CN114981701B - 一种可调光学滤波器件 - Google Patents
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Abstract
公开了一种可调光学滤波器件，器件包括设置有第一镜面的第一玻璃薄膜和设置有第二镜面的第二玻璃薄膜，第一玻璃薄膜和第二玻璃薄膜具有镜面的表面外围通过键合物相互键合以在镜面之间形成腔体，第一玻璃薄膜或第二玻璃薄膜上设置有用于控制第一玻璃薄膜和/或第二玻璃薄膜相对位移的驱动装置。该可调光学滤波器件与现有的滤光器件相比具有更好的光学滤波性能，同时具有体积小、驱动电压更低的性能，可将其应用于尺寸受限的器件上，如微型光谱仪、小型甚至迷你高光谱相机或手机上。
Description
技术领域
本发明涉及一种半导体器件领域，并且特别涉及一种可调光学滤波器件。
背景技术
在可见光-近红外范围的FPI器件通常使用光学玻璃(例如合成石英玻璃)作为衬底，通过光学和半导体加工形成镜面芯片，然后将两个镜面芯片通外置压电执行器(piezoactuator)组装成FPI模组。由此形成的FPI模组的体积比较大，驱动电压高，不适合应用在空间尺寸极为受限的器件，例如手持式高光谱相机。
另一方面，目前的微机械加工(micromachining)形成的FPI器件主要是体工艺型和表面型。表面工艺型器件由悬空的薄膜形成可动的镜面。体工艺型器件由具有悬臂梁结构的衬底形成可动镜面。
由于在可见光-近红外范围的FPI器件通常使用光学玻璃(例如合成石英玻璃)作为衬底，导致对衬底的加工非常困难。通常玻璃只能用化学溶液(如氢氟酸)来刻蚀。这样刻蚀速度很慢(小于1微米/分钟)，另外可加工的线条尺寸受到衬底厚度的限制(一般是200-700微米)无法做到精细加工。在衬底上加工悬臂梁会增加器件设计和加工的复杂度从而增加成本。体工艺器件中弹性结构(spring)和镜面由同一个衬底提供，导致了镜面受到弹性结构的影响存在本征的应力和形变。由于悬臂梁结构要占用很大的芯片面积，也限制了镜面本身的尺寸。
发明内容
为了解决现有技术存在的问题，本发明提出了一种可调光学滤波器件，以试图解决现有可调滤光器件的体积大、驱动电容高以及衬底的加工工艺难的问题。
本发明提出了一种可调光学滤波器件，该器件包括设置有第一镜面的第一玻璃薄膜和设置有第二镜面的第二玻璃薄膜，第一玻璃薄膜和第二玻璃薄膜具有镜面的表面外围通过键合物相互键合以在镜面之间形成腔体，第一玻璃薄膜或第二玻璃薄膜上设置有用于控制第一玻璃薄膜和/或第二玻璃薄膜间相对位移的驱动装置。通过驱动装置使得第一玻璃薄膜和/或第二玻璃薄膜产生相对位移来调节腔体之间的间隔从而实现可调的光学滤波功能，该可调光学滤波器件的制造工艺简单、成本较低，可应用于手持式高光谱相机或手机等小尺寸的光学器件上。
在一个优选的实施例中，第一玻璃薄膜与镜面相背的表面中部设置有由硅形成的环形重物。凭借环形重物的设置可以提高第一玻璃薄膜工作时的平整度。
在一个优选的实施例中，第二玻璃薄膜与镜面相背的表面的外围设置有由硅形成的支撑构件。支撑构件一般是玻璃薄膜的制造过程中使用的基板，而由该基板形成的支撑构件后续可以形成对第二玻璃薄膜的支撑。
在一个优选的实施例中，第一镜面与第二镜面互相平行且在腔体内形成反射区，支撑构件覆盖反射区之外的区域。支撑结构可以阻挡相应光线的孔径，提高滤波器件的滤波性能。
在一个优选的实施例中，第一玻璃薄膜的厚度在10-200微米之间。使用该厚度范围的第一玻璃薄膜一方面便于进行微加工，另一方面作为可动部件效果更好。
在一个优选的实施例中，第二玻璃薄膜的厚度在200微米以上。使用该厚度范围的第一玻璃薄膜作为固定部分可以提高法布里-珀罗腔的稳定性。
