JP6906729B1 - プレート、めっき装置、及びプレートの製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
分割エリア数Div
=ROUND[SQRT{(4*エリア半径R^2*目標気孔率P)/(孔径Dpore^2*π)}]
これにより、周方向ピッチScと半径方向ピッチSrとが近似する分割エリア数Divを算出することができる。なお、本実施形態では、Round関数を用いて四捨五入することで分割エリア数Divを整数にしている。これに限らず、計算結果を整数化する任意の関数を使用してもよい。
各分割エリアの孔数Prk
=ROUND((各分割エリア面積Sk*目標気孔率P)/孔面積Spore)
なお、本実施形態では、Round関数を用いて四捨五入することで各分割エリアの孔数Prkを整数にしている。これに限らず、計算結果を整数化する任意の関数を使用してもよい。
孔間スペースSc=2π*Rrefk/Prk−Dpore・・・(式1)
孔間スペースSr=(Rrefk−Rrefk−1)−Dpore・・・(式2)
Sc≧SsかつSr≧Ss・・・(式3)
その結果、孔間スペースSc及び孔間スペースSrが最小孔間スペースSs以上である場合には、ステップS211(図5B)に進む。
孔間スペースScの合計
=2π*Rrefk−(2π*Rrefk*θL/360+Dpore)*Prk・・・(式4)
孔間スペースScが最小孔間スペースSs以上となるように、以下の式を満たすことが必要である。
2π*Rrefk−(2π*Rrefk*θL/360+Dpore)*Prk
≧Ss*Prk・・・(式5)
式5において、左辺は、基準円Crefkにおける孔間スペースScの合計であり、右辺は、基準円Crefkにおける最小孔間スペースSsの合計であり、孔間スペースScが最小孔間スペースSs以上である条件に対応する。
Stheo/Prk=π(Dpore/2)2+{π(Rrefk+Dpore/2)2−π(Rrefk−Dpore)2}*θL/360・・・(式6)
ここで、左辺は、分割エリアNkの目標気孔率Pに分割エリアNkの面積を乗算して算出される全孔面積Stheoを長孔12の孔数Prkで除したものである。右辺は、長孔12の中心角θLを用いて1つの長孔の面積を表したものである。π(Dpore/2)2は、図12に示すように、長孔12の両端の半円121−1、122−1の面積を合わせた面積を表す。{π(r+Dpore/2)2−π(r−Dpore)2}*θL/360は、長孔12の両端の半円を除いた円環状部分123の面積を表す。
第1形態によれば、 めっき槽において基板とアノードとの間に配置されるプレートであって、 複数の孔が形成された孔形成エリアを備え、 前記孔形成エリアは、中心部と、中心部の外側にある中間部と、中間部の外側にある外周部とを有し、 前記孔形成エリアの中心部及び外周部は、複数の長孔を有し、 前記孔形成エリアの前記中間部は、複数の円形の孔を有する、プレートが提供される。孔形成エリアは、プレートの全面であってもよいし、プレートの一部であってもよい。例えば、孔形成エリアの外周縁の外側に、孔が形成されない領域があってもよい。
Prk…孔数
θint_k…初期角度
Rrefk…基準円半径
Crefk…基準円
AP…差分
Nk…分割エリア
Dpore…孔径
P…目標気孔率
Sr…半径方向ピッチ
R…エリア半径
Div…分割エリア数
10…プレート
400…めっきモジュール
401…めっき槽
402…基板
412…パドル
Claims (15)
- めっき槽において基板とアノードとの間に配置されるプレートであって、
複数の孔が形成された孔形成エリアを備え、
前記孔形成エリアは、中心部と、中心部の外側にある中間部と、中間部の外側にある外周部とを有し、
前記孔形成エリアの中心部及び外周部は、複数の長孔を有し、
前記孔形成エリアの前記中間部は、複数の円形の孔を有する、プレート。 - 請求項1に記載のプレートにおいて、
前記複数の孔の一部又は全部が、同心である複数の円の円周上に形成され、
最内周の円周を含む隣接する1又は複数の円周上の孔が長孔である、及び/又は、最外周の円周を含む隣接する1又は複数の円周上の孔が長孔である、プレート。 - 請求項1又は2に記載のプレートにおいて、
