JP6842778B2 - 紫外線吸収剤又は赤外線遮断剤含有水性組成物の紫外線防御効果又は赤外線防御効果の測定方法及び測定用試料作成装置 - Google Patents
紫外線吸収剤又は赤外線遮断剤含有水性組成物の紫外線防御効果又は赤外線防御効果の測定方法及び測定用試料作成装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6842778B2 JP6842778B2 JP2018538379A JP2018538379A JP6842778B2 JP 6842778 B2 JP6842778 B2 JP 6842778B2 JP 2018538379 A JP2018538379 A JP 2018538379A JP 2018538379 A JP2018538379 A JP 2018538379A JP 6842778 B2 JP6842778 B2 JP 6842778B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- coating
- aqueous composition
- measuring
- contact angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims description 83
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 38
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title claims description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 title description 44
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 title description 31
- 238000005259 measurement Methods 0.000 title description 20
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 title description 18
- 230000004224 protection Effects 0.000 title description 6
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 title description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 116
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 116
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 84
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 45
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 claims description 26
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 claims description 26
- 239000010453 quartz Substances 0.000 claims description 23
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims description 16
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 claims description 13
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 claims description 12
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 claims description 10
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 claims description 10
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 claims description 6
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 77
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 73
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 61
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 22
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 15
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000000516 sunscreening agent Substances 0.000 description 14
- 230000000475 sunscreen effect Effects 0.000 description 13
- -1 isopropyl paramethoxycinnamate Chemical compound 0.000 description 12
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 12
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 12
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 11
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 10
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 9
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 8
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 8
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 7
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 7
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 7
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 6
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- 238000000338 in vitro Methods 0.000 description 5
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 5
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 5
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N benzophenone Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 RWCCWEUUXYIKHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012965 benzophenone Substances 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 description 4
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 4
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 4
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 4
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 4
- JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1 JYEUMXHLPRZUAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229940058015 1,3-butylene glycol Drugs 0.000 description 3
- 229910000737 Duralumin Inorganic materials 0.000 description 3
- 241000282412 Homo Species 0.000 description 3
- YBGZDTIWKVFICR-JLHYYAGUSA-N Octyl 4-methoxycinnamic acid Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)\C=C\C1=CC=C(OC)C=C1 YBGZDTIWKVFICR-JLHYYAGUSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 235000019437 butane-1,3-diol Nutrition 0.000 description 3
- UVCJGUGAGLDPAA-UHFFFAOYSA-N ensulizole Chemical compound N1C2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C2N=C1C1=CC=CC=C1 UVCJGUGAGLDPAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 3
- 239000006210 lotion Substances 0.000 description 3
- 229960001679 octinoxate Drugs 0.000 description 3
- DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N oxybenzone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 DXGLGDHPHMLXJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 230000037072 sun protection Effects 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 2,2'-Dihydroxy-4-methoxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1O MEZZCSHVIGVWFI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGUMTYWKIBJSTN-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 4-[[4,6-bis[4-(2-ethylhexoxycarbonyl)anilino]-1,3,5-triazin-2-yl]amino]benzoate Chemical compound C1=CC(C(=O)OCC(CC)CCCC)=CC=C1NC1=NC(NC=2C=CC(=CC=2)C(=O)OCC(CC)CCCC)=NC(NC=2C=CC(=CC=2)C(=O)OCC(CC)CCCC)=N1 JGUMTYWKIBJSTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 2
- ZCTQGTTXIYCGGC-UHFFFAOYSA-N Benzyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OCC1=CC=CC=C1 ZCTQGTTXIYCGGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N anthranilic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 2
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N bis(2,4-dihydroxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1O WXNRYSGJLQFHBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N bis(2-hydroxy-4-methoxyphenyl)methanone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(OC)C=C1O SODJJEXAWOSSON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000007123 defense Effects 0.000 description 2
- NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N dibenzoylmethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 NZZIMKJIVMHWJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 229960000655 ensulizole Drugs 0.000 description 2
- 239000000686 essence Substances 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- OGEMCJNRDGZFQF-UHFFFAOYSA-N hexyl 2-benzoyl-4-(diethylamino)-3-hydroxybenzoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C1=CC=C(N(CC)CC)C(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 OGEMCJNRDGZFQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000005660 hydrophilic surface Effects 0.000 description 2
- QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N octabenzone Chemical compound OC1=CC(OCCCCCCCC)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 QUAMTGJKVDWJEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005191 phase separation Methods 0.000 description 2
- ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N phenyl salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)OC1=CC=CC=C1 ZQBAKBUEJOMQEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOIYMIARKYCTBW-UHFFFAOYSA-N trans-urocanic acid Natural products OC(=O)C=CC1=CNC=N1 LOIYMIARKYCTBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011043 treated quartz Substances 0.000 description 2
- 235000014692 zinc oxide Nutrition 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- AALXZHPCKJILAZ-UHFFFAOYSA-N (4-propan-2-ylphenyl)methyl 2-hydroxybenzoate Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1COC(=O)C1=CC=CC=C1O AALXZHPCKJILAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- NWGAAWUUGRXXSC-UHFFFAOYSA-N 1-(2-hydroxypropoxy)propan-2-yl 2-hydroxybenzoate Chemical compound CC(O)COCC(C)OC(=O)C1=CC=CC=C1O NWGAAWUUGRXXSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBKGPMDADJLBEM-UHFFFAOYSA-N 1-(4-pentylphenyl)ethanone Chemical compound CCCCCC1=CC=C(C(C)=O)C=C1 KBKGPMDADJLBEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LALVCWMSKLEQMK-UHFFFAOYSA-N 1-phenyl-3-(4-propan-2-ylphenyl)propane-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C(C)C)=CC=C1C(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 LALVCWMSKLEQMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHQOKFZWSDOTQP-UHFFFAOYSA-N 2,3-dihydroxypropyl 4-aminobenzoate Chemical compound NC1=CC=C(C(=O)OCC(O)CO)C=C1 WHQOKFZWSDOTQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 2,4-Dihydroxybenzophenone Chemical compound OC1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 ZXDDPOHVAMWLBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZSNLEVJATWJBLU-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-2-methoxy-1,3-diphenylpropane-1,3-dione Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)C(C(C)(C)C)(OC)C(=O)C1=CC=CC=C1 ZSNLEVJATWJBLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOKBLKCZHGIRNO-UHFFFAOYSA-N 5-benzoyl-2-hydroxybenzoic acid Chemical compound C1=C(O)C(C(=O)O)=CC(C(=O)C=2C=CC=CC=2)=C1 JOKBLKCZHGIRNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRGXTYVIVADAHN-UHFFFAOYSA-N 5-methoxy-4-phenyltriazine;phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1.COC1=CN=NN=C1C1=CC=CC=C1 HRGXTYVIVADAHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDBLNMQDEWOUIB-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-phenyl-1,3-benzoxazole Chemical compound N=1C2=CC(C)=CC=C2OC=1C1=CC=CC=C1 RDBLNMQDEWOUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XVNQDRSYPPDDQF-UHFFFAOYSA-N 7-[2-(2,5,6,7-tetrasulfo-3h-benzimidazol-4-yl)phenyl]-1h-benzimidazole-2,4,5,6-tetrasulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=C(S(O)(=O)=O)C(S(O)(=O)=O)=C2NC(S(=O)(=O)O)=NC2=C1C1=CC=CC=C1C1=C(S(O)(=O)=O)C(S(O)(=O)=O)=C(S(O)(=O)=O)C2=C1N=C(S(O)(=O)=O)N2 XVNQDRSYPPDDQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- 206010015150 Erythema Diseases 0.000 description 1
