基板51及び可動基板52は、例えばシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜等により構成された接合膜53により接合されることで、一体的に構成されている。
また、波長可変干渉フィルター5には、ギャップGの寸法(ギャップ寸法)を調整(変更)するのに用いられる静電アクチュエーター56が設けられている。この静電アクチュエーター56は、固定基板51に設けられた固定電極561と、可動基板52に設けられた可動電極562とにより構成される。
なお、以降の説明に当たり、固定基板51又は可動基板52の基板厚み方向から見た平面視、つまり、固定反射膜54、可動反射膜55の膜厚方向から波長可変干渉フィルター5を見た平面視を、フィルター平面視と称する。また、本実施形態では、フィルター平面視において、固定反射膜54の中心点及び可動反射膜55の中心点は、一致し、平面視におけるこれらの反射膜54,55の中心点をOで示す。
固定基板51は、本発明における第一基板を構成し、図2に示すように、例えばエッチング等により形成された電極配置溝511及び反射膜設置部512を備える。また、固定基板51の一端側(図1における辺C1−C2)は、可動基板52の基板端縁(図1における辺C5−C6)よりも外側に突出しており、第一端子取出部514を構成している。
また、固定基板51には、電極配置溝511から、固定基板51の外周縁に向かって延出する電極引出溝(図示略)が設けられている。
そして、固定電極561は、電極引出溝に沿って第一端子取出部514まで延出する固定引出電極563を備えている。
この反射膜設置部512の突出先端面には、フィルター平面視において長方形状の固定反射膜54が設けられる。
固定反射膜54は、高屈折層(例えばSi)と低屈折層(例えばSiO2)とを交互に積層した誘電体多層膜により構成されている。このような誘電体多層膜では、各高屈折層及び各低屈折層の層厚寸法により、所望の反射特性を有する光学膜に形成することができる。
また、固定反射膜54の可動基板52側の表層には、例えばITO等の電極材料により導電性膜が積層している。
この固定反射膜54としては、広波長域に対して高反射率特性を有する、例えばAg合金等の反射膜を用いてもよい。
可動基板52は、本発明における第二基板を構成し、静電アクチュエーター56により静電引力を作用させた際に、可動基板52の一部(可動部521)が固定基板51側に撓むことにより、固定反射膜54及び可動反射膜55の間のギャップ寸法が変更される。
この可動基板52は、図1に示すようなフィルター平面視において、フィルター中心点Oを中心とした長方形状の可動部521と、可動部521と同軸であり四角環状に形成された、可動部521を保持する保持部522と、保持部522の外側に設けられた基板外周部525と、を備えている。
また、可動基板52には、図1に示すように、一端側(図1における辺C7−C8)は、固定基板51の基板端縁(図1における辺C3−C4)よりも外側に突出しており、第二端子取出部524を構成している。
図3は、可動基板52の平面図である。可動部521は、図3に示すように、フィルター平面視において、長方形状に形成されている。すなわち、可動部521は、一対の第一辺としての長辺521A,521Bと、一対の第二辺としての短辺521C,521Dとを備えている。
そして、この可動部521には、図1及び図2に示すように、可動反射膜55、及び可動電極562が設けられている。
ここで、図1に示すように、フィルター平面視において、可動電極562と固定電極561とが重なる領域(図1において右上がり斜線部で示される領域)により、静電アクチュエーター56が構成されている。この静電アクチュエーター56は、図1に示すように、フィルター平面視において、フィルター中心点Oに対して互いに点対称となる形状及び配置となる。したがって、静電アクチュエーター56に電圧を印加した際に発生する静電引力も、フィルター中心点Oに対して点対称となる位置に作用し、バランスよく可動部521を固定基板51側に変位させることが可能となる。
また、可動反射膜55の表層には、固定反射膜54と同様、例えばITO等の電極材料により構成される導電性膜が設けられている。
また、可動反射膜55としては、固定反射膜54と同様、広波長域に対して高反射率特性を有する、例えばAg合金等の反射膜を用いてもよい。
そして、可動基板52には、図1に示すように、可動反射膜55(導電性膜)の外周縁に接続され、可動電極562の開口部を通り、第二端子取出部524に向かって延出する第二検出電極551が設けられている。
このような保持部522は、可動基板52をエッチングすることで形成される。本実施形態では、等方性エッチングが用いられるため、エッチングにより可動基板52に形成された溝の内面を湾曲面とすることができる。これにより、溝の内面の一部に応力が集中することを抑制できる。なお、本実施形態では、可動基板52に対して、固定基板51とは反対側からエッチングが行われているが、これに限定されない。すなわち、エッチングは、可動基板52に対して、固定基板51側、または、固定基板51側及び固定基板51とは反対側の両方から行われてもよい。
