JP6896386B2 - 電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置 - Google Patents

Description

本発明は、電子写真感光体、電子写真感光体の製造方法、プロセスカートリッジおよび電子写真装置に関する。

近年、電子写真装置は、高い印刷画質の印刷物を大量に生産することが求められている。そこで、電子写真装置において繰り返し使用される電子写真感光体には、優れた電気特性および優れた耐摩耗性が求められる。

特許文献１には、電子写真感光体の表面層に２つ以上の連鎖重合性官能基を有する電荷輸送物質を重合させて得られる重合物を含有させて、電子写真感光体の耐摩耗性を向上させる技術が開示されている。

一方、電子写真感光体の耐摩耗性が高くなるのに伴い、電子写真感光体の表面がリフレッシュされづらくなるため、繰り返し使用により放電生成物が電子写真感光体の表面に残りやすくなる。その結果、特に、高湿環境下において画像流れと呼ばれる画像欠陥が発生し、その画像欠陥に対する対策が求められる。

特開２０００−０６６４２５号公報

特許文献１で開示されている表面層であっても、電子写真プロセスによっては、高湿環境下において画像流れの抑制効果が十分満足できるものではない場合があった。

したがって本発明の目的は、優れた電気特性および優れた耐摩耗性を有するとともに、画像流れの抑制効果が良好な電子写真感光体、およびその製造方法を提供することにある。

また、本発明の目的は、上記電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することにある。

本発明は、支持体、および該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、該感光層の表面層が、下記式（１）で示される化合物、下記式（２）で示される化合物、下記式（３）で示される化合物、下記式（１−１−Ｅ）で示される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の重合物を含有することを特徴とする電子写真感光体である。

但し、前記式（１）中、
ａ^１１〜ａ^１３は０以上の整数を示し、
ｂ^１１〜ｂ^１３は０以上の整数を示し、
ｃ^１１〜ｃ^１３は０以上の整数を示し、
ａ^１１＋ａ^１２＋ａ^１３≧２であり、
ｂ^１１＋ｂ^１２＋ｂ^１３≧１であり、
ａ^１１およびｂ^１１のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^１２およびｂ^１２のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^１３およびｂ^１３のいずれか一方または両方が０であり、
Ａｒ^１１は無置換のアレーンから（ａ^１１＋ｂ^１１＋ｃ^１１＋１）個の水素原子を除いた（ａ^１１＋ｂ^１１＋ｃ^１１＋１）価の基を示し、
Ａｒ^１２は無置換のアレーンから（ａ^１２＋ｂ^１２＋ｃ^１２＋１）個の水素原子を除いた（ａ^１２＋ｂ^１２＋ｃ^１２＋１）価の基を示し、
Ａｒ^１３は無置換のアレーンから（ａ^１３＋ｂ^１３＋ｃ^１３＋１）個の水素原子を除いた（ａ^１３＋ｂ^１３＋ｃ^１３＋１）価の基を示し、
Ｒ^１１〜Ｒ^１３は炭素数が９以上のアルキル基を示し、
Ｑ^１１〜Ｑ^１３はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルキル基、又はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を示し、
Ｐ^１１〜Ｐ^１３はそれぞれ独立に、下記式（Ａ）で示される基を示す。

但し、前記式（Ａ）中、
＊は前記式（１）、下記式（２）、（３）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１３、Ａｒ^２１〜Ａｒ^２５およびＡｒ^３１〜Ａｒ^３６に結合する結合手を示し、
Ｌはアルカン又はアルケンから誘導される３価又は４価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ^Ａ）−、−Ｓ−、および−Ｏ−からなる群より選択される２種以上を含む（ｎ＋１）価の連結基を示し、
Ｒ^Ａは水素原子もしくはアルキル基を示し、
ｎは１以上３以下の整数を示す。

但し、前記式（２）中、
ａ^２１〜ａ^２５は０以上の整数を示し、
ｂ^２１〜ｂ^２５は０以上の整数を示し、
ｃ^２１〜ｃ^２５は０以上の整数を示し、
ａ^２１＋ａ^２２＋ａ^２３＋ａ^２４＋ａ^２５≧２であり、
ｂ^２１＋ｂ^２２＋ｂ^２３＋ｂ^２４＋ｂ^２５≧１であり、
ａ^２１およびｂ^２１のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２２およびｂ^２２のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２３およびｂ^２３のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２４およびｂ^２４のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２５およびｂ^２５のいずれか一方または両方が０であり、
Ａｒ^２１は無置換のアレーンから（ａ^２１＋ｂ^２１＋ｃ^２１＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２１＋ｂ^２１＋ｃ^２１＋１）価の基を示し、
Ａｒ^２２は無置換のアレーンから（ａ^２２＋ｂ^２２＋ｃ^２２＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２２＋ｂ^２２＋ｃ^２２＋１）価の基を示し、
Ａｒ^２３は無置換のアレーンから（ａ^２３＋ｂ^２３＋ｃ^２３＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２３＋ｂ^２３＋ｃ^２３＋１）価の基を示し、
Ａｒ^２４は無置換のアレーンから（ａ^２４＋ｂ^２４＋ｃ^２４＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２４＋ｂ^２４＋ｃ^２４＋１）価の基を示し、
Ａｒ^２５は無置換のアレーンから（ａ^２５＋ｂ^２５＋ｃ^２５＋２）個の水素原子を除いた（ａ^２５＋ｂ^２５＋ｃ^２５＋２）価の基を示し、
Ｒ^２１〜Ｒ^２５は炭素数が９以上のアルキル基を示し、
Ｑ^２１〜Ｑ^２５はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルキル基、又はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を示し、
Ｐ^２１〜Ｐ^２５はそれぞれ独立に、前記式（Ａ）で示される基を示す。

但し、前記式（３）中、
ａ^３１〜ａ^３６は０以上の整数を示し、
ｂ^３１〜ｂ^３６は０以上の整数を示し、
ｃ^３１〜ｃ^３６は０以上の整数を示し、
ａ^３１＋ａ^３２＋ａ^３３＋ａ^３４＋ａ^３５＋ａ^３６≧２であり、
ｂ^３１＋ｂ^３２＋ｂ^３３＋ｂ^３４＋ｂ^３５＋ｂ^３６≧１であり、
ａ^３１およびｂ^３１のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３２およびｂ^３２のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３３およびｂ^３３のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３４およびｂ^３４のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３５およびｂ^３５のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３６およびｂ^３６のいずれか一方または両方が０であり、
Ａｒ^３１は無置換のアレーンから（ａ^３１＋ｂ^３１＋ｃ^３１＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３１＋ｂ^３１＋ｃ^３１＋１）価の基を示し、
Ａｒ^３２は無置換のアレーンから（ａ^３２＋ｂ^３２＋ｃ^３２＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３２＋ｂ^３２＋ｃ^３２＋１）価の基を示し、
Ａｒ^３３は無置換のアレーンから（ａ^３３＋ｂ^３３＋ｃ^３３＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３３＋ｂ^３３＋ｃ^３３＋１）価の基を示し、
Ａｒ^３４は無置換のアレーンから（ａ^３４＋ｂ^３４＋ｃ^３４＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３４＋ｂ^３４＋ｃ^３４＋１）価の基を示し、
Ａｒ^３５は無置換のアレーンから（ａ^３５＋ｂ^３５＋ｃ^３５＋２）個の水素原子を除いた（ａ^３５＋ｂ^３５＋ｃ^３５＋２）価の基を示し、
Ａｒ^３６は無置換のアレーンから（ａ^３６＋ｂ^３６＋ｃ^３６＋２）個の水素原子を除いた（ａ^３６＋ｂ^３６＋ｃ^３６＋２）価の基を示し、
Ｒ^３１〜Ｒ^３６は炭素数が９以上のアルキル基を示し、
Ｑ^３１〜Ｑ^３６はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルキル基、又はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を示し、
Ｐ^３１〜Ｐ^３６はそれぞれ独立に、前記式（Ａ）で示される基を示し、
Ｘ^３１はアルキレン基、シクロアルキリデン基、アルケニレン基、−Ｓ−、および−Ｏ−のいずれかで示される２価の連結基を示す。

また、本発明は、前記電子写真感光体を製造する電子写真感光体の製造方法であって、該製造方法が、前記化合物を含有する表面層用塗布液を用いて塗膜を形成する工程、および、該塗膜に含有される前記化合物を重合させることによって表面層を形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。

さらに、本発明は、前記電子写真感光体と、帯電手段、現像手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写自在であることを特徴とするプロセスカートリッジである。

さらにまた、本発明は、前記電子写真感光体、ならびに、帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有することを特徴とする電子写真装置である。

本発明によれば、支持体、および該支持体上に感光層を有する電子写真感光体において優れた電気特性および優れた耐摩耗性を有するとともに、画像流れの抑制効果が良好な電子写真感光体およびその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、そのような電子写真感光体を有するプロセスカートリッジおよび電子写真装置を提供することができる。

本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。 本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す図である。

本発明の電子写真感光体の表面層は、式（１）で示される化合物、式（２）で示される化合物、式（３）で示される化合物、および下記式（１−１−Ｅ）で示される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の重合物を含有することを特徴とする。

