JP6882905B2 - 軟磁性扁平粉末 - Google Patents
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Description
したスラリーを、フイルムに塗布したり、印刷し、これを乾燥させる工程を含む。近年では、コストダウンのため有機溶剤の添加量の少ないスラリーとしたり、あるいは、磁性シートの強度を上げるため粘性の高い樹脂を使用するなど、塗布や印刷するときのスラリーの粘度が高い場合が出てきた。こういった状況においては、従来のように低いタップ密度などの物性を持つ扁平粉末では、以下のような課題が顕在化するようになってきた。
の比が0.18以下、つまり、タップ密度がおよそ1.2〜1.3g/cm3の扁平粉末のように使用する軟磁性扁平粉末の長径が過大であるとき、50μm以下の薄さの磁性シートを作る際に、方向性が揃わなかったり、シート内の磁性粉末に粗密ができたりして、シート成形がうまくいかない場合が多い。シート成形時のこのようなトラブルをなくす為に、シート作製時の粉末充填率を下げる方法や、成形後にシートをプレスするといった方法が行われる。しかし、前者の方法などでは、結果的にシートの透磁率を下げ、性能を低下させる。また、後者の方法などでは、シート中の粉末に過大な応力かかるため、粉末に歪が導入される。歪の導入は粉末の保磁力Hcの増大をもたらし、粉末の透磁率が低下するため結果的に性能を低下させる。
<原料球状粉末準備工程>
本発明の軟磁性扁平粉末は、軟磁性合金粉末を扁平化処理することで作製することができる。軟磁性合金粉末は、保磁力の値が低い粉末であることが好ましく、飽和磁化の値が高い粉末であることがより好ましい。一般的に、保磁力と飽和磁化の値が優れているのは、Fe−Si−Al系合金である。
って作製される。軟磁性合金粉末の含有酸素量は、少ないほうがより好ましいため、ガスアトマイズ法による製造が好ましく、さらに不活性ガスを用いての製造がより好ましい。ディスクアトマイズ法による方法でも問題なく製造できるが、量産性の観点からは、ガスアトマイズ法が優れている。
次に、上記軟磁性合金粉末を扁平化する。
扁平加工方法は、特に制限は無く、例えば、アトライタ、ボールミル、振動ミル等を用いて行うことができる。中でも、比較的扁平加工能力に優れるアトライタを用いることが好ましい。また、乾式で加工を行う場合は、不活性ガスを用いることが好ましい。湿式で加工する場合は、有機溶媒を用いることが好ましい。有機溶媒の種類については特に限定されない。
次に、上記軟磁性扁平粉末を熱処理する。熱処理装置について特に制限は無いが、熱処理温度は700℃〜900℃の条件で熱処理されることが好ましい。該当温度で熱処理を行うことによって、保磁力が低下し、高透磁率の軟磁性扁平粉末となる。また、熱処理時間について特に制限は無く、処理量や生産性に応じて適宜選択されるとよい。長時間の熱処理の場合、生産性が低下するため、5時間以内が好適である。
軟磁性扁平粉末の平均粒径D50は10〜50μm未満であることが好ましく、15〜40μm未満であることがより好ましく、20〜35μm未満であることがさらに好ましい。平均粒径が10μm未満では、シート成形時に粉末の充填率が低くなり、実部透磁率μ´が低くなる傾向にある。また、平均粒径が大きくなりすぎると、シート成形が困難になるため好ましくない。また、平均粒径が50μm以上では、シート成形時に表面に凸が生じる傾向にあり、好ましくない。
軟磁性扁平粉末の長手方向に磁場を印可して測定した保磁力Hcは119A/m以下であることが好ましく、90A/m以下であることがより好ましい。本発明の請求範囲において、保磁力の値が低いほど、透磁率はより高くなる傾向にある。
軟磁性扁平粉末の厚さ方向に磁場を印可して測定した保磁力Hcは238A/m以下であることが好ましく、220A/m以下であることがより好ましい。本発明の請求範囲において、保磁力の値が低いほど、透磁率はより高くなる傾向にある。