長辺側保持部522A,522Bは、フィルター平面視において、矩形状に形成され、長辺521A,521Bに沿った方向(長辺方向または第一方向とも称する)の端縁は、短辺521C,521Dと、同一直線上に位置している。
また、短辺側保持部522C,522Dは、フィルター平面視において、矩形状に形成され、短辺521C,521Dに沿った方向(短辺方向または第二方向とも称する)の端縁は、長辺521A,521Bと、同一直線上に位置している。
本実施形態では、短辺側保持部522C,522Dの剛性は、長辺側保持部522A,522Bの剛性よりも低い。この構成によれば、短辺側保持部522C,522Dの剛性が、長辺側保持部522A,522Bの剛性と同じ場合と比べて、可動部521が変位した際、短辺側保持部522C,522Dが撓みやすくなり、短辺側保持部522C,522Dが可動部521を引っ張る力が弱くなる。このため、可動部521における長辺方向の撓み量を低減できる。したがって、可動部521に設けられた可動反射膜55の撓みも抑制され、出力波長が面内でばらつくことを抑制でき、波長可変干渉フィルター5を高精度にできる。
第二実施形態の波長可変干渉フィルターは、第一実施形態の波長可変干渉フィルター5に対して、可動基板における長辺側保持部522A,522Bの平面形状が異なっている。その他の構成は、第一実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。
図4に示すように、フィルター平面視において、可動基板52Aの長辺側保持部522A,522Bでは、基板外周部525に接する外周縁が、可動部521側に窪むように湾曲している。
すなわち、長辺側保持部522Aでは、寸法D1が、角保持部522E,522Gと接する両端部から、長辺方向における中心に向かって徐々に短くなっている。また、長辺側保持部522Bでは、寸法D1が、角保持部522F,522Hと接する両端部から、長辺方向における中心に向かって徐々に短くなっている。
この構成によれば、長辺側保持部522A,522Bは、フィルター平面視において、可動部521の中心、すなわち、フィルター中心点Oからの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなる。
本実施形態では、長辺側保持部522A,522Bは、長辺方向において、フィルター中心点Oからの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されている。この構成によれば、可動部521が変位した際、長辺側保持部522A,522Bは、長辺方向における中心からの距離が長い位置ほど撓みやすくなり、可動部521を引っ張る力が弱くなる。したがって、可動部521の変位量を長辺方向において一定にでき、可動部521における長辺方向の撓みを低減できる。
その他、第一実施形態と同じ構成により、同じ作用効果を得ることができる。
第三実施形態の波長可変干渉フィルターは、第二実施形態の波長可変干渉フィルターに対して、可動基板における短辺側保持部522C,522Dの平面形状が異なっている。その他の構成は、第二実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。
図5に示すように、フィルター平面視において、可動基板52Bの短辺側保持部522C,522Dでは、基板外周部525に接する外周縁が、可動部521側に窪むように湾曲している。
すなわち、短辺側保持部522Cでは、寸法D2が、角保持部522E,522Fと接する両端部から、短辺方向における中心に向かって徐々に短くなっている。また、短辺側保持部522Dでは、寸法D2が、角保持部522G,522Hと接する両端部から、短辺方向における中心に向かって徐々に短くなっている。
この構成によれば、短辺側保持部522C,522Dは、フィルター平面視において、可動部521の中心、すなわち、フィルター中心点Oからの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなる。
本実施形態では、短辺側保持部522C,522Dは、短辺方向において、フィルター中心点Oからの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されている。この構成によれば、可動部521が変位した際、短辺側保持部522C,522Dは、短辺方向における中心からの距離が長い位置ほど撓みやすくなり、可動部521を引っ張る力が弱くなる。したがって、可動部521の変位量を短辺方向において一定にでき、可動部521における短辺方向の撓みを低減できる。
その他、第一及び第二実施形態と同じ構成により、同じ作用効果を得ることができる。
第四実施形態の波長可変干渉フィルターは、第一〜第三実施形態の波長可変干渉フィルターに対して、可動基板における保持部が、フィルター平面視において、角保持部522E〜522Hの外周縁から突出する突出保持部を備えている点で相違する。その他の構成は、第一〜第三実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。