但し、前記式（１）中、
ａ^１１〜ａ^１３は０以上の整数を示し、
ｂ^１１〜ｂ^１３は０以上の整数を示し、
ｃ^１１〜ｃ^１３は０以上の整数を示し、
ａ^１１＋ａ^１２＋ａ^１３≧２であり、
ｂ^１１＋ｂ^１２＋ｂ^１３≧１であり、
ａ^１１およびｂ^１１のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^１２およびｂ^１２のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^１３およびｂ^１３のいずれか一方または両方が０であり、
Ａｒ^１１は無置換のアレーンから（ａ^１１＋ｂ^１１＋ｃ^１１＋１）個の水素原子を除いた（ａ^１１＋ｂ^１１＋ｃ^１１＋１）価の基を示し、
Ａｒ^１２は無置換のアレーンから（ａ^１２＋ｂ^１２＋ｃ^１２＋１）個の水素原子を除いた（ａ^１２＋ｂ^１２＋ｃ^１２＋１）価の基を示し、
Ａｒ^１３は無置換のアレーンから（ａ^１３＋ｂ^１３＋ｃ^１３＋１）個の水素原子を除いた（ａ^１３＋ｂ^１３＋ｃ^１３＋１）価の基を示し、
Ｒ^１１〜Ｒ^１３は炭素数が９以上のアルキル基を示し、
Ｑ^１１〜Ｑ^１３はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルキル基、又はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を示し、
Ｐ^１１〜Ｐ^１３はそれぞれ独立に、下記式（Ａ）で示される基を示す。

但し、前記式（Ａ）中、
＊は前記式（１）、下記式（２）、（３）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１３、Ａｒ^２１〜Ａｒ^２５およびＡｒ^３１〜Ａｒ^３６に結合する結合手を示し、
Ｌはアルカン又はアルケンから誘導される３価又は４価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ^Ａ）−、−Ｓ−、および−Ｏ−からなる群より選択される２種以上を含む（ｎ＋１）価の連結基を示し、
Ｒ^Ａは水素原子もしくはアルキル基を示し、
ｎは１以上３以下の整数を示す。

但し、前記式（２）中、
ａ^２１〜ａ^２５は０以上の整数を示し、
ｂ^２１〜ｂ^２５は０以上の整数を示し、
ｃ^２１〜ｃ^２５は０以上の整数を示し、
ａ^２１＋ａ^２２＋ａ^２３＋ａ^２４＋ａ^２５≧２であり、
ｂ^２１＋ｂ^２２＋ｂ^２３＋ｂ^２４＋ｂ^２５≧１であり、
ａ^２１およびｂ^２１のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２２およびｂ^２２のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２３およびｂ^２３のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２４およびｂ^２４のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２５およびｂ^２５のいずれか一方または両方が０であり、
Ａｒ^２１は無置換のアレーンから（ａ^２１＋ｂ^２１＋ｃ^２１＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２１＋ｂ^２１＋ｃ^２１＋１）価の基を示し、
Ａｒ^２２は無置換のアレーンから（ａ^２２＋ｂ^２２＋ｃ^２２＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２２＋ｂ^２２＋ｃ^２２＋１）価の基を示し、
Ａｒ^２３は無置換のアレーンから（ａ^２３＋ｂ^２３＋ｃ^２３＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２３＋ｂ^２３＋ｃ^２３＋１）価の基を示し、
Ａｒ^２４は無置換のアレーンから（ａ^２４＋ｂ^２４＋ｃ^２４＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２４＋ｂ^２４＋ｃ^２４＋１）価の基を示し、
Ａｒ^２５は無置換のアレーンから（ａ^２５＋ｂ^２５＋ｃ^２５＋２）個の水素原子を除いた（ａ^２５＋ｂ^２５＋ｃ^２５＋２）価の基を示し、
Ｒ^２１〜Ｒ^２５は炭素数が９以上のアルキル基を示し、
Ｑ^２１〜Ｑ^２５はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルキル基、又はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を示し、
Ｐ^２１〜Ｐ^２５はそれぞれ独立に、前記式（Ａ）で示される基を示す。

但し、前記式（３）中、
ａ^３１〜ａ^３６は０以上の整数を示し、
ｂ^３１〜ｂ^３６は０以上の整数を示し、
ｃ^３１〜ｃ^３６は０以上の整数を示し、
ａ^３１＋ａ^３２＋ａ^３３＋ａ^３４＋ａ^３５＋ａ^３６≧２であり、
ｂ^３１＋ｂ^３２＋ｂ^３３＋ｂ^３４＋ｂ^３５＋ｂ^３６≧１であり、
ａ^３１およびｂ^３１のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３２およびｂ^３２のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３３およびｂ^３３のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３４およびｂ^３４のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３５およびｂ^３５のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３６およびｂ^３６のいずれか一方または両方が０であり、
Ａｒ^３１は無置換のアレーンから（ａ^３１＋ｂ^３１＋ｃ^３１＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３１＋ｂ^３１＋ｃ^３１＋１）価の基を示し、
Ａｒ^３２は無置換のアレーンから（ａ^３２＋ｂ^３２＋ｃ^３２＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３２＋ｂ^３２＋ｃ^３２＋１）価の基を示し、
Ａｒ^３３は無置換のアレーンから（ａ^３３＋ｂ^３３＋ｃ^３３＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３３＋ｂ^３３＋ｃ^３３＋１）価の基を示し、
Ａｒ^３４は無置換のアレーンから（ａ^３４＋ｂ^３４＋ｃ^３４＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３４＋ｂ^３４＋ｃ^３４＋１）価の基を示し、
Ａｒ^３５は無置換のアレーンから（ａ^３５＋ｂ^３５＋ｃ^３５＋２）個の水素原子を除いた（ａ^３５＋ｂ^３５＋ｃ^３５＋２）価の基を示し、
Ａｒ^３６は無置換のアレーンから（ａ^３６＋ｂ^３６＋ｃ^３６＋２）個の水素原子を除いた（ａ^３６＋ｂ^３６＋ｃ^３６＋２）価の基を示し、
Ｒ^３１〜Ｒ^３６は炭素数が９以上のアルキル基を示し、
Ｑ^３１〜Ｑ^３６はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルキル基、又はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を示し、
Ｐ^３１〜Ｐ^３６はそれぞれ独立に、前記式（Ａ）で示される基を示し、
Ｘ^３１はアルキレン基、シクロアルキリデン基、アルケニレン基、−Ｓ−、および−Ｏ−のいずれかで示される２価の連結基を示す。

上記式（１）〜式（３）で示される化合物は、極性の低い炭素数９以上のアルキル基を有するため、その重合物は疎水性を示す。上記重合物を表面層に用いた場合、高湿環境下でも水分を寄せ付けにくいため、画像流れによる画像欠陥を効果的に抑制できることを本発明者らは見出した。

ただし、炭素数９以上のアルキル基を、式（Ａ）で示されるような連鎖重合性官能基の近傍に配置すると、重合反応を阻害する立体障害となる可能性がある。具体的には、同一のアリール基もしくは同一のアリーレン基に、炭素数９以上のアルキル基および式（Ａ）で示される基が置換する場合、これらの置換基同士によって構成される立体障害により重合反応が効果的に進まず、結果として優れた耐摩耗性が得られないことがわかった。

画像流れによる画像欠陥の抑制効果の観点から、前記式（１）〜（３）中、Ｒ^１１〜Ｒ^１３、Ｒ^２１〜Ｒ^２５およびＲ^３１〜Ｒ^３６は直鎖のアルキル基であることがより好ましい。また、前記式（２）および（３）中、ｂ^２５、ｂ^３５およびｂ^３６が０であることがより好ましい。さらには、前記式（１）〜（３）中、ｂ^１１＋ｂ^１２＋ｂ^１３≧２であり、ｂ^２１＋ｂ^２２＋ｂ^２３＋ｂ^２４＋ｂ^２５≧２であり、並びにｂ^３１＋ｂ^３２＋ｂ^３３＋ｂ^３４＋ｂ^３５＋ｂ^３６≧２であることがより好ましい。

