JP6830155B2 - 有機el画像表示装置 - Google Patents
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Description
さらに、特許文献1においては、有機電界発光層の配置に対応してブラックマトリクスで区分されたそれぞれの領域に、対応する有機電界発光層の発光波長に対応する波長選択反射性を有するコレステリック液晶層を形成して得られる偏光分離手段が具体的に開示されている。
[1]発光素子基板および円偏光板を含む有機EL画像表示装置であって、
上記発光素子基板は反射層および上記反射層上に有機電界発光層を含み、
上記反射層、上記有機電界発光層、および上記円偏光板はこの順で配置されており、
上記有機電界発光層と上記円偏光板との間に偏光分離層を含み、
上記偏光分離層は、上記有機電界発光層が発光した光のうち、1つの偏光状態の光を反射し、かつ他方の偏光状態の光を透過する偏光分離領域と、可視光透過領域とを含み、
上記偏光分離領域はコレステリック液晶相を固定して形成された層からなり、
上記有機電界発光層と上記円偏光板との間にポジティブC領域含有層を含む、有機EL画像表示装置。
[3]上記ポジティブC領域含有層のポジティブC領域の波長550nmにおける膜厚方向のレターデーションRth(550)が−230nm〜−130nmである[1]に記載の有機EL画像表示装置。
[4]上記円偏光板が1/4波長板、1/2波長位相差板、および偏光層をこの順で含む[1]〜[3]のいずれかに記載の有機EL画像表示装置。
[5]上記円偏光板が逆波長分散性のAプレート、および偏光層を含む[1]〜[3]のいずれかに記載の有機EL画像表示装置。
[7]上記可視光透過領域が上記偏光分離領域作製のための組成物と同一の組成物を用いて作製されている[1]〜[6]のいずれかに記載の有機EL画像表示装置。
[8]上記可視光透過領域が光学的に等方性の領域からなる[1]〜[7]のいずれかに記載の有機EL画像表示装置。
[9]上記ポジティブC領域含有層がポジティブC領域からなり、
上記ポジティブC領域の可視光領域の任意の波長Xnmでの膜厚方向のレターデーションRth(X)の絶対値が、上記偏光分離領域の波長Xにおける膜厚方向のレターデーションRth-Ch(X)の絶対値と上記可視光透過領域の波長XにおけるレターデーションRth-T(X)の絶対値との間の任意の値である[8]に記載の有機EL画像表示装置。
[11]上記ポジティブC領域含有層がポジティブC領域からなり、
上記ポジティブC領域の可視光領域の任意の波長Xnmにおける膜厚方向のレターデーションRth(X)の絶対値が、上記偏光分離領域の波長Xnmにおける膜厚方向のレターデーションRth(X)の絶対値と等しい[10]に記載の有機EL画像表示装置。
[12]上記ポジティブC領域含有層がポジティブC領域に加えさらに光学的に等方性の領域を含む[8]に記載の有機EL画像表示装置。
[13]上記ポジティブC領域の可視光領域の任意の波長Xnmにおける膜厚方向のレターデーションRth(X)の絶対値が上記偏光分離領域の波長Xnmにおける膜厚方向のレターデーションRth(X)の絶対値と等しい[12]に記載の有機EL画像表示装置。
[14]上記発光素子基板は上記反射層上に上記有機電界発光層がマトリクス状に配置された有機電界発光層群を含む[1]〜[13]のいずれかに記載の有機EL画像表示装置。
[16]上記有機電界発光層群が2種以上の波長の光を発光する有機電界発光層を含み、
上記偏光分離部位は対応する位置に配置されている有機電界発光層が発光する波長域で1つの偏光状態の光を反射する[15]に記載の有機EL画像表示装置。
[17]上記可視光透過領域が光学的に等方性の領域からなり、
上記ポジティブC領域含有層が上記ポジティブC領域および光学的に等方性の領域を含み、上記ポジティブC領域が上記マトリクス状に配置された上記偏光分離部位に対応してマトリクス状である[15]または[16]のいずれかに記載の有機EL画像表示装置。
本明細書において「〜」とはその前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
本明細書において、数値、数値範囲、及び定性的な表現(例えば、「同一」、「同じ」、「等しい」等の表現)については、画像表示装置やそれに用いられる部材について一般的に許容される誤差を含む数値、数値範囲及び性質を示していると解釈されるものとする。
本明細書において、「(メタ)アクリレート」は、「アクリレートおよびメタクリレートのいずれか一方または双方」の意味で使用される。
可視光線は電磁波のうち、ヒトの目で見える波長の光であり、380nm〜780nmの波長域の光を示す。
可視光反射率を得る際には、例えば、日本分光(株)製分光光度計「V−670」を用いることができる。
本明細書において、Re(λ)、Rth(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。本明細書において、Re(λ)およびRth(λ)はAxoScan OPMF−1(オプトサイエンス社製)において、波長λで測定した値である。AxoScanにて平均屈折率((Nx+Ny+Nz)/3)と膜厚(d(μm))を入力することにより、以下が算出される。
遅相軸方向(°)
Re(λ)=R0(λ)
Rth(λ)=((nx+ny)/2−nz)×d
なお、R0(λ)は、AxoScan OPMF−1で算出される数値として表示されるものであるが、Re(λ)を意味している。
本発明の画像表示装置は、有機電界発光層の発光に基づいて画像表示を行う有機EL画像表示装置である。有機EL画像表示装置は、自発光型の表示装置であり、CRT(Cathode Ray Tube)型の表示装置や液晶表示装置と比較して視認性が高い、視野角依存性がないなどの表示性能の利点を有し、また、軽量化、薄型化できるといった利点もある。
本発明の画像表示装置は、有機電界発光層と円偏光板との間に、偏光分離層を含む。本発明の画像表示装置においては、反射層、有機電界発光層、偏光分離層、および円偏光板がこの順に配置される。有機EL画像表示装置においては、複数の有機電界発光層が有機電界発光層群として、反射層上にマトリクス状に含まれていることが好ましい。
偏光分離層およびポジティブC領域含有層の順は特に限定されない。有機電界発光層、ポジティブC領域含有層、偏光分離層および円偏光板がこの順であってもよく、有機電界発光層、偏光分離層、ポジティブC領域含有層および円偏光板がこの順であってもよい。