本実施形態によれば、保持部が突出保持部522Iを備えている。この構成によれば、可動部521が変位した際、突出保持部522Iが撓むことで、角保持部522F〜522Hが可動部521を引っ張る力が弱くなり、可動部521が撓みにくくなる。したがって、出力波長が面内でばらつくことを抑制できる。
また、突出保持部522Iは、長辺側保持部522A,522Bの一部及び短辺側保持部522C,522Dの一部の少なくともいずれかの部分と連続しているため、可動部521が変位した際、突出保持部522Iが撓むことで、前記いずれかの部分が可動部521を引っ張る力は弱くなる。このため、突出保持部522Iが前記いずれかの部分に連続していない場合と比べて、可動部521の角部が保持部によって引っ張られる力を弱くすることができ、可動部521がより撓みにくくなる。
また、突出保持部522Iは、角保持部522F〜522Hの外周縁から、可動部521から遠ざかる方向に突出している。このため、例えば、突出保持部が、角保持部522F〜522Hの外周縁から可動部521に近づく方向に突出する場合のように、可動部521の角部を、突出保持部に応じた形状とする必要もない。よって、そのために矩形の反射膜に対して必要以上に可動部を大きくする必要もない。
その他、第一〜第三実施形態と同様の構成により、同様の作用効果を得ることができる。
第五実施形態の波長可変干渉フィルターは、第四実施形態の波長可変干渉フィルターに対して、突出保持部の位置及び形状が異なっている点で相違する。その他の構成は、第四実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。
本実施形態においても、第四実施形態と同様に、可動部521の角部が保持部によって引っ張られる力を弱くすることができ、可動部521が撓みにくくなる。また、例えば、突出保持部が、角保持部522F〜522Hの外周縁から可動部521に近づく方向に突出する場合のように、可動部521の角部を、突出保持部に応じた形状とする必要もない。よって、そのために矩形の反射膜に対して必要以上に可動部を大きくする必要もない。
その他、第一〜第三実施形態と同様の構成により、同様の作用効果を得ることができる。
第六実施形態の波長可変干渉フィルターは、第四及び第五実施形態の波長可変干渉フィルターに対して、突出保持部の位置及び形状が異なっている点で相違する。その他の構成は、第四及び第五実施形態の波長可変干渉フィルターと同じである。
図示は省略するが、可動基板52Eの保持部は、同様に、角保持部522F〜522Hから突出した突出保持部522Kも備えている。
本実施形態においても、第四及び第五実施形態と同様に、可動部521の角部が保持部によって引っ張られる力を弱くすることができ、可動部521が撓みにくくなる。
その他、第一〜第三実施形態と同様の構成により、同様の作用効果を得ることができる。
次に、本発明に係る第七実施形態について説明する。
第七実施形態では、上記第一〜第六実施形態において説明した波長可変干渉フィルターが組み込まれた分光器の一例を図面に基づいて説明する。ここでは、各実施形態の波長可変干渉フィルターを代表して、第一実施形態の波長可変干渉フィルター5が組み込まれた例を説明する。
図9は、分光器17の概略構成を示す断面図である。
分光器17は、本発明における光学モジュールであり、図9に示すように、光源部171と、光学フィルターデバイス172、受光部173と、導光部174と、筐体175と、を備えている。
この分光器17は、光源部171から測定対象A上の測定位置Rに照明光を照射し、測定位置Rで反射された光成分を、導光部174により光学フィルターデバイス172に入射させる。そして、光学フィルターデバイス172は、この反射光から所定波長の光を出射(透過)させて、受光部173により受光させる。また、光学フィルターデバイス172は、図示しない制御ユニットの制御に基づいて、透過波長を選択可能であり、可視光における各波長の光の光量を測定することで、測定対象A上の測定位置Rの分光測定が可能となる。
光源部171は、光源171Aと、集光部171Bとを備える。この光源部171は、光源171Aから出射された光を測定対象Aの測定位置R内に、測定対象Aの表面に対する法線方向から照射する。
光源171Aとしては、可視光域における各波長の光を出射可能な光源が好ましい。このような光源171Aとして、例えばハロゲンランプやキセノンランプ、白色LED等を例示でき、特に、限られたスペース内で容易に設置可能な白色LEDが好ましい。集光部171Bは、例えば集光レンズ等により構成され、光源171Aからの光を測定位置Rに集光させる。なお、図9においては、集光部171Bでは、1つのレンズ(集光レンズ)のみを表示するが、複数のレンズを組み合わせて構成されていてもよい。
