TW201818494A - 搬送裝置、加工裝置及搬送方法 - Google Patents

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Abstract

[課題]提供一種能夠確實地對已收容於片匣之框架單元進行保持並搬送，而且也適合於加工裝置之小型化的搬送裝置。 [解決手段] 該搬送裝置是從收容框架單元之片匣中將框架單元搬出並搬送至規定的位置，其中該框架單元是透過膠帶而將板狀之被加工物支撐於環狀之框架的開口，該搬送裝置具備保持部、移動部及控制部，該保持部具有可朝上下將框架之近前側的分開的2處夾住並把持的2組夾持部、及可碰抵於框架的碰抵部，該移動部是使保持部移動，該控制部是控制各構成要素，控制部是將各構成要素控制成：以夾持部將框架把持並從片匣中部分地拉出，且於解除由夾持部進行的把持之後，在讓碰抵部碰抵於框架以使框架朝向片匣移動的狀態下，藉由夾持部來將框架把持並拿起，並且搬送至規定的位置。

Description

搬送裝置、加工裝置及搬送方法
發明領域 本發明是有關於一種用於對透過膠帶而將板狀之被加工物支撐於環狀之框架的開口的框架單元進行搬送的搬送裝置、組裝有此搬送裝置的加工裝置、及使用此搬送裝置的搬送方法。
發明背景 將半導體晶圓或光元件晶圓、陶瓷封裝基板等分割成複數個晶片時，是例如沿著設定在這些板狀的被加工物上的分割預定線(切割道)照射雷射光束，並使旋轉的環狀之刀片切入(參照例如專利文獻1、2等)。
在以上述之方法加工被加工物之前，大多是將外徑比被加工物更大的膠帶黏貼在被加工物上，又，在膠帶的外周部分固定環狀之框架以形成框架單元。藉由形成框架單元，就能保護被加工物免於搬送、加工時的衝擊等，進而提高被加工物之操作處理容易度。
然而，在加工被加工物之時，一般是以未黏貼有膠帶之面朝向上方的方式，來將被加工物保持在工作夾台等上。另一方面，依據加工之種類，也會有未黏貼有膠帶之面朝向下方的情形。因此，所需求的是於搬送框架單元的搬送裝置上，能夠將框架單元之上下翻轉的功能。 先前技術文獻 專利文獻
專利文獻1：日本專利特開2012-84720號公報 專利文獻2：日本專利特開2014-192215號公報
發明概要 發明欲解決之課題 在如上述之具有翻轉功能之搬送裝置中，必須在各部位有較高的剛性，以能夠確實地保持框架單元。然而，例如以較粗、較厚之構件來構成保持框架單元的保持部時，於已收容於片匣之框架單元的上下之間隙較狹窄的情形下，會變得無法將保持部揷入此間隙來保持框架單元。
又，在以往的加工裝置中，是將已從片匣搬出之框架單元的位置，藉由以導軌等所構成之對中(centering)機構進行對準之後，往工作夾台等搬入。但是，由於此對中機構會將某種程度的空間視為必要，所以會成為將加工裝置小型化的阻礙。
本發明是有鑒於所述的問題點而作成的發明，其目的在於提供一種能夠確實地對已收容於片匣之框架單元進行保持並搬送，並且適合於加工裝置之小型化的搬送裝置、組裝有此搬送裝置的加工裝置、及使用此搬送裝置的搬送方法。 用以解決課題之手段
依據本發明之一態樣，可提供一種搬送裝置，該搬送裝置是從收容框架單元之片匣中將該框架單元搬出並搬送至規定的位置，其中該框架單元是透過膠帶而將板狀之被加工物支撐於環狀之框架的開口，該搬送裝置具備： 保持部，具有可朝上下將該框架近前側之分開的2處夾住並把持的2組夾持部、及可碰抵於該框架的碰抵部； 移動部，使該保持部移動；及 控制部，控制各構成要素， 該控制部是將各構成要素控制成：以該夾持部把持並從該片匣中部分地拉出該框架，且於解除由該夾持部所進行的把持之後，在讓該碰抵部碰抵於該框架以使該框架朝向該片匣移動的狀態下，藉由該夾持部來把持並拿起該框架，且搬送至該規定的位置。
又，依據本發明之一態樣，可提供一種加工裝置，該加工裝置具備保持被加工物的工作夾台、對保持在該工作夾台上之被加工物進行加工的加工單元、可載置該片匣的片匣載置區域、及將該框架單元從該片匣中搬出並搬送至該工作夾台的搬送單元，該搬送單元為如請求項1之搬送裝置。