- 206010061218 Inflammation Diseases 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- 206010042496 Sunburn Diseases 0.000 description 1
- SZYSLWCAWVWFLT-UTGHZIEOSA-N [(2s,3s,4s,5r)-3,4-dihydroxy-5-(hydroxymethyl)-2-[(2r,3r,4s,5s,6r)-3,4,5-trihydroxy-6-(hydroxymethyl)oxan-2-yl]oxyoxolan-2-yl]methyl octadecanoate Chemical compound O([C@@H]1[C@@H]([C@@H](O)[C@H](O)[C@@H](CO)O1)O)[C@]1(COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCC)O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@@H]1O SZYSLWCAWVWFLT-UTGHZIEOSA-N 0.000 description 1
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 238000001720 action spectrum Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000007824 aliphatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229940062909 amyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 1
- 239000012300 argon atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N benzocaine Chemical compound CCOC(=O)C1=CC=C(N)C=C1 BLFLLBZGZJTVJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N bisoctrizole Chemical compound N1=C2C=CC=CC2=NN1C1=CC(C(C)(C)CC(C)(C)C)=CC(CC=2C(=C(C=C(C=2)C(C)(C)CC(C)(C)C)N2N=C3C=CC=CC3=N2)O)=C1O FQUNFJULCYSSOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008338 calamine lotion Substances 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000013065 commercial product Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000006071 cream Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical class OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940008099 dimethicone Drugs 0.000 description 1
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- 208000028659 discharge Diseases 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 239000002552 dosage form Substances 0.000 description 1
- MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N drometrizole Chemical compound CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 MCPKSFINULVDNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003995 emulsifying agent Substances 0.000 description 1
- 230000001804 emulsifying effect Effects 0.000 description 1
- 231100000321 erythema Toxicity 0.000 description 1
- NYNCZOLNVTXTTP-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(1,3-dioxoisoindol-2-yl)acetate Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(CC(=O)OCC)C(=O)C2=C1 NYNCZOLNVTXTTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000005338 frosted glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000004054 inflammatory process Effects 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- SOXAGEOHPCXXIO-UHFFFAOYSA-N meradimate Chemical compound CC(C)C1CCC(C)CC1OC(=O)C1=CC=CC=C1N SOXAGEOHPCXXIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MJVGBKJNTFCUJM-UHFFFAOYSA-N mexenone Chemical compound OC1=CC(OC)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C)C=C1 MJVGBKJNTFCUJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007764 o/w emulsion Substances 0.000 description 1
- 239000002674 ointment Substances 0.000 description 1
- 239000012788 optical film Substances 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000008385 outer phase Substances 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000000825 pharmaceutical preparation Substances 0.000 description 1
- 229940127557 pharmaceutical product Drugs 0.000 description 1
- 229960000969 phenyl salicylate Drugs 0.000 description 1
- LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N phenyl-(4-phenylphenyl)methanone Chemical compound C=1C=C(C=2C=CC=CC=2)C=CC=1C(=O)C1=CC=CC=C1 LYXOWKPVTCPORE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003711 photoprotective effect Effects 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
- 229960001860 salicylate Drugs 0.000 description 1
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M salicylate Chemical compound OC1=CC=CC=C1C([O-])=O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N sulisobenzone Chemical compound C1=C(S(O)(=O)=O)C(OC)=CC(O)=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 CXVGEDCSTKKODG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000035900 sweating Effects 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- LOIYMIARKYCTBW-OWOJBTEDSA-N trans-urocanic acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C1=CNC=N1 LOIYMIARKYCTBW-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- CPYIZQLXMGRKSW-UHFFFAOYSA-N zinc;iron(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Fe+3].[Fe+3].[Zn+2] CPYIZQLXMGRKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/2813—Producing thin layers of samples on a substrate, e.g. smearing, spinning-on
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/59—Transmissivity
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/33—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N2021/8405—Application to two-phase or mixed materials, e.g. gas dissolved in liquids