繰り返し使用時の電位変動が減少される観点から、前記式（１）〜（３）中、ａ^１１＋ａ^１２＋ａ^１３＝２であり、ａ^２１＋ａ^２２＋ａ^２３＋ａ^２４＋ａ^２５＝２であり、並びにａ^３１＋ａ^３２＋ａ^３３＋ａ^３４＋ａ^３５＋ａ^３６＝２であることが好ましい。さらには、前記式（１）〜（３）中、ａ^１１＋ａ^１２＋ａ^１３＝１であり、ａ^２１＋ａ^２２＋ａ^２３＋ａ^２４＋ａ^２５＝１であり並びにａ^３１＋ａ^３２＋ａ^３３＋ａ^３４＋ａ^３５＋ａ^３６＝１であり、ｃ^１１＋ｃ^１２＋ｃ^１３＝１であり、ｃ^２１＋ｃ^２２＋ｃ^２３＋ｃ^２４＋ｃ^２５＝１であり、並びにｃ^３１＋ｃ^３２＋ｃ^３３＋ｃ^３４＋ｃ^３５＋ｃ^３６＝１であり、ａ^１１およびｃ^１１のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^１２およびｃ^１２のいずれか一方または両方が０であり、ａ^１３およびｃ^１３のいずれか一方または両方が０であり、ａ^２１およびｃ^２１のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２２およびｃ^２２のいずれか一方または両方が０であり、ａ^２３およびｃ^２３のいずれか一方または両方が０であり、ａ^２４およびｃ^２４のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^２５およびｃ^２５のいずれか一方または両方が０であり、ａ^２６およびｃ^２６のいずれか一方または両方が０であり、ａ^３１およびｃ^３１のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３２およびｃ^３２のいずれか一方または両方が０であり、ａ^３３およびｃ^３３のいずれか一方または両方が０であり、ａ^３４およびｃ^３４のいずれか一方または両方が０であり、
ａ^３５およびｃ^３５のいずれか一方または両方が０であり、並びにａ^３６およびｃ^３６のいずれか一方または両方が０である化合物から選択される少なくとも１種の化合物との共重合物であることがより好ましい。

式（１）〜式（３）で示される化合物中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１３、Ａｒ^２１〜Ａｒ^２５、およびＡｒ^３１〜Ａｒ^３６で示される基としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ナフタセン、フェナントレン、クリセン、トリフェニレン、ピレンなどの縮合多感環芳香族化合物、およびビフェニル、フルオレンから導かれる基などが挙げられる。
式（３）で示される化合物中、Ｘ^３１はアルキレン基、シクロアルキリデン基、アルケニレン基、硫黄原子、および酸素原子のいずれかで示される２価の連結基を示す。前記アルキレン基としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基などが挙げられる。前記シクロアルキリデン基としては、シクロペンチリデン基、シクロヘキシリデン基が挙げられる。前記アルケニレン基としては、エチレニレン基、プロピレニレン基、ブチレニレン基などが挙げられる。

優れた耐摩耗性が得られる観点から、前記式（１）で示される化合物の重合物であることが好ましい。さらには、前記式（Ａ）中、ｎが２であることが好ましい。

以下に、本発明の式（１）、式（２）並びに式（３）で示される化合物の具体例、および式（１−１−Ｅ）で表される化合物を例示化合物として挙げるが、本発明は、これらに限定されるわけではない。

本発明は、電子写真感光体を製造する電子写真感光体の製造方法であって、該製造方法が、特定な化合物を含有する表面層用塗布液を用いて塗膜を形成する工程、および、該塗膜に含有される該化合物を重合させることによって表面層を形成する工程を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法である。

本発明の電子写真感光体は、支持体、および該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体である。

図１は、本発明の電子写真感光体の層構成の一例を示す図である。図１中、１０１は支持体であり、１０２は電荷発生層であり、１０３は電荷輸送層であり、１０４は表面層であり、１０５は感光層である。

本発明の電子写真感光体に用いられる支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましく、例えば、アルミニウム、アルミニウム合金、ステンレス鋼などの金属（合金）製の支持体が挙げられる。アルミニウムまたはアルミニウム合金製の支持体の場合は、ＥＤ管、ＥＩ管や、これらを切削、電解複合研磨、湿式または乾式ホーニング処理した管を支持体として用いることもできる。また、金属製支持体、樹脂製支持体上にアルミニウム、アルミニウム合金、酸化インジウム−酸化スズ合金などの導電材料の薄膜を形成したものも、支持体として用いることができる。
支持体の表面は、切削処理、粗面化処理、アルマイト処理などを施してもよい。
また、カーボンブラック、酸化スズ粒子、酸化チタン粒子、銀粒子などの導電性粒子を樹脂などに含浸させてなる支持体や、導電性樹脂製の支持体を用いることもできる。

本発明においては、必要に応じて、支持体と感光層（電荷発生層、電荷輸送層、表面層）との間に、後述の下引層や中間層を設けてもよい。

下引層は、例えば、結着樹脂と、必要に応じてその他添加物とを含んで構成される。
下引層に含まれる結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、不飽和ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が挙げられる。

これらの中でも、結着樹脂としては、上層（電荷発生層）の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。

下引層には、シリコーン化合物、有機ジルコニウム化合物、有機チタン化合物、有機アルミニウム化合物等の金属化合物等を含有してもよい。
金属化合物と結着樹脂との比率は、特に制限されず、所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で設定される。

下引層には、表面粗さ調整のために樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、シリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂粒子等が挙げられる。なお、表面粗さ調整のために下引層を形成後、その表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。

ここで、下引層の構成として、結着樹脂と導電性粒子とを少なくとも含有する構成が挙げられる。なお、導電性粒子は、例えば体積抵抗率が１０^７Ω・ｃｍ未満の導電性を有するものが好ましい。

導電性粒子としては、例えば、金属粒子（アルミニウム、銅、ニッケル、銀などの粒子）、導電性金属酸化物粒子（酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛などの粒子）、導電性物質粒子（カーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト粉末の粒子）等が挙げられる。これらの中でも、導電性金属酸化物粒子が好適である。導電性粒子は、２種以上混合して用いてもよい。
また、導電性粒子は、疎水化処理剤（例えばカップリング剤）等により表面処理を施して、抵抗調整して用いてもよい。

導電性粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが望ましく、より望ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶媒に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。

なお、下引層形成用塗布液中に粒子を分散させる場合、その分散方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。ここで、高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。

下引層の膜厚は、例えば、望ましくは１５μｍ以上、より望ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。

下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物などが挙げられる。これらの化合物は、単独に若しくは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いてもよい。中でも、ジルコニウムもしくはケイ素を含有する有機金属化合物は残留電位が低く環境による電位変化が少なく、また繰り返し使用による電位の変化が少ないなどの点から好適である。

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶媒に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行われる。

中間層形成用塗布液を下引層上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

中間層は上層の塗布性改善の他に、電気的なブロッキング層の役割も果たすが、膜厚が大きすぎる場合には電気的な障壁が強くなりすぎて減感（感光度低下）や繰り返し使用による電位の上昇を引起こすことがある。したがって、中間層を形成する場合には、０．１μｍ以上３μｍ以下の膜厚範囲に設定することがよい。また、この場合の中間層を下引層として使用してもよい。

本発明の電子写真感光体における電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とから構成される。なお、電荷発生層は、例えば、電荷発生材料の蒸着膜で構成されていてもよい。電荷発生材料としては、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が挙げられ、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．７゜、９．３゜、１６．９゜、１７．５゜、２２．４゜及び２８．８゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも９．６゜、２４．１゜及び２７．２゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶が挙げられる。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が挙げられる。また、これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上を混合して用いてもよい。

電荷発生層を構成する結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂（例えば、ビスフェノールＡ若しくはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂）、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、例えば１０：１乃至１：１０の範囲が望ましい。
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。

電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用される。例えば、上記成分を溶媒に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。

電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。

なお、電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。

電荷発生層の膜厚は、望ましくは０．０１μｍ以上５μｍ以下、より望ましくは０．０５μｍ以上２．０μｍ以下の範囲に設定される。

本発明の電子写真感光体における電荷輸送層は、たとえば、電荷輸送性材料と、結着樹脂とから構成される。

電荷輸送性材料としては、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、トリス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４′−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４′−メトキェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料は、１種又は２種以上を組み合わせて用いてもよい。

電荷輸送層を構成する結着樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂（例えば、ビスフェノールＡ若しくはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂）、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。

これらの結着樹脂の中でも、ポリカーボネートがよく、特に、Ｆｅｄｅｒｓ法で算出した溶解度パラメーターが１１．４０以上１１．７５以下であるポリカーボネート共重合体であることがよい。

なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で、例えば１０：１乃至１：５が望ましい。
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。

電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶媒に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。

なお、電荷輸送層形成用塗布液中に粒子を分散させる場合、その分散方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。

電荷輸送層の膜厚は、例えば、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。

本発明の電子写真感光体における表面層は、以下のように形成することができる。まず、式（１）で示される化合物、式（２）で示される化合物、および式（３）で示される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を溶剤に溶解させることで表面層用塗布液を得る。続いて、前記表面層用塗布液を用いて、電子写真感光体の被塗布面（電荷輸送層）上に塗膜を形成し、該化合物を重合させることで３次元架橋物を得て、前記表面層を形成することができる。

式（１）で示される化合物、式（２）で示される化合物、および式（３）で示される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の含有量は、例えば、層形成のための組成物中の全固形分に対して３０質量％以上がよく、望ましくは５０質量％以上である。

本発明の電子写真感光体における表面層は、増粘樹脂を有してもよい。
増粘樹脂としては、例えば、ポリカーボネート樹脂（例えば、ビスフェノールＡ若しくはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂）、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。

これらの中でも、増粘樹脂としては、汎用性、溶媒への溶解性、入手容易性の観点から、例えば、アクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、スチレン系樹脂、及びポリビニル系樹脂から選択される少なくとも１種、具体的には、例えば、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ポリスチレン、及びポリビニルブチラールから選択される少なくとも１種であることがよい。