又，依據本發明之一態樣，可提供一種搬送方法，該搬送方法是從收容框架單元之片匣中將該框架單元搬出並搬送至規定的位置，其中該框架單元是透過膠帶而將板狀之被加工物支撐於環狀之框架的開口，該搬送方法是使用搬送裝置來進行，該搬送裝置具備： 保持部，具有可朝上下將該框架近前側之分開的2處夾住並把持的2組夾持部、及可碰抵於該框架的碰抵部； 移動部，使該保持部移動；及 控制部，控制各構成要素， 該搬送方法是以該2組夾持部的其中一個或雙方來把持並從該片匣中部分地拉出該框架，且於解除由該2組夾持部的其中一個或雙方所進行的把持之後，讓該碰抵部碰抵於該框架以使該框架朝向該片匣移動，並在該碰抵部已碰抵於該框架的狀態下，藉由該2組夾持部來把持並拿起該框架，且搬送至該規定的位置。 發明效果
本發明之一態樣的搬送裝置具有可朝上下將框架之近前側的分開的2處夾住並把持的2組夾持部、及可碰抵於框架的碰抵部。因此，藉由以夾持部把持並從片匣中部分地拉出框架，且於解除由夾持部所進行的把持之後，在讓碰抵部碰抵於框架以使框架朝向片匣移動的狀態下，以夾持部來把持並拿起框架，而能夠確實地對已收容於片匣之框架單元進行保持並搬送。
亦即，由於藉由2組夾持部來把持框架之分開的2處，所以與在1處把持框架的情形相比，可抑制框架的撓曲，並且能夠使框架單元穩定。藉此，能夠確實地保持框架單元，又，框架單元的翻轉也變得容易。
又，由於是在該碰抵部碰抵於框架而決定框架單元之位置的狀態下，藉由夾持部來把持並搬送框架，所以不需要利用如以往的對中機構來將框架單元的位置對齊調整。也就是，由於變得不需要在加工裝置上設置將某種程度的空間視為必要之對中機構，所以也可適合於加工裝置的小型化。
像這樣，依據本發明之一態樣，能夠提供可以確實地對已收容於片匣之框架單元進行保持並搬送，而且也適合於加工裝置之小型化的搬送裝置、組裝有此搬送裝置的加工裝置、及使用此搬送裝置的搬送方法。
用以實施發明之形態 參照附圖，說明本發明之一態樣的實施形態。圖1是示意地顯示本實施形態之雷射加工裝置(加工裝置)2之構成例的圖。如圖1所示，雷射加工裝置2具備有支撐各構成要素之基台4。於基台4的前端部上，形成有用於讓能夠收容複數個框架單元1(參照圖2(A)等)之片匣6各自載置的2個片匣載置區域8。
於2個片匣載置區域8的後方，配置有用於搬送框架單元1的搬送單元(搬送裝置)10。搬送單元10具備有例如使各部位升降的升降機構(移動部)12。於升降機構12上連結有搬送臂(移動部)14。
搬送臂14是以例如將基端部連接在升降機構12的第1臂16、及將基端部連接在第1臂16之前端部的第2臂18所構成。第1臂16是構成為能夠相對於升降機構12來旋繞第1臂16，第2臂18是構成為能夠相對於第1臂16之前端部來旋繞第2臂18。
又，於第2臂18的前端部設有用於保持框架單元1的保持手(保持部)20。藉由例如以升降機構12使搬送臂14升降，並且使第1臂16及第2臂18各自相對於升降機構12及第1臂16的前端部旋繞，就能夠讓保持手20往所期望的位置移動。
保持手20具有相對於搬送臂14(第2臂16)的前端部連結成能夠於上下翻轉的保持手框架22。此保持手框架22是連接於第2臂18的前端部，並且包含可於搬送時碰抵於框架單元1的直線狀的第1部分24。第1部分24的側面的其中一面，會成為碰抵於框架單元1的第1碰抵面(碰抵部)24a。
又，保持手框架22具有從第1部分24之第1碰抵面24a側的兩端傾斜地突出的第2部分26及第3部分28。第2部分26及第3部分28之第1碰抵面24a側的側面，各自成為可於搬送時碰抵於框架單元1的第2碰抵面(碰抵部)26a及第3碰抵面(碰抵部)28a。
於第2部分26的第2碰抵面26a側、及第3部分28的第3碰抵面28a側上，各自設有用於把持框架單元1的夾持爪(夾持部)30及夾持爪(夾持部)32。夾持爪30及夾持爪32各自具有上爪及下爪，並且能夠朝上下將框架單元1內的框架23(參照圖2(A)等)夾住並把持。
於搬送單元10上連接有用於控制搬送單元10之各構成要素的控制單元(控制部)34。此控制單元34的功能容後敘述。再者，在本實施形態中，雖然所例示的是用於控制搬送單元10的專用的控制單元34，但是也可以將用於控制雷射加工裝置2之各構成要素的控制單元(圖未示)用於搬送單元10的控制。