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/27—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands using photo-electric detection ; circuits for computing concentration
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Cosmetics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
Description
現在、日本では化粧料における紫外線防御効果の指標として、波長290〜320nmのB波紫外線の防御能力を示すSPF(Sun Protection Factorの略)と、波長320〜400nmのA波紫外線の防御能力を示すPA(Protection grade of UVA)が用いられている。これらの測定結果を化粧料に表示する場合、日本化粧品工業連合会の定めるそれぞれの測定法基準(非特許文献1)(非特許文献2)に基づいて測定した値、またはそのグレードを表示することが求められる。
海外においても基本的にはそれぞれの地域の測定法及び表示方法(非特許文献3)に従って表示することが求められるが、基本的な測定方法はほぼ統一されている。測定法基準では、ヒトの背中を用い、背中に高出力の紫外線を照射し、その際に肌に生じる炎症反応と黒化反応の目視観察の結果から、紫外線防御効果を測定する。しかしながら、ヒトを用いると手間と費用がかかり、測定結果が出るまでの期間が長い。
加えてヒトを用いることの倫理的、医学的問題などがあるため、日本、欧州においては、ヒトを用いないで、機械にて紫外線防御効果を測定するin vitro測定法の検討が進められている(非特許文献4)。しかしながら、現在進められているin vitro測定法にしても、多くの問題点が存在することが報告されている(非特許文献5)。本発明者の検討でも、同じ試料を用いて、同じ規格の中で試験しても、最大で20倍ほどSPF値が変動することを見いだしている。
その結果、試料の作成段階において、試料の塗膜厚さにムラを有する場合には、紫外線吸光度を正確に測定することができない点、数μmから十数μmの薄膜を1μm程度の精度でいかに平滑に塗工するかという点、そして塗工時に単位面積あたりの塗工量を定めない点が、問題解決の鍵となっていることを見いだした。
試料が潤沢にあり、何平米という大きな平滑塗膜を形成する場合では(非特許文献6)や(特許文献1)にあるような大型の装置を用いる方法があり、ディスプレイの液晶の塗工などでも用いられている。
しかしながら、化粧料の場合は、試料の量も少なく、求められる塗工面積もたかだか数十cm2である。従って、化粧料に適した測定方法を開発するためには、科学的現象を把握しておく必要がある。また、レジスト塗工などの分野で平滑な塗膜を形成すると言われているスピンコーターでも、実際に検討してみると、特許文献2にあるように塗膜表面に細かい筋状の構造が形成されることから平滑な表面は形成できない。塗料で平滑な塗膜を形成する際に使われるワイヤーコーターにおいても、実際に試験してみると、平滑な塗膜が形成できる化粧料とできない化粧料に分かれてしまう。
また、元々塗料やレジストの技術は数十μmの変動を許容した時に平滑という意味を持っており(非特許文献7)、求められる精度が化粧料における紫外線防御効果の測定法と比べて大きく異なっている。そのため、既存の資料を調べて平滑な塗工ができると書かれているものを集めて試験してみても、種々の性質を持つ化粧料をこのように薄膜化するのは簡単ではないことが判る。これが、非特許文献3に記載されているように、in vitro測定法が既に最初の開発から13年も経過しており、世界中で種々の改良が加えられているにもかかわらず、うまくいかない理由の1つである。
しかしながら、近年、O/W型エマルションの形態で、かつ、専ら紫外線を吸収及び/又は反射する機能を備えた化粧料やサンスクリーン剤が上市されている。このような組成物の場合、塗布対象物に対しては水性溶液として挙動するが、上記特許文献3にて油性の組成物を均一に塗布したときと同様に、これらの化粧料やサンスクリーン剤も、特に紫外線を透過させないという性質を測定する際には、基材の表面に均一に塗布することが必要である。しかも、化粧料以外の分野における均一な塗布の程度よりも、明らかに塗膜厚のバラツキがより少ない塗膜の形成を必要とする。
意外にも、このような水性の組成物を基材表面に均一に塗布することは極めて困難であり、石英等の通常使用する基板をそのまま使用すると、形成されたO/Wエマルションや水溶液の塗膜には微細な凹凸が形成されたり、O/Wエマルションや水溶液が有する親水性に起因して、塗膜が島状になったり、あるいは島状の塗膜が形成されない箇所が発生したりするので、油性の組成物を塗布する方法や材料をそのまま水性の組成物の塗布に使用する場合には不適切であった。また指先にゴム製の指サックを嵌めて、この指先を用いて油状の組成物を基板に塗布することも行われているが、この方法ではより親油性である指サックの表面に組成物中の油性成分が吸着するので、塗布前の組成物の組成と、塗布後の皮膜の組成物の組成は異なっていた。そのため、この方法では組成物の性質を正確に測定することが困難であった。
また、このような組成物は、均一な皮膜を形成しないと、正確な吸光度を測定できない。そのため、場合によっては測定中に相分離を起こして、紫外線防御能を正確に測定することが困難になる。
このような予測とは異なり、微細凹凸を有する塗膜の紫外線の透過率を測定すると、平均厚さが同じ均一塗膜の場合よりも透過率が高くなり、測定値の上ではSPF値(紫外線防御指数)が低くなり、結局のところ正確なSPF値を測定することが困難になる。さらに島状の塗膜や、塗布されない島状の部分を有する塗膜に基づくと、SPF値を正確に測定できないことは当然である。
塗料やインキの分野における一般論として、水性組成物を親水性表面に塗布すると均一に塗布できることは知られているが、塗料やインキの場合には塗膜の厚さは比較的厚く、化粧料のように薄い塗膜までは想定しておらず、かつ塗布された均一表面の均一の程度に関しても厳密な程度を必要とはしない。
このように、水性化粧料のSPF値等を測定するために、膜厚が薄い均一な層を形成させることは想定しておらず、仮に均一な層を形成させようとしても、実現できないことは明らかであった。
そして、この紫外線の吸収性の測定結果と、塗布時の塗膜の挙動に関する問題は、紫外線以外の光線、例えば可視光や赤外線に関しても同様の問題があった。
液体の吸光度の測定は、例えばセルに液体を入れて測定する方法が知られているが、特に皮膚に塗布して使用する用途の液体であって、いわゆる油相と水相が分離し易い液体の場合に、これをセルに入れて測定した結果は、塗布して使用する場合の吸光度の程度を十分に反映することができず、不正確となる可能性がある。
また特許文献4に記載のように、化粧料やサンスクリーン剤の用途からみて、人の肌表面に塗布したときを再現して、その効果を測定することも考えられるが、人の肌表面の親水性等の性質は、石鹸で洗浄直後、その後の時間経過後、発汗後等の条件によって全く異なる。そのため、同じ化粧料を塗布しても場合によっては均一に塗布できるが、他の場合にはそうでないことが多い。よって、事実上、人の肌表面に塗布したときを完全に再現することは困難であった。そのため、そのような測定結果を化粧料等自体が有する特性とすることも困難であった。
1.表面をプラズマ処理、アーク放電又はコロナ放電処理して、純水との接触角を0〜70.0度とした基板の表面に、吸光性水性組成物を塗布し、
塗布後の吸光性水性組成物の吸光度を測定する、吸光度の測定方法。
2.吸光性水性組成物の塗布量が0.3〜30.0mg/cm2である1に記載の吸光度の測定方法。
3.吸光性水性組成物がO/Wエマルションである1又は2に記載の吸光度の測定方法。4.基板がポリメチルメタクリレート板又は石英板である1〜3のいずれかに記載の吸光度の測定方法。
5.表面をプラズマ処理、アーク放電又はコロナ放電処理して、純水との接触角を0〜70.0度とした基板を、台座上に固定し、さらに該基板表面に吸光性水性組成物を塗布する装置を設けてなる吸光度の測定用試料作成装置。
6.吸光性水性組成物がO/Wエマルションである5に記載の吸光度の測定用試料作成装置。
7.基板がポリメチルメタクリレート板又は石英板の表面をプラズマ処理、アーク放電処理又はコロナ放電処理してなるものである5又は6に記載の吸光度の測定用試料作成装置。
2・・・塗り拡げ部材
3・・・支持部
4・・・基板
5・・・化粧料
6・・・塗り拡げ部材先端部
本発明の吸光度の測定方法及び測定装置において吸光度を測定する対象の吸光性水性組成物としては、W/O/W型を含むO/Wエマルション型(水中油型)又はエマルションではない水分散性組成物である。また、例えばいわゆる水性化粧料又は医薬品であって、紫外線吸収剤を含有する等して紫外線を吸収したり、又は可視光や赤外線を吸収したりするものである。
このような組成物としては、化粧下地、乳化ファンデーション、アイシャドウ等のメイクアップ化粧料;サンスクリーンクリーム、ノンケミカルサンスクリーン、デイエッセンス、デイケアローション等の日焼け止め化粧料等、着色用化粧料、赤外線反射または吸収用塗布剤が含まれる。また、剤型としては、たとえば液状、乳液状、クリーム状、ローション状、エッセンス状等である。
そして、頭髪以外の皮膚、好ましくは顔、身体、手足等のいずれかにこの化粧料等を塗布することで、紫外線防御効果、着色効果又は赤外線による加熱防止効果を得る。
この紫外線防御効果とは、一般に波長290〜320nmのB波紫外線に対応したSPF値、波長320〜400nmのA波紫外線に対応したUVA−PF値、またはPA分類、PPD値として表わされるが、これらの波長の防御効果を示す指標であれば特に限定されない。
着色効果としては、塗布された吸光性水性組成物が含有する顔料、染料が、太陽光や人工光中の可視光部分において選択的に吸光することで、水性組成物を塗布した外観が着色して見える効果である。
赤外線による加熱防止効果としては、吸光性水性組成物が含有する顔料、染料或いは他の成分によって、塗布後の皮膚表面に太陽光が当たっても、形成されている吸光性水性組成物からなる層が、赤外線を反射及び/又は吸収して放熱することによって、皮膚表面および深部の細胞に直接赤外線を作用させないようにする効果である。
また水溶性のものとしては、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸及び/又は2−ヒドロキシ4−メトキシベンゾフェノンスルホン酸等を使用できる。
但し、可視光又は赤外線を吸収するものが溶解しない場合には、その粒子径が塗布膜厚以下であることが望ましい。
HD6(Helio Screen社製)等がある。なおISOプレートに化粧料を塗布する方法として、指サックを付けた指の指先もしくは指サックなしの指先で、該ISOプレート上に化粧料を塗布し塗り拡げる方法を採用している。
該ISOプレートの水に対する接触角は75度前後と大変大きく、これらの板やシートに対して、親水化のための処理を何ら行わない場合には、吸光性水性組成物を塗布しても十分に均一な塗膜を得ることができないので、これらの板やシートの表面を親水化する処理を行ない、本発明の特定の基板とする。
このような親水化の処理としては、プラズマ処理、アーク放電処理、コロナ放電処理等の物理的手段による処理を行うことが好ましく、上記の接触角となるように、処理強度を調整する。
