JP6867536B1 - 半導体発光装置および半導体発光装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
図1は、第1の実施の形態に係る半導体発光装置10の構成を概略的に示す断面図である。半導体発光装置10は、半導体発光素子12と、実装基板14と、p側外側バンプ16aおよびp側内側バンプ16b(総称してp側バンプ16ともいう)と、n側外側バンプ18aおよびn側内側バンプ18b(総称してn側バンプ18ともいう)とを備える。半導体発光素子12は、p側バンプ16およびn側バンプ18を介して、実装基板14に接合ないし実装される。
図20は、第2の実施の形態に係る半導体発光素子112の構成を概略的に示す上面図であり、上述の図6に対応する。第2の実施の形態では、p側パッド電極136、n側パッド電極138、p側パッド開口156およびn側パッド開口158の形成範囲を第1の実施の形態から変更している。第2の実施の形態におけるその他の構成は、第1の実施の形態と同様である。
Claims (7)
- n型AlGaN系半導体材料から構成されるn型半導体層と、
前記n型半導体層上に設けられ、AlGaN系半導体材料から構成され、前記n型半導体層の外縁に沿って第1方向に延在するバスバー部と、前記バスバー部から前記第1方向と交差する第2方向に延在する複数のフィンガー部とを有し、櫛歯形状となる活性層と、
前記活性層の上面全体に設けられ、櫛歯形状となるp型半導体層と、
前記n型半導体層上に設けられ、前記n型半導体層の外縁に沿って前記第1方向に延在するn側バスバー電極と、前記n側バスバー電極から前記第2方向に延在する複数のn側フィンガー電極とを有し、前記複数のフィンガー部および前記複数のn側フィンガー電極が前記第1方向に交互に配置され、前記活性層および前記p型半導体層の櫛歯形状と間挿する櫛歯形状となるn側コンタクト電極と、
前記p型半導体層上に設けられ、前記バスバー部上において前記第1方向に延在するp側バスバー電極と、前記複数のフィンガー部上において前記p側バスバー電極から前記第2方向に延在する複数のp側フィンガー電極とを有し、櫛歯形状となるp側コンタクト電極と、
前記p側コンタクト電極上に設けられ、前記p側バスバー電極上において前記第1方向に延在するp側バスバー開口と、前記複数のp側フィンガー電極上において前記p側バスバー開口から前記第2方向に延在する複数のp側フィンガー開口とを有し、櫛歯形状となるp側パッド開口と、前記n側コンタクト電極上に設けられ、前記n側バスバー電極上において前記第1方向に延在するn側バスバー開口と、前記複数のn側フィンガー電極上において前記n側バスバー開口から前記第2方向に延在する複数のn側フィンガー開口とを有し、櫛歯形状となるn側パッド開口とを含み、前記p側パッド開口とは異なる箇所において前記p側コンタクト電極を被覆し、前記n側パッド開口とは異なる箇所において前記n側コンタクト電極を被覆し、誘電体材料から構成される保護層と、
前記保護層上に設けられ、前記p側パッド開口において前記p側コンタクト電極と接続するp側パッド電極と、
前記保護層上に設けられ、前記n側パッド開口において前記n側コンタクト電極と接続するn側パッド電極と、を備えることを特徴とする半導体発光装置。 - 前記複数のフィンガー部は、前記複数のn側フィンガー電極の間に挿入され、前記第2方向に延在する内側フィンガー部と、前記n型半導体層の外縁に沿って前記第2方向に延在する外側フィンガー部とを有し、
前記複数のp側フィンガー電極は、前記内側フィンガー部上に設けられるp側内側フィンガー電極と、前記外側フィンガー部上に設けられるp側外側フィンガー電極とを有することを特徴とする請求項1に記載の半導体発光装置。 - 前記外側フィンガー部の前記第1方向の幅は、前記内側フィンガー部の前記第1方向の幅よりも小さく、前記p側外側フィンガー電極の前記第1方向の幅は、前記p側内側フィンガー電極の前記第1方向の幅よりも小さいことを特徴とする請求項2に記載の半導体発光装置。
- 前記n側コンタクト電極は、前記n型半導体層と接触するn側コンタクト層と、前記n側コンタクト層上に設けられる第1電流拡散層と、前記第1電流拡散層上に設けられる第2電流拡散層とを含み、
前記p側コンタクト電極は、前記p型半導体層と接触するp側コンタクト層と、