於搬送單元10的後方設有工作夾台移動機構36。工作夾台移動機構36具備有在Y軸方向(分度進給方向)上移動的Y軸移動台38、及配置於Y軸移動台38的上表面並且在X軸方向(加工進給方向)上移動的X軸移動台40。
於X軸移動台40的上表面側配置有用於保持框架單元1內之被加工物11的工作夾台42。又，於工作夾台42的周圍設有用於將構成框架單元1之框架23固定的複數個夾具44。
工作夾台42是連結於馬達等的旋轉驅動源(圖未示)，並以繞著與Z軸方向(鉛直方向)大致平行的旋轉軸的方式旋轉。只要藉由上述之工作夾台移動機構36使Y軸移動台38在Y軸方向上移動，即可將工作夾台42在Y軸方向上分度進給，且只要使X軸移動台40在X軸方向上移動，即可將工作夾台42在X軸方向上加工進給。
工作夾台42的上表面是形成為用於保持被加工物11的保持面42a。此保持面42a是通過形成在工作夾台42的內部的吸引路(未圖示)等而連接到吸引源(未圖示)。例如只要將以搬送單元10所搬送的框架單元1(被加工物11)載置在保持面42a上，並且使吸引源的負壓作用，就能在工作夾台42上吸引、保持被加工物11。
再者，在本實施形態中，雖然是以搬送單元10來將框架單元1載置在工作夾台42的保持面42a上，但是也可以作成例如於工作夾台42的前方配置暫置台，並且將框架單元1載置於此暫置台上。在此情形下，能夠例如使用與搬送單元10不同的另外的搬送單元，將框架單元1從暫置台往工作夾台42搬送。
於工作夾台移動機構36的側邊設置有柱狀的支撐構造46。支撐構造46具備有朝工作夾台移動機構36側突出的支撐臂48，並且在此支撐臂48的前端部配置有朝向下方照射雷射光束的雷射加工單元(加工單元)50。
雷射加工單元50是藉由聚光用之透鏡52將雷射振盪器(圖未示)所振盪產生的雷射光束聚光並照射於工作夾台42上的被加工物11。因此，藉由例如一邊以雷射加工單元50照射雷射光束，一邊使工作夾台42在X軸方向上加工進給，就能沿著X軸方向對被加工物11進行雷射加工。
再者，雷射加工單元50的構成等，可因應於所採用的加工方法等而適當地設定、變更。例如欲以多光子吸收方式來改質被加工物11之內部以形成已改質的區域(改質層)的情況下，是將能夠振盪產生可穿透被加工物11之波長之雷射光束的雷射振盪器組裝於雷射加工單元50。
又，欲以雷射燒蝕(laser ablation)方式來加工被加工物11的情況下，是將能夠振盪產生可讓被加工物11吸收之波長之雷射光束的雷射振盪器組裝於雷射加工單元50。加工後的被加工物11(框架單元1)是例如使用搬送單元10而被搬入於片匣6。
上述之搬送單元10(控制單元34)、工作夾台移動機構36、工作夾台42、雷射加工單元50等的構成要素是連接於用於控制雷射加工裝置2之整體的控制單元(圖未示)。此控制單元是控制各構成要素之動作，以適當地加工被加工物11。
接著，說明以本實施形態的搬送單元10搬送之框架單元1。圖2(A)是示意地顯示第1形態之框架單元1的構成例之立體圖，圖2(B)是示意地顯示第2形態之框架單元1的構成例之立體圖。
構成框架單元1的被加工物11是例如以矽等的半導體材料所形成的圓盤狀之晶圓，並且將其正面11a區分為中央的元件區域、及包圍元件區域的外周剩餘區域。元件區域會以排列成格子狀的複數條分割預定線(切割道)進一步劃分成複數個區域，且在各個區域中形成有IC、LSI等元件13。
再者，在本實施形態中，雖然使用的是以矽等半導體材料所形成之圓盤狀的被加工物11，但是對被加工物11之材質、形狀、構造、大小等並未限制。也可以使用例如，以其他的半導體、陶瓷、樹脂、金屬等的材料所形成之基板作為被加工物11。同樣地，對元件13的種類、數量、大小、配置等亦無限制。
在圖2(A)所示之第1形態中，於被加工物11的正面11a側，黏貼有外徑比被加工物11更大的膠帶(黏著膠帶)21。又，於膠帶21的外周部分固定有環狀的框架23。亦即，透過膠帶21來將被加工物11支撐於框架23的開口23a，而形成有被加工物11、膠帶21及框架23成為一體的框架單元1。