使用するプラズマ処理、アーク放電又はコロナ放電処理用の装置としては、公知のものを採用できる。そして、これらの処理条件、つまり、印加電圧や処理時間としては、目的とする接触角となる範囲において任意に決定でき、その際の雰囲気としては、空気中のコロナ放電処理や、真空、又は酸素やアルゴン雰囲気下でのプラズマ放電処理とすることができる。中でもISOプレート又は石英基板をプラズマ処理すること、石英基板をコロナ放電処理することが好ましい。
但し、実際の処理においては、先ず最初にこれらの基板に対してコロナ放電処理やプラズマ処理等の表面処理を行い、一旦基板表面の接触角を0度等の極めて低い接触角とし、この基板を大気中に放置すると、接触角が少しづつ上昇して、本発明の方法において使用される60.0度までの範囲とすることができる。
なお、表面処理条件(処理雰囲気等)を調整することにより、処理直後の基板表面の接触角を経時後も一定にできる可能性はある。ただし、測定対象の吸光性水性組成物によって、より正確な吸光度を測定するための適切な接触角が異なるので、その適切な接触角を求めるために、多くの処理済み基板(それぞれ処理条件を変えたもの)を要する。本発明は一旦極めて低い接触角にまで処理しておき、経時的に接触角が上昇するようにすることで、1種の処理条件で処理された基板を使用して、より正確な吸光度を測定できる。また、その水性化粧料の特性が十分に発揮されたときの吸光度(つまり、人の肌に塗布した際の吸光度ではない組成物自体の吸光度)を測定できる。
なお接触角の経時による上昇は数日間がかかるので、基板への吸光性水性組成物の塗布と吸光度の測定に要する時間内での接触角の変化は小さく、測定結果に実質的に影響しない。
また図9に示すように該紫外線吸収性日焼け止め用組成物がスプレー噴霧タイプのときには接触角を10〜28度とするとSPF値及びUVA−PF値が高くなり、さらに図10に示すように、該紫外線吸収性日焼け止め用組成物がシリコーンオイル/水のエマルションタイプのときには接触角を60〜70度とするとSPF値及びUVA−PF値が高くなる。
これらの紫外線吸収性日焼け止め用組成物の上記の例えば4つのタイプに応じて、基板表面の接触角を上記の接触角としたときには、そうでない接触角のときに対して、より均一な被膜を形成でき、よって、より高いSPF値及びUVA−PF値を測定できる。このため、同一タイプ内で組成物を変更したときの紫外線吸収性に関する測定をより高精度に行うことができる。
図8〜図11に示すように、接触角に依存して、SPF値とUVA−PF値の最大値が得られることは、最大値付近において、その吸光性水性組成物にとり、紫外線防御塗膜として、最も均一で安定した状態が得られることが判る。すなわち、相分離、脱濡れが生じると、紫外線防御能は低下するが、最大値付近においては、その程度が最も少ないことを示している。皮膚に塗布することを考えると、吸光性水性組成物は上記最大値以外の塗膜状態を取り得るが、その紫外線防御特性をどこの測定機関が測定しても、客観的に同じような測定値が得られることが重要であり、そのためには、上記最大値付近の接触角の領域を用いることが合理的である。
ここで、水性ゲルタイプの吸光性水性組成物とは、例えば、親水性界面活性剤を用いた水中油型製剤、増粘剤を用いて水相を増粘させ、そこにチタニアゾルなどの顔料を分散させた美容液型製剤、増粘剤を用いて水相を増粘させ、そこに増粘剤や親油型界面活性剤を用いて増粘させた油相を分散させた軟膏型製剤など、製剤の外相が水性であり、増粘剤が使用されている製剤が挙げられる。
親油性の有機化合物を実質的に含有しない組成物とは、カラミンローションのように、水性相に紫外線防御効果のある材料を分散させておき、使用時に振とうして使用する剤型、チタニアゾルなど紫外線防御効果のある微粒子金属酸化物を増粘させた水相に分散させ、必要に応じて親水性の有機化合物を含有したものでもよい美容液型の製剤等が挙げられる。ここで親水性の有機化合物の一例は、水酸基やカルボン酸基等の酸基、アンモニウム基等の極性基含有脂肪族化合物や、これらの極性基を多く有する一部の芳香族化合物である。低級アルコール、グリコール、グリセリン、カルボン酸基含有低級炭化水素等が例示される。スプレー噴霧タイプとは、低粘度のローションまたは水中油型製剤が該当し、低濃度の顔料または有機系紫外線吸収剤、赤外線反射材などが分散または溶解状態で配合されている製剤が挙げられる。シリコーンオイル/水のエマルションタイプとは、水中油型製剤において、油相にシリコーンオイルが用いられている製剤であり、例えば揮発性シリコーンとシリコーン系界面活性剤を用いて乳化している製剤や、使用時に振とうして使用する製剤や、水相を増粘させ、そこにシリコーンオイルを含む油相が分散されている製剤などが挙げられる。
例えば、基板の種類やコロナ放電処理やプラズマ処理等の処理強度にもよるものの、図7(横軸は処理後の日数)に示すように例えば石英板に関しては、コロナ放電処理後半日から3日程度の期間放置することによって、上記の接触角とすることができる。
基板上の一部区域に試料を塗工する場合には、親水化処理の前に基板の試料塗工面上の該一部区域を規定するための規制部材を設けておくことができる。この規制部材による被覆として、基板表面に対して、公知の剥離可能な粘着剤層や接着剤層を介して、樹脂層、紙層、金属層等を設けてなること、あるいは、公知の剥離可能な塗料やインク等の硬化後や乾燥後に剥離可能な塗膜層を形成してなることができる。
これにより基板の一部区域は親水化処理されるが、該規制部材により結果的に被覆される基板表面は親水化処理されないので、親水化された一部区域と、隣接する規制部材による被覆された区域の間には、基板表面の液体の接触角に差が生じることになる。規制部材を剥離した後に塗り拡げ装置1によって基材上に試料を塗布した結果、親水化された一部区域には塗工されるが、規制部材により被覆されていたために親水化されなかった基材表面には試料が塗布されてないことになる。このようにして基材上の一部区域に選択的に試料を塗布することができ、その塗布された試料は一部区域外に拡がったり、にじみ出たり、流出したりすることがない。
吸光性水性組成物を、上記基板の表面に塗布する手段としては、均一に塗布することができる手段であれば、特に限定されるものではないが、例えば、下記の液状化粧料の紫外線防御効果を測定する方法をそのまま、又は紫外線防御効果に代えて、着色効果や赤外線吸収効果を測定する方法として採用することができる。
着色効果や赤外線吸収効果の測定は、紫外線と同様に、可視光や赤外線の吸収スペクトルを測定することによって行われる。
a)基板とのなす角度が30度以上である塗り拡げ部材を、基板表面に対して好ましくは20〜25μmの間隙で、好ましくは一定の速度(1〜10mm/s又は1〜5mm/s)にて移動させて、基板上に平滑な液状化粧料層を塗工・形成する工程
この塗り拡げ部材は、例えば図1に示す塗り拡げ装置1によって移動される。
塗り拡げ装置1は塗り拡げ部材2及び該塗り拡げ部材2の両端を支持するための支持部3を有する装置である。
該塗り拡げ部材2は該支持部3に対して図示しない構造、例えば、塗り拡げ部材の両端部に設けたピンが、支持部3に設けられた上下方向に延びた溝に嵌合される等することによって上下に自由に移動が可能に支持されてなり、該塗り拡げ部材の自重によって、塗り拡げる対象である化粧料から受ける揚力に抗し、基板に対して該化粧料を均一に塗布するようにしてなるものである。
この図1に記載の塗り拡げ装置1は、説明のために他の部材を図示していないが、塗り拡げ装置として一体のものとするために、例えば2つの支持部3を接続させる部材アングル等を設けることも可能である。
また、図2は該塗り拡げ装置1を下面からみた図であり、塗り拡げ部材先端6が塗り拡げ部材2の先端に位置している。
図3には、基板4を固定するための台座Bが設けられている。さらに、図3及び図4に示すように矢印で示す塗り拡げ装置の進行方向に向いた、塗り拡げ部材の面と、塗工される基板4の表面とのなす角度が30度以上であることが必要である。30度未満の場合では、化粧料5によって塗り拡げ部材にかかる揚力のために膜厚が一定にならず、化粧料によっては測定精度が低くなる場合がある。塗り拡げ部材が円筒状、あるいは楕円の筒状等のように、塗り拡げ部材の最も基板に近い部分と塗工される基板表面のなす角度が0度に近くなる形状の場合も同様に塗り拡げ部材に係る揚力のために膜厚が一定にならない。
また、塗り拡げ部材先端6と基板4とで形成される間隙の高さが20〜25μmの範囲にあることが好ましい。20μm未満の場合、塗り拡げ部材の加工精度が極めて高くないと、平滑な塗膜が得られない可能性があり、一般的な金属製塗り拡げ部材の加工精度から考えると、平滑な塗工ができない可能性がある。20〜25μmの範囲であれば、加工精度と塗り拡げ装置の量産性が両立する領域である。25μmを超えると、塗膜が厚くなり、塗膜を透過する紫外線量が減少する結果、より高い感度を有する測定器が要求される問題を生じる。
図5に示すように、塗り拡げ装置1を基板4上にて移動させて、化粧料等の試料を基板4上に均一に塗布する。図5には、塗り拡げ装置1を基板4上にて移動させる機構に関しては図示をしないが、下記にて説明するように一定の速度にて移動を行う。
なお、化粧料等の試料は、塗布されるべき全量を塗り拡げ開始時に塗り拡げ部材の前部に供給しておくことも可能であるが、その場合には、塗り拡げ部材に係る揚力、つまり多量の試料により塗り拡げ部材を上方に向けて押す力が大きくなるので、試料を塗り拡げ部材の前部に供給する際には、逐次もしくは連続して適量を供給するか、事前に試料を基板4上にヘラなどを使用して塗り拡げておくことにより、塗り拡げ工程時にわたって、塗り拡げ部材に係る揚力をできるだけ小さく、さらに揚力の変動量も小さく、つまり、塗り拡げ部材前部に存在する試料もできるだけ少なくすることが、より平滑な塗膜を形成するためには必要である。
塗り拡げ装置を移動させるに伴って、図5にて示すような、移動方向に平行に形成されるSで示されるストライプ模様形成による試料の厚みのムラを解消することが必要であるし、また、図5においてA−Aの線において切断した状態を示す図6に示すように、移動方向に垂直な方向に形成される筋の厚みのムラも解消することが求められる。
一定の速度での塗工とは、電動シリンダ、電動アクチュエーター、産業ロボット、搬送機など、一定速度で運動できる装置を用いて、基板または塗り拡げ装置を一定の速度で移動させて塗工することをいい、特にリニアモーターを用いたものは低速度領域での速度安定性が高く、トルクが大きいことから、重い金属性塗り拡げ装置を用いても安定した塗工ができること、速度や加速度の履歴が残ることから好ましい。一定の速度としては、毎秒1〜10mm、より好ましくは毎秒1〜5mmの速度で塗工することが好ましい。毎秒1mm未満では、塗工に時間がかかり過ぎ、化粧料に含まれる揮発性溶媒が塗工中に揮発して、塗膜部位による成分の不均一性が生じる可能性があり、10mmを超えると、ストライプ模様が形成されやすくなる問題がある。作業性、揮発性の問題などを加味すると、毎秒5mmの設定が最も好ましい。
この手段については、市販製品が存在していないため、特注または自作が必要となる。
