JP6831438B2 - カラーフィルター及び遮光部材を含むディスプレイ装置 - Google Patents
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Description
本発明は、素子基板の表示領域上に位置するカラーフィルター及び前記素子基板のベゼル領域上に位置する遮光部材を含むディスプレイ装置に関する。
一般に、モニター、ＴＶ、ノートＰＣ、デジタルカメラのような電子機器は映像を具現するためのディスプレイ装置を含む。例えば、前記ディスプレイ装置は発光素子を含むことができる。各発光素子は特定の色を示す光を放出することができる。例えば、各発光素子は、下部電極と上部電極との間に位置する発光層を含むことができる。
前記ディスプレイ装置は表示領域及びベゼル領域を含むことができる。前記発光素子は前記表示領域内に位置し得る。前記ベゼル領域は前記表示領域の外側に位置し得る。前記ベゼル領域内には前記発光素子の駆動／制御のための様々な信号を提供する回路部及び配線が位置し得る。
しかしながら、前記ディスプレイ装置では、前記ベゼル領域内に位置する金属電極及び配線によって外光が反射されることがある。このため、前記ディスプレイ装置では前記ベゼル領域から反射した外光によって、前記表示領域で具現するイメージの品質が低下することがある。しかも、前記ディスプレイ装置では別途の遮光部材を用いて前記ベゼル領域の外光反射を防止できるが、前記遮光部材の形成のための工程が追加されることにより工程効率が低下することがある。
本発明が解決しようとする課題は、工程効率の低下無しにベゼル領域の外光反射を防止できるディスプレイ装置を提供することである。
本発明が解決しようとする課題は、先に言及した課題に限定されない。ここで言及していない課題は、以下の記載から、通常の技術者には明確に理解できよう。
上記の解決しようとする課題を達成するための本発明の技術的思想に係るディスプレイ装置は、素子基板を含む。素子基板は、表示領域及びベゼル領域を含む。ベゼル領域は表示領域の外側に位置する。素子基板の表示領域上にはカラーフィルターが位置する。カラーフィルターは染料（ｄｙｅ）を含む。各カラーフィルター上には発光素子が位置する。各発光素子は該当のカラーフィルターと接触する下部電極を含む。素子基板のベゼル領域上には遮光部材が位置する。遮光部材は、それぞれ異なる染料を含む遮光フィルター層の積層構造である。
遮光部材は第１遮光フィルター層と第２遮光フィルター層との積層構造であり得る。第１遮光フィルター層は赤色染料を含むことができる。第２遮光フィルター層は青色染料を含むことができる。
遮光部材は緑色染料を含む第３遮光フィルター層をさらに含むことができる。
遮光部材中には遮光吸湿粒子が分散され得る。
発光素子上には封止層が位置し得る。封止層は素子基板のベゼル領域上に延長し得る。封止層上には封止基板が位置し得る。封止層の側面は、素子基板の側面と遮光部材との間に位置し得る。
遮光部材と封止層との間には遮光保護層が位置し得る。遮光保護層の透湿率は遮光部材の透湿率より低くてよい。
上記の解決しようとする他の課題を達成するための本発明の技術的思想に係るディスプレイ装置は、素子基板を含む。素子基板の第１画素領域上には第１カラーフィルターが位置する。第１カラーフィルターは第１染料（ｄｙｅ）を含む。第１カラーフィルター上には第１発光素子が位置する。第１発光素子は第１カラーフィルターと接触する第１下部電極を含む。素子基板の第２画素領域上には第２カラーフィルターが位置する。第２カラーフィルターは、第１染料とは別個の第２染料を含む。第２カラーフィルター上には第２発光素子が位置する。第２発光素子は第２カラーフィルターと接触する第２下部電極を含む。素子基板のベゼル領域上には遮光部材が位置する。ベゼル領域は、第１画素領域及び第２画素領域を含む表示領域の外側に位置する。遮光部材は第１遮光フィルター層と第２遮光フィルター層との積層構造である。第１遮光フィルター層は第１染料を含む。第２遮光フィルター層は第２染料を含む。
第１遮光フィルター層の厚さは第１カラーフィルターの厚さと同一であり得る。第２遮光フィルター層の厚さは第２カラーフィルターの厚さと同一であり得る。
第１発光素子及び第２発光素子は封止層によって覆われ得る。
封止層は素子基板のベゼル領域上に延長し得る。封止層上には封止基板が位置し得る。素子基板の側面に向ける遮光部材の第１側面は、封止層の外側に位置し得る。
封止層は素子基板のベゼル領域上に延長し得る。封止層上には封止基板が位置し得る。素子基板の側面に向ける遮光部材の第１側面は、封止層の外側に位置し得る。
封止層は封止吸湿物質を含むことができる。
遮光部材の第１側面上には遮光保護層が位置し得る。遮光保護層は、遮光部材と封止層との間に延在し得る。
遮光保護層は遮光部材に比べて大きい硬度（ｈａｒｄｎｅｓｓ）を有することができる。
遮光部材は、第１側面と対向する第２側面を含むことができる。遮光部材の第２側面は素子基板のベゼル領域上に位置し得る。
遮光部材の第２側面は遮光保護層の外側に位置し得る。封止層は遮光部材の第２側面と接触し得る。
第２カラーフィルターは前記第１カラーフィルターと離隔され得る。第１カラーフィルターと第２カラーフィルターとの間の空間はバンク絶縁膜によって埋められ得る。バンク絶縁膜は、第１下部電極の端部及び第２下部電極の端部を覆うことができる。
本発明の技術的思想に係るディスプレイ装置では、素子基板の表示領域上に、染料を含むカラーフィルター及び該当のカラーフィルターと接触する下部電極を有する発光素子が積層され、前記素子基板のベゼル領域上に、それぞれ異なる染料を含む遮光フィルター層の積層構造である遮光部材が位置し得る。これによって、本発明の技術的思想に係るディスプレイ装置では、ベゼル領域の外光反射を防止するための遮光部材の形成工程が簡素化できる。したがって、本発明の技術的思想に係るディスプレイ装置では表示領域によって具現されるイメージの品質が向上し得る。
本発明の上記の目的と技術的構成及びそれによる作用効果に関する詳細な事項は、本発明の実施例を示している図面を参照した以下の詳細な説明からより明確に理解されるであろう。ここで、本発明の実施例は、当業者に本発明の技術的思想が十分に伝達され得るように提供されるものであり、本発明は、以下に説明される実施例に限定されず、他の形態に具体化してもよい。
また、明細書全体を通じて同一の参照番号で表示される部分は同一の構成要素を意味し、図面中、層又は領域の長さと厚さは便宜のために誇張して表現されることもある。なお、第１構成要素が第２構成要素「上」にあると記載される場合、前記第１構成要素が前記第２構成要素と接触して上側に位置する場合だけでなく、前記第１構成要素と前記第２構成要素との間に第３構成要素が位置する場合も含む。
ここで、前記第１及び第２などの用語は様々な構成要素を説明するためのものであり、一つの構成要素を他の構成要素から区別する目的で使用する。ただし、本発明の技術的思想を逸脱しない範囲では、第１構成要素と第２構成要素を当業者の便宜によって任意に命名することができる。
本発明の明細書で使用する用語は、単に特定の実施例を説明するために使われるもので、本発明を限定するためのものではない。例えば、単数で表現された構成要素は、文脈において明白に単数だけを意味しない限り、複数の構成要素をも含む。また、本発明の明細書において、「含む」又は「有する」などの用語は、明細書上に記載された特徴、数字、段階、動作、構成要素、部分品又はそれらを組み合わせた物が存在することを指定しようとするものであり、一つ又はそれ以上の他の特徴や数字、段階、動作、構成要素、部分品又はそれらを組み合わせた物の存在又は付加の可能性をあらかじめ排除するものとして理解してはいけない。
しかも、特に定義しない限り、技術的又は科学的な用語を含めてここで使われる用語の全ては、本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者に一般的に理解されるのと同じ意味がある。一般的に使われる辞書に定義されているような用語は、関連技術の文脈上で有する意味と一致する意味があるものと解釈しなければならず、本発明の明細書で特に定義しない限り、理想的又は過度に形式的な意味として解釈されない。
（実施例）
図１は、本発明の実施例によるディスプレイ装置を概略的に示す図である。図２は、本発明の実施例によるディスプレイ装置においてカラーフィルターの表面を示す図である。
図１及び図２を参照すると、本発明の実施例によるディスプレイ装置は素子基板１００を含むことができる。前記素子基板１００は絶縁性物質を含むことができる。前記素子基板１００は透明な物質を含むことができる。例えば、前記素子基板１００はガラス又はプラスチックを含むことができる。
前記素子基板１００は表示領域ＡＡ及びベゼル領域ＢＡを含むことができる。前記表示領域ＡＡはユーザに提供されるイメージを生成することができる。前記表示領域ＡＡは画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰを含むことができる。各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰは隣接した画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰとは別個の色を具現することができる。例えば、前記画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰは、赤色を具現する赤色画素領域ＲＰ、青色を具現する青色画素領域ＢＰ、及び緑色を具現する緑色画素領域ＧＰを含むことができる。
前記素子基板１００の各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰ上には、該当の色を示す光を放出するための構成要素が位置し得る。例えば、前記素子基板１００の各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰ上には発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇ及びカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇが積層され得る。
各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇは、順に積層された下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇ、発光層３２０及び上部電極３３０を含むことができる。
前記下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇは導電性物質を含むことができる。前記下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇは透明な物質を含むことができる。例えば、前記下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇは、ＩＴＯ及びＩＺＯのような透明導電性物質から形成された透明電極であり得る。
前記発光層３２０は、前記下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇと前記上部電極３３０との電圧差に対応する輝度の光を生成することができる。例えば、前記発光層３２０は、発光物質を含む発光物質層（Ｅｍｉｓｓｉｏｎ Ｍａｔｅｒｉａｌ Ｌａｙｅｒ；ＥＭＬ）を含むことができる。前記発光物質は有機物質であり得る。例えば、本発明の実施例によるディスプレイ装置は、有機発光物質を含む有機発光表示装置であり得る。
前記発光層３２０は、発光効率を高めるために多重層構造にすることができる。例えば、前記発光層３２０は正孔注入層（ＨＩＬ）、正孔輸送層（ＨＴＬ）、電子輸送層（ＥＴＬ）及び電子注入層（ＥＩＬ）のうち少なくとも一つをさらに含むことができる。
前記上部電極３３０は導電性物質を含むことができる。前記上部電極３３０は前記下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇとは別個の物質を含むことができる。例えば、前記上部電極３３０は、アルミニウム（Ａｌ）のような反射率の高い金属を含むことができる。これによって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇにおける発光層３２０によって生成された光が前記素子基板１００から外部に放出され得る。
前記素子基板１００の各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰ内には該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇを制御するための駆動回路が位置し得る。前記駆動回路は、ゲートラインを通じて印加されるゲート信号によって、データラインを通じて伝達されるデータ信号に対応する駆動電流を、該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇに供給することができる。前記駆動回路は少なくとも一つの薄膜トランジスタ２００及びストレージキャパシタを含むことができる。例えば、各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇは、該当の駆動回路の薄膜トランジスタ２００と電気的に連結され得る。
各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰ内に位置する駆動回路の薄膜トランジスタ２００は、半導体パターン２１０、ゲート絶縁膜２２０、ゲート電極２３０、層間絶縁膜２４０、ソース電極２５０及びドレイン電極２６０を含むことができる。
前記半導体パターン２１０は前記素子基板１００の近くに位置し得る。前記半導体パターン２１０は半導体物質を含むことができる。例えば、前記半導体パターン２１０は非晶質シリコン又は多結晶シリコンを含むことができる。前記半導体パターン２１０は酸化物半導体であり得る。例えば、前記半導体パターン２１０はＩＧＺＯを含むことができる。
前記半導体パターン２１０は、ソース領域、ドレイン領域及びチャネル領域を含むことができる。前記チャネル領域は、前記ソース領域と前記ドレイン領域との間に位置し得る。前記チャネル領域は前記ソース領域及び前記ドレイン領域に比べて低い伝導率を有することができる。例えば、前記ソース領域及び前記ドレイン領域は、前記チャネル領域に比べて不純物の濃度を高くすることができる。
前記ゲート絶縁膜２２０は前記半導体パターン２１０の一部領域上に位置し得る。例えば、前記半導体パターン２１０の前記チャネル領域は、前記素子基板１００と前記ゲート絶縁膜２２０との間に位置し得る。前記半導体パターン２１０の前記ソース領域及び前記ドレイン領域は前記ゲート絶縁膜２２０によって露出され得る。
前記ゲート絶縁膜２２０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、前記ゲート絶縁膜２２０はシリコン酸化物（ＳｉＯ）及び／又はシリコン窒化物（ＳｉＮ）を含むことができる。前記ゲート絶縁膜２２０は多重層構造であり得る。前記ゲート絶縁膜２２０はＨｉｇｈ−Ｋ物質を含むことができる。例えば、前記ゲート絶縁膜２２０はハフニウム酸化物（ＨｆＯ）又はチタン酸化物（ＴｉＯ）を含むことができる。
前記ゲート電極２３０は前記ゲート絶縁膜２２０上に位置し得る。前記ゲート電極２３０は前記ゲート絶縁膜２２０によって前記半導体パターン２１０と絶縁され得る。例えば、前記ゲート電極２３０は前記半導体パターン２１０の前記チャネル領域と重なり得る。
前記ゲート電極２３０は導電性物質を含むことができる。例えば、前記ゲート電極２３０はアルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）のような金属を含むことができる。
前記層間絶縁膜２４０は前記半導体パターン２１０及び前記ゲート電極２３０上に位置し得る。前記層間絶縁膜２４０は前記半導体パターン２１０の外側に延長し得る。例えば、前記半導体パターン２１０の側面及び前記ゲート電極２３０の側面は前記層間絶縁膜２４０によって覆われ得る。
前記層間絶縁膜２４０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、前記層間絶縁膜２４０はシリコン酸化物（ＳｉＯ）を含むことができる。
前記ソース電極２５０及び前記ドレイン電極２６０は前記層間絶縁膜２４０上に位置し得る。前記ソース電極２５０は前記半導体パターン２１０のソース領域と電気的に連結され得る。前記ドレイン電極２６０は前記半導体パターン２１０のドレイン領域と電気的に連結され得る。前記ドレイン電極２６０は前記ソース電極２５０と離隔され得る。例えば、前記層間絶縁膜２４０は、前記半導体パターン２１０の前記ソース領域を露出させるコンタクトホール、及び前記半導体パターン２１０の前記ドレイン領域を露出させるコンタクトホールを含むことができる。
前記ソース電極２５０及び前記ドレイン電極２６０は導電性物質を含むことができる。例えば、前記ソース電極２５０及び前記ドレイン電極２６０は、アルミニウム（Ａｌ）、クロム（Ｃｒ）、モリブデン（Ｍｏ）、タングステン（Ｗ）のような金属を含むことができる。前記ドレイン電極２６０は前記ソース電極２５０と同じ物質を含むことができる。前記ゲート電極２３０は、前記ソース電極２５０及び前記ドレイン電極２６０とは別個の物質を含むことができる。
前記素子基板１００と各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰの駆動回路との間にはバッファ層１１０が位置し得る。例えば、前記バッファ層１１０は前記素子基板１００と各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰの薄膜トランジスタ２００との間に延在し得る。
前記バッファ層１１０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、前記バッファ層１１０はシリコン酸化物（ＳｉＯ）及び／又はシリコン窒化物（ＳｉＮ）を含むことができる。前記バッファ層１１０は多重層構造であってもよい。
各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰの駆動回路上には下部保護膜１２０が位置し得る。前記下部保護膜１２０は外部の水分及び衝撃による各駆動回路の損傷を防止することができる。各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰの駆動回路は前記下部保護膜１２０によって完全に覆われ得る。例えば、前記下部保護膜１２０は、前記素子基板１００と対向する各薄膜トランジスタ２００の上部面に沿って延長し得る。各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇは該当の薄膜トランジスタ２００のドレイン電極２６０と電気的に連結され得る。例えば、前記下部保護膜１２０は各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰの薄膜トランジスタ２００のドレイン電極２６０を露出させるコンタクトホール１２０ｈを含むことができる。
前記下部保護膜１２０は絶縁性物質を含むことができる。前記下部保護膜１２０は無機物質を含むことができる。前記下部保護膜１２０は前記層間絶縁膜２４０とは別個の物質を含むことができる。例えば、前記下部保護膜１２０はシリコン窒化物（ＳｉＮ）を含むことができる。
各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇは独立して駆動し得る。例えば、各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇは、隣接した発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇと絶縁され得る。隣接した下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇ間の空間はバンク絶縁膜１３０で埋められ得る。例えば、前記バンク絶縁膜１３０は各下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇの端部を覆うことができる。各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの発光層３２０及び上部電極３３０は、前記バンク絶縁膜１３０によって露出された該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇの一部領域上に積層され得る。
各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇは同一色を示す光を放出することができる。例えば、各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの発光層３２０は、白色を示す光を生成することができる。各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの発光層３２０は、隣接した発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの発光層３２０と連結され得る。例えば、各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの発光層３２０は前記バンク絶縁膜１３０上に延長し得る。各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの上部電極３３０は該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの発光層３２０に沿って延長し得る。例えば、各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの上部電極３３０は、隣接した発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの上部電極３３０につながり得る。
各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇから放出された光は、該当のカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇを通過して放出され得る。各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇは該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇから放出された光を用いて該当の画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰの特定の色を具現することができる。例えば、前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇは、前記赤色画素領域ＲＰ内に位置する赤色カラーフィルター４００Ｒ、前記青色画素領域ＢＰ内に位置する青色カラーフィルター４００Ｂ、及び前記緑色画素領域ＧＰ内に位置する緑色カラーフィルター４００Ｇを含むことができる。
各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇは、前記素子基板１００と該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇとの間に位置し得る。例えば、前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇは前記下部保護膜１２０と該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇとの間に位置し得る。各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇは、隣接したカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇと離隔され得る。例えば、各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇは該当のカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの外側で該当の薄膜トランジスタ２００のドレイン電極２６０と連結され得る。
各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇは、前記バンク絶縁膜１３０によって露出された該当の下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇの一部領域と重なり得る。各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの水平幅は、前記バンク絶縁膜１３０によって露出された該当の下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇの一部領域の水平幅よりも大きくてよい。各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇは該当のカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇと直接接触し得る。例えば、前記素子基板１００と対向する各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの上部面は該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇによって完全に覆われ得る。これによって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、各発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇから放出された光が必ず該当のカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇを通過できる。したがって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇを通過せずに隣接した画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰに進む光による光漏れを防止することができる。
前記バンク絶縁膜１３０によって露出された各下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇの一部領域は、該当の画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰの薄膜トランジスタ２００と重ならなくて済む。例えば、各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰの薄膜トランジスタ２００は前記バンク絶縁膜１３０と重なり得る。これによって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、各画素領域ＲＰ，ＢＰ，ＧＰの駆動回路による光の損失を防止することができる。前記バンク絶縁膜１３０は前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの間に延長し得る。例えば、隣接したカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇ間の空間は前記バンク絶縁膜１３０で埋められ得る。
各下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇは、該当のカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの側面上に延長し得る。例えば、前記赤色カラーフィルター４００Ｒは、前記素子基板１００の前記赤色画素領域ＲＰ上に位置する赤色発光素子３００Ｒの赤色下部電極３１０Ｒによって完全に覆われ、前記青色カラーフィルター４００Ｂは、前記素子基板１００の前記青色画素領域ＢＰ上に位置する青色発光素子３００Ｂの青色下部電極３１０Ｂによって完全に覆われ、前記緑色カラーフィルター４００Ｇは、前記素子基板１００の前記緑色画素領域ＧＰ上に位置する緑色発光素子３００Ｇの緑色下部電極３１０Ｇによって完全に覆われ得る。これによって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では外部水分によるカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの損傷を防止することができる。
各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇは染料（ｄｙｅ）を含むことができる。例えば、前記赤色カラーフィルター４００Ｒは赤色染料だけで形成され、前記青色カラーフィルター４００Ｂは青色染料だけで形成され、前記緑色カラーフィルター４００Ｇは緑色染料だけで形成され得る。前記染料（ｄｙｅ）は顔料（ｐｉｇｍｅｎｔ）に比べてより小さい粒子サイズを有し得る。顔料は粒子サイズによって溶媒に溶解しないが、染料は、粒子が相対的に小さいので、溶媒に溶解する。すなわち、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇが、該当の染料が溶解している溶媒を塗布して染料層を形成する工程、及び前記染料層から前記溶媒を蒸発する工程によって形成され得る。これによって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの形成工程で異物が発生しなく、溶媒中に分散された粒子の損失を防止することができる。したがって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの表面が、図２に示すように、異物又は粒子の剥離による陥没領域を含まなくて済む。
カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇに形成された陥没領域は、該当のカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇ上に積層される層の変形を招くことがある。例えば、陥没領域が形成されたカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇが該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇと接触すると、前記発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇ、発光層３２０及び上部電極３３０が前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの陥没領域による屈曲領域を有することがある。前記発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの発光層３２０は相対的に低いステップカバレッジ（ｓｔｅｐ ｃｏｖｅｒａｇｅ）を有し、前記陥没領域による屈曲領域において前記上部電極３３０が該当の下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇと接触することがある。すなわち、本発明の実施例によるディスプレイ装置は、前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇが異物による陥没領域のない表面を有するので、各カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇと直接接触する該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇが該当の発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの上部電極３３０とショート（ｓｈｏｒｔ）することがない。したがって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、オーバーコート層（ｏｖｅｒ−ｃｏａｔ ｌａｙｅｒ）のように前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇを覆って平坦化させる絶縁膜の形成工程を省略することができる。
前記発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇ上には上部保護膜１４０が位置し得る。前記上部保護膜１４０は外部水分及び衝撃による前記発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの損傷を防止することができる。前記上部保護膜１４０は前記上部電極３３０に沿って延長し得る。
前記上部保護膜１４０は絶縁性物質を含むことができる。例えば、前記上部保護膜はシリコン酸化物（ＳｉＯ）及び／又はシリコン窒化物（ＳｉＮ）を含むことができる。前記上部保護膜１４０は多重層構造であり得る。例えば、前記上部保護膜１４０は、有機絶縁物質から形成された有機膜が無機絶縁物質からなる無機膜の間に位置する構造であり得る。
前記上部保護膜１４０上には封止層５００が位置し得る。前記封止層５００は外部水分及び衝撃による前記発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの損傷を防止することができる。前記封止層５００は多重層構造であり得る。例えば、前記封止層５００は下部封止層５１０及び上部封止層５２０の積層構造であり得る。前記下部封止層５１０は前記上部保護膜１４０と前記上部封止層５２０との間に位置し得る。
前記封止層５００は、外部の水分吸収のための封止吸湿粒子５００ｐを含むことができる。例えば、前記封止吸湿粒子５００ｐは前記上部封止層５２０中に分散され得る。これによって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、封止吸湿粒子５００ｐの膨脹によって前記発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇに加えられる圧力が、前記下部封止層５１０によって緩和され得る。