前記p側コンタクト層上に設けられるp側電流拡散層とを含み、
前記p側コンタクト層の上面の高さ位置と前記第1電流拡散層の上面の高さ位置の差が100nm以下であり、
前記p側電流拡散層の上面の高さ位置と前記第2電流拡散層の上面の高さ位置の差が100nm以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれか一項に記載の半導体発光装置。 - 前記p側パッド電極上の前記複数のp側フィンガー電極と重なる位置に設けられるp側バンプと、
前記n側パッド電極上の前記複数のp側フィンガー電極と重なる位置に設けられるn側バンプと、
前記p側バンプおよび前記n側バンプと接合される実装基板と、をさらに備えることを特徴とする請求項1から4のいずれか一項に記載の半導体発光装置。 - n型AlGaN系半導体材料から構成されるn型半導体層上にAlGaN系半導体材料から構成される活性層を形成する工程と、
前記活性層上にp型半導体層を形成する工程と、
前記n型半導体層上の第1櫛歯領域とは異なる領域の前記p型半導体層および前記活性層を除去し、前記n型半導体層の外縁に沿って第1方向に延在するバスバー部と、前記バスバー部から前記第1方向と交差する第2方向に延在する複数のフィンガー部とを有し、前記第1櫛歯領域に対応した櫛歯形状となる前記p型半導体層および前記活性層を形成し、前記n型半導体層の上面を露出させる工程と、
前記n型半導体層上の前記第1櫛歯領域と間挿する第2櫛歯領域において、前記n型半導体層の外縁に沿って前記第1方向に延在するn側バスバー電極と、前記n側バスバー電極から前記第2方向に延在する複数のn側フィンガー電極とを有し、前記複数のフィンガー部と前記複数のn側フィンガー電極とが前記第1方向に交互に配置され、前記活性層および前記p型半導体層の櫛歯形状と間挿する櫛歯形状となるn側コンタクト電極を形成する工程と、
前記p型半導体層上に設けられ、前記バスバー部上において前記第1方向に延在するp側バスバー電極と、前記複数のフィンガー部上において前記p側バスバー電極から前記第2方向に延在する複数のp側フィンガー電極とを有し、櫛歯形状となるp側コンタクト電極を形成する工程と、
前記p側コンタクト電極および前記n側コンタクト電極を被覆する誘電体材料から構成される保護層を形成する工程と、
前記p側バスバー電極上において前記保護層を貫通し、前記第1方向に延在するp側バスバー開口と、前記複数のp側フィンガー電極上において前記保護層を貫通し、前記p側バスバー開口から前記第2方向に延在する複数のp側フィンガー開口とを有し、櫛歯形状となるp側パッド開口を形成する工程と、
前記n側バスバー電極上において前記保護層を貫通し、前記第1方向に延在するn側バスバー開口と、前記複数のn側フィンガー電極上において前記保護層を貫通し、前記n側バスバー開口から前記第2方向に延在する複数のn側フィンガー開口とを有し、櫛歯形状となるn側パッド開口を形成する工程と、
前記保護層上に設けられ、前記p側パッド開口において前記p側コンタクト電極と接続するp側パッド電極を形成する工程と、
前記保護層上に設けられ、前記n側パッド開口において前記n側コンタクト電極と接続するn側パッド電極を形成する工程と、を備えることを特徴とする半導体発光装置の製造方法。 - 実装基板上にp側バンプおよびn側バンプを形成する工程と、
前記p側パッド電極上の前記複数のp側フィンガー電極と重なる位置に前記p側バンプを接合し、前記n側パッド電極上の前記複数のp側フィンガー電極と重なる位置に前記n側バンプを接合する工程と、をさらに備えることを特徴とする請求項6に記載の半導体発光装置の製造方法。
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Cited By (8)
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JP7185105B1 (ja) * | 2021-07-16 | 2022-12-06 | シチズン電子株式会社 | 発光装置 |
WO2023286846A1 (ja) * | 2021-07-16 | 2023-01-19 | シチズン電子株式会社 | 発光装置 |
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