なお、市販の塗料試験用の塗工試験器は一般に高速での塗工に適したモーターとギア比を用いており、低速度域での速度の安定性と精度が悪く、平滑な塗膜を形成する目的には適していない場合が多い。塗工試験機のカタログを見ると、一般に塗工速度の単位としてm/分の単位を用い、速度の調整も1m/分の単位であり、元々mm/分〜cm/分の単位で表わされる低速度はこれらの装置の概念にない領域である。特に、化粧料の場合、多様な粘度とチキソトロピー性、接着性があり、このような製剤を平滑に塗工する場合は、塗工手段には充分なトルクと速度安定性が求められる。また、塗料試験器は塗工器具を固定し、塗工面にしっかり圧着する構造を持つことが一般的である。
しかしながら、例えば塗工器具の両端を固定した場合、塗工膜厚は中央部と端部で変化してしまい、平滑な塗膜が形成できない問題があり、塗工器具を塗工面に圧着する形態を持つ塗工試験機では、本発明の求める塗工精度が得られにくい問題がある。
平均塗工量と標準偏差を求めるために、基板上の複数の点及び/または、複数の基板上に形成した塗膜を対象に塗工量の測定を行う。
粘度が低い化粧料の場合は、塗り拡げ装置の進行方向前面に充分な試料を置いても揚力による影響は少ないが、粘度が高い化粧料の場合は、塗り拡げ部材に揚力がかかりやすく、膜厚が変動しやすい問題がある。
特に塗り拡げ装置の進行方向前面に大きな化粧料の塊があると、塗り拡げ部材は化粧料に乗り上げる形になり、膜厚が不均一になる原因となる。そのため、化粧料はヘラなどを用いて、事前に塗り拡げ装置の進行方向前面に薄く塗り拡げてから、すばやく塗り拡げ装置を走らせて平滑な塗膜を形成することが好ましい。また、塗り拡げる量であるが、少なすぎると膜厚が不均一になる原因となる。目安としては、乾燥前の塗布量として、0.3〜30.0mg/cm2程度の量を塗り拡げておくことが好ましく、0.4〜5.0mg/cm2程度とすることもできる。
試料の単位面積あたりの塗工量を測定する場合は、一例として、図6に示すように、以下の方法に従うことが好ましい。但し、目的が達せられるのであれば、実施する順番は問わないし、一部工程を簡略化することも可能である。
A)化粧料に用いる揮発性成分が不〜難透過性であり、一定の大きさに切断
されてなる樹脂フィルムを用意する。
B)樹脂フィルムの単位面積あたりの質量を求める。
C)切断されてなる樹脂フィルム7の質量を測定し、単位面積あたりの質量
から、切断した樹脂フィルムの面積を求める。
D)測定する基板4の質量を求める。
E)本発明の方法に従い、化粧料の試料5を塗工し、直後に切断したフィル
ムを試料5の表面に静置する。
F)樹脂フィルムに覆われていない部位の試料を拭き取る。
G)樹脂フィルムと化粧料と基板からなる試料の質量を測定する。
H)上記の測定値から単位面積あたりの化粧料の質量を測定する。
なお、測定全般にいえることであるが、本発明の場合、測定は0.1mgの単位まで正確に計測する。この際に、試料の静電気の影響を強く受けるため、除電装置を用いて、試料の除電を充分に行い、測定を行うことが好ましい。
試料を測定する際に、測定部位としては、試料の塗工開始位置からなるべく遠い位置を測定することが好ましい。また、測定は290〜400nmの範囲を1nm単位で測定することが好ましい。
上記工程により、単位面積あたりの塗工量(もしくは膜厚)とその塗工量における波長別の紫外線防御効果が測定できている。しかしながら、試料により、その塗工量は変化し、同じではないため、そのままの計測値は相互の比較ができない。そのため、特定の単位面積あたりの塗工量を設定し、その値に合わせて、計算上で波長別の吸光度(または透過率)を求め、SPF値やUVA−PF(A波紫外線防御指数)値を求める必要がある。
特定の単位面積あたりの塗工量をMとし、試料の単位面積あたりの実測塗工量をNとすると、M/Nの値を波長別の吸光度(吸収スペクトルと共に求めた値)に掛けることで、塗工量Mの時の紫外線防御効果曲線を計算により得、この曲線からSPF値やUVA−PF値を算出する。膜厚基準の場合は、目標とする膜厚を定め、同様の操作にて紫外線防御効果曲線を得、この曲線からSPF値やUVA−PF値を算出する。なお、吸光度ではなく、透過率を基準にして求めることも可能である。
日本製品としては、資生堂社、カネボウ化粧品社の製品を基準にすると、1.0mg/cm2の塗工量とすると表示値に近い測定値となる。一方、欧州ロレアル社の製品を基準にすると、0.75mg/cm2の塗工量とすると表示値に近い測定値となる。この際に、塗工量とSPF値、UVA−PF値のグラフを描き、近似式を求めることが好ましい。液状の化粧料の場合は、線形近似もしくは指数近似を用いることが好ましい。
なお、この数値を算定するにあたり、SPF、UVA−PFの計算は、Solarlight社製SPF-290S付属のSPF V3.0ソフトウエアを用いた。なお、現在各地域で検討されている紫外線防御効果算出プログラムを用いることも可能である。
上記の工程から得られたデータを元に、目標とする特定の単位面積あたりの塗工量での紫外線防御効果を測定する。なお、この際に、塗工量とSPF値、UVA−PF値のグラフを描き、近似式を求めることが好ましい。粉体化粧料の場合は、線形近似ではなく、指数近似を用いると相関性を示すR2乗値が1もしくは1に近い値を示すことから好ましい。
(接触角の測定方法)
接触角の測定は、接触角測定装置(エキシマ社製SImage Entry 5)を用いて、蒸留水を3.1μL試料に滴下した際の接触角の測定を数回実施、その平均値を求めることにより実施した。
(SPF及びUVA−PFの求め方)
SPF、UVA−PFの計算は、290〜400nmの範囲を1nm単位で測定した結果に基づき、Solarlight社製SPF-290S付属のSPF V3.0ソフトウエアを用い、ISO24443(2012)に基づいて求めた。該ソフトウエアでは下記式による計算を行った。
E(λ)及びP(λ)は、erythema action spectrum
I(λ)は、spectral irradiance received from the UV source
A0(λ)は、mean monochromatic absorbance of the test product layer before UV exposure
dλは、wavelength step
Cは、0.8〜1.6の間のスカラー値
プラズマ処理は、日本電子社製AUTO FINE COATER JEC−3000FC型の金属ターゲットをアルミニウムに変更し、蒸着が生じないようにした上で、40mAの条件で23秒間真空下にプラズマを照射した。
塗布直後及び乾燥直後に塗膜の紫外線の吸収波長(吸収スペクトル)を測定し、波長毎の吸光度の結果からSPF値及びUVA−PF値を求めた。
その結果を表1に示す。
試料1:水、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、エタノール、PG(プロピレングリコール)、ジメチコン、エチルヘキシルトリアゾン、ジエチルアミノヒドロキシベンゾイル安息香酸ヘキシル、BG(1,3−ブチレングリコール)を含有する組成物。
他方、プラズマ処理しないISOプレートに塗布すると、均一に塗布することはできず、測定されたSPF及びUVA−PFの値は、不安定であって、経時により明らかに変化した。
この結果によれば、プラズマ処理したISOプレートを用いることによって、SPFやUVA−PF値を測定する際の測定のバラツキ等を無くし、O/Wエマルションの紫外線吸収剤含有水性組成物の特性を最も発揮できた状態で、より正確に測定できる。
その結果を表2に示す。
試料2:水、メトキシケイヒ酸エチルヘキシル、ポリエチレングリコール−30水添ひまし油、エトキシジグリコール、BG(ブチレングリコール)、グリセリン、t−ブチルメトキシジベンゾイルメタン、フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、ビスエチルヘキシルオキシフェノールメトキシフェニルトリアジン、ステアリン酸スクロースを含有する組成物。
精製水は基板を多少傾けても流れ落ちず、安定な塗膜を形成していた。
精製水は塗工機から基板を外そうとしたところで、側面から流れ落ちた。
実施例3の結果によれば、マスキングテープを使用することにより、必要とする区域のみを表面処理でき、その区域に隣接する部分はより接触角が大きくなる。そのため、必要とする区域に対して、安定した塗膜を形成できることがわかる。
Claims (7)
- 表面をプラズマ処理、又はアーク放電して、純水との接触角を0〜70.0度とした基板の表面、又は表面をコロナ放電処理して、純水との接触角を0〜15度とした基板の表面に、吸光性水性組成物を塗布し、
塗布後の吸光性水性組成物の吸光度を測定する、吸光度の測定方法。 - 吸光性水性組成物の塗布量が0.3〜30.0mg/cm2である請求項1に記載の吸光度の測定方法。
- 吸光性水性組成物がO/Wエマルションである請求項1又は2に記載の吸光度の測定方法。
- 基板がポリメチルメタクリレート板又は石英板である請求項1〜3のいずれかに記載の吸光度の測定方法。
- 表面をプラズマ処理、又はアーク放電して、純水との接触角を0〜70.0度とした基板、又は表面をコロナ放電処理して、純水との接触角を0〜15度とした基板を、台座上に固定し、さらに該基板表面に吸光性水性組成物を塗布する装置を設けてなる吸光度の測定用試料作成装置。
- 吸光性水性組成物がO/Wエマルションである請求項5に記載の吸光度の測定用試料作成装置。
- 基板がポリメチルメタクリレート板又は石英板の表面をプラズマ処理、アーク放電処理又はコロナ放電処理してなるものである請求項5又は6に記載の吸光度の測定用試料作成装置。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016174084 | 2016-09-06 | ||
JP2016174084 | 2016-09-06 | ||
PCT/JP2017/031362 WO2018047707A1 (ja) | 2016-09-06 | 2017-08-31 | 紫外線吸収剤又は赤外線遮断剤含有水性組成物の紫外線防御効果又は赤外線防御効果の測定方法及び測定用試料作成装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2018047707A1 JPWO2018047707A1 (ja) | 2019-06-24 |
JP6842778B2 true JP6842778B2 (ja) | 2021-03-17 |
Family
ID=61562495
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018538379A Active JP6842778B2 (ja) | 2016-09-06 | 2017-08-31 | 紫外線吸収剤又は赤外線遮断剤含有水性組成物の紫外線防御効果又は赤外線防御効果の測定方法及び測定用試料作成装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11525779B2 (ja) |
EP (1) | EP3511700B1 (ja) |
JP (1) | JP6842778B2 (ja) |
WO (1) | WO2018047707A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6741261B1 (ja) * | 2019-07-31 | 2020-08-19 | 黒田総合技研株式会社 | 化粧品の紫外線透過比率評価用基板および評価方法 |