另一方面，在圖2(B)所示之第2形態中，於被加工物11的背面11b側，黏貼有外徑比被加工物11更大的膠帶21。又，於膠帶21的外周部分固定有環狀的框架23。亦即，透過膠帶21來將被加工物11支撐於框架23的開口23a，而形成有被加工物11、膠帶21及框架23成為一體的框架單元1。
接著，說明用於收容上述之框架單元1的片匣6之構成例。圖3是示意地顯示片匣6的構成例之立體圖。片匣6具有配置成相互的內側面相向之一對側板部62、64。於各側板部62、64的內側面上，各自將於水平方向上延伸的複數個架板部62a、64a沿著鉛直方向以大致相等的間隔配置。
複數個架板部62a、64a是設置在各側板部62、64之相對應的高度之位置上。可藉由相對應的高度之一對架板部62a、64a來支撐1個框架單元1。具體來說，構成框架單元1的框架23之一部分是被一對架板部62a、64a所支撐。再者，此側板部62、64是藉由頂板部66、底板部68、及背板部70(參照圖4(A)等)而連接。
針對以如上述所構成的搬送單元10來搬送框架單元1的搬送方法進行說明。在本實施形態中，首先，是以2組夾持爪30、32來對已收容於片匣6的框架單元1之框架23進行把持，並將框架單元1從片匣6中部分地拉出(拉出步驟)。圖4(A)及圖4(B)是用於說明將框架單元1從片匣6中部分地拉出之情形的局部截面平面圖。
要將框架單元1從片匣6中部分地拉出之時，首先，控制單元34使升降機構12作動，並使保持手20的高度與對象之框架單元1的高度對齊。接著，控制單元34使搬送臂14作動，並如圖4(A)所示，使保持手20移動至能夠藉由夾持爪30、32來把持框架23之近前側的分開的2處之位置為止。
之後，控制單元34使夾持爪30、32把持框架23之近前側的分開的2處。然後，再次使搬送臂14作動，以如圖4(B)所示，將框架單元1拉出至某個程度的位置為止。框架單元1的拉出量，是在例如下述的範圍內調整：即使解除夾持爪30、32之把持，框架單元1仍不會從片匣6脫落，又，之後可將第1碰抵面24a等適當地碰抵於框架單元1的範圍。
如上述地將框架單元1從片匣6中部分地拉出之後，控制單元34會解除由夾持爪30、32所進行的框架23的把持。又，將保持手20的第1碰抵面24a、第2碰抵面26a、及第3碰抵面28a碰抵於框架單元23的近前側，以使框架單元1(框架23)朝向片匣6的內部移動(碰抵步驟)。
圖5(A)是用於說明第1碰抵面24a、第2碰抵面26a、及第3碰抵面28a(以下、稱為第1碰抵面24a等)碰抵於框架23之近前側之情形的局部截面平面圖。於將第1碰抵面24a等碰抵於框架23之近前側之時，是令控制單元34首先使搬送臂14作動，並且使保持手20朝向片匣6移動。
之後，如圖5(A)所示，當第1碰抵面24a等碰抵於框架23之近前側，而使框架單元1朝向片匣6的內部稍微移動時，控制單元34即讓搬送臂14停止。然後，在此狀態下，使夾持爪30、32把持框架23的近前側之分開的2處。
像這樣，在本實施形態中，由於在將框架單元1部分地拉出後，將第1碰抵面24a等碰抵於框架23的近前側，所以即使不讓保持手20侵入至片匣6之內部的較深的位置，仍然可以適當地把持框架單元1。也就是，即使是在框架單元1之上下的間隙為較狹窄之情況下等，也能夠適當地對框架單元1進行保持並搬送。
在第1碰抵面24a等已碰抵於框架23之近前側的狀態下，使夾持爪30、32把持框架23的近前側的分開的2處之後，可稍微拿起框架單元1(框架23)，並搬送至規定的位置(搬送步驟)。圖5(B)是用於說明搬送框架單元1之情形的局部截面平面圖。
要將框架單元1搬送至規定之位置之時，首先，控制單元34會使升降機構12作動，以使框架單元1稍微上升。之後，如圖5(B)所示，使搬送臂14作動，並且將框架單元1從片匣6中完全地拉出。然後，將框架單元1搬送至規定之位置(例如工作夾台42)。
如以上，本實施態樣的搬送單元(搬送裝置)10具有可朝上下夾住並把持框架23之近前側的分開的2處的2組夾持爪(夾持部)30、32、可碰抵於框架23的第1碰抵面(碰抵部)24a、第2碰抵面(碰抵部)26a及第3碰抵面(碰抵部)28a。
