JP6833974B2 - 電気化学セル用酸素極および電気化学セル - Google Patents
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Description
このうち、支持基板11、水素極12、酸素極15は、多孔質であり、ガス(気体)の通過が可能である。一方、電解質層13、反応防止層14は、ガスを通過させる必要がなく(イオンを通過させる)、緻密(非多孔質)である。
金属としては、ニッケル、コバルト、鉄と銅からなる群から選ばれる1種以上、もしくはそれらを含む合金が挙げられる。
金属酸化物としては、例えば、安定化ジルコニア(SZ)やドープセリア(DC)が挙げられる。安定化ジルコニアは、Y2O3,Sc2O3,Yb2O3,Gd2O3,CaO,MgO,CeO2等からなる群から選ばれる1種以上の安定化剤が固溶されたジルコニア(二酸化ジルコニウム:ZrO2)である。ドープセリアは、Sm2O3、Gd2O3とY2O3等からなる群から選ばれる1種以上の酸化物が固溶されたセリア(酸化セリウム:CeO2)である。
このように、電解質層13と酸素極15の間に反応防止層14を配置することで、電解質層13と酸素極15の固相反応が防止され、固体酸化物電気化学セル10の性能を確保できる。
Ln1−xAxB1−yCyO3−δ … 組成式(1)
Lnは、例えば、Laなどの希土類元素が挙げられる。Aは、例えば、Sr,Ca、Baが挙げられる。B及びCは、例えば、Cr,Mn,Co,Fe、Niが挙げられる。
x、y、δは、次の関係を満たす。
0≦x≦1、0≦y≦1、0≦δ≦1
ABO3 … 組成式(2)
この組成式(2)の「A」は、組成式(1)の「Ln」および「A」と対応する。また、組成式(2)の「B」は、組成式(1)の「B」および「C」と対応する。
第2の相152は、第1の相151内に離散的に(分散して)配置される。
後述するように、第1、第2の相151,152を混在させることで、酸素極15の性能が向上し、しかも長寿命化を図ることができる。
第1、第2の相151、152がいずれもLn1−xAxB1−yCyO3−δ構造である場合を考える。この場合、第1、第2の相151、152の構造は次のように表される。
第1の相151: Ln1−x1Ax1B1−y1CyO3−δ1
第1の相152: Ln1−x2Ax2B1−y2CyO3−δ2
すなわち、x1≠x2,y1≠y2のいずれかが成立すれば、Aサイト内(Ln,A)、Bサイト内(B,C)いずれかで元素の比率が異なることになる。
例えば、Lnが、ランタンLaで、A,B,Cがそれぞれ、Sr,Co,Feのとき、第1の相151より第2の相152が、Coが多く、Feが少ない場合(x1≠x2)、あるいはLaが多く、Srが少ない場合(y1≠y2)である。
以上の説明は、第1、第2の相151,152の双方において、Ln1−xAxB1−yCyO3−δ構造が維持されていることを前提としている。すなわち、A、B同一サイト内でのみの元素の比率を問題としていた。
しかし、このような場合でも、第1、第2の相151,152は共存可能であることが実験的に示されている。基本的に、第1の相151は、ABO3構造(Ln1−xAxB1−yCyO3−δ構造)である。これに対して、第2の相152は、ABO3構造以外に、A2BO4構造、B3O4構造を有し得る。このように、第1、第2の相151,152が、ABO3構造−ABO3構造の組み合わせ以外に、ABO3構造−A2BO4構造、ABO3構造−B3O4構造の組み合わせであっても、第1、第2の相151,152は安定的に存在し得る。これは、固体酸化物電気化学セル10の作成時の焼成処理の際に、第1、第2の相151,152が安定的な状態に落ち着くためだと考えられる。
Ln2−xAxB1−yCyO4−δ … 組成式(3)
B3O4構造は、例えば、Co3−xFexO4が挙げられ、次の組成式(4)で表される。
B3−xCxO4−δ … 組成式(4)
ここで、Lnは、例えば、Laなどの希土類元素が挙げられる。Aは、例えば、Sr,Ca、Baが挙げられる。B及びCは、例えば、Cr,Mn,Co,Fe、Niが挙げられる。
x、y、δは、次の関係を満たす。
0≦x≦1、0≦y≦1、0≦δ≦1
第2の相152は、ABO3、A2BO4、B3O4構造内に、複数の組成比の酸化物が入り交じって存在してもよい。すなわち、組成式(1)、(3)、(4)の変数x、y、δが第2の相152の同一構造内で一定でなくてもよい。
このため、第1、第2の相151,152それぞれで、元素E1、E2の密度比α(元素E2の密度d1に対する元素E1の密度d2の比α(=d1/d2))は異なる。第1、第2の相151、152それぞれでの密度比をα1,α2とすると、密度比α2は密度比α1より大きい(α2>α1)。
D=2・(S/π)1/2 … 式(1)
面積Sは、試料断面上の第2の相152それぞれの面積である。