但し、増粘樹脂は、電気特性の悪化を抑制する観点から、カルボキシル基、アミノ基、ヒドロキシル基、等の極性基を５０モル％以下（望ましくは４０モル％以下）で含む樹脂であることがよい。
なお、極性基の量は、赤外分光法を用い、極性基を持たない樹脂からの吸収ピークの高さの比率により求められる。

増粘樹脂は、電荷輸送層を構成する結着樹脂とは異なる樹脂（構造が異なる樹脂）であることがよい。これは、一般的に構造の異なる樹脂は相溶し難いため表面層と電荷輸送層とが明確な界面を持って形成され易くなり、その結果、表面層の機械的強度及び電気特性が向上し易くなる。

増粘樹脂の重量平均分子量は、例えば、１００００以上１５００００以下がよく、特に望ましくは１００００以上１０００００以下（さらに望ましくは５００００を超え１０００００以下）である。
増粘樹脂の重量平均分子量を１００００以上とすると、表面層を形成するための組成物（塗布液）の粘度が増加し易くなる。一方、増粘樹脂の重量平均分子量を１５００００以下とすると、表面層を形成するための組成物（塗布液）に増粘樹脂が溶解される難くなるのを抑制し、当該組成物（塗布液）の粘度上昇が実現し易くなる。

本発明の電子写真感光体における表面層は、フッ素含有樹脂粒子を有してもよい。
フッ素含有樹脂粒子としては、フルオロオレフィンのホモポリマーや、２種以上の共重合体であって、フルオロオレフィンの１種又は２種以上と非フッ素系のモノマーとの共重合体の粒子が挙げられる。

フルオロオレフィンとしては、例えばテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、パーフルオロビニルエーテル、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）などのパーハロオレフィン、フッ化ビニリデン（ＶｄＦ）、トリフルオロエチレン、フッ化ビニルなどの非パーフルオロオレフィン等が挙げられ、ＶｄＦ、ＴＦＥ、ＣＴＦＥ、ＨＦＰなどが望ましい。

一方、非フッ素系のモノマーとしては、例えばエチレン、プロピレン、ブテンなどのハイドロカーボン系オレフィン、シクロヘキシルビニルエーテル（ＣＨＶＥ）、エチルビニルエーテル（ＥＶＥ）、ブチルビニルエーテル、メチルビニルエーテルなどのアルキルビニルエーテル、ポリオキシエチレンアリルエーテル（ＰＯＥＡＥ）、エチルアリルエーテルなどのアルケニルビニルエーテル、ビニルトリメトキシシラン（ＶＳｉ）、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス（メトキシエトキシ）シランなどの反応性α，β−不飽和基を有する有機ケイ素化合物、アクリル酸メチル、アクリル酸エチルなどのアクリル酸エステル、メタアクリル酸メチル、メタクリル酸エチルなどのメタアクリル酸エステル、酢酸ビニル、安息香酸ビニル、「ベオバ」（商品名、シェル社製のビニルエステル）などのビニルエステルなどが挙げられ、アルキルビニルエーテル、アリルビニルエーテル、ビニルエステル、反応性α，β−不飽和基を有する有機ケイ素化合物が望ましい。

これらのうち、フッ素化率の高いものが望ましく、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン−パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）共重合体（ＰＦＡ）、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体（ＥＣＴＦＥ）などが好ましい。これらのうちでも、ＰＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＦＡが特に望ましい。

フッ素含有樹脂粒子は、例えばフッ素系単量体を乳化重合などの方法で製造した粒子（フッ素樹脂水性分散液）をそのまま使用してもよく、十分に水洗した後に乾燥したものを使用してもよい。

フッ素含有樹脂粒子の平均粒子径としては０．０１μｍ以上１００μｍ以下が好ましく、特に０．０３μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。
なお、上記フッ素含有樹脂粒子の平均粒子径は、レーザー回折式粒度分布測定装置ＬＡ−７００（堀場製作所製）を用いて測定した値をいう。

フッ素含有樹脂粒子は、市販で入手したものを用いてもよく、例えばＰＴＦＥ粒子としては、フルオンＬ１７３ＪＥ（旭ガラス社製）、ダニイオンＴＨＶ−２２１ＡＺ、ダニイオン９２０５（住友３Ｍ社製）、ルブロンＬ２、ルブロンＬ５（ダイキン社製）などが挙げられる。

フッ素含有樹脂粒子は、紫外領域の発振波長を有するレーザー光を照射されたものであってもよい。フッ素含有樹脂粒子に照射されるレーザー光については特に限定されるものではなく、例えば、エキシマレーザー等が挙げられる。エキシマレーザー光としては、波長が４００ｎｍ以下、特に１９３ｎｍ以上３０８ｎｍ以下の紫外レーザー光が好適である。特に、ＫｒＦエキシマレーザー光（波長：２４８ｎｍ）およびＡｒＦエキシマレーザー光（波長：１９３ｎｍ）等が好ましい。エキシマレーザー光照射は、通常、室温（２５℃）大気中で行うが、酸素雰囲気中で行ってもよい。

また、エキシマレーザー光の照射条件は、フッ素樹脂の種類および求められる表面改質の程度によって左右されるが、一般的な照射条件は次の通りである。
フルエンス：５０ｍＪ／ｃｍ^２／パルス以上
入射エネルギー：０．１Ｊ／ｃｍ^２以上
ショット数：１００以下

特に好適なＫｒＦエキシマレーザー光およびＡｒＦエキシマレーザー光の常用される照射条件は次の通りである。
ＫｒＦ
フルエンス：１００ｍＪ／ｃｍ^２／パルス以上５００ｍＪ／ｃｍ^２／パルス以下
入射エネルギー：０．２Ｊ／ｃｍ^２以上２．０Ｊ／ｃｍ^２以下
ショット数：１以上２０以下
ＡｒＦ
フルエンス：５０ｍＪ／ｃｍ^２／パルス以上１５０ｍＪ／ｃｍ^２／パルス以下
入射エネルギー：０．１Ｊ／ｃｍ^２以上１．０Ｊ／ｃｍ^２以下
ショット数：１以上２０以下

フッ素含有樹脂粒子の含有量は、表面層の固形分全量に対して１質量％以上２０質量％以下が好ましく、１質量％以上１２質量％以下がより好ましい。

フッ素含有樹脂粒子とともに、フッ素含有分散剤を併用してもよい。
フッ素含有分散剤は、フッ素含有樹脂粒子を表面層中に分散させるために用いられるものであるため、界面活性作用を有していることが好ましく、つまり分子内に親水基と疎水基とを持つ物質であることがよい。

フッ素含有分散剤としては、以下の反応性の単量体を重合した樹脂（以下「特定樹脂」と称する。）が挙げられる。具体的には、パーフルオロアルキル基を有するアクリレートと、フッ素を有さないモノマーと、のランダム又はブロック共重合体、メタクリレートホモポリマーおよび前記パーフルオロアルキル基を有するアクリレートと、前記フッ素を有さないモノマーと、のランダム又はブロック共重合体、メタクリレートと、前記フッ素を有さないモノマーと、のランダム又はブロック共重合体が挙げられる。なお、パーフルオロアルキル基を有するアクリレートとしては、例えば２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレートが挙げられる。

また、フッ素を有さないモノマーとしては、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレートが挙げられる。また、米国特許第５６３７１４２号明細書、特許第４２５１６６２号公報、特許第４２５１６６２号公報などに開示されたブロック又はブランチポリマーなどが挙げられる。またその他に、フッ素系界面活性剤が挙げられる。フッ素系界面活性剤の具体例としては、サーフロンＳ−６１１、サーフロンＳ−３８５（ＡＧＣセイミケミカル社製）、フタージェント７３０ＦＬ、フタージェント７５０ＦＬ（ネオス社製）、ＰＦ−６３６、ＰＦ−６５２０（北村化学社製）、メガファックＥＸＰ，ＴＦ−１５０７、メガファックＥＸＰ、ＴＦ−１５３５（ＤＩＣ製）、ＦＣ−４４３０、ＦＣ−４４３２（３Ｍ社製）などが挙げられる。

なお、特定樹脂の重量平均分子量は１００以上５００００以下が好ましい。
フッ素含有分散剤の含有量は、表面層の固形分全量に対して０．１質量％以上１質量％以下が好ましく、０．２質量％以上０．５質量％以下がさらに好ましい。

フッ素含有分散剤をフッ素含有樹脂粒子の表面に付着させる方法としては、フッ素含有分散剤を直接フッ素含有樹脂粒子の表面に付着させてもよいし、まず上記の単量体をフッ素含有樹脂粒子の表面に吸着させた後に重合を行なって、フッ素含有樹脂粒子の表面に前記特定樹脂を形成させてもよい。

フッ素含有分散剤は、他の界面活性剤と併用してもよい。但し、その量としては極力少ないことが好ましい。他の界面活性剤の含有量は、フッ素含有樹脂粒子１質量部に対し、０質量部以上０．１質量部以下が好ましく、望ましくは０質量部以上０．０５質量部以下、より望ましくは０質量部以上０．０３質量部以下である。