在一个优选的实施例中，第一玻璃薄膜和第二玻璃薄膜的厚度相同，且都在10-200微米之间。凭借该厚度的设置，使得第一玻璃薄膜和第二玻璃薄膜可同时作为可动部件，以此来调节第一玻璃薄膜和第二玻璃薄膜之间的间隙。
在一个优选的实施例中，键合的方式包括共晶键合、聚合物或阳极键合。凭借键合的方式可将两玻璃薄膜结构紧密结合，保证可调光学滤波器件的稳定性。
在一个优选的实施例中，第一镜面和第二镜面的材质包括硅、氧化硅或其组合和银。镜面材质的多样化可根据实际的需求选择合适的材质。
在一个优选的实施例中，驱动装置的驱动方式包括电容驱动或压电薄膜结构的执行器驱动。凭借电容驱动或压电薄膜结构的执行器驱动控制第一玻璃薄膜和/或第二玻璃薄膜的相对位移，进而实现可调光学滤波的效果。
在一个优选的实施例中，第一玻璃薄膜与镜面相背的表面设置有外围硅层，驱动装置包括位于外围硅层的表面上的第一电极和位于第一镜面上的与第一电极相对的第二电极。凭借外围硅层表面的第一电极和第二电极之间形成的电容结构，可以驱动第一玻璃薄膜位移以调节腔体的间隙。
在一个优选的实施例中，第二玻璃薄膜具有大于第一玻璃薄膜的横向外延，驱动装置包括设置于第一玻璃薄膜与键合物之间的第一电极以及设置于横向外延与键合物之间的与第一电极相对的第二电极。凭借第二玻璃薄膜上的第一电极和第二电极之间形成的电容结构，可以驱动第一玻璃薄膜和/或第二玻璃薄膜的相对位移。
在一个优选的实施例中，驱动装置包括设置于第一玻璃薄膜与镜面相背的表面的外围的压电薄膜结构。凭借设置于第一玻璃薄膜上的压电薄膜结构，可以使第一玻璃薄膜产生形变，进而使第一玻璃薄膜产生位移。
在一个优选的实施例中，压电薄膜结构设置于第一玻璃薄膜上的方式包括溅射或溶胶凝胶。
在一个优选的实施例中，压电薄膜结构包括锆钛酸铅薄膜、氮化铝薄膜或氧化锌薄膜。压电薄膜结构的材质多样性可根据实际的需求选择合适的材质。
本发明的可调光学滤波器件，以玻璃薄膜分别作为可动薄膜结构，并将其分别与硅通过键合和研磨的方式形成特定厚度，并通过微加工的方法将光学镜面沉积在玻璃薄膜上，将玻璃薄膜沉积有光学镜面的一侧键合形成法伯腔结构，并利用设置于玻璃薄膜结构上的驱动装置实现可动薄膜结构的位移，进而调节法布里-珀罗腔的间隙。基于玻璃薄膜与硅结构的结合可以增加光学滤波器件结构的灵活性，可通过调节环形重物的设计使其适用于各种不同大小的器件，同时该可调光学滤波器件与现有的滤光器件相比具有更好的光学滤波性能，且具有体积小、驱动电压更低的性能，加工工艺简单，成本低，能够应用于手机、微型光谱仪等在空间尺寸极为受限的器件上。
附图说明
包括附图以提供对实施例的进一步理解并且附图被并入本说明书中并且构成本说明书的一部分。附图图示了实施例并且与描述一起用于解释本发明的原理。将容易认识到其它实施例和实施例的很多预期优点，因为通过引用以下详细描述，它们变得被更好地理解。附图的元件不一定是相互按照比例的。同样的附图标记指代对应的类似部件。
图1是根据本发明的第一个实施例的可调光学滤波器件的截面图；
图2是根据本发明的第二个实施例的可调光学滤波器件的截面图；
图3是根据本发明的第二个实施例的可调光学滤波器件的俯视图；
图4是根据本发明的第三个实施例的可调光学滤波器件的截面图；
图5是根据本发明的第四个实施例的可调光学滤波器件的截面图。
具体实施方式
在以下详细描述中，参考附图，该附图形成详细描述的一部分，并且通过其中可实践本发明的说明性具体实施例来示出。对此，参考描述的图的取向来使用方向术语，例如“顶”、“底”、“左”、“右”、“上”、“下”等。因为实施例的部件可被定位于若干不同取向中，为了图示的目的使用方向术语并且方向术语绝非限制。应当理解的是，可以利用其他实施例或可以做出逻辑改变，而不背离本发明的范围。因此以下详细描述不应当在限制的意义上被采用，并且本发明的范围由所附权利要求来限定。
图1示出了根据本发明的第一个实施例的可调光学滤波器件的截面图。如图1所示，该可调光学滤波器件包括第一玻璃薄膜104和第二玻璃薄膜108，其中第一玻璃薄膜104被设置为可位移的衬底结构，第二玻璃薄膜108被设置为固定的衬底结构。第一玻璃薄膜104与表面硅层103通过键合的方式紧密结合，并被研磨形成特定厚度的合成晶圆。第二玻璃薄膜108与另一表面硅层109通过键合的方式紧密结合，同样经过研磨形成所需厚度的合成晶圆。利用微加工的方法将光学镜面105和光学镜面107分别沉积在第一玻璃薄膜104和第二玻璃薄膜108上并刻蚀成相应的图案，将第一玻璃薄膜104和第二玻璃薄膜108有镜面的一侧表面外围通过键合物106相互键合形成法布里-珀罗腔，在表面硅层103的外表面设置有第一电极102，第一电极102与光学镜面105可形成用于驱动第一玻璃薄膜104位移的驱动电容，通过驱动电容驱使第一玻璃薄膜104位移调节法布里-珀罗腔的间隙进而实现可调光学滤波的功能，加工成本低且加工工艺更为简单，能够适用于手机等空间尺寸受限的器件。
在优选的实施例中，第一玻璃薄膜104的厚度在10-200微米之间，第二玻璃薄膜108的厚度在200微米以上，该厚度范围值的选定，可保证第一玻璃薄膜104的可位移性能和第二玻璃薄膜108的稳定性，同时更加便于进行键合和研磨等工艺。
在优选的实施例中，第一玻璃薄膜104和第二玻璃薄膜108键合后，光学镜面105与光学镜面107互相平行且在法布里-珀罗腔内形成反射区，光学镜面105和光学镜面107的材质为金属镜面，材质可以是银或其他金属，金属材质的镜面结构可以通过导电性良好的表面硅层103与第一电极102构成用于驱动第一玻璃薄膜104位移的驱动电容，镜面材质的可选择性根据实际的需要选择合适的材质作为电极，亦可通过适当掺杂硅薄膜来实现一定的导电性，进而作为电极使用，第一电极102设置于表面硅层103的外表面可以便于器件的后期封装连接。
在优选的实施例中，利用等离子刻蚀的方法将第一玻璃薄膜104上的表面硅层103部分去除，形成用于加强第一玻璃薄膜104的平整度的环形重物101，应当认识到，环形重物101的形状不限于圆形，也可以是椭圆、矩形等其他规则或不规则形状，刻蚀方式也不限于等离子刻蚀，也可以是化学试剂刻蚀，视具体的使用场景选择合适的刻蚀方式刻蚀所需的形状。
在优选的实施例中，利用等离子刻蚀的方式将第二玻璃薄膜108上的表面硅层109部分去除，形成支撑结构，该支撑结构覆盖了第二玻璃薄膜108上的光学镜面107的反射区之外的区域，用于阻挡相应光线的孔径。
在具体的实施例中，第一玻璃薄膜104和第二玻璃薄膜108之间的键合方式具体可以为共晶键合、聚合物或阳极键合的方式。共晶键合是采用金属作为过渡层从而实现硅-硅之间的键合，对表面要求不高，键合温度低、键合强度高；阳极键合具有键合温度低，与其他工艺相容性好，键合强度及稳定性高等优点，可用于硅/硅基片之间的键合、非硅材料与硅材料、以及玻璃、金属、半导体、陶瓷之间的互相键合。可针对实际的键合的表面工艺以及材料选择合适的键合方式实现两玻璃薄膜之间的键合。