Family Cites Families (55)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE787504A (fr) * | 1971-08-13 | 1973-02-12 | Eastman Kodak Co | Procede pour traiter la surface d'un film de polymere en vue d'ameliorer l'adherence de couches de gelatine ou |
DE8137962U1 (de) * | 1981-12-28 | 1982-06-16 | Biotest-Serum-Institut Gmbh, 6000 Frankfurt | Mikrotiterplatte zur blutgruppendiagnostik |
NZ218128A (en) * | 1985-11-01 | 1990-04-26 | Biotech Australia Pty Ltd | Etched substrate having improved binding capacity |
US5041266A (en) * | 1989-12-21 | 1991-08-20 | Hoffmann-La Roche Inc. | Tray for immunometric determinations |
JP3644563B2 (ja) * | 1996-09-03 | 2005-04-27 | ポーラ化成工業株式会社 | メークアップ化粧料の評価方法 |
US6352758B1 (en) * | 1998-05-04 | 2002-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Patterned article having alternating hydrophilic and hydrophobic surface regions |
JP2003098068A (ja) * | 2001-09-25 | 2003-04-03 | Hitachi Ltd | 平面型セル及びそれを用いた分析装置 |
DE10164469C1 (de) * | 2001-12-20 | 2003-07-03 | Coty Bv | Verfahren zur Bestimmung realistischer UV-Schutzfaktoren oder Breitspektrumindizes |
DE60232547D1 (de) * | 2002-03-11 | 2009-07-16 | Kao Corp | Kosmetika |
US7381471B2 (en) * | 2002-07-15 | 2008-06-03 | University Of Virginia Patent Foundation | Hybrid polymers for functional tuning of microfluidic device surfaces |
US7244416B2 (en) * | 2002-08-22 | 2007-07-17 | Schering-Plough Healthcare Products, Inc. | Stabilized photoprotective composition |
GB0225408D0 (en) * | 2002-10-31 | 2002-12-11 | Raft Trustees Ltd | Method and apparatus for determining effectiveness of sunscreens and other skin preparations in shielding human skin from UVA radiation |
US20040151673A1 (en) * | 2002-11-21 | 2004-08-05 | Societe L'oreal S.A. | Nonaerosol/aerosol dispensing of sunscreen sprays comprising silica microparticles |
US20050271893A1 (en) * | 2004-06-04 | 2005-12-08 | Applied Microstructures, Inc. | Controlled vapor deposition of multilayered coatings adhered by an oxide layer |
US20050164402A1 (en) * | 2003-07-14 | 2005-07-28 | Belisle Christopher M. | Sample presentation device |
US7919305B2 (en) * | 2004-02-19 | 2011-04-05 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for manufacturing cell culture substrate |
DE102004020644A1 (de) * | 2004-04-22 | 2005-11-17 | Coty B.V. | Verfahren zur Bestimmung eines UVA- und UVB-Strahlung erfassenden integralen Sonnenschutzfaktors |
US7879396B2 (en) * | 2004-06-04 | 2011-02-01 | Applied Microstructures, Inc. | High aspect ratio performance coatings for biological microfluidics |
US7309481B2 (en) * | 2005-02-07 | 2007-12-18 | Tanning Research Laboratories, Inc. | Natural sunlight photostable composition |
JP4610251B2 (ja) | 2004-07-21 | 2011-01-12 | 富士フイルム株式会社 | グラビア塗布装置及び可撓性帯状支持体の製造方法 |
US8206728B2 (en) * | 2004-11-18 | 2012-06-26 | L'oréal | Sunscreen compositions containing fluorinated alkyl ethers |
KR100732325B1 (ko) * | 2005-02-16 | 2007-06-25 | 주식회사 엘지화학 | 수직 배향 액정 필름을 포함하는 위상차 필름 및 그제조방법 |
EP1750155B1 (de) * | 2005-08-01 | 2012-10-10 | ibidi GmbH | Verfahren zur Herstellung einer Probenkammer |
US20070092458A1 (en) * | 2005-10-24 | 2007-04-26 | Librizzi Joseph J | Compositions comprising polymeric emulsifiers and methods of using the same |
US20070092457A1 (en) * | 2005-10-24 | 2007-04-26 | Librizzi Joseph J | Compositions comprising polymeric emulsifiers and methods of using the same |
JP4866066B2 (ja) * | 2005-11-18 | 2012-02-01 | 花王株式会社 | 化粧料 |
JP4877770B2 (ja) | 2006-09-07 | 2012-02-15 | 学校法人慶應義塾 | 高撥水性表面の形成方法 |
JP5575355B2 (ja) * | 2006-10-06 | 2014-08-20 | 株式会社 資生堂 | 紫外線防御効果の評価装置 |
AU2007305580B2 (en) * | 2006-10-06 | 2013-05-23 | Shiseido Company, Ltd. | Ultraviolet radiation protective effect evaluation method and device |
WO2008053743A1 (en) * | 2006-10-31 | 2008-05-08 | Panasonic Corporation | Microchip and analyzer using the same |
JP4873576B2 (ja) * | 2006-12-01 | 2012-02-08 | 国立大学法人島根大学 | 蛍光標識剤および蛍光標識方法 |
US20080219938A1 (en) * | 2007-03-07 | 2008-09-11 | Grune Guerry L | SPF compositions |
WO2008113109A1 (en) * | 2007-03-16 | 2008-09-25 | Australian Photobiology Testing Facility Pty Limited (Aptf) | Artificial substrate |
DE102007037406A1 (de) * | 2007-08-08 | 2009-06-04 | Neoplas Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur plasmagestützten Oberflächenbehandlung |
CN101821604B (zh) * | 2007-10-18 | 2011-11-30 | 株式会社资生堂 | 紫外线防御效果的评价方法、评价装置 |
US8293061B2 (en) * | 2008-03-06 | 2012-10-23 | University Of Maryland College Park | Low temperature polymer bonding using UV/ozone surface treatment |
EP2135598B1 (en) * | 2008-06-16 | 2011-08-03 | Rohm and Haas Company | Particle Containing Ultraviolet Absorber |
CN102215806A (zh) * | 2008-07-28 | 2011-10-12 | 宝洁公司 | 沉积性增强的多相个人护理组合物 |
JP5777045B2 (ja) * | 2008-09-02 | 2015-09-09 | 国立研究開発法人産業技術総合研究所 | 細胞検出方法及び該方法に用いるマイクロアレイチップ |
WO2010113961A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-07 | 株式会社資生堂 | 皮膚外用剤の塗布方法、及び該方法による塗布評価方法、塗布評価装置、及び塗布評価プログラム |
CN102387864B (zh) * | 2009-04-09 | 2014-06-25 | 皇家飞利浦电子股份有限公司 | 用于分析的含细胞流体薄层的制备 |
