JP6845087B2 - 剥離装置 - Google Patents
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- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 108
- 239000010813 municipal solid waste Substances 0.000 claims description 56
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 18
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 18
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 15
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 70
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 10
- 210000000078 claw Anatomy 0.000 description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 7
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 4
- 230000003028 elevating effect Effects 0.000 description 3
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 3
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 3
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-pyrazole-3-carboxylic acid Chemical compound CC1=CC(C(O)=O)=NN1 WSMQKESQZFQMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
P 保護部材
R 樹脂層
F フィルム
E はみ出し部
1 剥離装置
2 保持手段
3 把持手段
4 剥離手段
6 積層手段
5 ゴミ箱
7 第1ガイド手段(傾斜落下手段)
8 第2ガイド手段
80 一対のガイドレール(2本の水平棒)
D2、D3 間隔
Claims (1)
- ウエーハより広い面積でウエーハの外周からはみ出したはみ出し部を有するフィルムと、該フィルムとウエーハの他方の面との間に形成する樹脂層とを備えて、ウエーハの他方の面全面を保護するシート状の保護部材をウエーハから剥離して装置内のゴミ箱に破棄する剥離装置であって、
他方の面に該保護部材を形成したウエーハの一方の面を吸引保持する保持手段と、
該保持手段が保持したウエーハに貼着される該保護部材の該はみ出し部を把持する把持手段と、
該把持手段と該保持手段とを相対的に離合する方向に移動させウエーハから該保護部材を剥離する剥離手段と、
該剥離手段によりウエーハから剥離され該把持手段が把持する該保護部材を該ゴミ箱に積層させる積層手段とを備え、
該積層手段は、
ウエーハから剥離した該把持手段が把持する該保護部材を傾斜落下させる傾斜落下手段と、
該傾斜落下手段に沿って傾斜落下した該保護部材を水平姿勢にするとともに該保護部材を該ゴミ箱に落下させる該ゴミ箱の上に水平方向に配設される2本の水平棒とを備え、
該2本の水平棒の間隔は、該傾斜落下手段に近い一方の端より他方の端が大きく上矢視ハの字に形成し、
傾斜落下した該保護部材が該2本の水平棒に移送されたら該間隔の広い方から該保護部材を落下させ該ゴミ箱内に該保護部材を積層させることを特徴とする剥離装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017103181A JP6845087B2 (ja) | 2017-05-25 | 2017-05-25 | 剥離装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017103181A JP6845087B2 (ja) | 2017-05-25 | 2017-05-25 | 剥離装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018198290A JP2018198290A (ja) | 2018-12-13 |
JP6845087B2 true JP6845087B2 (ja) | 2021-03-17 |
Family
ID=64663872
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017103181A Active JP6845087B2 (ja) | 2017-05-25 | 2017-05-25 | 剥離装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6845087B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7252819B2 (ja) * | 2019-04-09 | 2023-04-05 | 株式会社ディスコ | 剥離装置 |
JP7488148B2 (ja) | 2020-08-03 | 2024-05-21 | 株式会社ディスコ | 剥離装置 |
JP2022124709A (ja) | 2021-02-16 | 2022-08-26 | 株式会社ディスコ | 剥離装置 |
JP7090772B1 (ja) | 2021-03-30 | 2022-06-24 | 三菱電機株式会社 | 電力変換制御装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5332946B2 (ja) * | 1974-02-26 | 1978-09-11 | ||
JPS605502B2 (ja) * | 1975-09-19 | 1985-02-12 | キヤノン株式会社 | シ−ト反転装置 |
JP4204653B2 (ja) * | 1997-06-20 | 2009-01-07 | リンテック株式会社 | シート剥離装置および方法 |
JP2006010762A (ja) * | 2004-06-22 | 2006-01-12 | Dainippon Printing Co Ltd | ピール装置および剥離方法 |
JP5773660B2 (ja) * | 2011-01-19 | 2015-09-02 | 株式会社ディスコ | 樹脂剥がし装置および研削加工装置 |
JP6584846B2 (ja) * | 2015-07-21 | 2019-10-02 | 株式会社ディスコ | 剥離テープ |
JP6543135B2 (ja) * | 2015-08-26 | 2019-07-10 | 株式会社ディスコ | 粘着テープ剥離装置 |
-
2017
- 2017-05-25 JP JP2017103181A patent/JP6845087B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2018198290A (ja) | 2018-12-13 |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200306 |
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R250 | Receipt of annual fees |
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