光学フィルターデバイス172は、筐体6と、筐体6の内部に収納された波長可変干渉フィルター5とを備えている。筐体6は、内部に収容空間を有し、この収容空間内に波長可変干渉フィルター5が収納されている。また、筐体6は、波長可変干渉フィルターの固定引出電極563、可動引出電極564、第一検出電極541、及び第二検出電極551に接続された端子部を有し、当該端子部が制御ユニットに接続されている。そして、制御ユニットからの指令信号に基づいて、波長可変干渉フィルター5の静電アクチュエーター56に所定の電圧が印加され、これにより、波長可変干渉フィルター5から印加電圧に応じた波長の光が出射される。また、第一検出電極541及び第二検出電極551からの信号に基づいて、反射膜54,55の間のギャップ寸法に応じた静電容量が検出される。
受光部173は、図9に示すように、波長可変干渉フィルター5の光軸上に配置され、当該波長可変干渉フィルター5を透過した光を受光する。そして、受光部173は、制御ユニットの制御に基づいて、受光量に応じた検出信号(電流値)を出力する。なお、受光部173により出力された検出信号は、I−V変換器(図示略)、増幅器(図示略)、及びAD変換器(図示略)を介して制御ユニットに入力される。
導光部174は、反射鏡174Aと、バンドパスフィルター174Bとを備えている。
この導光部174は、測定位置Rで、測定対象Aの表面に対して45°で反射された光を反射鏡174Aにより、波長可変干渉フィルター5の光軸上に反射させる。バンドパスフィルター174Bは、可視光域(例えば380nm〜720nm)の光を透過させ、紫外光及び赤外光の光をカットする。これにより、波長可変干渉フィルター5には、可視光域の光が入射されることになり、受光部173において、可視光域における波長可変干渉フィルター5により選択された波長の光が受光される。
本実施形態の分光器17は、上記第一〜第六実施形態にて説明した波長可変干渉フィルターと、波長可変干渉フィルターを透過した光を受光する受光部173とを備えている。
ここで、波長可変干渉フィルターは、上述のように、ギャップGのギャップ寸法を制御した際のばらつきを低減でき、高い分光精度で所望波長の光を透過させることが可能である。よって、受光部173により当該光を受光することで、測定対象に対する分光測定を高精度に実施できる。
なお、本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、短辺側保持部522C,522Dの厚み方向の寸法を、長辺側保持部522A,522Bの厚み方向の寸法よりも小さくすることで、短辺側保持部522C,522Dの剛性を、長辺側保持部522A,522Bの剛性より低くしてもよい。
例えば、長辺側保持部522A,522Bの厚み方向の寸法を、長辺方向における両端部から中心に向かって徐々に大きくすることで、長辺側保持部522A,522Bの剛性を、フィルター中心点Oからの距離が長くなるにしたがって低くしてもよい。
また、長辺側保持部522A,522Bに穴H1を設け、単位面積当たりの穴H1の開口面積を、長辺方向における両端部から中心に向かって徐々に小さくすることで、長辺側保持部522A,522Bの剛性を、フィルター中心点Oからの距離が長くなるにしたがって低くしてもよい。
例えば、短辺側保持部522C,522Dの厚み方向の寸法を、短辺方向における両端部から中心に向かって徐々に大きくすることで、短辺側保持部522C,522Dの剛性を、フィルター中心点Oからの距離が長くなるにしたがって低くしてもよい。
また、短辺側保持部522C,522Dに穴H1を設け、単位面積当たりの穴H1の開口面積を、短辺方向における両端部から中心に向かって徐々に小さくすることで、短辺側保持部522C,522Dの剛性を、フィルター中心点Oからの距離が長くなるにしたがって低くしてもよい。
例えば、図11は、第五実施形態の保持部に対して、角を丸めた形状を示す。また、図12は、第六実施形態の保持部に対して、角を丸めた形状を示す。
このように、角を丸めることで、保持部の一部に応力が集中することを抑制できる。
なお、可動基板をエッチングして、厚み方向の寸法が可動部521よりも小さい保持部を形成する場合、エッチングのマスクパターンの形状によって、角が丸められた保持部を形成できる。
可動部521が細長い形状の場合、保持部において、可動部521の短軸に沿った短軸側保持部の剛性を、可動部521の長軸に沿った長軸側保持部の剛性よりも低くすることで、可動部521の長軸方向の撓み量と短軸方向の撓み量との差を低減できる。
また、可動部521が正方形状の場合、角保持部522E〜522Hに、突出保持部を設けることで、可動部521を撓みにくくできる。
Claims (9)
- 第一反射膜が設けられた第一基板と、
前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、
前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、長辺及び短辺を有し、
前記保持部は、前記長辺に沿って設けられる長辺側保持部と、前記短辺に沿って設けられる短辺側保持部とを有し、
前記短辺側保持部の厚さが前記長辺側保持部の厚さよりも小さく、前記短辺側保持部の剛性は、前記長辺側保持部の剛性よりも低い