扁平粉末の保磁力の比が1.2未満となると、アスペクト比も小さくなり、透磁率は低くなる傾向にあるため、好ましくない。また、この比率が3.0よりも大きくなるとシート成形時の粉末の充填率が低くなり、透磁率は低くなる傾向にあるため、好ましくない。
本発明の軟磁性扁平粉末のタップ密度は、1.5〜4.0g/cm3が好ましく、1.7〜3.8g/cm3がより好ましく、1.9〜3.5g/cm3がさらに好ましい。タップ密度1.5g/cm3未満は、シート成形時の粉末の充填率が低くなり、透磁率は低くなる傾向にあるため、好ましくない。また、タップ密度4.0g/cm3を超えるとアスペクト比も小さくなり、透磁率は低くなる傾向にあるため、好ましくない。
適となる場合があり、本発明の扁平化工方法で製造された粉末について、熱処理行程中あるいは熱処理工程の前後において、表面処理工程を必要に応じて加えても良い。たとえば表面処理のために、活性ガスを微量に含む雰囲気化で熱処理されてもよい。
(扁平粉末の作製)
ガスアトマイズ法により所定の成分の粉末を作製し、表1に記載の網で篩い、原料粉末の粒度を変えることにより、扁平粉のD50を変化させた。ガスアトマイズは、アルミナ製坩堝を溶解に用い、坩堝下の直径5mmのノズルから合金溶湯を出湯し、これに高圧アルゴンを噴霧することで実施した。これを原料粉末としアトライタにより扁平加工した。アトライタは、SUJ2製の直径4.8mmのボールを使用し、原料粉末と工業エタノールとともに撹拌容器に投入し、羽根の回転数を300rpmとして実施した。一般に、加工時間に伴い扁平化が進み、TDが低下してくる。そこで、加工途中で少量サンプルを採取し、TDを測定しながら、表1のTDになるまで加工した。工業エタノールの添加量は、原料粉末100質量部に対し、200〜500質量部とした。扁平化助剤は、添加しないか、もしくは、原料粉末100質量部に対し、1〜5質量部とした。扁平加工後に撹拌容器から取り出した扁平粉末と工業エタノールをステンレス製の皿に移し、80℃で24時間乾燥させた。このようにして得た扁平粉末をアルゴン中で、700〜900℃で2時間熱処理し、各種の評価に用いた。
得られた扁平粉末の平均粒径、タップ密度、保磁力を評価した。平均粒径はレーザー回折法、タップ密度は約20gの扁平粉末を、容積100cm3のシリンダーに充填し、落下高さ10mmタップ回数200回の時の充填密度で評価した。保磁力は直径6mm、高さ8mmの樹脂製容器に扁平粉末を充填し、この容器の高さ方向に磁化した場合と、直径方向に磁化した場合の値を測定した。なお、扁平粉末は充填された円柱の高さ方向が厚さ方向となっているため、容器の高さ方向に磁化した場合が扁平粉末の厚さ方向、容器の直径方向に磁化した場合が扁平粉末の長手方向の保磁力となる。印可磁場は144kA/mで実施した。
トルエン87.5重量%に塩素化ポリエチレン12.5重量%を溶解し、これに得られた扁平粉末を混合分散した。この分散液をポリエステル樹脂に厚さ100μm程度に塗布し常温常湿で乾燥させた。次に、この磁性シートを、外径7mm、内径3mmのドーナツ状に切り出し、インピーダンス測定器により、室温で1MHzにおけるインピーダンス特性を測定し、その結果から透磁率(複素透磁率の実部:μ´)を算出した。
以上、本発明を実施例に基づいて説明したが、本発明はこの実施例に特に限定されない。また、比較例は後述の表1に示す条件を適宜異ならせ作製した。表1に評価結果を示す。
特許出願人 山陽特殊製鋼株式会社
代理人 弁理士 椎 名 彊
Claims (1)
- Fe−Si−Al系合金からなる扁平粉末であって、平均粒径D50が10μm以上50μm未満、扁平粉末の長手方向に磁場を印可して測定した保磁力Hcが119A/m以下、厚さ方向に磁場を測定した保磁力Hcが83A/m以上238A/m以下、長手方向の保磁力に対する厚さ方向の保磁力の比が1.2〜3.0、タップ密度TDが2.0〜4.0g/cm3を満足することを特徴とする軟磁性扁平粉末。
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