JP5698675B2 (ja) * | 2009-11-06 | 2015-04-08 | 花王株式会社 | 乳化化粧料 |
JP5825654B2 (ja) * | 2010-09-14 | 2015-12-02 | 学校法人慶應義塾 | 化粧料の紫外線防御効果の測定方法、測定装置、及び測定値の表示方法 |
JP5006958B2 (ja) * | 2010-09-17 | 2012-08-22 | 株式会社 資生堂 | 紫外線防御効果の評価方法、評価装置、評価プログラム、及び該プログラムが記録された記録媒体 |
US10114020B2 (en) * | 2010-10-11 | 2018-10-30 | Mbio Diagnostics, Inc. | System and device for analyzing a fluidic sample |
JP5565731B2 (ja) * | 2010-11-09 | 2014-08-06 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 光学材料及びその製造方法 |
US9063054B2 (en) * | 2011-03-11 | 2015-06-23 | Suncare Research Laboratories, Llc | Vitro measurement of sunscreen protection |
CN104470906B (zh) * | 2012-06-04 | 2016-08-24 | 爱尔克米亚 | 作为抵抗紫外线辐射的保护剂的亚氨基化合物 |
WO2013188320A1 (en) * | 2012-06-12 | 2013-12-19 | Suncare Research Laboratories, Llc | Measurement of sunscreen protection using spin coated substrates |
GB201211147D0 (en) * | 2012-06-22 | 2012-08-08 | Sony Dadc Austria Ag | Method of manufacturing sample containers |
WO2014050139A1 (ja) * | 2012-09-27 | 2014-04-03 | 株式会社クラレ | サイトカインがチトクロムp450の代謝能に及ぼす影響を評価する方法および薬剤のスクリーニング方法 |
JP6026203B2 (ja) * | 2012-09-28 | 2016-11-16 | 花王株式会社 | 紫外線防御化粧料の評価方法及び評価装置 |
JP5575865B2 (ja) * | 2012-12-11 | 2014-08-20 | 株式会社 資生堂 | 紫外線防御効果の評価方法、評価装置、及び評価プログラム |
JP5826738B2 (ja) * | 2012-12-11 | 2015-12-02 | 株式会社 資生堂 | 板状部材 |
JPWO2014196204A1 (ja) * | 2013-06-07 | 2017-02-23 | 株式会社クラレ | 培養容器及び培養方法 |
-
2017
- 2017-08-31 WO PCT/JP2017/031362 patent/WO2018047707A1/ja active Search and Examination
- 2017-08-31 US US16/330,024 patent/US11525779B2/en active Active
- 2017-08-31 JP JP2018538379A patent/JP6842778B2/ja active Active
- 2017-08-31 EP EP17848647.8A patent/EP3511700B1/en active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3511700B1 (en) | 2023-10-04 |
JPWO2018047707A1 (ja) | 2019-06-24 |
US20190285543A1 (en) | 2019-09-19 |
US11525779B2 (en) | 2022-12-13 |
EP3511700A4 (en) | 2020-04-29 |
WO2018047707A1 (ja) | 2018-03-15 |
EP3511700A1 (en) | 2019-07-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Choe et al. | Analysis of human and porcine skin in vivo/ex vivo for penetration of selected oils by confocal Raman microscopy | |
Singh et al. | Enhanced sun protection of nano‐sized metal oxide particles over conventional metal oxide particles: An in vitro comparative study | |
CN105579022B (zh) | 二氧化钛和二氧化硅的局部用防晒组合物 | |
Lademann et al. | Synergy effects between organic and inorganic UV filters in sunscreens | |
US20120022472A1 (en) | Application method of external dermatological medications, evaluating method of the same, application evaluating apparatus, and application evaluating program | |
Richena et al. | Effect of photodamage on the outermost cuticle layer of human hair | |
Lademann et al. | Influence of nonhomogeneous distribution of topically applied UV filters on sun protection factors | |
Villalobos-Hernandez et al. | In vitro erythemal UV-A protection factors of inorganic sunscreens distributed in aqueous media using carnauba wax–decyl oleate nanoparticles | |
JP6842778B2 (ja) | 紫外線吸収剤又は赤外線遮断剤含有水性組成物の紫外線防御効果又は赤外線防御効果の測定方法及び測定用試料作成装置 | |
Miura et al. | Influence of application amount on sunscreen photodegradation in in vitro sun protection factor evaluation: proposal of a skin‐mimicking substrate | |
US11566943B2 (en) | Methods and systems for quantitatively measuring photoprotection | |
US20150108360A1 (en) | Measurement of sunscreen protection using spin coated substrates | |
Cengiz et al. | Sunblocking efficiency of various TiO2‐loaded solid lipid nanoparticle formulations 1 | |
Berkman et al. | Solid lipid nanoparticles: A possible vehicle for zinc oxide and octocrylene | |
Popov et al. | Effect of size of Ti O 2 nanoparticles applied onto glass slide and porcine skin on generation of free radicals under ultraviolet irradiation | |
CA2673743A1 (en) | Emulsion product for use as sunscreen, cosmetic agent or a carrier for an active ingredient | |
KR101992144B1 (ko) | 화장료의 지속성 측정 방법 | |
TW201703756A (zh) | 防曬組成物及其應用 | |
Keshavarzi et al. | In vitro skin model for characterization of sunscreen substantivity upon perspiration | |
JP5825654B2 (ja) | 化粧料の紫外線防御効果の測定方法、測定装置、及び測定値の表示方法 | |
De Paula et al. | Evaluation of sun protection factor of cosmetic formulations by a simple visual in vitro method mimicking the in vivo method | |
WO2021020432A1 (ja) | 化粧品の紫外線透過比率評価用基板および評価方法 | |
JPH1121223A (ja) | Uv反射粉体及びそれを含有する化粧料 | |
Kubáč et al. | Characteristics of titanium dioxide microdispersions with different photo-activity suitable for sunscreen formulations | |
Semenzato et al. | Chemico‐physical and functional properties of inorganic sunscreens in cosmetic products |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190319 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200821 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210126 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20210215 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6842778 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |