JP6910568B1 - 半導体光集積素子 - Google Patents
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Abstract
Description
大容量の通信データを送信するには、多値変調が可能なコヒーレント位相変調方式の光トランシーバを用いることが有効であり、高速に光変調信号を生成できるマッハツェンダー型の位相変調素子に注目が集まっている。
図1に、実施の形態1による半導体光集積素子100の上面図を示す。
実施の形態1による半導体光集積素子100は、IV族半導体、III−V族化合物半導体、II−VI族化合物半導体、あるいはこれらの混晶からなる半導体で形成された半導体基板10の表面上に、光の強度を増幅する機能を有する第1の光増幅器200および第2の光増幅器201と、光の位相を変化させる機能を有する位相変調器202と、第1の光増幅器200と位相変調器202とを接続し、光を伝搬する機能を有する第1の受動型光導波路203と、位相変調器202と第2の光増幅器201とを接続し、光を伝搬する機能を有する第2の受動型光導波路206とが集積して形成される。
第2の光増幅器201の光導波路長L2を第1の光増幅器200の光導波路長L1より短くする技術的意義については後述する。
すなわち、第1の光増幅器200および第2の光増幅器201の光の伝搬方向と、位相変調器202の光の伝搬方向とは、互いに90°異なる方向となる関係にある。
利得コア層12は、電流を注入することで入力された光を増幅する機能を有する半導体層である。半導体基板10に対して、利得コア層12の上下にそれぞれ設けられた下部クラッド層11および上部クラッド層13は、利得コア層12に光を閉じ込めるため、利得コア層12より低い屈折率の半導体層で構成される。
埋め込み型構造60では、利得コア層12における発熱が電流ブロック層15を介して拡散され、利得コア層12の温度上昇による利得減少を抑制できるため、半導体光集積素子100を高出力化できるという効果を奏する。
例えば、半導体結晶面方位の(100)面を基板面とするInP基板からなる半導体基板10の上に、有機金属気相成長法(Metal Organic Chemical Vapor Deposition: MOCVD)を用いて、下部クラッド層11となる層厚2000nmのn型InP層と、第1の光増幅器200および第2の光増幅器201の利得コア層12として機能する、合計層厚が100nmのAlGaInAsからなる多重量子井戸構造400と、上部クラッド層13の一部となる層厚500nmのp型InP層とをエピタキシャル成長する。
さらに、コンタクト層14上にはTi、Au、Pt、Nb、Niなどの金属で構成される光増幅器用電極16を形成する。
第1の光増幅器200および第2の光増幅器201の形成時にエピタキシャル成長した下部クラッド層11の上に、変調コア層20となる合計層厚が300nmのAlGaInAs(アルミニウムガリウムインジウムヒ素、Aluminium Gallium Indium Arsenide)からなる多重量子井戸構造400と、上部クラッド層21となる層厚1800nmのp型InP層と、コンタクト層22となる層厚300nmのp型InGaAs(インジウムガリウムヒ素、Indium Gallium Arsenide)層をエピタキシャル成長する。
この場合、半導体光集積素子100の内部に、位相変調器202としてマッハツェンダー型変調器を適用することが可能となるため、光トランシーバの小型化に貢献できる。
第1の光増幅器200および第2の光増幅器201の形成時にエピタキシャル成長した下部クラッド層11の上に、光導波路コア層30となる層厚100nmのi型InGaAsP(インジウムガリウムヒ素リン、Indium Gallium Arsenide Phosphide)層と、上部クラッド層31となる層厚2000nmのi型InP層をエピタキシャル成長する。
半導体光集積素子100との相違点は、半導体光集積素子100では、光入力部40と光出力部41は、半導体光集積素子100の同一の側面部、すなわち、第1の端面10aの側に設けられているが、変形例である半導体光集積素子110では、光出力部41は、光入力部40が設けられる第1の端面10aに対向する第2の端面10bの側に設けられる。対向する第2の端面10bには、無反射コーティング膜51が形成されている。無反射コーティング膜51の構成は、上述した無反射コーティング膜50と同一である。その他の構成は半導体光集積素子100と同一である。
実施の形態2による半導体光集積素子150の上面図を図7に、半導体光集積素子150の変形例である半導体光集積素子160の上面図を図8にそれぞれ示す。
Claims (7)
- 半導体基板に入力される信号光を増幅する半導体光集積素子であって、
前記半導体基板の第1の端面に接して配置してあり、前記信号光を入力する光入力部と、
前記半導体基板上に設けられ、前記光入力部に接触し、接触した前記光入力部から入力された前記信号光を光導波路に沿って増幅する第1の光増幅器と、
前記半導体基板上に設けられ、前記第1の光増幅器が増幅した前記信号光を前記光導波路の方向とは異なる光伝搬方向に伝搬する受動型光導波路部と、
前記半導体基板上に設けられ、前記受動型光導波路部が伝搬する前記信号光に位相変調を行う位相変調器と、
前記半導体基板上に設けられ、前記受動型光導波路部が前記光伝搬方向に伝搬し前記位相変調器が前記位相変調を行った前記信号光を前記光伝搬方向とは異なる前記光導波路の方向に沿って増幅する第2の光増幅器と、
前記半導体基板の第1の端面に接して配置してあり、前記第2の光増幅器と接触し、接触した前記第2の光増幅器が前記光伝搬方向とは異なる前記光導波路の方向に沿って増幅した前記信号光を出力する光出力部と、を備え、
前記光出力部と接触する前記第2の光増幅器の光導波路長は、前記第1の光増幅器の光導波路長よりも短いことを特徴とする半導体光集積素子。 - 前記第2の光増幅器の光閉じ込め係数は前記第1の光増幅器の光閉じ込め係数よりも大きく、
前記第1の光増幅器の第1の利得コア層および前記第2の光増幅器の第2の利得コア層はそれぞれ多重量子井戸構造で構成され、かつ、前記第2の利得コア層を構成する多重量子井戸構造の井戸層の総数が前記第1の利得コア層を構成する多重量子井戸構造の井戸層の総数よりも多いことを特徴とする請求項1に記載の半導体光集積素子。 - 前記第1の光増幅器の光導波路の方向は、結晶面方位である[011]面方向軸であり、前記異なる光伝搬方向は、結晶面方位である[0−11]面方向軸であることを特徴とする請求項1または2項に記載の半導体光集積素子。
- 前記第1の光増幅器の光導波路および前記第2の光増幅器の光導波路は、それぞれ、利得コア層の側壁に電流ブロック層が形成される埋め込み型構造であることを特徴とする請求項1から3のいずれか1項に記載の半導体光集積素子。
- 前記第1の端面には、無反射コーティング膜が設けられていることを特徴とする請求項1から4のいずれか1項に記載の半導体光集積素子。
- 第1の端面と前記第1の端面と対向する第2の端面とを有する半導体光集積素子であって、
半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられ、一端が前記第1の端面に接し、前記第1の端面から入力される信号光を光導波路に沿って増幅する第1の光増幅器と、
前記半導体基板上に設けられ、前記第1の光増幅器の他端と接続され、増幅された前記信号光を前記光導波路の方向とは異なる方向に導波する第1の受動型光導波路と、
前記第1の受動型光導波路に設けられ、導波される前記信号光を複数の信号光に分岐する光分岐器と、
前記半導体基板上に設けられ、複数に分岐された前記第1の受動型光導波路とそれぞれ接続され、前記異なる方向に沿って複数の前記信号光を位相変調する位相変調器と、
前記半導体基板上に設けられ、一端が前記位相変調器に接続され、位相変調された前記信号光を前記異なる方向から前記光導波路の方向へと導波する第2の受動型光導波路と、
前記第2の受動型光導波路に設けられ、位相変調された複数の前記信号光を一つの信号光に合成する光合波器と、
前記半導体基板上で、一端が前記第2の受動型光導波路の他端と接続し、他端が前記第1の端面あるいは前記第2の端面のいずれかに接するように設けられ、前記第2の受動型光導波路によって導波された前記信号光を前記光導波路の方向に沿って増幅し、増幅された前記信号光を外部に出力する、光閉じ込め係数が前記第1の光増幅器よりも大きい第2の光増幅器と、を備え、
前記第1の光増幅器の光導波路長と前記第2の光増幅器の光導波路長が同じ長さであり、前記第1の光増幅器の第1の利得コア層および前記第2の光増幅器の第2の利得コア層はそれぞれ多重量子井戸構造で構成され、かつ、前記第2の利得コア層を構成する多重量子井戸構造の井戸層の総数が前記第1の利得コア層を構成する多重量子井戸構造の井戸層の総数よりも多いことを特徴とする半導体光集積素子。 - 第1の端面と前記第1の端面と対向する第2の端面とを有する半導体光集積素子であって、
半導体基板と、
前記半導体基板上に設けられ、一端が前記第1の端面に接し、前記第1の端面から入力される信号光を光導波路に沿って増幅する第1の光増幅器と、
前記半導体基板上に設けられ、前記第1の光増幅器の他端と接続され、増幅された前記信号光を前記光導波路の方向とは異なる方向に導波する第1の受動型光導波路と、
前記第1の受動型光導波路に設けられ、導波される前記信号光を複数の信号光に分岐する光分岐器と、
前記半導体基板上に設けられ、複数に分岐された前記第1の受動型光導波路とそれぞれ接続され、前記異なる方向に沿って複数の前記信号光を位相変調する位相変調器と、
前記半導体基板上に設けられ、一端が前記位相変調器に接続され、位相変調された前記信号光を前記異なる方向から前記光導波路の方向へと導波する第2の受動型光導波路と、
前記第2の受動型光導波路に設けられ、位相変調された複数の前記信号光を一つの信号光に合成する光合波器と、
前記半導体基板上で、一端が前記第2の受動型光導波路の他端と接続し、他端が前記第1の端面あるいは前記第2の端面のいずれかに接するように設けられ、前記第2の受動型光導波路によって導波された前記信号光を前記光導波路の方向に沿って増幅し、増幅された前記信号光を外部に出力する、光閉じ込め係数が前記第1の光増幅器よりも大きい第2の光増幅器と、を備え、
前記第1の光増幅器の光導波路長に対して前記第2の光増幅器の光導波路長の方が短く、前記第1の光増幅器の第1の利得コア層および前記第2の光増幅器の第2の利得コア層はそれぞれ多重量子井戸構造で構成され、かつ、前記第2の利得コア層を構成する多重量子井戸構造の井戸層の総数が前記第1の利得コア層を構成する多重量子井戸構造の井戸層の総数よりも多いことを特徴とする半導体光集積素子。
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