図1(a)〜(e)に示す構成では、いずれも偏光分離層が偏光分離部位8および光学的に等方性の可視光透過領域9を有する。図1(a)、(c)〜(e)は、いずれも反射層3、有機電界発光層2、偏光分離層1、ポジティブC領域含有層12、円偏光板7をこの順に有する構成を示す。図1(b)は、反射層3、有機電界発光層2、ポジティブC領域含有層12、偏光分離層1、円偏光板7をこの順に有する構成を示す。図1(d)に示す構成では、ポジティブC領域含有層12がポジティブC領域13および光学的に等方性の領域からなる。図1(a)〜(d)では、いずれも位相差層5がλ/2板およびλ/4板の二層構成であるが、図1(e)では、位相差層5としては一層構成のλ/4板(例えば逆波長分散性のAプレート)が用いられている。
本発明の画像表示装置における偏光分離層には、複数の有機電界発光層に対応する複数の偏光分離部位が含まれていることが好ましい。本明細書において、対応するとは、画像表示側から画像表示装置を見たときに、有機電界発光層と偏光分離部位とが同じ位置または少なくとも互いに一部が重なる位置にある状態であることを意味する。対応している有機電界発光層と偏光分離部位とにおいては、有機電界発光層からの発光(好ましくは50%以上、より好ましくは60%以上、さらに好ましくは70%以上)が偏光分離部位で反射または透過されている状態であればよい。
「選択的な偏光分離」は、可視光領域のうち、偏光分離部位が対応する有機電界発光層の発光の波長域に対応する波長域のみにおける偏光分離をいう。したがって、偏光分離部位は、可視光領域のうち、偏光分離部位が対応する有機電界発光層の発光の波長域に対応する波長域のみにおいて偏光分離するものであってもよく、実質的に可視光の全波長域において偏光分離するものであってもよく、赤色波長域、緑色波長域、および青色波長域などの複数の波長域で偏光分離するものであってもよい。
偏光分離部位は、対応する有機電界発光層の発光の波長域において選択的に偏光分離を行うことができる部位であることが好ましい。
L ≦ (M+N)/2 (1)
L:座標xyの偏光分離部位と平面Zの交線の長さ
M:座標xyの偏光分離部位に対応する座標xyの有機電界発光層と平面Zの交線の長さ
N:座標xyの有機電界発光層および平面Zの交線の中心と、座標xyの有機電界発光層と同じ波長の光を発光する有機電界発光層であって平面Zに交点を有する最も近い有機電界発光層および平面Zの交線の中心との距離
L ≧ 1.25×D + M (2)
D:座標xyの偏光分離部位と座標xyの有機電界発光層との距離
コレステリック液晶層を含む偏光分離部位は、コレステリック液晶層のみからなっていてもよく、配向層や保護層(添加剤層)などの他の層を含んでいてもよい。
本明細書において、コレステリック液晶層は、コレステリック液晶相を固定した層を意味する。
コレステリック液晶相は、特定の波長域において右円偏光または左円偏光のいずれか一方のセンスの円偏光を選択的に反射させるとともに他方のセンスの円偏光を透過する円偏光選択反射を示すことが知られている。本明細書において、円偏光選択反射を単に選択反射ということもある。
円偏光選択反射性を示すコレステリック液晶相を固定した層を含むフィルムとして、重合性液晶化合物を含む組成物から形成されたフィルムは従来から数多く知られており、コレステリック液晶層については、それらの従来技術を参照することができる。
分光光度計UV3150(島津製作所)を用いてコレステリック液晶層の透過スペクトル(コレステリック液晶層の法線方向から測定したもの)を測定すると、選択反射帯域に透過率の低下ピークがみられる。このピークの極小透過率と低下前の透過率との中間(平均)の透過率となる2つの波長のうち、短波長側の波長の値をλl(nm)、長波長側の波長の値をλh(nm)とすると、選択反射の中心波長λと半値幅Δλは下記式で表すことができる。
λ=(λl+λh)/2
Δλ=(λh−λl)
上記のように求められる選択反射中心波長はコレステリック液晶層の法線方向から測定した円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長と略一致する。
λd=n2×P×cosθ2
コレステリック液晶相のピッチ(P値)は重合性液晶化合物とともに用いるキラル剤の種類、またはその添加濃度に依存するため、これらを調整することによって所望のピッチを得ることができる。なお、螺旋のセンスやピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編 シグマ出版2007年出版、46頁、および「液晶便覧」液晶便覧編集委員会 丸善 196頁に記載の方法を用いることができる。
コレステリック液晶層の反射円偏光のセンスは螺旋のセンスに一致する。偏光分離層に複数種のコレステリック液晶層が含まれるとき、それらの螺旋のセンスは通常全て同じであればよい。
以下、コレステリック液晶層の作製方法について説明する。
コレステリック液晶層の形成には重合性液晶化合物を含む液晶組成物が用いられる。液晶組成物は、さらにキラル剤(光学活性化合物)を含んでいてもよい。必要に応じてさらに界面活性剤や重合開始剤などと混合して溶剤などに溶解した上記液晶組成物を、支持体、配向膜、下層となるコレステリック液晶層などに塗布し、配向熟成後、液晶組成物の硬化により固定化してコレステリック液晶層を形成することができる。
重合性液晶化合物としては、棒状液晶化合物であっても、円盤状液晶化合物であってもよいが、棒状液晶化合物が好ましい。
棒状の重合性液晶化合物の例としては、棒状ネマチック液晶化合物が挙げられる。棒状ネマチック液晶化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。かかる棒状液晶化合物は、低分子液晶化合物だけではなく、高分子液晶化合物も用いることができる。
Aは、置換基を有していてもよい2価の芳香環基を示し、
Lは単結合、−C(=O)O−、−OC(=O)−、−NH−C(=O)−、−C(=O)−NH−、−CH=CH−C(=O)O−、および−OC(=O)−CH=CH−からなる群から選択される連結基を示し、
mは2〜12の整数を示し、
Sp1およびSp2はそれぞれ独立に、単結合、炭素数1から20の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および炭素数1から20の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において1つまたは2つ以上の−CH2−が−O−、−S−、−NH−、−N(CH3)−、−C(=O)−、−OC(=O)−、または−C(=O)O−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Q1およびQ2はそれぞれ独立に、重合性基を示す。
m個のAおよびm−1個のLはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