前記封止層５００は絶縁性物質を含むことができる。前記封止層５００は、硬化工程を要しない物質を含むことができる。例えば、前記封止層５００はオレフィン（ｏｌｅｆｉｎ）系物質を含むことができる。これによって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では封止層５００の形成工程による発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの劣化が防止され得る。前記下部封止層５１０は前記上部封止層５２０とは別個の物質を含むことができる。
前記封止層５００上には、封止基板６００が位置し得る。前記封止基板６００は前記素子基板１００とは別個の物質を含むことができる。前記封止基板６００は前記発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの動作及び／又は前記駆動回路の動作によって発生した熱を放出することができる。前記封止基板６００は前記素子基板１００に比べて高い熱伝導度を有することができる。例えば、前記封止基板６００はアルミニウム（Ａｌ）のような金属を含むことができる。
前記素子基板１００の前記ベゼル領域ＢＡは前記素子基板１００の前記表示領域ＡＡの外側に位置し得る。例えば、前記ベゼル領域ＢＡは前記素子基板１００の側面１００ｓを含むことができる。前記ベゼル領域ＢＡ内には、前記表示領域ＡＡに様々な信号を提供する回路部及び配線が位置し得る。
前記封止層５００及び前記封止基板６００は前記素子基板１００の前記ベゼル領域ＢＡ上に延長し得る。前記封止層５００は、前記素子基板１００よりも小さい大きさを有することができる。例えば、前記素子基板１００の側面１００ｓは前記封止層５００の側面５００ｓの外側に位置し得る。前記封止基板６００の大きさは前記封止層５００の大きさよりも大きくてよい。前記封止基板６００は前記素子基板１００よりも小さな大きさを有することができる。例えば、前記封止基板６００の側面６００ｓは前記封止層５００の側面５００ｓと前記素子基板１００の側面１００ｓとの間に位置し得る。
前記素子基板１００の前記ベゼル領域ＢＡ上には遮光部材７００が位置し得る。前記遮光部材７００は前記ベゼル領域ＢＡから流入する光を遮断することができる。前記遮光部材７００は、前記封止層５００の外側に位置する側面７０１ｓを含むことができる。例えば、前記封止層５００の外側に位置する前記素子基板１００の表面は前記遮光部材７００によって覆われ得る。
前記遮光部材７００は、第１遮光フィルター層７１０及び第２遮光フィルター層７２０の積層構造であり得る。例えば、前記第１遮光フィルター層７１０は、前記素子基板１００と前記第２遮光フィルター層７２０との間に位置し得る。
前記第１遮光フィルター層７１０は、前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇのいずれか一つと同じ染料を含むことができる。例えば、前記第１遮光フィルター層７１０は、前記赤色カラーフィルター４００Ｒと同じ物質を含むことができる。前記第１遮光フィルター層７１０は、前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの形成工程で形成され得る。例えば、前記第１遮光フィルター層７１０は前記赤色カラーフィルター４００Ｒと同時に形成され得る。前記第１遮光フィルター層７１０の厚さは前記赤色カラーフィルター４００Ｒの厚さと同一であり得る。
前記第２遮光フィルター層７２０は、前記第１遮光フィルター層７１０を通過した光を吸収することができる。前記第２遮光フィルター層７２０は、前記第１遮光フィルター層７２０とは別個の染料を含むことができる。例えば、前記第２遮光フィルター層７２０は、前記青色カラーフィルター４００Ｂと同じ物質を含むことができる。前記第２遮光フィルター層７２０は前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇの形成工程で形成され得る。例えば、前記第２遮光フィルター層７２０は前記青色カラーフィルター４００Ｂと同時に形成され得る。前記第２遮光フィルター層７２０は前記青色カラーフィルター４００Ｂと同じ厚さを有することができる。
前記遮光部材７００は、前記封止層５００と直接接触する領域を含むことができる。これによって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、前記遮光部材７００から侵入する外部水分が前記封止層５００によって捕集され得る。したがって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇと同じ物質を含む遮光フィルター層７１０，７２０の積層構造である遮光部材７００からの外部水分の侵入を防止することができる。
要するに、本発明の実施例によるディスプレイ装置は、染料を含むカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇ、及びそれぞれ別個の染料を含む遮光フィルター層７１０，７２０の積層構造である遮光部材７００を含むことができる。これによって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、前記遮光部材７００の形成工程が簡素化し、オーバーコート層（ｏｖｅｒ−ｃｏａｔ ｌａｙｅｒ）のような、前記カラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇを覆う絶縁膜の形成工程を省略することができる。したがって、本発明の実施例によるディスプレイ装置では、ベゼル領域の外光反射を防止し、工程効率を向上させることができる。
本発明の実施例によるディスプレイ装置は、前記素子基板１００の側面１００ｓに向ける前記遮光部材７００の第１側面７０１ｓが前記封止層５００の外側に位置するとして説明した。しかし、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置は、図３に示すように、封止層５００の側面５００ｓが素子基板１００の側面１００ｓと遮光部材７００との間に位置してもよい。これによって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、前記素子基板１００の側面１００ｓに向ける前記遮光部材７００の第１側面７０１ｓが前記封止層５００によって覆われ得る。したがって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、前記遮光部材７００からの外部水分の侵入を効果的に防止することができる。
本発明の実施例によるディスプレイ装置は、前記遮光部材７００が前記表示領域ＡＡ方向に延長しているとして説明した。しかし、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、図４に示すように、素子基板１００の側面１００ｓに向ける遮光部材７００の第１側面７０１ｓ及び前記遮光部材７００の前記第１側面７０１ｓと対向する第２側面７０２ｓが前記素子基板１００のベゼル領域ＢＡ内に位置してもよい。すなわち、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、前記遮光部材７００が前記素子基板１００の表示領域ＡＡ上に位置する構成要素、例えばバンク絶縁膜１３０と離隔されてもよい。したがって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、前記遮光部材７００からの外部水分の侵入による発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの損傷を効果的に防止することができる。