他の界面活性剤としては、非イオン性界面活性剤が好ましい。例えばポリオキシエチレンアルキルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル類、ポリオキシエチレンアルキルエステル類、ソルビタンアルキルエステル類、ポリオキシエチレンソルビタンアルキルエステル類、グリセリンエステル類、フッ素系界面活性剤およびその誘導体などが挙げられる。

ポリオキシエチレン類の具体例としては、例えばエマルゲン７０７（花王社製）、ナロアクティーＣＬ−７０、ナロアクティーＣＬ−８５（三洋化成工業社製）、レオコールＴＤ−１２０（ライオン社製）などが挙げられる。

本発明の電子写真感光体における表面層は、不飽和結合を有する化合物を含有してもよい。
不飽和結合を有する化合物としては、モノマー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。
不飽和結合を有する化合物としては以下のようなものが挙げられる。

１官能のモノマーは、例えば、イソブチルアクリレート、ｔ−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、ステアリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、エチルカルビトールアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、メトキシポリエチレングリコールアクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、フェノキシポリエチレングリコールメタクリレート、ヒドロキシエチルｏ−フェニルフェノールアクリレート、ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテルアクリレート、スチレン、などが挙げられる。

２官能のモノマーは、例えば、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルフタレート等が挙げられる。

３官能のモノマーは、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、脂肪族トリ（メタ）アクリレート、トリビニルシクロヘキサン等が挙げられる。

４官能のモノマーは、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、脂肪族テトラ（メタ）アクリレート等が挙げられる。

５官能以上のモノマーは、例えば、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の他、ポリエステル骨格、ウレタン骨格、フォスファゼン骨格を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。

また、反応性のポリマーとしては、例えば、特開平５−２１６２４９号公報、特開平５−３２３６３０号公報、特開平１１―５２６０３号公報、特開２０００−２６４９６１号公報、特開２００５−２２９１号公報などに開示されたものが挙げられる。

本発明の電子写真感光体における表面層は、非反応性の電荷輸送材料を併用してもよい。非反応性の電荷輸送材料は電荷輸送を担っていない反応性基を有さないため、非反応性の電荷輸送材料を表面層に用いた場合には電荷輸送成分の濃度が高まり、電気特性を更に改善するのに有効である。また、非反応性の電荷輸送材料を添加して架橋密度を減じ、強度を調整してもよい。

非反応性の電荷輸送材料としては、公知の電荷輸送材料を用いてもよく、具体的には、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化
合物等が用いられる。
中でも、電荷移動度、相溶性などの観点から、トリフェニルアミン骨格を有するものが望ましい。

非反応性の電荷輸送材料は、層形成のための塗布液中の全固形分に対して０質量％以上３０質量％以下で用いられることが望ましく、より望ましくは１質量％以上２５質量％以下であり、更に望ましくは５質量％以上２５質量％以下である。

表面層を構成する膜は、更に成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、特にフッ素含有のカップリング剤と混合して用いてもよい。このような化合物として、各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。また、ラジカル重合性基を有するシリコーン化合物、フッ素含有化合物を用いてもよい。

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−２（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が挙げられる。

市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越化学工業社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が挙げられる。

また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。

シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、重合膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。更に、特開２００１−１６６５１０号公報などに開示されている反応性のフッ素化合物などを混合してもよい。

ラジカル重合性基を有するシリコーン化合物、フッ素含有化合物としては、特開２００７−１１００５号公報に記載の化合物などが挙げられる。

表面層を構成する膜には、劣化防止剤を添加することが望ましい。劣化防止剤としては、ヒンダードフェノール系、又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。
劣化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、イルガノックス１０７６、イルガノックス１０１０、イルガノックス１０９８、イルガノックス２４５、イルガノックス１３３０、イルガノックス３１１４、イルガノックス１０７６（以上、チバ・ジャパン社製）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシビフェニル等が挙げられる。

ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、サノールＬＳ２６２６、サノールＬＳ７６５、サノールＬＳ７７０、サノールＬＳ７４４（以上、三共ライフテック社製）、チヌビン１４４、チヌビン６２２ＬＤ（以上、チバ・ジャパン社製）、マークＬＡ５７、マークＬＡ６７、マークＬＡ６２、マークＬＡ６８、マークＬＡ６３（以上、アデカ社製）が挙げられ、チオエーテル系として、スミライザーＴＰＳ、スミライザーＴＰ−Ｄ（以上、住友化学社製）が挙げられ、ホスファイト系として、マーク２１１２、マークＰＥＰ−８、マークＰＥＰ−２４Ｇ、マークＰＥＰ−３６、マーク３２９Ｋ、マークＨＰ−１０（以上、アデカ社製）等が挙げられる。

表面層を構成する膜には、導電性粒子や、有機、無機粒子を添加してもよい。
この粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、望ましくは平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性若しくはアルカリ性の水分散液、又はアルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれる。該粒子としては一般に市販されているものを使用してもよい。

表面層中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、表面層の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。

表面層中のシリコーン粒子の含有量は、表面層の全固形分全量を基準として、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。

また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂で構成される粒子、ＺｎＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２−Ｓｂ_２Ｏ_３、Iｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２、ＺｎＯ_２−ＴｉＯ_２、ＺｎＯ−ＴｉＯ_２、ＭｇＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＦｅＯ−ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Iｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。さらに、粒子を分散させるために公知の種々の分散材を用いてもよい。

表面層を構成する膜には、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。
シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１．３．５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；３−（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。

表面層を構成する膜には、塗膜の濡れ性改善のため、シリコーン含有オリゴマー、フッ素含有アクリルポリマー、シリコーン含有ポリマー等を添加してもよい。

表面層を構成する膜には、金属、金属酸化物及びカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀及びステンレス等、又はこれらの金属を樹脂の粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ及びアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。

これらは単独で、又は２種以上を組み合わせて用いる。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着での混合でもよい。導電性粒子の平均粒径は０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が望ましい。

表面層用塗布液の溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、クロロベンゼンなどの芳香族炭化水素類；、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール等のアルコール類；、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジオキサン等のエーテル類；、酢酸エチル、酢酸ｎプロピル、酢酸ｎブチル、乳酸エチル等のエステル類等の単独溶媒又は混合溶媒が挙げられる。

表面層用塗布液中にフッ素含有樹脂粒子を分散させるための分散方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機を利用した分散方法が挙げられる。さらに、当該分散方法としては、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などの分散方法も挙げられる。

表面層用塗布液は、被塗布面（電荷輸送層）の上に、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の通常の方法により塗布される。
その後、得られた塗膜に対して、光、電子線又は熱を付与してラジカル重合を生起させて、該塗膜を重合させる。

重合の方法は、熱、光、放射線などが用いられる。熱、光で重合を行う場合、重合開始剤は必ずしも必要ではないが、光硬化触媒又は熱重合開始剤を用いてもよい。この光硬化触媒及び熱重合開始剤としては、公知の光硬化触媒や熱重合開始剤が用いられる。放射線としては電子線が望ましい。

・電子線硬化
電子線を用いる場合、加速電圧は３００ＫＶ以下が望ましく、最適には１５０ＫＶ以下である。また、線量は望ましくは１Ｍｒａｄ以上１００Ｍｒａｄ以下の範囲、より望ましくは３Ｍｒａｄ以上５０Ｍｒａｄ以下の範囲である。加速電圧が３００ＫＶ以下であることにより感光体特性に対する電子線照射のダメージが抑制される。また、線量が１Ｍｒａｄ以上であることにより重合が十分に行なわれ、１００Ｍｒａｄ以下であることにより感光体の劣化が抑制される。
照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が１０００ｐｐｍ、望ましくは５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、又は照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。

・光硬化
光源としては、高圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライドランプなどが用いられ、バンドパスフィルター等のフィルターを用いて好適な波長を選択してもよい。照射時間、光強度は自由に選択されるが、例えば照度（３６５ｎｍ）は３００ｍＷ／ｃｍ^２以上、１０００ｍＷ／ｃｍ^２以下が望ましく、例えば６００ｍＷ／ｃｍ^２のＵＶ光を照射する場合、５秒以上３６０秒以下照射すればよい。

照射は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が望ましくは１０００ｐｐｍ以下、より望ましくは５００ｐｐｍ以下で行い、さらに照射中、又は照射後に５０℃以上１５０℃以下に加熱してもよい。

光硬化触媒としての分子内開裂型光硬化開始剤としては、ベンジルケタール系、アルキルフェノン系、アミノアルキルフェノン系、ホスフィンオキサイド系、チタノセン系、オキシム系などが挙げられる。

より具体的には、ベンジルケタール系として、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オンが挙げられる。

また、アルキルフェノン系としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、アセトフェノン、２−フェニル−２−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）アセトフェノンが挙げられる。

アミノアルキルフェノン系としては、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モリホニル）フェニル］−１−ブタノンなどが挙げられる。

ホスフィノキサイド系としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンキサイドなどが挙げられる。

チタノセン系としては、ビス（η^５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウムなどが挙げられる。