後述の図2Bの輝点の集合が第2の相152に対応する。なお、図2Bにおける第2の相152を囲む丸(点線)は、個々の第2の相152(第2の酸化物)を示すものであり、仮想的な径Dとは無関係である。
例えば、固体酸化物電気化学セルを劈開し、その断面をイオンミリング等で平滑化する。この試料断面を1000〜100000倍程度の倍率でSEM観察すると共に、EDXで測定する。このとき、組成の最小測定領域(例えば、半径500nm程度以下)、エネルギー分解能(例えば、100eV程度以下)は小さい方が好ましい。
(1)元素の集合体の検出
前述のように、試料断面を組成分析し、サイズ(仮想的な径D)がある程度以上(例えば、0.3μm以上)の元素E1の集合体の領域(第2の相152)を検出する(例えば、後述の図2Bの丸(点線)内)。
サイズがある程度以上の領域(第2の相152)内、外(第1の相151)で、元素E1と、この元素E1と元素E2(元素E1と同一サイト)の密度比α2、α1を求める。密度比α2は、領域内での元素E2に対する元素E1の比であり、密度比α1は、領域外での元素E2に対する元素E1の比である。
密度比の比R(=α2/α1)が1より大きければ(例えば、2.0以上)、第2の相152が検出された(元素E1が局所的に分布している)といえる。
複数の材料M1,M2を混合することで、第1、第2の相151,152の構造を作成できる。例えば、第1の相151に対応する粉末材料M1と、第2の相152に対応する粉末材料M2を混合してスプレーコーティングする。
このとき、粉末材料M2は、粉末材料M1に比べて、少なくとも特定の元素の割合が多く、粒径が大きく、かつ混合量を少なくする。この混合体をスプレーコーティングすると、粉末材料M1中に、粉末材料M2の粒子が分散した構造になる。これを焼成することで、第1、第2の相151,152を有する酸素極15を作成できる。
実施例で詳細に説明するが、用いる材料は均一であっても、熱処理温度を調節することで、第1、第2の相151,152を有する酸素極15を作成できる。具体的には、電解質層13、反応防止層14の構成材料を積層した状態で熱処理し(一次熱処理)、さらに酸素極15の構成材料を積層して熱処理を行う(二次熱処理)。
(実施例1)
A.作成
次の手順(1)〜(5)によって、試料1を作成した。
酸化ニッケル(NiO)の粉末とガドリウム・ドープ・セリア(GDC)の粉末を重量比で6:4の割合で混合し、混合粉末を作成する。このGDCは、セリア(酸化セリウム(IV):CeO2)にガドリア(酸化ガドリウム:Gd2O3)を(Gd2O3)0.1(CeO2)0.9の組成になるように混合し、焼成することで作成される。
混合粉末を溶媒と混合してペーストとし、これをシート形状とすることで、支持基板11の前駆体を作成する。
この前駆体上に、水素極12、電解質層13、反応防止層14を順にスプレーコーティングで作成し、前駆体110、水素極12,電解質層13、反応防止層14の一次積層体が形成される。
水素極12は、酸化ニッケル(NiO)とガドリウム・ドープ・セリア(GDC)の混合粉末を溶媒と混合して、スプレーコーティングして作成される。
電解質層13は、イットリア安定化ジルコニア(YSZ)の粉末を溶媒と混合して、スプレーコーティングして作成される。
反応防止層14は、GDCを溶媒と混合して、スプレーコーティングして作成される。
一次積層体を1200℃以上1600℃以下(ここでは、1400℃)で、各層内及び各層間が十分な強度になるまで焼成する。一次熱処理での温度を通常より高くすることで、電解質層13、反応防止層14間で熱拡散が生じる。
反応防止層14上にLa(Sr)Co(Fe)O3−δをスプレーコーティングして酸素極15を形成し、前駆体110、水素極12,電解質層13、反応防止層14、酸素極15の二次積層体が形成される。
二次積層体を900℃以上1300℃以下(ここでは、1100℃)で、酸素極15が反応防止層14と強固に接着するように焼成する。二次熱処理での温度を通常より高くすることで、反応防止層14、酸素極15間で熱拡散が生じる。
この結果、実施例に係る固体酸化物型電気化学セル10が作成される。
次の手順(1)、(2)によって、試料1を評価した。
水素極出力特性評価装置を用いて作成した固体酸化物型電気化学セル10の初期状態のI−V特性を評価した。
・支持基板11および水素極12の還元
固体酸化物型電気化学セル10を水素極出力特性評価装置に設置した。その後、700℃に保持し、水素極12側に乾燥水素を、酸素極15側にN2/O2混合気体(体積比で4:1で混合)を流し、支持基板11および水素極12を還元する。
水素極出力特性評価装置は、固体酸化物型電気化学セル10のI−V特性を評価できる。すなわち、水素極側の水蒸気濃度を制御し、固体酸化物型電気化学セル10をSOFCモードおよびSOECモードで動作させて、初期のI−V特性を測定する。その後、水素雰囲気で降温させ、室温まで冷却して、固体酸化物型電気化学セル10を水素極出力特性評価装置から取り出す。
