JP6892281B2 - 配線基板およびその製造方法 - Google Patents
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Description
4 金属層
8 キャビティ
A 配線基板
X キャビティ領域
Y キャビティ周辺領域
Claims (3)
- 上面および下面に、キャビティ領域および該キャビティ領域を囲繞するキャビティ周辺領域を有する絶縁基板を準備する工程と、
前記上面および前記下面の前記キャビティ周辺領域に、前記キャビティ領域と前記キャビティ周辺領域との境界に沿って金属層を形成する工程と、
前記キャビティ領域に上方および下方からレーザー光を照射し、前記キャビティ領域を除去することで前記絶縁基板にキャビティを形成する工程と、
を含み、上面視において、前記境界の位置を、前記絶縁基板の上面側で下面側よりも外側に位置させることを特徴とする配線基板の製造方法。 - 前記キャビティ領域が長方形状であって、前記上面側の前記金属層を、前記キャビティ領域を囲繞するように一体的に形成するとともに、前記下面側の前記金属層を、前記キャビティ領域のそれぞれの長辺に隣接する領域に非形成部を有するように分割的に形成する請求項1に記載の配線基板の製造方法。
- 前記金属層を形成する工程において、銅を含む金属材料を用いて前記金属層を形成し、さらに該金属層と同じ種類の金属材料で配線導体を形成する請求項1または2のいずれかに記載の配線基板の製造方法。
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