图2示出了根据本发明的第二个具体实施例的可调光学滤波器件的截面图。如图2所示，该可调光学滤波器件包括第一玻璃薄膜203和第二玻璃薄膜208，其中第一玻璃薄膜203被设置为可位移的衬底结构，第二玻璃薄膜208被设置为固定的衬底结构。第一玻璃薄膜203与表面硅层202通过键合的方式紧密结合，并被研磨形成特定厚度的合成晶圆。第二玻璃薄膜208与另一表面硅层209通过键合的方式紧密结合，同样经过研磨形成所需厚度的合成晶圆。利用微加工的方法将光学镜面204和光学镜面206分别沉积在第一玻璃薄膜203和第二玻璃薄膜208上并刻蚀成相应的图案，将第一玻璃薄膜203和第二玻璃薄膜208有镜面的一侧表面外围通过键合物205相互键合形成法布里-珀罗腔，第二玻璃薄膜208具有比第一玻璃薄膜203更大的外延，第一电极207设置于第二玻璃薄膜208的光学镜面206一侧的横向外延上，第一电极207与光学镜面204可形成用于驱动第一玻璃薄膜203位移的驱动电容，通过驱动电容驱使第一玻璃薄膜203位移调节法布里-珀罗腔的间隙进而实现可调光学滤波的功能，结构简单体积小，加工工艺简单成本低，能够适用于手机等空间尺寸受限的器件。
在优选的实施例中，第一玻璃薄膜203的厚度在10-200微米之间，第二玻璃薄膜208的厚度在200微米以上，该厚度范围值的选定，可保证第一玻璃薄膜203的可位移性能和第二玻璃薄膜208的稳定性，同时更加便于进行键合和研磨等工艺。
在优选的实施例中，第一玻璃薄膜203和第二玻璃薄膜208键合后，光学镜面204与光学镜面206互相平行且在法布里-珀罗腔内形成反射区，光学镜面204和光学镜面206的材质为金属镜面，材质可以是硅、氧化硅或其组合和银，金属材质的镜面结构可以与第一电极207构成用于驱动第一玻璃薄膜203位移的驱动电容，亦可通过适当掺杂硅、氧化硅薄膜来实现一定的导电性，进而作为电极使用，镜面材质的可选择性根据实际的需要选择合适的材质作为电极。
继续参考图3，图3示出了本发明的第二个实施例的可调光学滤波器件的俯视图，如图3所示，第一电极207设置于第二玻璃薄膜208的外延表面，保证第二玻璃薄膜208与第一玻璃薄膜203形成法布里-珀罗腔后第一电极207不被第一玻璃薄膜203遮挡，便于后期封装处理。
在优选的实施例中，利用等离子刻蚀的方法将第一玻璃薄膜203上的表面硅层202部分去除，形成用于加强第一玻璃薄膜203的平整度的环形重物201，应当认识到，环形重物201的形状不限于如图所示的圆形，也可以是椭圆、矩形等其他规则或不规则形状，刻蚀方式也不限于等离子刻蚀，也可以是化学试剂刻蚀，视具体的使用场景选择合适的刻蚀方式刻蚀所需的形状。
在优选的实施例中，利用等离子刻蚀的方式将第二玻璃薄膜208上的表面硅层209部分去除，形成支撑结构，该支撑结构覆盖了第二玻璃薄膜208上的光学镜面206的反射区之外的区域，用于阻挡相应光线的孔径。
在具体的实施例中，第一玻璃薄膜203和第二玻璃薄膜208之间的键合方式具体可以为共晶键合、聚合物或阳极键合的方式。共晶键合是采用金属作为过渡层从而实现硅-硅之间的键合，对表面要求不高，键合温度低、键合强度高；阳极键合具有键合温度低，与其他工艺相容性好，键合强度及稳定性高等优点，可用于硅/硅基片之间的键合、非硅材料与硅材料、以及玻璃、金属、半导体、陶瓷之间的互相键合。可针对实际的键合的表面工艺以及材料选择合适的键合方式实现两玻璃薄膜之间的键合。