因此，藉由以夾持爪30、32將框架23把持並從片匣6中部分地拉出，且於解除由夾持爪30、32所進行的把持之後，在讓第1碰抵面24a、第2碰抵面26a、及第3碰抵面28a碰抵於框架23以使框架23朝向片匣6移動的狀態下，以夾持爪30、32來把持並拿起框架23，即能夠確實地對已收容於片匣6之框架單元1進行保持並搬送。
亦即，由於藉由2組夾持爪30、32來把持框架23之分開的2處，所以與在1處來把持框架23的情形相比，能夠抑制框架23的撓曲，並且使框架單元1穩定。藉此，能夠確實地保持框架單元1，又，框架單元1的翻轉也變得容易。
又，由於是在第1碰抵面24a、第2碰抵面26a、及第3碰抵面28a碰抵於框架23而決定框架單元1之位置的狀態下，藉由夾持爪30、32來把持並搬送框架23，所以不需要利用如以往的對中機構來將框架單元1的位置對齊調整。也就是，由於變得不需要在加工裝置上設置將某種程度的空間視為必要之對中機構，所以也可適合於雷射加工裝置(加工裝置)2的小型化。
再者，本發明並不因上述實施形態之記載而受限制，並可作各種變更而實施。例如，在上述實施形態中，於將框架單元1從片匣6中部分地拉出時，雖然是以2組夾持爪30、32來把持框架23，但是也可以用夾持爪30及夾持爪32的任一個來把持框架23。
圖6(A)是用於說明在將框架單元1從片匣6中部分地拉出時，藉由夾持爪32把持框架23之情形的局部截面平面圖。在這種情形下，控制單元34會使搬送臂14作動，並使保持手20移動至能夠藉由夾持爪32來把持框架23之近前側的1處之位置。
之後，控制單元34是使夾持爪32把持框架23之近前側的1處。然後，再次使搬送臂14作動，以將框架單元1拉出至某個程度的位置為止。在這種情形下，由於只要使夾持爪32的一部分侵入片匣6的內部就好，所以即使是在框架單元1的上下的間隙更狹窄之情況下等，也能夠將框架單元1適當地拉出。
再者，在這種情況下也可以將用於使其侵入片匣6之內部的夾持爪32的一部分形成得較薄。圖6(B)是用於說明將一部分形成得較薄的夾持爪32之圖。如圖6(B)所示，夾持爪32具有上爪82與下爪84。上爪82的中央部82a及下爪84的中央部84a會形成得較厚以能夠確保剛性。
另一方面，上爪82的前端部82b及下爪84的前端部84b是相較於中央部82a及中央部84a而形成得較薄。在將框架單元1從片匣6中部分地拉出之時，只要可將此上爪82的前端部82b與下爪84的前端部84b插入片匣6的內部，並能以前端部82b與前端部84b把持框架23即可。在這種情形下，即使是框架單元1之上下的間隙更狹窄之情況下等，也能夠將框架單元1適當地拉出。再者，在此雖然是僅以使用夾持爪32的情形來進行說明，但是使用相反側的夾持爪30的情形也是同樣。
又，在上述實施形態中，雖然是針對作為加工裝置之一例的雷射加工裝置2來進行說明，但是本發明的加工裝置也可以是切削裝置、磨削裝置、研磨裝置等。切削裝置是例如取代雷射加工單元50，而具備裝設有圓環狀之切削刀的切削單元(加工單元)。
磨削裝置是例如取代雷射加工單元50，而具備裝設有磨削輪的磨削單元(加工單元)，且該磨削輪包含磨削用之磨石。研磨裝置是例如取代雷射加工單元50，而具備裝設有研磨墊的研磨單元(加工單元)。
另外，上述實施形態之構造、方法等，只要在不脫離本發明之目的之範圍內，均可適當變更而實施。
1‧‧‧框架單元
2‧‧‧雷射加工裝置(加工裝置)
4‧‧‧基台
6‧‧‧片匣
62、64‧‧‧側板部
62a、64a‧‧‧架板部
66‧‧‧頂板部
68‧‧‧底板部
70‧‧‧背板部
8‧‧‧片匣載置區域
10‧‧‧搬送單元(搬送裝置)
11‧‧‧被加工物
11a‧‧‧正面
11b‧‧‧背面
12‧‧‧升降機構(移動部)
13‧‧‧元件
14‧‧‧搬送臂(移動部)
16‧‧‧第1臂
18‧‧‧第2臂
20‧‧‧保持手(保持部)
21‧‧‧膠帶(黏著膠帶)
22‧‧‧保持手框架
23‧‧‧框架
24‧‧‧第1部分
24a‧‧‧第1碰抵面(碰抵部)
26‧‧‧第2部分
26a‧‧‧第2碰抵面(碰抵部)