オキシム系としては、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）などが挙げられる。

光硬化触媒としての水素引抜型光硬化開始剤としては、ベンゾフェノン系、チオキサントン系、ベンジル系、ミヒラーケトン系などが挙げられる。
より具体的には、ベンゾフェノン系として、２−ベンゾイル安息香酸、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド、ｐ，ｐ’−ビスジエチルアミノベンゾフェノンなどが挙げられる。
チオキサントン系としては、２，４−ジエチルチオキサンテン−９−オン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントンなどが挙げられる。
ベンジル系としては、ベンジル、（±）−カンファーキノン、ｐ−アニシルなどが挙げられる。
これらの光重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いられる。

・熱硬化
熱重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤又はその誘導体が挙げられ、具体的には、例えば、Ｖ−３０、Ｖ−４０、Ｖ−５９、Ｖ６０１、Ｖ６５、Ｖ−７０、ＶＦ−０９６、ＶＥ−０７３、Ｖａｍ−１１０、Ｖａｍ−１１１（和光純薬工業製）、ＯＴａｚｏ−１５、ＯＴａｚｏ−３０、ＡＩＢＮ、ＡＭＢＮ、ＡＤＶＮ、ＡＣＶＡ（大塚化学）等のアゾ系開始剤；パーテトラＡ、パーヘキサＨＣ、パーヘキサＣ、パーヘキサＶ、パーヘキサ２２、パーヘキサＭＣ、パーブチルＨ、パークミルＨ、パークミルＰ、パーメンタＨ、パーオクタＨ、パーブチルＣ、パーブチルＤ、パーヘキシルＤ、パーロイルＩＢ、パーロイル３５５、パーロイルＬ、パーロイルＳＡ、ナイパーＢＷ、ナイパーＢＭＴ−Ｋ４０／Ｍ、パーロイルＩＰＰ、パーロイルＮＰＰ、パーロイルＴＣＰ、パーロイルＯＰＰ、パーロイルＳＢＰ、パークミルＮＤ、パーオクタＮＤ、パーヘキシルＮＤ、パーブチルＮＤ、パーブチルＮＨＰ、パーヘキシルＰＶ、パーブチルＰＶ、パーヘキサ２５０、パーオクタＯ、パーヘキシルＯ、パーブチルＯ、パーブチルＬ、パーブチル３５５、パーヘキシルＩ、パーブチルＩ、パーブチルＥ、パーヘキサ２５Ｚ、パーブチルＡ、パーヘキシルＺ、パーブチルＺＴ、パーブチルＺ（日油化学社製）、カヤケタールＡＭ−Ｃ５５、トリゴノックス３６−Ｃ７５、ラウロックス、パーカドックスＬ−Ｗ７５、パーカドックスＣＨ−５０Ｌ、トリゴノックスＴＭＢＨ、カヤクメンＨ、カヤブチルＨ−７０、ペルカドックスＢＣ−ＦＦ、カヤヘキサＡＤ、パーカドックス１４、カヤブチルＣ、カヤブチルＤ、カヤヘキサＹＤ−Ｅ８５、パーカドックス１２−ＸＬ２５、パーカドックス１２−ＥＢ２０、トリゴノックス２２−Ｎ７０、トリゴノックス２２−７０Ｅ、トリゴノックスＤ−Ｔ５０、トリゴノックス４２３−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｃ７０、カヤエステルＣＮＤ−Ｗ５０、トリゴノックス２３−Ｃ７０、トリゴノックス２３−Ｗ５０Ｎ、トリゴノックス２５７−Ｃ７０、カヤエステルＰ−７０、カヤエステルＴＭＰＯ−７０、トリゴノックス１２１、カヤエステルＯ、カヤエステルＨＴＰ−６５Ｗ、カヤエステルＡＮ、トリゴノックス４２、トリゴノックスＦ−Ｃ５０、カヤブチルＢ、カヤカルボンＥＨ−Ｃ７０、カヤカルボンＥＨ−Ｗ６０、カヤカルボンＩ−２０、カヤカルボンＢＩＣ−７５、トリゴノックス１１７、カヤレン６−７０（化薬アクゾ社製）、ルペロックス６１０、ルペロックス１８８、ルペロックス８４４、ルペロックス２５９、ルペロックス１０、ルペロックス７０１、ルペロックス１１、ルペロックス２６、ルペロックス８０、ルペロックス７、ルペロックス２７０、ルペロックスＰ、ルペロックス５４６、ルペロックス５５４、ルペロックス５７５、ルペロックスＴＡＮＰＯ、ルペロックス５５５、ルペロックス５７０、ルペロックスＴＡＰ、ルペロックスＴＢＩＣ、ルペロックスＴＢＥＣ、ルペロックスＪＷ、ルペロックスＴＡＩＣ、ルペロックスＴＡＥＣ、ルペロックスＤＣ、ルペロックス１０１、ルペロックスＦ、ルペロックスＤＩ、ルペロックス１３０、ルペロックス２２０、ルペロックス２３０、ルペロックス２３３、ルペロックス５３１（アルケマ吉富社製）などが挙げられる。 これらのうち、分子量２５０以上のアゾ系重合開始剤を用いると、低い温度でムラなく反応が進行することから、ムラの抑制された高強度の膜の形成が図られる。より好適には、アゾ系重合開始剤の分子量は、２５０以上であり、３００以上が更に好適である。

加熱は、窒素、アルゴンなどの不活性ガス雰囲気下、酸素濃度が望ましくは１０００ｐｐｍ以下、より望ましくは５００ｐｐｍ以下で行い、望ましくは５０℃以上１７０℃以下、より望ましくは７０℃以上１５０℃以下で、望ましくは１０分以上１２０分以下、より望ましくは１５分以上１００分以下加熱する。

光硬化触媒又は熱重合開始剤の総含有量は、層形成のための溶解液中の全固形分に対して０．１質量％以上１０質量％以下が望ましく、更には０．１質量％以上８質量％以下がより望ましく、０．１質量％以上５質量％以下の範囲が特に望ましい。

なお、本実施態様では、反応が早く進行しすぎると架橋により塗膜の構造緩和ができ難くなり、膜のムラやシワを発生しやすくなるといった理由から、ラジカルの発生が比較的ゆっくりと起こる熱による重合方法が採用される。

特に、特定の反応性基含有電荷輸送材料と熱による硬化とを組み合わせることで、塗膜の構造緩和の促進が図られ、表面性状に優れた高い表面層が得られ易くなる。

表面層の膜厚は、例えば、望ましくは３μｍ以上４０μｍ以下、より望ましくは５μｍ以上３５μｍ以下の範囲内に設定される。

図２に、本発明の電子写真感光体を有するプロセスカートリッジを備えた電子写真装置の概略構成の一例を示す。
図２において、１は円筒状（ドラム状）の本発明の電子写真感光体であり、軸２を中心に矢印方向に所定の周速度（プロセススピード）をもって回転駆動される。電子写真感光体１は、回転過程において、帯電手段（一次帯電手段）３により、その表面（周面）が正または負に帯電される。次いで、電子写真感光体１の表面には、露光手段（像露光手段）（不図示）から出力される露光光（像露光光）４が照射される。露光光４は、目的の画像情報の時系列電気デジタル画像信号に対応して強度変調される。露光手段としては、スリット露光やレーザービーム走査露光などが挙げられる。こうして電子写真感光体１の表面には、目的の画像情報に対応した静電潜像が形成される。

電子写真感光体１の表面に形成された静電潜像は、次いで、現像手段５内に収容されたトナーで現像（正規現像または反転現像）され、トナー像が形成される。電子写真感光体１の表面に形成されたトナー像は、転写手段６により転写材７に転写される。ここで、転写材７が紙である場合、給紙部（不図示）から電子写真感光体１の回転と同期して取り出されて、電子写真感光体１と転写手段６との間に給送される。また、転写手段６には、バイアス電源（不図示）からトナーの保有電荷とは逆極性のバイアス電圧が印加される。また、転写手段は、一次転写部材、中間転写体および二次転写部材を有する中間転写方式の転写手段であってもよい。

トナー像が転写された転写材７は、電子写真感光体１の表面から分離され、定着手段８へ搬送されて、トナー像の定着処理を受けることにより、画像形成物（プリント、コピー）として電子写真装置外へプリントアウトされる。

トナー像転写後の電子写真感光体１の表面は、クリーニング手段９によってクリーニングされ、転写残トナーなどの付着物が除去される。転写残トナーは、現像手段などで回収することもできる。さらに、必要に応じて、電子写真感光体１の表面は、前露光手段（不図示）からの前露光光１０の照射により除電処理された後、繰り返し画像形成に使用される。なお、帯電手段３が帯電ローラーなどを用いた接触帯電手段である場合は、前露光手段は必ずしも必要ではない。

本発明においては、電子写真感光体１、帯電手段３、現像手段５、転写手段６およびクリーニング手段９などから選択される構成要素のうち、複数のものを容器に納めてプロセスカートリッジとしてもよい。また、プロセスカートリッジを電子写真装置本体に対して着脱自在とする構成であってもよい。例えば、電子写真感光体１と、帯電手段３、現像手段５、転写手段６およびクリーニング手段９からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持してカートリッジ化して、電子写真装置本体のレールなどの案内手段１２を用いて電子写真装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジ１１とすることができる。