继续参考图4，如图4所示，该可调光学滤波器件包括第一玻璃薄膜403和第二玻璃薄膜408，其中第一玻璃薄膜403和第二玻璃薄膜408均被设置为可位移的衬底结构。第一玻璃薄膜403与表面硅层402通过键合的方式紧密结合，并被研磨形成特定厚度的合成晶圆。第二玻璃薄膜408与另一表面硅层409通过键合的方式紧密结合，同样经过研磨形成所需厚度的合成晶圆。利用微加工的方法将光学镜面404和光学镜面406分别沉积在第一玻璃薄膜403和第二玻璃薄膜408上并刻蚀成相应的图案，将第一玻璃薄膜403和第二玻璃薄膜408有镜面的一侧表面外围通过键合物405相互键合形成法布里-珀罗腔，第二玻璃薄膜408具有比第一玻璃薄膜403更大的外延，第一电极407设置于第二玻璃薄膜408的光学镜面406一侧的外延上，第一电极407与光学镜面404可形成用于驱动第一玻璃薄膜403和第二玻璃薄膜408相对位移的驱动电容，通过驱动电容驱使第一玻璃薄膜403位移调节法布里-珀罗腔的间隙进而实现可调光学滤波的功能，结构简单体积小，加工工艺简单成本低，能够适用于手机等空间尺寸受限的器件。
在优选的实施例中，第一玻璃薄膜403和第二玻璃薄膜408的厚度相同且都在10-200微米之间，该厚度范围值的选定，可保证第一玻璃薄膜403和第二玻璃薄膜408的可位移性能，同时更加便于进行键合和研磨等工艺。
在优选的实施例中，第一玻璃薄膜403和第二玻璃薄膜408键合后，光学镜面404与光学镜面406互相平行且在法布里-珀罗腔内形成反射区，光学镜面404和光学镜面406的材质为金属镜面，材质可以是硅、氧化硅或其组合和银，金属材质的镜面结构可以与第一电极407构成用于驱动第一玻璃薄膜403位移的驱动电容，镜面材质的可选择性根据实际的需要选择合适的材质作为电极，亦可通过适当掺杂硅、氧化硅薄膜来实现一定的导电性，进而作为电极使用。
在优选的实施例中，第一电极407设置于第二玻璃薄膜408的外延表面，保证第二玻璃薄膜408与第一玻璃薄膜403形成法布里-珀罗腔后第一电极407不被第一玻璃薄膜403遮挡，便于后期封装处理。
在优选的实施例中，利用等离子刻蚀的方法将第一玻璃薄膜403上的表面硅层402部分去除，形成用于加强第一玻璃薄膜403的平整度的环形重物401，同样利用等离子刻蚀的方法将第二玻璃薄膜408上的表面硅层409部分去除，形成用于加强第二玻璃薄膜408的平整度的环形重物410，应当认识到，环形重物401和410的形状不限于如图所示的圆形，也可以是椭圆、矩形等其他规则或不规则形状，刻蚀方式也不限于等离子刻蚀，也可以是化学试剂刻蚀，视具体的使用场景选择合适的刻蚀方式刻蚀所需的形状。
在具体的实施例中，第一玻璃薄膜403和第二玻璃薄膜408之间的键合方式具体可以为共晶键合、聚合物或阳极键合的方式。共晶键合是采用金属作为过渡层从而实现硅-硅之间的键合，对表面要求不高，键合温度低、键合强度高；阳极键合具有键合温度低，与其他工艺相容性好，键合强度及稳定性高等优点，可用于硅/硅基片之间的键合、非硅材料与硅材料、以及玻璃、金属、半导体、陶瓷之间的互相键合。可针对实际的键合的表面工艺以及材料选择合适的键合方式实现两玻璃薄膜之间的键合。
继续参考图5，图5示出了根据本发明的第三个实施例的可调光学滤波器件的截面图。如图5所示，该可调光学滤波器件包括第一玻璃薄膜502和第二玻璃薄膜506，其中第一玻璃薄膜502被设置为可位移的衬底结构，第二玻璃薄膜506被设置为固定的衬底结构。第二玻璃薄膜506与表面硅层507通过键合的方式紧密结合，经过研磨形成所需厚度的合成晶圆。利用微加工的方法将光学镜面504和光学镜面505分别沉积在第一玻璃薄膜502和第二玻璃薄膜506上并刻蚀成相应的图案，将第一玻璃薄膜502和第二玻璃薄膜506有镜面的一侧表面外围通过键合物503相互键合形成法布里-珀罗腔，在第一玻璃薄膜502与光学镜面504相背的表面两侧设置有压电薄膜结构501，利用压电薄膜结构501可以驱使第一玻璃薄膜502位移调节法布里-珀罗腔的间隙进而实现可调光学滤波的功能，体积小巧结构简单，加工成本低且加工工艺更为简单，能够适用于手机、微型光谱仪等空间尺寸受限的器件。
在具体的实施例中，压电薄膜结构501具体包括压电薄膜5012和设置于压电薄膜5012两表面的电极5011和电极5013，电极5011和电极5013为金属电极，材质通常采用铂金等金属材料。压电薄膜的材料包括锆钛酸铅薄膜、氮化铝薄膜或氧化锌薄膜。锆钛酸铅薄膜作为铁电薄膜与非铁电薄膜(如氮化铝薄膜或氧化锌薄膜)相比具有更高的压电、介电和热释放性能，在实际应用场景中可根据具体的应用场合选择满足各参数要求的压电薄膜材料，以满足不同条件下的使用需求。
在优选的实施例中，压电薄膜结构501通过溅射或溶胶凝胶的形式沉积在第一玻璃薄膜502的表面，应当认识到，还可以用除了溅射或溶胶凝胶的方式之外的形式将压电薄膜结构501沉积在第一玻璃薄膜502的表面，例如键合，同样可以实现本发明的技术效果，具体可根据实际应用的压电薄膜结构的材质和衬底的材质进行沉积工艺的选择。
在优选的实施例中，第一玻璃薄膜502的厚度在10-200微米之间，第二玻璃薄膜506的厚度在200微米以上，该厚度范围值的选定，可保证第一玻璃薄膜502的可位移性能和第二玻璃薄膜506的稳定性，同时更加便于进行键合和研磨等工艺。
在优选的实施例中，第一玻璃薄膜502和第二玻璃薄膜506键合后，光学镜面504与光学镜面505互相平行且在法布里-珀罗腔内形成反射区，光学镜面504和光学镜面505的材质为金属镜面，金属镜面材质可以是硅、氧化硅或其组合和银。
在优选的实施例中，利用等离子刻蚀的方式将第二玻璃薄膜506上的表面硅层507部分去除，形成支撑结构，该支撑结构覆盖了第二玻璃薄膜506上的光学镜面505的反射区之外的区域，用于阻挡相应光线的孔径。
在具体的实施例中，第一玻璃薄膜502和第二玻璃薄膜506之间的键合方式具体可以为共晶键合、聚合物或阳极键合的方式。共晶键合是采用金属作为过渡层从而实现硅-硅之间的键合，对表面要求不高，键合温度低、键合强度高；阳极键合具有键合温度低，与其他工艺相容性好，键合强度及稳定性高等优点，可用于硅/硅基片之间的键合、非硅材料与硅材料、以及玻璃、金属、半导体、陶瓷之间的互相键合。可针对实际的键合的表面工艺以及材料选择合适的键合方式实现两玻璃薄膜之间的键合。
本发明的可调光学滤波器件以玻璃薄膜作为衬底，在其一表面通过微加工的方式沉积光学镜面，另一表面与硅键合并研磨形成特定厚度的合成晶圆结构，根据使用需求将光学镜面和硅刻蚀为相应的图案或结构，并将两玻璃薄膜镜面的一侧键合形成法布里-珀罗腔，通过设置于玻璃薄膜上的电极或压电薄膜结构驱动可位移的玻璃薄膜调节法布里-珀罗腔的间隙，进而实现可调光学滤波器件的可调滤波功能，可用利用较低的驱动电压实现对可位移的玻璃薄膜的驱动，并具有体积小的优点，可适用于空间尺寸极为受限的器件。
显然，本领域技术人员在不偏离本发明的精神和范围的情况下可以作出对本发明的实施例的各种修改和改变。以该方式，如果这些修改和改变处于本发明的权利要求及其等同形式的范围内，则本发明还旨在涵盖这些修改和改变。词语“包括”不排除未在权利要求中列出的其它元件或步骤的存在。某些措施记载在相互不同的从属权利要求中的简单事实不表明这些措施的组合不能被用于获利。权利要求中的任何附图标记不应当被认为限制范围。
Claims (15)
1.一种可调光学滤波器件，其特征在于，所述器件包括设置有第一镜面的第一玻璃薄膜和设置有第二镜面的第二玻璃薄膜，所述第一玻璃薄膜和所述第二玻璃薄膜具有镜面的表面外围通过键合物相互键合以在所述镜面之间形成腔体，所述第一玻璃薄膜或所述第二玻璃薄膜上设置有用于控制所述第一玻璃薄膜和/或所述第二玻璃薄膜相对位移的驱动装置，所述第一玻璃薄膜与表面硅层通过键合的方式紧密结合，所述第一玻璃薄膜与镜面相背的表面中部设置有由硅形成的环形重物，所述环形重物基于对所述第一玻璃薄膜上的表面硅层部分刻蚀去除获取。