孔の分布密度である気孔率が、前記外周部とその他の部分とで異なる、プレート。 - めっき槽において基板とアノードとの間に配置されるプレートであって、
複数の孔が形成された孔形成エリアを備え、
前記孔形成エリアの外周部とその他の部分で、孔の分布密度である気孔率が異なり、前記外周部は長孔を有し、
前記外周部の内側にある中間部は複数の円形の孔を有し、前記中間部の内側にある中心部は複数の長孔を有する、
プレート。 - 請求項4に記載のプレートにおいて、
前記中心部及び前記中間部の気孔率は等しい、プレート。 - 請求項4又は5に記載のプレートにおいて、
前記孔形成エリアでは、複数の孔が同心円状に配列されている、プレート。 - 請求項1から6の何れかに記載のプレートにおいて、
前記長孔の長手方向が円周に沿っており、前記長孔は、その両端にある半円形の部分と、その間にある円環状部分の一部とを有する、プレート。 - 請求項1から7の何れかに記載のプレートと、
前記プレートを収容するめっき槽と、を備えためっき装置。 - 請求項8に記載のめっき装置において、
前記基板と前記プレートとの間に配置されたパドルを更に備える、めっき装置。 - めっき槽において基板とアノードとの間に配置され、複数の孔を有するプレートの製造方法であって、
前記プレートに前記複数の孔を形成するエリアの半径であるエリア半径と、前記複数の孔の孔径と、前記エリア半径内の前記エリアにおける目標気孔率を決定し、
前記エリア半径、前記孔径、及び前記目標気孔率に基づいて、前記エリアを、前記エリアの中心を含む円形の分割エリア、及び前記円形の分割エリアと同一である一定の幅を有する環状の複数の分割エリアに分割し、
前記プレートの前記複数の分割エリアのそれぞれに位置する基準円上に前記複数の孔を形成することを含み、
前記複数の分割エリアのうち1又は複数の分割エリアでは、前記基準円上に長孔を形成する、プレートの製造方法。 - 請求項10に記載のプレートの製造方法において、
分割エリア毎に、分割エリアの面積と目標気孔率とにより決定される目標の全孔面積を、前記孔径に対応する前記孔の面積で除して整数化して孔数を決定するステップと、
分割エリア毎に、前記整数化した孔数による全孔面積と、前記目標の全孔面積との誤差が所定値以上であるか判定し、前記誤差が所定値以上であれば、前記孔数を増加させ及び前記孔径を減少させるステップと、
前記孔数及び孔径の変更の結果、孔間スペースが、前記孔を加工可能な最小孔間スペース未満となる場合に、その分割エリアの孔を長孔とするステップと、
含む、プレートの製造方法。 - 請求項10又は11に記載のプレートの製造方法において、
少なくとも一部の分割エリアにおいて前記目標気孔率を変更し、変更後の前記目標気孔率を実現するように前記孔径を変更するステップと、
前記孔径の変更の結果、孔間スペースが、前記孔を加工可能な最小孔間スペース未満となる場合に、対応する分割エリアの前記複数の孔を長孔とするステップと、
を含む、プレートの製造方法。 - 請求項11又は12に記載のプレートの製造方法において、
前記孔間スペースは、前記基準円の円周の長さを前記基準円上の前記複数の孔の孔数で除したものと、前記孔径との差として決定される周方向の孔間スペースと、隣接する分割エリアの基準円の半径の差と、前記孔径とで決定される径方向の孔間スペースとを含み、
各分割エリアにおいて、周方向及び径方向の孔間スペースの少なくとも一方が前記孔を加工可能な最小孔間スペース未満である場合に、前記複数の孔を長孔とする、プレートの製造方法。 - 請求項10から13の何れかに記載のプレートの製造方法において、
前記長孔は、その両端にある半円状部分と、その間にある円環状部分の一部とを有し、
前記両端の半円状部分の中心の間における前記基準円の円周の長さ又は中心角の大きさを制御することにより前記複数の長孔を形成する、ことを含むプレートの製造方法。 - 請求項10から14の何れかに記載のプレートの製造方法において、
前記長孔をフライス加工により形成し、エンドミル加工の軌跡の長さを制御することにより、前記長孔の面積を制御する、ことを含むプレートの製造方法。
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