以下、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳細に説明する。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。

〈実施例１〉
−下引層の作製−
酸化亜鉛：（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ^２／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０３：信越化学社製）１．３質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。

表面処理を施した酸化亜鉛１１０質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．６質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行いアリザリン付与酸化亜鉛を得た。

このアリザリン付与酸化亜鉛６０質量部と硬化剤（ブロック化イソシアネート スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）：１３．５質量部とブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部とをメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部とメチルエチルケトン：２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い分散液を得た。

得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート：０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）：４０質量部を添加し、下引層形成用塗布液を得た。

導電性支持体として直径３０ｍｍ、長さ３５７．５ｍｍ、肉厚１ｍｍの円筒状アルミニウム支持体を準備し、得られた下引層形成用塗布液を浸漬塗布法にて、円筒状アルミニウム支持体上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い、厚さ１８．７μｍの下引層を得た。

−電荷発生層の作製−
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３°、１６．０°、２４．９°、２８．０°の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５質量部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０質量部、及び酢酸ｎ−ブチル２００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液に酢酸ｎ−ブチル１７５質量部、及びメチルエチルケトン１８０質量部を添加し、攪拌して電荷発生層形成用塗布液を得た。
得られた電荷発生層形成用塗布液を先に円筒状アルミニウム支持体に形成した下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。

−電荷輸送層の作製−
次に、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン（ＴＰＤ）４０質量部、Ｎ，Ｎ−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン１０質量部、及び結着樹脂としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（三菱ガス（株）製：粘度平均分子量：６万、重量平均分子量５万）５５質量部をテトラヒドロフラン５６０質量部、トルエン２４０質量部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を先に円筒状アルミニウム支持体に形成した電荷発生層上に塗布し、１３５℃、４５分の乾燥を行って膜厚が２５μｍの電荷輸送層を形成した。

−表面層の作製−
まず、ルブロンＬ２（ダイキン工業（株）社製）５質量部及びフッ素系グラフトポリマー（アロンＧＦ３００：東亜合成製）０．２質量部を、酢酸イソブチル３００質量部とともに、２０℃の恒温槽内にて超音波ホモジナイザー（日本精機製作所（株）製）で１０分間の分散処理を３回繰り返し、懸濁液を得た。その懸濁液に、例示化合物（１−１−Ｅ）１００質量部と、重合開始剤のＶＥ−７３（和光純薬工業（株）製）２質量部を加え、室温で１２時間撹拌混合して、表面層用塗布液を作製した。

次に、得られた表面層用塗布液を、先に円筒状アルミニウム支持体上に形成した電荷輸送層上にリング塗布法によって、突き上げ速度２００ｍｍ／ｍｉｎで塗布した。その後、酸素濃度計を有する窒素乾燥機にて、酸素濃度１００ｐｐｍ以下の状態で、温度１６０±５℃、時間６０分の硬化反応を実施し、表面層を形成した。表面層の膜厚は７μｍであった。
以上のようにして、電子写真感光体を製造した。

〈実施例２〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）５０質量部とし、さらに下記式（４）で示される化合物を５０質量部加えて表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈実施例３〉
実施例２において、表面層用塗布液を先に円筒状アルミニウム支持体上に形成した電荷輸送層上にリング塗布した後、得られた塗膜を５０℃で５分間加熱処理した。その後、窒素雰囲気下にて、加速電圧７０ｋＶ、吸収線量５００００Ｇｙの条件で１．６秒間電子線を塗膜に照射した。その後、窒素雰囲気下にて、塗膜が１３０℃になる条件で２５秒間加熱処理した。なお、電子線の照射から２５秒間の加熱処理までの酸素濃度は１００ｐｐｍであった。次に、大気中において、塗膜が１１５℃になる条件で１２分間加熱処理することによって、膜厚が７μｍの表面層を形成した以外は実施例２と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈実施例４〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）を例示化合物（１−１−Ｆ）に変更して表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈実施例５〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）を例示化合物（２−１−Ａ）に変更して表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈実施例６〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）を例示化合物（１−１−Ｈ）に変更して表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈実施例７〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）を例示化合物（２−１−Ｃ）に変更して表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈実施例８〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）を例示化合物（１−２−Ｄ）に変更して表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈実施例９〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）を例示化合物（２−１−Ｅ）に変更して表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈実施例１０〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）を例示化合物（１−１−Ｇ）に変更して表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈比較例１〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）を下記式（５）で示される化合物に変更して表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

〈比較例２〉
実施例１において、例示化合物（１−１−Ｅ）を下記式（６）で示される化合物に変更して表面層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様にして電子写真感光体を製造した。

（評価）
（電気特性の評価）
実施例および比較例で製造した電子写真感光体の電気特性の評価は、ｉＲ ＡＶＤ Ｃ５０５１（商品名）に各感光体を搭載して温度３０℃／湿度７５％ＲＨの高温高湿環境下で１日間放置したのち評価を行った。
具体的には、初期の帯電電位を６００±５０Ｖに調整し、耐久試験前と１０００枚後の露光部電位の変化量（ΔＶ）を電位変動量として算出した。電位変動量が２０Ｖ以下であれば電気特性が良好と評価した。結果を表１に示す。

（耐摩耗性の評価）
実施例および比較例で製造した電子写真感光体の耐摩耗性の評価は、ｉＲ ＡＶＤ Ｃ５０５１（商品名）に各感光体を搭載して温度３０℃／湿度７５％ＲＨの高温高湿環境下で１日間放置したのち評価を行った。
具体的には、画像比率５％の文字画像をＡ４横送りで１００，０００枚連続でプリントを行う耐久試験を実施し、耐久試験前後における感光体の表面層の膜厚減耗量により評価した。膜厚減耗量が１．０μｍ以下であれば耐摩耗性が良好と評価した。結果を表１に示す。

（画像流れの評価）
実施例および比較例で製造した電子写真感光体の画像流れの評価は、ｉＲ ＡＶＤ Ｃ５０５１（商品名）に各感光体を搭載して温度３０℃／湿度７５％ＲＨの高温高湿環境下で１日間放置したのち評価を行った。
具体的には、１０００枚の画像の出力後、評価機への給電を停止し、１日休止させた。１日休止後に再び評価装置に給電を開始し、Ａ４縦サイズ紙にて、線幅０．１ｍｍ、線間隔１０ｍｍの正方形格子画像を出力した。

得られた画像について、以下の評価のランクに従って、画像流れを抑制する効果を評価した。ランクの数字が大きいほど良好であり、ランク５、４および３は、画像流れ抑制効果が良好と評価した。
ランク５：格子画像の画像欠陥はみられない
ランク４：格子画像が一部薄くなっている
ランク３：格子画像が全面薄くなっている
ランク２：格子画像が部分的に消失している
ランク１：格子画像が全面消失している
評価結果を表１に示す。

１０１ 支持体
１０２ 電荷発生層
１０３ 電荷輸送層
１０４ 表面層
１０５ 感光層
１ 電子写真感光体
２ 軸
３ 帯電手段
４ 露光光
５ 現像手段
６ 転写手段
７ 転写材
８ 定着手段
９ クリーニング手段
１０ 前露光光
１１ プロセスカートリッジ
１２ 案内手段

Claims (12)

1. 支持体、および該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体であって、
   該感光層の表面層が、下記式（１）で示される化合物、下記式（２）で示される化合物、下記式（３）で示される化合物、および下記式（１−１−Ｅ）で示される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物の重合物を含有することを特徴とする電子写真感光体。
   

   

   但し、前記式（１）中、
   ａ^１１〜ａ^１３は０以上の整数を示し、
   ｂ^１１〜ｂ^１３は０以上の整数を示し、
   ｃ^１１〜ｃ^１３は０以上の整数を示し、
   ａ^１１＋ａ^１２＋ａ^１３≧２であり、
   ｂ^１１＋ｂ^１２＋ｂ^１３≧１であり、
   ａ^１１およびｂ^１１のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^１２およびｂ^１２のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^１３およびｂ^１３のいずれか一方または両方が０であり、
   Ａｒ^１１は無置換のアレーンから（ａ^１１＋ｂ^１１＋ｃ^１１＋１）個の水素原子を除いた（ａ^１１＋ｂ^１１＋ｃ^１１＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^１２は無置換のアレーンから（ａ^１２＋ｂ^１２＋ｃ^１２＋１）個の水素原子を除いた（ａ^１２＋ｂ^１２＋ｃ^１２＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^１３は無置換のアレーンから（ａ^１３＋ｂ^１３＋ｃ^１３＋１）個の水素原子を除いた（ａ^１３＋ｂ^１３＋ｃ^１３＋１）価の基を示し、
   Ｒ^１１〜Ｒ^１３は炭素数が９以上のアルキル基を示し、
   Ｑ^１１〜Ｑ^１３はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルキル基、又はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を示し、
   Ｐ^１１〜Ｐ^１３はそれぞれ独立に、下記式（Ａ）で示される基を示す。
   

   