固体酸化物電気学セルの断面の拡大観察および組成分析を行った。
固体酸化物電気学セルを劈開し、その断面をイオンミリングで平滑化し、測定用試料とした。イオンミリングには、イオンミリング装置(日立ハイテクノロジーズ、IM−4000)を用いた。
走査型電子顕微鏡(日立ハイテクノロジーズ、SU8000、S−5200)を用いて、断面を観察した(10000倍に拡大したSEM観察およびEDX組成分析)。
実施例1と同様に固体酸化物電気化学セル10を作製し、初期状態のI−V特性を評価した。その後、固体酸化物型電気化学セル10をSOECモードで約250時間連続動作させた。さらに、実施例1と同様に、断面を観察した。
実施例1と同様に固体酸化物電気化学セル10を作製し、初期状態のI−V特性を評価した。その後、固体酸化物型電気化学セル10をSOECモードで約3000時間連続動作させた。さらに、実施例1と同様に、断面を観察した。
実施例1とほぼ同様に固体酸化物電気化学セルを作製した。但し、第1、第2の熱処理の温度をそれぞれ1300℃、1050℃と低くした。
初期状態のI−V特性を評価した後、固体酸化物型電気化学セル10をSOECモードで約3000時間連続動作させた。さらに、実施例1と同様に、断面を観察した。
(1)表面観察の結果
図2A〜2Gはそれぞれ、実施例3の試料断面のSEM写真およびCo,Fe,La,Sr、Gd,Ceの面分析の結果を表す。
図3A〜3Gはそれぞれ、比較例の試料断面のSEM写真およびCo,Fe,La,Sr、Gd,Ceの面分析(EDX)の結果を表す。
図2C〜図2Eに示すように、Coの集合体と対応する位置(丸(点線))に、Fe,La,Srの密度が低い箇所(暗い部分)が存在している。
このように、Coの密度が局所的に大きく、その箇所では、Coと同一サイトのFeのみならず、別サイトのLa,Srの密度も低くなっている。
なお、図3F,図3Gに示すように、反応防止層14の構成元素であるGd,Ceは、反応防止層14内に留まっている。
(a)Coの密度が大きく、Fe,La,Srの密度が低い領域
(b)Srの密度が大きく、Laの密度が低い領域
より詳細な分析の結果、領域(a)には、Co3−xFexO4−δ(例えば、Co3O4)が、領域(b)にはLa2−xSrxCo1−yFeyO4−δ(例えば、La1.2Sr0.8Co0.5Fe0.5O4−δ)が含まれていることが判った。
実施例1−3の初期状態の電流密度は同等の値であり、よく一致している。他方、比較例の初期状態の電流密度は、実施例1〜3の値よりも低い。また、比較例の劣化率は、実施例3の劣化率に比べ大きかった。
第2の相152があることで、初期特性が向上すると共に、寿命(劣化率)も向上している。単純に考えると、比較例のような均一な酸素極15の方が、状態が安定であり、寿命が長いと考えられるが、相が均一でない実施例の方が、長寿命となっている。
このように、複数の相が存在することが、酸素極の性能および安定化に寄与すると考えられる。
以上説明したように、少なくともひとつの実施形態によれば、酸素極の性能の向上を図ることができる。
Claims (7)
- 酸素極の層全体の連続した領域に配置される、ペロブスカイト構造の第1の酸化物と、
前記第1の酸化物内に分散して配置され、一の構成元素が前記第1の酸化物より高密度の第2の酸化物と、
を有する電気化学セル用酸素極であって、
前記第1の酸化物が、ABO 3 型の酸化物であり、
前記第2の酸化物が、ABO 3 型、A 2 BO 4 型、またはB 3 O 4 型の酸化物であり、
前記一の構成元素がAサイト、またはBサイトに含まれる
電気化学セル用酸素極。 - 前記一の構成元素と同一サイトの元素の密度が、前記第1の酸化物より前記第2の酸化物で小さい
請求項1に記載の電気化学セル用酸素極。 - 前記一の構成元素と別サイトの元素いずれかの密度が、前記第1のペロブスカイト酸化物より前記第2のペロブスカイト酸化物で小さい
請求項1に記載の電気化学セル用酸素極。 - Aサイト元素が希土類元素,Ca、SrもしくはBaより選ばれる少なくとも一種であり、
Bサイト元素がCr、Mn、Fe、Co、TiもしくはNiより選ばれる少なくとも一種である
請求項1に記載の電気化学セル用酸素極。 - 前記第2の酸化物の径が100nm以上5000nm以下である
請求項1に記載の電気化学セル用酸素極。 - 支持基板と、
前記支持基板上に配置される水素極と、
前記水素極上に配置される電解質層と、
前記電解質層上に配置される請求項1記載の電気化学セル用酸素極と、
を有する電気化学セル。 - 前記電解質層と前記酸素極の間に配置される反応防止層、
をさらに有する請求項6に記載の電気化学セル。
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