本発明の実施例によるディスプレイ装置は、前記遮光部材７００の前記第１遮光フィルター層７１０が赤色染料を含み、前記遮光部材７００の前記第２遮光フィルター層７２０が青色染料を含むとして説明した。しかし、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、遮光部材７００が、青色カラーフィルター４００Ｂと同じ青色染料を含む第１遮光フィルター層７１０と緑色カラーフィルター４００Ｇと同じ緑色染料を含む第２遮光フィルター層７２０との積層構造であってもよい。または、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置は、図５に示すように、赤色カラーフィルター４００Ｒと同じ染料を含む第１遮光フィルター層７１０、青色カラーフィルター４００Ｂと同じ青色染料を含む第２遮光フィルター層７２０、及び緑色カラーフィルター４００Ｇと同じ緑色染料を含む第３遮光フィルター層７３０の積層構造である遮光部材７００を含んでもよい。前記第３遮光フィルター層７３０の厚さは前記緑色カラーフィルター４００Ｇの厚さと等しくてよい。すなわち、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、様々な積層構造の遮光部材７００が用いられ得る。これによって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、工程効率の低下無しで、ベゼル領域ＢＡの外光反射を前記遮光部材７００によって効果的に防止することができる。
本発明の実施例によるディスプレイ装置は前記遮光部材７００から侵入する外部水分が前記封止層５００によって捕集されるとして説明した。しかし、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置は、図６に示すように、水分吸収のために遮光部材７００中に分散された遮光吸湿粒子７００ｐをさらに含んでもよい。例えば、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置の形成方法は、下部保護膜１２０が形成された素子基板１００上に、染料が溶解した溶媒を塗布して染料層を形成する工程、前記素子基板１００のベゼル領域ＢＡ上に位置する染料層の一部領域に遮光吸湿粒子７００ｐをドープする工程、前記染料層から溶媒を除去してフィルター層を形成する工程、及び前記フィルター層をパターニングして該当のカラーフィルター４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇ及び該当の遮光フィルター層７１０，７２０を形成する工程を含むことができる。これによって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、外部水分の侵入による駆動回路及び発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの損傷を効果的に防止することができる。
本発明の実施例によるディスプレイ装置は前記素子基板１００の側面１００ｓに向ける前記遮光部材７００の第１側面７０１ｓが外部に露出されるとして説明した。しかし、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、図７に示すように、封止層５００の外側に位置する遮光部材７００の一部領域を覆う遮光保護層８００を含んでもよい。素子基板１００の側面１００ｓに向ける前記遮光部材７００の第１側面７０１ｓは前記遮光保護層８００によって覆われ得る。前記遮光保護層８００の硬度（ｈａｒｄｎｅｓｓ）は前記遮光部材７００の硬度より大きくてよい。これによって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、前記封止層５００の外側に位置する前記遮光部材７００の一部領域が前記封止基板６００又は外部衝撃によって損傷することがない。
前記遮光保護層８００は前記発光素子３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇの形成工程で形成され得る。前記遮光保護層８００は前記下部電極３１０Ｒ，３１０Ｂ，３１０Ｇと同じ物質を含むことができる。例えば、前記遮光保護層８００はＩＴＯ及びＩＺＯのような透明導電性物質を含むことができる。これによって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では前記遮光保護層８００の形成のための工程をさらに行わなくて済む。したがって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、工程効率の低下無しで、ベゼル領域ＢＡの外光反射のための前記遮光部材７００の損傷を防止することができる。
前記遮光保護層８００の端部は、封止基板６００に向いている前記遮光部材７００の表面と前記封止層５００との間に位置し得る。前記遮光部材７００の前記第１側面７０１ｓと対向する第２側面７０２ｓは、前記素子基板１００の前記ベゼル領域ＢＡ内に位置し得る。これによって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、前記遮光部材７００の前記第２側面７０２ｓが前記封止層５００によって覆われ得る。例えば、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、前記遮光部材７００の前記第２側面７０２ｓが前記封止層５００と直接接触し得る。したがって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置では、外部衝撃又は前記封止基板６００による前記遮光部材７００の損傷及び前記遮光部材７００からの外部水分の侵入を効果的に防止することができる。
本発明の他の実施例によるディスプレイ装置は、遮光部材７００の少なくとも一部領域が前記封止層５００と直接接触するとして説明した。しかし、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置は、図８に示すように、前記遮光保護層８００によって前記遮光部材７００が完全に覆われてもよい。前記遮光保護層８００は前記遮光部材７００に比べて低い透湿率（Ｗａｔｅｒ Ｖａｐｏｒ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ Ｒａｔｅ；ＷＶＴＲ）を有することができる。例えば、前記遮光部材７００は、素子基板１００のベゼル領域ＢＡ内に位置する第１側面７０１ｓ及び第２側面７０２ｓを含み、前記遮光部材７００に比べて前記封止層５００の側面５００ｓの方が素子基板１００の側面１００ｓの近くに位置し得る。これによって、本発明の他の実施例によるディスプレイ装置は、前記遮光部材７００が外部水分の侵入経路となることを効果的に防止することができる。
