JP7354020B2 - めっき装置および抵抗体 - Google Patents
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Description
めっき装置1は、めっき槽2及び円板状の抵抗体8を備える。めっき槽2は、すべて、あるいはその一部が円筒状の壁部30を含む。めっき槽2には、めっき液50が満たされている。壁部30の下端部には、アノードホルダ3が配置されている。アノードホルダ3は、アノード4及びアノードマスク6を保持する。アノード4は、アノードホルダ3の下部に配設され、図示しない配線を介して外部電源に接続されている。アノードマスク6は、アノード4と離隔する位置に配設される。アノードマスク6は、アノード4の上面の周縁部を覆う態様で備えられている。アノードホルダ3、アノード4及びアノードマスク6は既知のものを適用可能であるため、説明を省略する。
図2(a)に示すように、抵抗体8は円板状の絶縁体に多数の孔14を設けた構造を有する。本実施形態においては、抵抗体8としてパンチングプレートが用いられる。なお、説明の便宜上、孔14の大きさを実際より強調的に図示している。
y=Rstd*cosq*(1+(a/Rstd)*cos(q*v))である、
関数f(x,y)(0[deg]≦q≦360[deg]) [式1]
図1に関連して説明したとおり、基板Wの軸線と抵抗体8の軸線は軸線Lcとして一致する。すなわち、軸線Lcは、基板Wの中心および抵抗体8の中心の両方を通る。図3には、抵抗体8の中心(抵抗領域18の中心)を「中心O」と示している。
図6および図7は、基板Wと抵抗体8との相対回転の速度を一定とし、その回転時間を異ならせたときの面内均一性への影響を表す図である。なお、本解析では便宜上、基板Wを固定し、その基板Wに対して抵抗体8を反時計回りに回転させている。図3に示した状態、つまり抵抗領域18の特定の頂点M1(「M1a」と表記する),M2(「M2b」と表記する)が直線Ln上にある状態から抵抗体8を回転させる。
図4に関連して説明したとおり、本実施形態によれば、抵抗領域18の外形をエピトロコイド形状とした。抵抗体8の構造をこのようにしたことで、めっき領域Acの中央部と周縁部との膜厚差を緩和できる。
変形例1の抵抗体108は、実施形態の抵抗体8と抵抗領域118の形状が異なる。抵抗体108は、遮蔽領域120の径方向内側に抵抗領域118を有する。抵抗体108は、抵抗領域118の外形が基準円116に対して矩形波形状となっている。すなわち、抵抗領域118の外形は、基準円116に対して周期的かつ環状に連続的ではある一方、基準円116との径方向距離が周方向に沿って不連続的に変化する形状を有する。
Claims (9)
- 円形のめっき領域を有する基板にめっき処理を施すためのめっき装置であって、
めっき槽と、
前記めっき槽に配置されるアノードと、
前記基板を保持し、前記めっき槽に前記アノードと対向するように配置される基板ホルダと、
前記基板の周縁部に接触して基板に電流を供給する基板接点と、
前記めっき槽において前記アノードと前記基板ホルダとの間に、前記基板ホルダと対向するように配置され、前記アノードと前記基板との間のイオン移動を調整するための抵抗体と、
前記抵抗体と前記基板ホルダとを軸線周りに相対的に回転させる回転駆動機構と、
を備え、
前記抵抗体は、
外枠をなし、前記アノードと前記基板との間のイオン移動を遮断する遮蔽領域と、
前記遮蔽領域の径方向内側に形成され、イオンの通過を許容する多孔構造を有する抵抗領域と、
を含み、
前記抵抗領域の外形が、仮想の基準円を中心とした振幅を有し、周期的かつ環状に連続的な波形状を有する、めっき装置。 - 前記抵抗領域の外形は、前記基準円との径方向距離が周方向に沿って連続的に変化する形状を有する、請求項1に記載のめっき装置。
- 前記抵抗領域の外形が、曲線形状を有する、請求項1又は2に記載のめっき装置。
- 前記抵抗領域の外形が、トロコイド形状を有する、請求項3に記載のめっき装置。
- 前記波形状の頂点の数が2(2n+1)である(nは自然数)、請求項1~4のいずれかに記載のめっき装置。
- 前記波形状を形成する複数の頂点の一つである第1頂点が前記基準円の中心を通る直径方向の仮想線上にあるとき、複数の頂点のもう一つである第2頂点が前記仮想線上に位置し、
前記第1頂点が前記基準円の外側に位置するとき、前記第2頂点は前記基準円の内側に位置する、請求項5に記載のめっき装置。 - 前記基準円の半径が、前記基板におけるめっき領域の外形の半径より小さい、請求項1~6のいずれかに記載のめっき装置。
- めっき装置のめっき槽に組付けられ、アノードと基板との間のイオン移動を調整するための抵抗体であって、
前記抵抗体の外枠をなし、イオンを遮断する遮蔽領域と、
前記遮蔽領域の径方向内側に形成され、イオンの通過を許容する多孔構造を有する抵抗領域と、
を含み、
前記抵抗領域の外形が、仮想の基準円を中心とした振幅を有し、周期的かつ環状に連続的な波形状を有し、
前記波形状の頂点の数が2(2n+1)であり(nは自然数)、
前記波形状を形成する複数の頂点のうちの一つである第1頂点が、前記仮想の基準円の中心を通る直径方向の仮想線上に位置するとき、前記複数の頂点のうちの別の一つである第2頂点が、前記仮想線上に位置し、
前記第1頂点が前記仮想の基準円の外側に位置するとき、前記第2頂点は前記仮想の基準円の内側に位置する、抵抗体。 - 複数の前記第1頂点を通る前記抵抗領域の外接円が、前記基板における円形のめっき領域の半径に等しい半径を有することを特徴とする、請求項8に記載の抵抗体。
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