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。 - 第一反射膜が設けられた第一基板と、
前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、
前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、長辺及び短辺を有し、
前記保持部は、前記長辺に沿って設けられる長辺側保持部と、前記短辺に沿って設けられる短辺側保持部とを有し、
前記短辺側保持部の前記長辺に沿った方向の長さが前記長辺側保持部の前記短辺に沿った方向の長さよりも大きく、前記短辺側保持部の剛性は、前記長辺側保持部の剛性よりも低い
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。 - 第一反射膜が設けられた第一基板と、
前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、
前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、長辺及び短辺を有し、
前記保持部は、前記長辺に沿って設けられる長辺側保持部と、前記短辺に沿って設けられる短辺側保持部とを有し、
前記保持部には複数の穴が形成され、
前記短辺側保持部における単位面積当たりの前記穴の開口面積が、前記長辺側保持部における前記開口面積よりも大きく、前記短辺側保持部の剛性は、前記長辺側保持部の剛性よりも低い
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。 - 請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記長辺側保持部は、前記長辺に沿った方向において、前記可動部の中心からの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されている
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。 - 請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記短辺側保持部は、前記短辺に沿った方向において、前記可動部の中心からの距離が長くなるにしたがって、剛性が低くなるように構成されている
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。 - 請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記保持部は、前記平面視において、前記長辺側保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記長辺に沿った一対の線と、前記短辺側保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記短辺に沿った一対の線とで囲まれる角保持部を備え、
前記角保持部は、前記長辺側保持部及び前記短辺側保持部よりも剛性が低い
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。 - 第一反射膜が設けられた第一基板と、
前記第一反射膜に対向する第二反射膜が設けられた可動部、及び、前記可動部の外周を囲み、前記可動部を前記第二反射膜の厚み方向に変位可能に保持する保持部を備えた第二基板と、を備え、
前記可動部は、厚み方向から見た平面視において、第一方向に沿った第一辺、及び、前
記第一方向と交差する第二方向に沿った第二辺を有し、
前記保持部は、
前記第一辺に沿って設けられる第一保持部と、
前記第二辺に沿って設けられる第二保持部と、
前記平面視において、前記第一保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記第一方向に沿った一対の線と、前記第二保持部の前記可動部側の外周縁及び前記可動部とは反対側の外周縁と接する前記第二方向に沿った一対の線とで囲まれる角保持部と、
前記角保持部の外周縁の一部から突出する突出保持部と、
を備える
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。 - 請求項7に記載の波長可変干渉フィルターにおいて、
前記突出保持部は、前記第一保持部の一部及び前記第二保持部の一部の少なくともいずれかの部分と連続し、かつ、前記可動部から遠ざかる方向に突出している
ことを特徴とする波長可変干渉フィルター。 - 請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の波長可変干渉フィルターと、
前記波長可変干渉フィルターを透過した光を受光する受光部と、を備える
ことを特徴とする光学モジュール。
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