１００ 素子基板
２００ 薄膜トランジスタ
３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇ 発光素子
４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇ カラーフィルター
５００ 封止層
６００ 封止基板
７００ 遮光部材
２００ 薄膜トランジスタ
３００Ｒ，３００Ｂ，３００Ｇ 発光素子
４００Ｒ，４００Ｂ，４００Ｇ カラーフィルター
５００ 封止層
６００ 封止基板
７００ 遮光部材
Claims (15)
- 表示領域及び前記表示領域の外側に位置するベゼル領域を含む素子基板と、
前記素子基板の前記表示領域上に位置し、それぞれが染料（ｄｙｅ）を含むカラーフィルターと、
各カラーフィルター上に位置し、それぞれが対応するカラーフィルターと接触する下部電極を含む発光素子と、
前記素子基板の前記ベゼル領域上に位置し、個別の染料を含む遮光フィルター層の積層構造である遮光部材と、
を備えるディスプレイ装置であって、
前記発光素子上に位置し、前記素子基板の前記ベゼル領域上に延びる封止層と、
前記封止層上に位置する封止基板と、をさらに備え、
前記封止層の側面は、前記素子基板の側面と前記遮光部材との間に位置し、
前記遮光部材と前記封止層との間に位置する遮光保護層をさらに備え、前記遮光保護層の透湿率は、前記遮光部材の透湿率よりも低い、ディスプレイ装置。 - 前記遮光部材は、赤色染料を含む第１遮光フィルター層と青色染料を含む第２遮光フィルター層との積層構造である、請求項１に記載のディスプレイ装置。
- 前記遮光部材は、緑色染料を含む第３遮光フィルター層をさらに備える、請求項２に記載のディスプレイ装置。
- 前記遮光部材中に分散された遮光吸湿粒子をさらに備える、請求項１に記載のディスプレイ装置。
- 素子基板の第１画素領域上に位置し、第１染料（ｄｙｅ）を含む第１カラーフィルターと、
前記第１カラーフィルター上に位置し、前記第１カラーフィルターと接触する第１下部電極を有する第１発光素子と、
前記素子基板の第２画素領域上に位置し、前記第１染料とは別個の第２染料を含む第２カラーフィルターと、
前記第２カラーフィルター上に位置し、前記第２カラーフィルターと接触する第２下部電極を有する第２発光素子と、
前記素子基板のベゼル領域上に位置し、前記第１染料を含む第１遮光フィルター層と前記第２染料を含む第２遮光フィルター層との積層構造である遮光部材と、
を備え、
前記ベゼル領域は、前記第１画素領域及び前記第２画素領域を含む表示領域の外側に位置する、ディスプレイ装置であって、
前記第１発光素子及び前記第２発光素子を覆い、前記素子基板の前記ベゼル領域上に延びる封止層と、
前記封止層上に位置する封止基板とをさらに備え、
前記素子基板の側面に向かう前記遮光部材の第１側面は、前記封止層の外側に位置し、
前記封止層は、封止吸湿物質を含む、
ディスプレイ装置。 - 素子基板の第１画素領域上に位置し、第１染料（ｄｙｅ）を含む第１カラーフィルターと、
前記第１カラーフィルター上に位置し、前記第１カラーフィルターと接触する第１下部電極を有する第１発光素子と、
前記素子基板の第２画素領域上に位置し、前記第１染料とは別個の第２染料を含む第２カラーフィルターと、
前記第２カラーフィルター上に位置し、前記第２カラーフィルターと接触する第２下部電極を有する第２発光素子と、
前記素子基板のベゼル領域上に位置し、前記第１染料を含む第１遮光フィルター層と前記第２染料を含む第２遮光フィルター層との積層構造である遮光部材と、
を備え、
前記ベゼル領域は、前記第１画素領域及び前記第２画素領域を含む表示領域の外側に位置する、ディスプレイ装置であって、
前記第１発光素子及び前記第２発光素子を覆い、前記素子基板の前記ベゼル領域上に延びる封止層と、
前記封止層上に位置する封止基板とをさらに備え、
前記素子基板の側面に向かう前記遮光部材の第１側面は、前記封止層の外側に位置し、
前記遮光部材の前記第１側面上に位置し、前記遮光部材と前記封止層との間に延びる遮光保護層をさらに含む、
ディスプレイ装置。 - 素子基板の第１画素領域上に位置し、第１染料（ｄｙｅ）を含む第１カラーフィルターと、
前記第１カラーフィルター上に位置し、前記第１カラーフィルターと接触する第１下部電極を有する第１発光素子と、
前記素子基板の第２画素領域上に位置し、前記第１染料とは別個の第２染料を含む第２カラーフィルターと、
前記第２カラーフィルター上に位置し、前記第２カラーフィルターと接触する第２下部電極を有する第２発光素子と、
前記素子基板のベゼル領域上に位置し、前記第１染料を含む第１遮光フィルター層と前記第２染料を含む第２遮光フィルター層との積層構造である遮光部材と、
を備え、
前記ベゼル領域は、前記第１画素領域及び前記第２画素領域を含む表示領域の外側に位置する、ディスプレイ装置であって、
前記第２カラーフィルターは前記第１カラーフィルターと離隔され、前記第１カラーフィルターと前記第２カラーフィルターとの間の空間は、前記第１下部電極の端部及び前記第２下部電極の端部を覆うバンク絶縁膜によって埋められる、ディスプレイ装置。 - 前記第１遮光フィルター層の厚さは、前記第１カラーフィルターの厚さと同一であり、
前記第２遮光フィルター層の厚さは、前記第２カラーフィルターの厚さと同一である、請求項５から７のいずれか一項に記載のディスプレイ装置。 - 前記遮光保護層は、前記遮光部材に比べて大きい硬度（ｈａｒｄｎｅｓｓ）を有する、請求項６に記載のディスプレイ装置。
- 前記遮光部材の前記第１側面と対向する第２側面は、前記素子基板の前記ベゼル領域上に位置する、請求項６に記載のディスプレイ装置。
- 前記遮光部材の前記第２側面は前記遮光保護層の外側に位置し、前記封止層は、前記遮光部材の前記第２側面と接触する、請求項１０に記載のディスプレイ装置。
- 前記遮光部材は、赤色染料を含む第１遮光フィルター層と青色染料を含む第２遮光フィルター層との積層構造である、請求項７に記載のディスプレイ装置。
- 前記遮光部材は、緑色染料を含む第３遮光フィルター層をさらに備える、請求項７に記載のディスプレイ装置。
- 前記遮光部材中に分散された遮光吸湿粒子をさらに備える、請求項７に記載のディスプレイ装置。
- 前記第１発光素子及び前記第２発光素子上に位置し、前記素子基板の前記ベゼル領域上に延びる封止層と、
前記封止層上に位置する封止基板と、をさらに備え、
前記封止層の側面は、前記素子基板の側面と前記遮光部材との間に位置する、請求項７に記載のディスプレイ装置。
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