28‧‧‧第3部分
28a‧‧‧第3碰抵面(碰抵部)
30、32‧‧‧夾持爪(夾持部)
34‧‧‧控制單元(控制部)
36‧‧‧工作夾台移動機構
38‧‧‧Y軸移動台
40‧‧‧X軸移動台
42‧‧‧工作夾台
42a‧‧‧保持面
44‧‧‧夾具
46‧‧‧支撐構造
48‧‧‧支撐臂
50‧‧‧雷射加工單元(加工單元)
52‧‧‧透鏡
82‧‧‧上爪
82a、84a‧‧‧中央部
82b、84b‧‧‧前端部
84‧‧‧下爪
X、Y‧‧‧方向
圖1是示意地顯示雷射加工裝置之構成例的圖。 圖2(A)是示意地顯示第1形態之框架單元的構成例之立體圖，圖2(B)是示意地顯示第2形態之框架單元的構成例之立體圖。 圖3是示意地顯示片匣的構成例之立體圖。 圖4(A)及圖4(B)是用於說明將框架單元從片匣中部分地拉出之情形的局部截面平面圖。 圖5(A)是用於說明第1碰抵面、第2碰抵面、及第3碰抵面碰抵於框架之近前側之情形的局部截面平面圖，圖5(B)是用於說明搬送框架單元之情形的局部截面平面圖。 圖6(A)是用於說明將框架單元從片匣中部分地拉出時，藉由夾持爪把持框架之情形的局部截面平面圖，圖6(B)是用於說明將一部分形成得較薄的夾持爪之圖。

Claims (3)

  1. 一種搬送裝置，是從收容框架單元之片匣中將該框架單元搬出並搬送至規定的位置，其中該框架單元是透過膠帶而將板狀之被加工物支撐於環狀之框架的開口，該搬送裝置的特徵在於具備： 保持部，具有可朝上下將該框架近前側之分開的2處夾住並把持的2組夾持部、及可碰抵於該框架的碰抵部； 移動部，使該保持部移動；及 控制部，控制各構成要素， 該控制部是將各構成要素控制成：以該夾持部把持並從該片匣中部分地拉出該框架，且於解除由該夾持部所進行的把持之後，在讓該碰抵部碰抵於該框架以使框架朝向該片匣移動的狀態下，藉由該夾持部來把持並拿起該框架，且搬送至該規定的位置。
  2. 一種加工裝置，其特徵在於具備： 工作夾台，保持被加工物； 加工單元，對保持在該工作夾台上之被加工物進行加工； 片匣載置區域，可載置該片匣；及 搬送單元，將該框架單元從該片匣中搬出並搬送至該工作夾台， 該搬送單元為如請求項1之搬送裝置。
  3. 一種搬送方法，是從收容框架單元之片匣中將該框架單元搬出並搬送至規定的位置，其中該框架單元是透過膠帶而將板狀之被加工物支撐於環狀之框架的開口， 該搬送方法的特徵在於使用搬送裝置來進行，該搬送裝置具備： 保持部，具有可朝上下將該框架近前側之分開的2處夾住並把持的2組夾持部、及可碰抵於該框架的碰抵部； 移動部，使該保持部移動；及 控制部，控制各構成要素， 該搬送方法是以該2組夾持部的其中一個或雙方來把持並從該片匣中部分地拉出該框架， 且於解除由該2組夾持部的其中一個或雙方所進行的把持之後，讓該碰抵部碰抵於該框架以使該框架朝向該片匣移動， 並在該碰抵部已碰抵於該框架的狀態下，藉由該2組夾持部來把持並拿起該框架，且搬送至該規定的位置。
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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP7330606B2 (ja) * 2018-11-07 2023-08-22 株式会社ディスコ 加工装置及びカセット載置機構

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2733674B2 (ja) * 1988-12-29 1998-03-30 株式会社ディスコ ウエーハ塔載フレームのプリアライメント方法
JPH11204461A (ja) * 1998-01-09 1999-07-30 Disco Abrasive Syst Ltd フレーム位置決め装置及びフレーム位置決め方法
JP2005150177A (ja) * 2003-11-12 2005-06-09 Nitto Denko Corp 半導体ウエハ裏面への粘着テープ貼付方法及び粘着テープ貼付装置