2.根据权利要求1所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述第二玻璃薄膜与镜面相背的表面的外围设置有由硅形成支撑构件。
3.根据权利要求2所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述第一镜面与所述第二镜面互相平行且在所述腔体内形成反射区，所述支撑构件覆盖所述反射区之外的区域。
4.根据权利要求1所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述第一玻璃薄膜的厚度在10-200微米之间。
5.根据权利要求1所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述第二玻璃薄膜的厚度在200微米以上。
6.根据权利要求1所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述第一玻璃薄膜和所述第二玻璃薄膜具有相同的厚度，且厚度在10-200微米之间。
7.根据权利要求6所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述第一玻璃薄膜和所述第二玻璃薄膜与镜面相背的表面中部和外围分别设置有由硅形成的环形重物和支撑构件。
8.根据权利要求1所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述键合的方式包括共晶键合、聚合物或阳极键合。
9.根据权利要求1所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述第一镜面和所述第二镜面的材质包括硅、氧化硅或其组合或银。
10.根据权利要求1所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述驱动装置的驱动方式包括电容驱动和压电薄膜结构的执行器驱动。
11.根据权利要求1所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述第一玻璃薄膜与镜面相背的表面设置有外围硅层，所述驱动装置包括位于所述外围硅层的表面上的第一电极和位于所述第一镜面上的与所述第一电极相对的第二电极。
12.根据权利要求1或6所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述第二玻璃薄膜具有大于所述第一玻璃薄膜的横向外延，所述驱动装置包括设置于所述第一玻璃薄膜与所述键合物之间的第一电极以及设置于所述横向外延与所述键合物之间的与所述第一电极相对的第二电极。
13.根据权利要求1所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述驱动装置包括设置于所述第一玻璃薄膜与镜面相背的表面的外围的压电薄膜结构。
14.根据权利要求13所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述压电薄膜结构设置于所述第一玻璃薄膜上的方式包括溅射或溶胶凝胶。
15.根据权利要求13所述的可调光学滤波器件，其特征在于，所述压电薄膜结构包括锆钛酸铅薄膜、氮化铝薄膜或氧化锌薄膜。
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