一般式(I)で表される化合物は、特表平11−513019号公報(WO97/00600)に記載の方法等で合成することができる。
以下に式(I)で示される重合性化合物の例を示すが、これらの例に限定されるものではない。
Y11およびY12は、それぞれ独立に、単結合、−O−、−S−、−CO−、−COO−、−OCO−、−CONH−、−NHCO−、−CH=CH−、−CH=CH−COO−、−OCO−CH=CH−、または、−C≡C−を表す。なかでも、−O−が好ましい。
Sp11およびSp12は、それぞれ独立に、単結合、または、炭素数1〜25のアルキレン基を表す。アルキレン基は、直鎖状、分岐鎖状、および、環状のいずれでもよい。なかでも、炭素数1〜10のアルキレン基がより好ましい。
n11およびn12はそれぞれ独立に0〜2の整数を表し、n11またはn12が2の場合、複数あるA11、A12、X11およびX12は同じであっても異なっていてもよい。
また、重合条件の異なる2種類以上の反応性基を同一分子内に有する液晶化合物と、重合条件が同一である反応性基を同一分子内に2つ以上有する液晶化合物を併用すると、選択反射の反射帯域を広げることができ、より好ましい。具体的には、(メタ)アクリロイル基とオキセタニル基とを含む液晶化合物と(メタ)アクリロイル基を2つ含む液晶化合物との組み合わせが挙げられる。
コレステリック液晶層の形成に用いる材料はキラル剤を含んでいることが好ましい。キラル剤はコレステリック液晶相の螺旋構造を誘起する機能を有する。キラル化合物は、化合物によって誘起する螺旋のセンスまたは螺旋ピッチが異なるため、目的に応じて選択すればよい。
キラル剤としては、特に制限はなく、公知の化合物を用いることができる。キラル剤の例としては、液晶デバイスハンドブック(第3章4−3項、TN、STN用カイラル剤、199頁、日本学術振興会第142委員会編、1989)、特開2003−287623号、特開2002−302487号、特開2002−80478号、特開2002−80851号、特開2010−181852号または特開2014−034581号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
また、キラル剤は、液晶化合物であってもよい。
液晶組成物における、キラル剤の含有量は、重合性液晶化合物の総モル量に対して0.01モル%〜200モル%が好ましく、1モル%〜30モル%がより好ましい。
液晶組成物は、重合開始剤を含有していることが好ましい。紫外線照射により重合反応を進行させる態様では、使用する重合開始剤は、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤の例としては、ラジカル重合開始剤およびカチオン重合開始剤が挙げられる。
ラジカル重合開始剤としては、アシルフォスフィンオキシド化合物またはオキシム化合物を用いることが好ましい。
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、例えば、市販品のBASFジャパン(株)製のIRGACURE819(化合物名:ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)−フェニルフォスフィンオキサイド)を用いることができる。オキシム化合物としては、IRGACURE OXE01(BASF社製)、IRGACURE OXE02(BASF社製)、TR−PBG−304(常州強力電子新材料有限公司製)、アデカアークルズNCI−831、アデカアークルズNCI−930(ADEKA社製)、アデカアークルズNCI−831(ADEKA社製)等の市販品を用いることができる。
液晶組成物中の光重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の含有量に対して0.1〜20質量%であることが好ましく、0.5質量%〜5質量%であることがさらに好ましい。
液晶組成物は、硬化後の膜強度向上、耐久性向上のため、任意に架橋剤を含有していてもよい。架橋剤としては、紫外線、熱、湿気等で硬化するものが好適に使用できる。
架橋剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばトリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート等の多官能アクリレート化合物;グリシジル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテル等のエポキシ化合物;2,2−ビスヒドロキシメチルブタノール−トリス[3−(1−アジリジニル)プロピオネート]、4,4−ビス(エチレンイミノカルボニルアミノ)ジフェニルメタン等のアジリジン化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、ビウレット型イソシアネート等のイソシアネート化合物;オキサゾリン基を側鎖に有するポリオキサゾリン化合物;ビニルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)3−アミノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシラン化合物などが挙げられる。これらのうち、多官能アクリレート化合物が好ましい。多官能アクリレート化合物としては、3〜6官能アクリレート化合物が好ましく、4〜6官能アクリレート化合物がより好ましい。また、架橋剤の反応性に応じて公知の触媒を用いることができ、膜強度および耐久性向上に加えて生産性を向上させることができる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。
液晶組成物中には、安定的にまたは迅速にプレーナー配向するために寄与する配向制御剤を添加してもよい。配向制御剤の例としては特開2007−272185号公報の段落〔0018〕〜〔0043〕等に記載のフッ素(メタ)アクリレート系ポリマー、特開2012−203237号公報の段落〔0031〕〜〔0034〕等に記載の式(I)〜(IV)で表される化合物などが挙げられる。
なお、配向制御剤としては1種を単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
その他、液晶組成物は、塗膜の表面張力を調整し厚みを均一にするための界面活性剤、および重合性モノマー等の種々の添加剤から選ばれる少なくとも1種を含有していてもよい。また、液晶組成物中には、必要に応じて、さらに重合禁止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定化剤、色材、金属酸化物微粒子等を、光学的性能を低下させない範囲で添加することができる。
液晶組成物の調製に使用する溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えばケトン類、アルキルハライド類、アミド類、スルホキシド類、ヘテロ環化合物、炭化水素類、エステル類、エーテル類などが挙げられる。これらは、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。これらの中でも、環境への負荷を考慮した場合にはケトン類が特に好ましい。
支持体、配向膜、1/4波長板、下層となるコレステリック液晶層などへの液晶組成物の塗布方法は、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング法、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法などが挙げられる。また、別途支持体上に塗設した液晶組成物を転写することによっても実施できる。塗布した液晶組成物を加熱することにより、液晶分子を配向させる。コレステリック液晶層形成の際はコレステリック配向させればよく、1/4波長板形成の際は、ネマチック配向させることが好ましい。コレステリック配向の際、加熱温度は200℃以下が好ましく、130℃以下がより好ましい。この配向処理により、重合性液晶化合物がフィルム面に対して実質的に垂直な方向に螺旋軸を有するようにねじれ配向している光学薄膜が得られる。ネマチック配向の際、加熱温度は50℃〜120℃が好ましく、60℃〜100℃がより好ましい。
液晶組成物は、支持体または支持体表面に形成された配向層の表面に塗布され層形成されていてもよい。支持体または支持体および配向層は、層形成後に剥離してもよい。例えば、層を発光素子基板に接着後に剥離してもよい。支持体の例としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)などのポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、シリコーン、またはガラス板などが挙げられる。
支持体の厚みは5μm〜1000μm程度であればよく、好ましくは10μm〜250μm、より好ましくは15μm〜120μmであればよい。
コレステリック液晶層を形成する際、支持体上に直接もしくはその上に設けた配向層で液晶組成物の配向状態を規制することが好ましい。配向層は、光学異方性層に配向性を付与できるものであれば、どのような層でもよい。配向層の好ましい例としては、ポリマーなどの有機化合物(ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリエステル、ポリアリレート、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミド、変性ポリアミドなどの樹脂)のラビング処理された層、アゾベンゼンポリマーやシンナメートポリマーに代表される偏光照射により液晶の配向性を発現する光配向層、無機化合物の斜方蒸着層、およびマイクログルーブを有する層、さらにω−トリコサン酸、ジオクタデシルメチルアンモニウムクロライドおよびステアリル酸メチル等のラングミュア・ブロジェット法(LB膜)により形成される累積膜、あるいは電場あるいは磁場の付与により誘電体を配向させた層を挙げることができる。配向層としてはラビングの態様ではポリビニルアルコールを含むことが好ましく、配向層の上または下の少なくともいずれか1層と架橋できることが特に好ましい。具体的には、特開2009−69793号公報、特開2010−113249号公報、および特開2011−203636号公報に記載の配向層を利用することができる。また、光配向層も、好適に用いることができる。光配向層を用いると、微小異物による配向欠陥の発生が抑えられ、微細な形状であっても高い光学的性能でコレステリック液晶層を形成することができるからである。例えば、特開2015−26050号公報に記載の液晶配向剤(例えば、エポキシ含有ポリオルガノシロキサンを含む液晶配向剤)を用いることができる。配向層の配向規制力を十分に発揮させるために、塗布した液晶組成物の温度を制御して、所望の相を発現させる処理(配向処理)を行ってもよい。
配向層の厚みは0.01μm〜5.0μmであることが好ましく、0.05μm〜2.0μmであることがさらに好ましい。
異なる波長において偏光分離を示す複数種の偏光分離部位を含む偏光分離層の形成のために、コレステリック液晶層をパターニングにより形成することができる。発光素子基板の各有機電界発光層の発光波長に対応して、選択反射波長を調整したパターン状のコレステリック液晶層を用いることで、光利用効率をより高めることができる。パターニング方法によってコレステリック液晶層を形成することにより、偏光分離層における偏光分離部位および可視光透過領域の形成、およびマトリクス状に配置された偏光分離部位の形成も行なうことができる。
パターン露光の手法としてはマスクを用いたコンタクト露光、プロキシ露光、投影露光などが挙げられる。上記露光の光源の照射波長としては250〜450nmにピークを有することが好ましく、300〜410nmにピークを有することがさらに好ましい。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、青色レーザー等が挙げられる。好ましい露光量としては通常3〜2000mJ/cm2程度であり、より好ましくは5〜1000mJ/cm2程度、さらに好ましくは10〜500mJ/cm2程度、最も好ましくは10〜100mJ/cm2程度である。
用いる材料に応じて、パターン露光の代わりにまたはパターン加熱を行なってもよい。パターン加熱の手法としては加温したパターニングプレートを用いたコンタクト加熱、赤外レーザーによる加熱などを用いることができる。
また、この両方を組み合わせてもよい。
すなわち、第一の液晶組成物から形成された層にパターン露光を行った後、その上に新たな第二の液晶組成物から形成された層を形成または転写し、その後に別のパターン露光を行うことができる。さらに、その上に新たな第三の液晶組成物から形成された層を形成または転写し、その後に別のパターン露光を行うことができる。
特に、液晶組成物を用いてパターン状に偏光分離部位を有する偏光分離層を形成する場合などにおいて、保護層を用いてもよい。保護層は液晶組成物を仮硬化した後に残る未反応の反応性基による重合反応を開始させる機能を有する重合開始剤を少なくとも一種以上含んでいればよい。コレステリック液晶層と保護層は直接接していることが好ましい。重合開始剤を含む保護層の構成としては特に限定は無いが、重合開始剤以外に少なくとも1種のポリマーを含むことが好ましい。
コレステリック液晶層を含む偏光分離層は有機電界発光層上で形成してもよく、別途形成した偏光分離層または偏光分離層を含む積層体を有機電界発光層上に積層してもよい。典型的には、有機電界発光層群を含む発光素子基板上に偏光分離層を形成し、さらにその上に円偏光板を形成するか、または、上記偏光分離層および円偏光板の積層体を作製し、その後この積層体を有機電界発光層群を含む発光素子基板上に設けることが好ましく、後者がより好ましい。
本発明の有機EL画像表示装置はポジティブC領域含有層を含む。本明細書において、ポジティブC領域とは、光学的にポジティブC性能となる領域のことであり、層の厚み方向をz軸とし、層の面内方向をxy平面としたときのそれぞれの屈折率Nx、NyおよびNzが、Nz>Nx=Nyの関係で示される屈折率楕円体で表現される光学特性を持つ領域である。ポジティブC領域含有層は、ポジティブC領域からなる層、すなわち、単一のポジティブCプレートであってもよく、xy平面内に、ポジティブC領域と光学的に等方性の領域との両方を含む層であってもよく、さらにその他の光学特性を持つ領域を含む層であってもよい。
また、ポジティブC領域は、−250≦Rth(550)≦−70を満たすことが好ましく、−230≦Rth(550)≦−130を満たすことがより好ましい。
ポジティブC領域含有層は液晶化合物Cを含むポジティブC領域含有層形成用組成物の硬化物からなる。本明細書において、液晶化合物CはポジティブC領域含有層形成用組成物に含まれる全ての液晶化合物を示し、1つの液晶化合物からなるものであっても2種以上の液晶化合物の混合物であってもよい。
液晶化合物Cとしては、棒状液晶化合物が好ましい。液晶化合物Cは、スメクチック相またはネマチック相の液晶状態を呈する液晶化合物が好ましく、製造条件等の観点からネマチック相の液晶状態を呈する液晶化合物を用いてもよく、前述の観点からスメクチック相の液晶状態を呈する液晶化合物を用いてもよい。
液晶化合物Cとしては、従来公知のいずれの液晶化合物を用いてもよく、上記のコレステリック液晶層形成用の液晶化合物と同様の液晶化合物を用いることもできる。
また、液晶化合物Cは、下記一般式(IA)で表される化合物および下記一般式(IIA)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種の化合物を含有することが好ましい。
結晶析出を抑止する観点から、一般式(IA)または(IIA)において、X101およびY101がメチル基を表すことが好ましい。液晶としての性質を示す観点から、nは4〜8の整数であることが好ましい。
ポジティブC領域含有層形成用組成物は、垂直配向剤を含んでいることが好ましい。垂直配向剤は、ボロン酸化合物および/またはオニウム塩を用いることが好ましい。
ボロン酸化合物の具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。
ボロン酸化合物の具体例としては、特開2008−225281号公報の段落番号0023〜0032に記載の一般式(I)で表されるボロン酸化合物を用いることができる。また、下記に示すボロン酸化合物も好ましく用いられる。
オニウム塩の例の具体例としては、特開2012−208397号公報の段落番号0052〜0058に記載のオニウム塩、特開2008−026730号公報の段落番号0024〜0055に記載のオニウム塩、特開2002−37777号公報に記載のオニウム塩が挙げられる。
ポジティブC領域含有層は、支持体または支持体上に設けられた配向膜表面に、ポジティブC含有層形成用組成物を塗布することによって形成することができる。ポジティブC領域含有層は公知の方法によって製造することができる。
円偏光板は、有機EL画像表示装置における、外光の映り込みの低減およびコントラスト向上のために有機電界発光層の画像表示側に設けられるものである。円偏光板としては、有機EL画像表示装置において用いられる円偏光板として公知の円偏光板を用いることができる。
直線偏光板はこれを通過する光のうち特定の直線偏光は透過し、これと直交する直線偏光は吸収するものである。直線偏光板としては、例えばポリビニルアルコールにヨウ素を吸収させて延伸させ、偏光機能を付与した膜の両面にトリアセチルセルロースの保護層を施したもの、あるいは、ポリビニルアルコールにAg等の金属ナノロッドを添加し、延伸させたものなどを用いることができる。
有機EL画像表示装置において用いられる円偏光板中の位相差層は、可視光領域において1/4波長板として機能する位相差層であればよい。本明細書において、1/4波長板をλ/4板ということもある。
1/4波長板の例としては、一層型の1/4波長板、1/4波長板と1/2波長位相差板とを積層した広帯域1/4波長板などが挙げられる。
1/4波長板としては、市販品を用いることもでき、市販品としては、例えば商品名:ピュアエース(登録商標)WR(帝人株式会社製、ポリカーボネートフィルム)などが挙げられる。
一層型の1/4波長板として、逆波長分散性のAプレートを用いることも好ましい。
発光素子基板は少なくとも、反射層および有機電界発光層を含む。通常、発光素子基板は、ガラスなどの表面に薄膜トランジスタ(TFT)などにより形成された画素構造を有するTFT基板上に反射層および有機電界発光層を含むものであればよい。有機電界発光層は通常TFT基板上にマトリクス状に配置された有機電界発光層群として含まれることが好ましい。
TFT基板/反射電極/有機電界発光層/透明電極
TFT基板/透明電極/有機電界発光層/反射電極
本発明の画像表示装置は、各層の接着のための接着層を含んでいてもよい。接着層形成に用いられる接着剤または粘着剤としては硬化方式の観点からホットメルトタイプ、熱硬化タイプ、光硬化タイプ、反応硬化タイプ、硬化の不要な感圧接着タイプがあり、それぞれ素材としてアクリレート系、ウレタン系、ウレタンアクリレート系、エポキシ系、エポキシアクリレート系、ポリオレフィン系、変性オレフィン系、ポリプロピレン系、エチレンビニルアルコール系、塩化ビニル系、クロロプレンゴム系、シアノアクリレート系、ポリアミド系、ポリイミド系、ポリスチレン系、ポリビニルブチラール系などの化合物を使用することができる。作業性、生産性の観点から、硬化方式として光硬化タイプ、特に紫外線硬化タイプが好ましく、光学的な透明性、耐熱性の観点から、素材はアクリレート系、ウレタンアクリレート系、エポキシアクリレート系などを使用することが好ましい。