   但し、前記式（Ａ）中、
   ＊は前記式（１）、下記式（２）、（３）中、Ａｒ^１１〜Ａｒ^１３、Ａｒ^２１〜Ａｒ^２５およびＡｒ^３１〜Ａｒ^３６に結合する結合手を示し、
   Ｌはアルカン又はアルケンから誘導される３価又は４価の基、並びに、アルキレン基、アルケニレン基、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｎ（Ｒ^Ａ）−、−Ｓ−、および−Ｏ−からなる群より選択される２種以上を含む（ｎ＋１）価の連結基を示し、
   Ｒ^Ａは水素原子もしくはアルキル基を示し、
   ｎは１以上３以下の整数を示す。
   

   

   但し、前記式（２）中、
   ａ^２１〜ａ^２５は０以上の整数を示し、
   ｂ^２１〜ｂ^２５は０以上の整数を示し、
   ｃ^２１〜ｃ^２５は０以上の整数を示し、
   ａ^２１＋ａ^２２＋ａ^２３＋ａ^２４＋ａ^２５≧２であり、
   ｂ^２１＋ｂ^２２＋ｂ^２３＋ｂ^２４＋ｂ^２５≧１であり、
   ａ^２１およびｂ^２１のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２２およびｂ^２２のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２３およびｂ^２３のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２４およびｂ^２４のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２５およびｂ^２５のいずれか一方または両方が０であり、
   Ａｒ^２１は無置換のアレーンから（ａ^２１＋ｂ^２１＋ｃ^２１＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２１＋ｂ^２１＋ｃ^２１＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^２２は無置換のアレーンから（ａ^２２＋ｂ^２２＋ｃ^２２＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２２＋ｂ^２２＋ｃ^２２＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^２３は無置換のアレーンから（ａ^２３＋ｂ^２３＋ｃ^２３＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２３＋ｂ^２３＋ｃ^２３＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^２４は無置換のアレーンから（ａ^２４＋ｂ^２４＋ｃ^２４＋１）個の水素原子を除いた（ａ^２４＋ｂ^２４＋ｃ^２４＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^２５は無置換のアレーンから（ａ^２５＋ｂ^２５＋ｃ^２５＋２）個の水素原子を除いた（ａ^２５＋ｂ^２５＋ｃ^２５＋２）価の基を示し、
   Ｒ^２１〜Ｒ^２５は炭素数が９以上のアルキル基を示し、
   Ｑ^２１〜Ｑ^２５はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルキル基、又はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を示し、
   Ｐ^２１〜Ｐ^２５はそれぞれ独立に、前記式（Ａ）で示される基を示す。
   

   

   但し、前記式（３）中、
   ａ^３１〜ａ^３６は０以上の整数を示し、
   ｂ^３１〜ｂ^３６は０以上の整数を示し、
   ｃ^３１〜ｃ^３６は０以上の整数を示し、
   ａ^３１＋ａ^３２＋ａ^３３＋ａ^３４＋ａ^３５＋ａ^３６≧２であり、
   ｂ^３１＋ｂ^３２＋ｂ^３３＋ｂ^３４＋ｂ^３５＋ｂ^３６≧１であり、
   ａ^３１およびｂ^３１のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３２およびｂ^３２のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３３およびｂ^３３のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３４およびｂ^３４のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３５およびｂ^３５のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３６およびｂ^３６のいずれか一方または両方が０であり、
   Ａｒ^３１は無置換のアレーンから（ａ^３１＋ｂ^３１＋ｃ^３１＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３１＋ｂ^３１＋ｃ^３１＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^３２は無置換のアレーンから（ａ^３２＋ｂ^３２＋ｃ^３２＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３２＋ｂ^３２＋ｃ^３２＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^３３は無置換のアレーンから（ａ^３３＋ｂ^３３＋ｃ^３３＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３３＋ｂ^３３＋ｃ^３３＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^３４は無置換のアレーンから（ａ^３４＋ｂ^３４＋ｃ^３４＋１）個の水素原子を除いた（ａ^３４＋ｂ^３４＋ｃ^３４＋１）価の基を示し、
   Ａｒ^３５は無置換のアレーンから（ａ^３５＋ｂ^３５＋ｃ^３５＋２）個の水素原子を除いた（ａ^３５＋ｂ^３５＋ｃ^３５＋２）価の基を示し、
   Ａｒ^３６は無置換のアレーンから（ａ^３６＋ｂ^３６＋ｃ^３６＋２）個の水素原子を除いた（ａ^３６＋ｂ^３６＋ｃ^３６＋２）価の基を示し、
   Ｒ^３１〜Ｒ^３６は炭素数が９以上のアルキル基を示し、
   Ｑ^３１〜Ｑ^３６はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルキル基、又はカルボキシ基、ヒドロキシ基およびハロゲン原子からなる群より選択される少なくとも１つで置換されたもしくは置換されていない炭素数１〜８のアルコキシ基、カルボキシ基、ヒドロキシ基、フッ素原子、塩素原子、または臭素原子を示し、
   Ｐ^３１〜Ｐ^３６はそれぞれ独立に、前記式（Ａ）で示される基を示し、
   Ｘ^３１はアルキレン基、シクロアルキリデン基、アルケニレン基、−Ｓ−、および−Ｏ−のいずれかで示される２価の連結基を示す。
   

   
2. 前記式（１）〜（３）中、
   Ｒ^１１〜Ｒ^１３、Ｒ^２１〜Ｒ^２５およびＲ^３１〜Ｒ^３６が炭素数９以上の直鎖のアルキル基を示す請求項１に記載の電子写真感光体。
3. 前記式（２）および（３）中、
   ｂ^２５、ｂ^３５およびｂ^３６が０である請求項１または２に記載の電子写真感光体。
4. 前記式（１）〜（３）中、
   ａ^１１＋ａ^１２＋ａ^１３＝２であり、
   ａ^２１＋ａ^２２＋ａ^２３＋ａ^２４＋ａ^２５＝２であり、
   並びにａ^３１＋ａ^３２＋ａ^３３＋ａ^３４＋ａ^３５＋ａ^３６＝２である請求項３に記載の電子写真感光体。
5. 前記表面層が
   前記式（１）〜（３）で示される化合物から選択される少なくとも１種の化合物と、
   前記式（１）〜（３）中、
   ａ^１１＋ａ^１２＋ａ^１３＝１であり、
   ａ^２１＋ａ^２２＋ａ^２３＋ａ^２４＋ａ^２５＝１であり、
   並びにａ^３１＋ａ^３２＋ａ^３３＋ａ^３４＋ａ^３５＋ａ^３６＝１であり、
   ｃ^１１＋ｃ^１２＋ｃ^１３＝１であり、
   ｃ^２１＋ｃ^２２＋ｃ^２３＋ｃ^２４＋ｃ^２５＝１であり、
   並びにｃ^３１＋ｃ^３２＋ｃ^３３＋ｃ^３４＋ｃ^３５＋ｃ^３６＝１であり、
   ａ^１１およびｃ^１１のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^１２およびｃ^１２のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^１３およびｃ^１３のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２１およびｃ^２１のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２２およびｃ^２２のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２３およびｃ^２３のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２４およびｃ^２４のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２５およびｃ^２５のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^２６およびｃ^２６のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３１およびｃ^３１のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３２およびｃ^３２のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３３およびｃ^３３のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３４およびｃ^３４のいずれか一方または両方が０であり、
   ａ^３５およびｃ^３５のいずれか一方または両方が０であり、
   並びにａ^３６およびｃ^３６のいずれか一方または両方が０である
   化合物から選択される少なくとも１種の化合物との
   共重合物を含有する請求項４に記載の電子写真感光体。
6. 前記式（１）〜（３）中、
   ｂ^１１＋ｂ^１２＋ｂ^１３≧２であり、
   ｂ^２１＋ｂ^２２＋ｂ^２３＋ｂ^２４＋ｂ^２５≧２であり、
   並びにｂ^３１＋ｂ^３２＋ｂ^３３＋ｂ^３４＋ｂ^３５＋ｂ^３６≧２である請求項４に記載の電子写真感光体。
7. 前記表面層が、
   前記式（１）で示される化合物の重合物を含有する請求項６に記載の電子写真感光体。
8. 前記式（Ａ）中、
   ｎが２である請求項７に記載の電子写真感光体。
9. 請求項１から８のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、帯電手段、現像手段およびクリーニング手段からなる群より選択される少なくとも１つの手段とを一体に支持し、電子写真装置本体に着脱自在であることを特徴とするプロセスカートリッジ。
10. 請求項１から８のいずれか１項に記載の電子写真感光体、ならびに帯電手段、露光手段、現像手段および転写手段を有する電子写真装置。
11. 請求項１から８のいずれか１項に記載の電子写真感光体を製造する電子写真感光体の製造方法であって、
    前記製造方法が、
    前記式（１）で示される化合物、前記式（２）で示される化合物、前記式（３）で示される化合物、および前記式（１−１−Ｅ）で示される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含有する表面層用塗布液を調製する工程、ならびに
    該表面層用塗布液の塗膜を形成し、該塗膜を重合させることによって前記表面層を形成する工程
    を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
12. 電子線を照射することによって該塗膜を重合させる請求項１１に記載の電子写真感光体の製造方法。

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