EP1902465A2 (en) * 2005-07-08 2008-03-26 Asyst Technologies, Inc. Workpiece support structures and apparatus for accessing same
US20090101067A1 (en) * 2005-07-08 2009-04-23 Bonora Anthony C Method and apparatus for wafer support
JP4451854B2 (ja) * 2006-03-20 2010-04-14 東京エレクトロン株式会社 縦型熱処理装置及び縦型熱処理装置における移載機構の制御方法
US20090196724A1 (en) * 2008-02-05 2009-08-06 Chen Hui Fred Edge contact gripper
JP5504641B2 (ja) * 2009-02-13 2014-05-28 株式会社安川電機 基板搬送用ロボット及びそれを備えた基板搬送装置、半導体製造装置
JP2012084720A (ja) 2010-10-13 2012-04-26 Disco Abrasive Syst Ltd ワークの加工方法
JP5695520B2 (ja) * 2011-07-29 2015-04-08 三星ダイヤモンド工業株式会社 ウエハリングのアライメント方法
SG194239A1 (en) * 2012-04-09 2013-11-29 Semiconductor Tech & Instr Inc End handler
TWI625814B (zh) * 2012-07-27 2018-06-01 荏原製作所股份有限公司 工件搬送裝置
JP6024267B2 (ja) * 2012-08-01 2016-11-16 三星ダイヤモンド工業株式会社 基板保持リング把持機構
US10128140B2 (en) * 2012-08-31 2018-11-13 Semiconductor Technologies & Instruments Pte Ltd System and method for automatically correcting for rotational misalignment of wafers on film frames
JP6158551B2 (ja) 2013-03-26 2017-07-05 株式会社ディスコ ウェーハの分割方法
JP6242603B2 (ja) * 2013-06-25 2017-12-06 株式会社ディスコ ウエーハ加工装置
CN106104785B (zh) * 2013-12-26 2018-11-27 川崎重工业株式会社 末端执行器及基板搬送机器人
US10269606B2 (en) * 2014-05-05 2019-04-23 Persimmon Technologies Corporation Two-link arm trajectory
US20150332950A1 (en) * 2014-05-16 2015-11-19 Applied Materials, Inc. On-end effector magnetic wafer carrier alignment
US20150360370A1 (en) * 2014-06-17 2015-12-17 John Mazzocco Thin end effector with ability to hold wafer during motion
CN107251211B (zh) * 2015-02-13 2020-10-23 川崎重工业株式会社 衬底搬送机械手及其运转方法
US9929034B2 (en) * 2015-09-03 2018-03-27 Kawasaki Jukogyo Kabushiki Kaisha Substrate transfer device

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