有機EL画像表示装置は、発光素子基板上に、ポジティブC領域含有層および偏光分離層をいずれかの順で設け、その上に別途形成した円偏光板を位相差層側の面で接着することにより製造してもよく、または、円偏光板上の位相差層側にポジティブC領域含有層および偏光分離層をいずれかの順で設け、その面で、発光素子基板に接着することにより、作製してもよい。ポジティブC領域含有層および偏光分離層のいずれか一方を発光素子基板上に、他方を円偏光板上に設けて、その後両者を接着してもよい。発光素子基板として反射層上に有機電界発光層がマトリクス状に配置された有機電界発光層群を含むものを用いるとき、偏光分離部位が有機電界発光層に対応してマトリクス状に配置されている偏光分離層を用いることが好ましい。有機電界発光層群および偏光分離領域は、各有機電界発光層および偏光分離部位が対応するように位置合わせを行なって、積層、接着等を行なえばよい。さらにマトリクス状に配置されている偏光分離部位を含む偏光分離層に対応してポジティブC領域がマトリクス状に配置されているポジティブC領域含有層を用いる場合は、各偏光分離部位およびポジティブC領域が対応するように位置合わせを行なって、積層、接着等を行なえばよい。
また、実施例において、粘着剤としては、SK−2057(綜研化学株式会社製)を用いた。
[発光素子基板の調製]
青色有機電界発光層、緑色有機電界発光層、および赤色有機電界発光層を含む市販の有機EL画像表示装置(サムスン社製SC−04E)を用意した。この有機EL画像表示装置から、偏光板および光学フィルムを剥離し、発光素子を保護するバリア層の表面を露出させたものを発光素子基板として用いた。
用いた発光素子基板の青色有機電界発光層の発光スペクトルは、中心波長450nm、発光帯域40nm、緑色有機電界発光層の発光スペクトルは、中心波長550nm、発光帯域45nm、赤色有機電界発光層のスペクトルは、中心波長650nm、発光帯域50nmであった。また、発光素子基板における、青色有機電界発光層(Blue)、緑色有機電界発光層(Green)、および赤色有機電界発光層(Red)の配置は図4に示すとおりである。
(配向膜組成物Aの調製)
下記に示す各成分の混合物を、80℃に保温された容器中にて攪拌、溶解させ、配向膜組成物Aを調製した。
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配向膜組成物A(質量部)
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純水 97.2
PVA−103(クラレ社製ポリビニルアルコール) 2.8
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下記の各成分を混合した後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、コレステリック組成物LC−1として用いた。
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コレステリック組成物LC−1(質量部)
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棒状液晶化合物(L−1) 100
光反応性右旋回性キラル剤(C−1) 6.00
水平配向剤(L−2) 0.1
重合開始剤IRGACURE819(BASF社製) 4.0
重合制御剤IRGANOX1010(BASF社製) 1.0
溶剤(クロロホルム) 330.3
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下記の各成分を混合した後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、コレステリック組成物LC−2として用いた。
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コレステリック組成物LC−2(質量部)
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棒状液晶化合物(L−1) 19.57
水平配向剤(L−2) 0.015
キラル剤(C−2) 1.49
重合開始剤(Irgacure 907、BASF社製) 0.587
光増感剤(KAYACURE DETX−S、日本化薬株式会社製)
0.916
重合制御剤(IRGANOX1076、BASF社製) 0.078
メチルエチルケトン 80.0
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下記の各成分を混合した後、孔径0.2μmのポリプロピレン製フィルタでろ過して、液晶組成物LC−3として用いた。
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液晶組成物LC−3(質量部)
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棒状液晶化合物(L−1) 100
レベリング剤(T−1) 0.4
レベリング剤(T−2) 0.2
化合物(L−3) 1.0
化合物(L−4) 2.5
重合開始剤(Irgacure 907、BASF社製) 0.587
光増感剤(KAYACURE DETX−S、日本化薬株式会社製)
0.916
重合制御剤(IRGANOX1076、BASF社製) 0.078
溶剤(メチルエチルケトン) 330.3
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(比較例1)
WO2016/194801の実施例1に示された手順により作製した偏光子、光学異方性層A(λ/2板)、および、光学異方性層B(λ/4板)を、偏光子、光学異方性層A(λ/2板)、および、光学異方性層B(λ/4板)の順に配置し、円偏光板CP1を作製した。なお、偏光子側から観察して、偏光子の透過軸を基準(0°)に反時計回りを正の値で表したとき、λ/2板の遅相軸の角度を−72.5°、λ/4板の遅相軸の角度は−12.5°とした。続いて、発光素子基板のバリア層の表面と、CP1の光学異方性層Bとを粘着剤を用いて貼り合わせ、評価用画像表示装置を作製した。
配向膜組成物Aを、厚さ0.5mmのガラス基板(コーニング製、イーグルXG)上にスリットコーターを用いて均一塗布した後、100℃のオーブン内で2分乾燥し、膜厚0.5μmの配向膜付きガラス基板Aを得た。この配向膜に塗布方向と平行方向にラビング処理を施した。ラビング処理面上に上記コレステリック組成物LC−1を、乾燥膜厚が1.25μmとなるようにスピンコート塗布した。塗布膜が配置された配向膜付きガラス基板を80℃のホットプレート上で1分間加熱し、溶媒を乾燥除去するとともにコレステリック配向状態を形成した後、HOYA−SCHOTT社製EXECURE3000−Wを用いて、室温、窒素雰囲気下、図3に示すフォトマスクAを介して、照度30mW/cm2のUV(ultraviolet)光を10秒間照射し、露光部(透過部に対応)(A)の配向を固定化した。図3において、白は透過部、黒は遮蔽部である。次いで、フォトマスクを除去し、空気下で照度3mW/cm2のUV光を8秒間照射した後、80℃のホットプレート上で1分間加熱することで、固定化されていない部分の反射波長を長波長側に変換した後に、再度、室温、窒素雰囲気下で、照度30mW/cm2のUV光を10秒間照射し、残りの部分(遮蔽部に対応)(B)の配向を固定化することで、コレステリック液晶層パターンを有する層を作製した。露光部における反射中心波長は350nm以下、残りのBの部分における反射中心波長は450nmであった。Rth(550)はいずれにおいても150nmであった。
<ポジティブC領域含有層の作製>
下記一般式(II)で表されるラクトン環構造を有するアクリル系樹脂{共重合モノマー質量比=メタクリル酸メチル/2−(ヒドロキシメチル)アクリル酸メチル=8/2、ラクトン環化率約100%、ラクトン環構造の含有割合19.4%、重量平均分子量133000、メルトフローレート6.5g/10分(240℃、98N(10kgf))、Tg131℃}90質量部と、アクリロニトリル−スチレン(AS)樹脂{トーヨーAS AS20、東洋スチレン社製}10質量部との混合物(Tg127℃)のペレットを二軸押出機に供給し、約280℃でシート状に溶融押出しした。その後、溶融押出しされたシートを、縦一軸延伸機において、給気温度130℃、シート面温度120℃、延伸速度30%/分、延伸倍率35%で縦延伸した。その後、縦延伸されたシートを、テンター式延伸機において、給気温度130℃、シート面温度120℃、延伸速度30%/分、延伸倍率35%で横延伸した。その後、横延伸されたシートを、巻取り部前で両端部を切り落とし、長さ4000mのロールフィルムとして巻き取りして、厚み40μmの長尺状の支持体を得た。
配向膜組成物Aを、上記支持体上に、バーコーターを用いて均一塗布した後、100℃のオーブン内で2分乾燥し、膜厚0.5μmの配向膜付き支持体を得た。この配向膜に上記液晶組成物LC−3を、乾燥膜厚が1.25μmとなるようにバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度95℃で60秒間加熱熟成し、その後ただちに、25℃空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、500mJ/cm2の露光量で露光し、Rth(550)が−150nmのポジティブC領域含有層を含む積層体を得た。
コレステリック液晶層パターンを有する層の厚みを2.08μmとして(Rth(550)を250nmとし、塗布層の厚みを変更することでポジティブC領域含有層のRth(550)を−250nmとしたこと以外は、実施例1と同様の方法で、評価用画像表示装置を作製した。
コレステリック液晶層パターンを有する層の厚みを0.58μmとして(Rth(550)を70nmとし、塗布層の厚みを変更することでポジティブC領域含有層のRth(550)を−70nmとしたこと以外は、実施例1と同様の方法で、評価用画像表示装置を作製した。
フォトマスクを用いなかった以外は比較例2と同様の手順で、コレステリック液晶層パターンを有する層の代わりに全面が反射中心波長が450nmのコレステリック液晶層(パターンを有していないもの)を有する積層体を作製した。得られた積層体をコレステリック液晶層パターンを有する層を含む積層体の代わりに用いる以外は、実施例1と同様の手順で、評価用画像表示装置を作製した。
比較例2で作製したコレステリック液晶層パターンを有する層と円偏光板とを有する積層体のコレステリック液晶層パターンを有する層側に、実施例1と同様の方法で作製したポジティブC領域含有層を、粘着剤を用いて貼りあわせ、続いて支持体を剥離し、ポジティブC領域含有層のみを転写した。得られた偏光板を、比較例2と同様に、発光素子基板と貼りあわせ、評価用画像表示装置を作製した。
配向膜つきガラス基板Aにラビング処理を施し、上記コレステリック組成物LC−2を、乾燥膜厚が1.25μmとなるようにスピンコート塗布した。次いで、膜面温度95℃で60秒間加熱熟成し、その後ただちに、25℃空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、100mJ/cm2の露光量で、フォトマスクAの遮蔽部と透過部を反転させたフォトマスクBを介し露光した。その後、基板全体を200℃に加熱しながら500mJ/cm2の露光量で空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)にて窒素下露光することにより、反射中心波長450nm、反射帯域89nm、Rth(550)150nmのコレステリック反射を持つ領域(C)と、光学的に等方性の領域(D)とに分画されたコレステリック液晶層パターンを有する層を得た。得られたコレステリック液晶層パターンを有する層を含む積層体を、実施例3と同様の方法で、円偏光板、ポジティブC領域含有層、発光素子基板と貼りあわせ、評価用画像表示装置を作製した。
配向膜つきガラス基板Aにラビング処理を施し、上記コレステリック組成物LC−2を、乾燥膜厚が1.25μmとなるようにスピンコート塗布した。次いで、膜面温度95℃で60秒間加熱熟成し、その後ただちに、25℃空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、100mJ/cm2の露光量で、フォトマスクAの遮蔽部と透過部を反転させたフォトマスクBを介し露光した。その後、基板全体を200℃に加熱しながら500mJ/cm2の露光量で空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)にて窒素下露光することにより、反射中心波長450nm、反射帯域89nm、Rth(550)150nmのコレステリック反射を持つ領域(C)と、光学的に等方性の領域(D)とに分画されたコレステリック液晶層パターンを有する層を得た。得られたコレステリック液晶層パターンを有する層を含む積層体を、実施例1と同様の方法で、円偏光板、ポジティブC領域含有層、発光素子基板と貼りあわせ、評価用画像表示装置を作製した。
<光学的に等方性の領域を有するポジティブC領域含有層の作製>
配向膜組成物Aを、上記支持体上に、バーコーターを用いて均一塗布した後、100℃のオーブン内で2分乾燥し、膜厚0.5μmの配向膜付き支持体を得た。この配向膜に上記液晶組成物LC−3を、乾燥膜厚が1.25μmとなるようにバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度95℃で60秒間加熱熟成し、その後ただちに、25℃空気下にて、キヤノン(株)製PLA−501F露光機(超高圧水銀ランプ)を用い、100mJ/cm2の露光量で、フォトマスクBを介し露光した。その後、基板全体を200℃に加熱しながら500mJ/cm2の露光量で空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)にて窒素下露光することにより、Rth(550) が−150nmの垂直配向領域(E)と光学的に等方性の領域(D)とに分画された光学的に等方性の領域を有するポジティブC領域含有層を含む積層体を得た。
このポジティブC領域含有層を用い、パターン化コレステリックサンプルの領域(C)とパターン化垂直配向サンプルの領域(E)が重なるように貼りあわせたこと以外は、実施例1と同様の手順で、評価用画像表示装置を作製した。
特開2015−200861号公報の実施例32に示す方法で作製したポジティブAプレートおよびポジティブCプレート(ポジティブC領域含有層)を、偏光子、ポジティブAプレートおよびポジティブCプレートがこの順となるように比較例1で用いたものと同様の偏光子と貼りあわせ、円偏光板X2を作製した。ポジティブAプレートの遅相軸は、偏光子の透過軸に対し、45°に設定した。ポジティブAプレートはRe(550)が138nm、Rth(550)が69nm、Re(450)/Re(550)が0.86であった。ポジティブCプレートはRe(550)が0nm、Rth(550)が−60nm、Rth(450)/Rth(550)が1.05であった。
塗布層の厚みを変更することでポジティブCプレート(ポジティブC領域含有層)のRth(550)を−210nmに変更した以外は比較例4と同様の方法で、円偏光板X3を作製した。次いで、ポジティブCプレートの表面に、実施例1と同様の方法で作製したコレステリック液晶層パターンを有する層を含む積層体のガラス基板側を、粘着剤を用いて貼りあわせ、得られた積層光学体を、比較例2と同様の手順で、発光素子基板と貼りあわせ、評価用画像表示装置を作製した。
(発光輝度評価)
評価用パネルを点灯し、全面に単色の青を表示させた後、架台に設置し、2m先に分光放射計SR−3((株)トプコン社製)を配置して輝度評価を行った。比較例1のコレステリック材料がない画像表示装置の輝度に対して、各実施例、比較例の画像表示装置の輝度の向上率を評価した。
A:輝度向上率が40%以上
B:輝度向上率が40%より小さく、20%以上
C:輝度向上率が20%より小さく、5%以上
D:輝度向上率が5%より小さい
斜め観察時の光漏れは、測色計(コニカミノルタ製、CM−2022)を用い、SCEモードで積層体の法線方向から8度の方向から測定して得られたY値を用い、比較例2のY値との差をΔYとし、以下の基準に従って評価した。
A:ΔYが比較例2のΔYの20%以下である場合
B:ΔYが比較例2のΔYの20%超40%以下である場合
C:ΔYが比較例2のΔYの40%超60%以下である場合
D:ΔYが比較例2のΔYの60%超である場合
評価用画像表示装置を点灯し、青を2ピクセル、黒が5ピクセルの繰り返しで、青と黒のストライプを表示させ、にじみの有無を目視評価した。
2 有機電界発光層
3 反射層
4 発光素子基板
5 位相差層
6 偏光層
7 円偏光板
8 偏光分離領域(偏光分離部位)
9 可視光透過領域
11 バリア層
12 ポジティブC領域含有層
13 ポジティブC領域
14 光学的に等方性の領域
Claims (12)
- 発光素子基板および円偏光板を含む有機EL画像表示装置であって、
前記発光素子基板は反射層および前記反射層上に有機電界発光層を含み、
前記反射層、前記有機電界発光層、および前記円偏光板はこの順で配置されており、
前記有機電界発光層と前記円偏光板との間に偏光分離層を含み、
前記偏光分離層は、前記有機電界発光層が発光した光のうち、1つの偏光状態の光を反射し、かつ他方の偏光状態の光を透過する偏光分離領域と、可視光透過領域とを含み、
前記偏光分離領域はコレステリック液晶相を固定して形成された層からなり、
前記可視光透過領域が光学的に等方性の領域からなり、
前記有機電界発光層と前記円偏光板との間にポジティブC領域含有層を含み、
前記ポジティブC領域含有層がポジティブC領域に加えさらに光学的に等方性の領域を含む、有機EL画像表示装置。 - 前記ポジティブC領域含有層のポジティブC領域の波長550nmにおける膜厚方向のレターデーションRth(550)が−250nm〜−70nmである請求項1に記載の有機EL画像表示装置。
- 前記ポジティブC領域含有層のポジティブC領域の波長550nmにおける膜厚方向のレターデーションRth(550)が−230nm〜−130nmである請求項1に記載の有機EL画像表示装置。
- 前記円偏光板が1/4波長板、1/2波長位相差板、および偏光層をこの順で含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機EL画像表示装置。
- 前記円偏光板が逆波長分散性のAプレート、および偏光層を含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の有機EL画像表示装置。
- 前記有機電界発光層、前記ポジティブC領域含有層、前記偏光分離層、および前記円偏光板がこの順で配置されている請求項1〜5のいずれか一項に記載の有機EL画像表示装置。
- 前記可視光透過領域が前記偏光分離領域作製のための組成物と同一の組成物を用いて作製されている請求項1〜6のいずれか一項に記載の有機EL画像表示装置。
- 前記ポジティブC領域の可視光領域の任意の波長Xnmにおける膜厚方向のレターデーションRth(X)の絶対値が前記偏光分離領域の波長Xnmにおける膜厚方向のレターデーションRth(X)の絶対値と等しい請求項1〜7のいずれか一項に記載の有機EL画像表示装置。
- 前記発光素子基板は前記反射層上に前記有機電界発光層がマトリクス状に配置された有機電界発光層群を含む請求項1〜8のいずれか一項に記載の有機EL画像表示装置。
- 前記偏光分離領域が前記有機電界発光層群に対応してマトリクス状に配置された偏光分離部位の集合である請求項9に記載の有機EL画像表示装置。
- 前記有機電界発光層群が2種以上の波長の光を発光する有機電界発光層を含み、
前記偏光分離部位は対応する位置に配置されている有機電界発光層が発光する波長域で1つの偏光状態の光を反射する請求項10に記載の有機EL画像表示装置。 - 前記ポジティブC領域が前記マトリクス状に配置された前記偏光分離部位に対応してマトリクス状である請求項10または11に記載の有機EL画像表示装置。
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