JP6826885B2 - 新規なビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類 - Google Patents
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Description
本発明は、新規なビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類に関し、詳しくは、ジフェニルメタン骨格を有するジヒドロキシ化合物に関する。
このような芳香族ジヒドロキシ化合物は芳香族ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂の原料、高屈折樹脂原料のアクリル誘導体の原料等各種化学品の原料として有用である。
このような芳香族ジヒドロキシ化合物は芳香族ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂の原料、高屈折樹脂原料のアクリル誘導体の原料等各種化学品の原料として有用である。
近年、芳香族ジヒドロキシ化合物等の多核芳香族多価ヒドロキシ化合物は、耐熱性樹脂等の高機能樹脂原料として用いられてきている。このような多核芳香族多価ヒドロキシ化合物のうち、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１，１−ジフェニルメタン等のジフェニルメタン骨格の芳香族ジヒドロキシアルコキシ化合物は、ポリエステル樹脂のモノマーや高屈折樹脂原料のアクリル誘導体の原料として用いられている（特許文献１、特許文献２、特許文献３）。
しかしながら、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１，１−ジフェニルメタンは高融点で溶剤への溶解性が低く、操作性や加工性が悪く、例えば、工業的に多量に使用すれば、溶解や溶融に長時間要するか、より多くの溶剤やより高温が必要となる等の問題がある。
また、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１−フェニルエタンのような化合物は、低融点で溶剤溶解性が高いものの、得られる樹脂の屈折率やガラス転移温度が低いものであった（特許文献４）。
そこで、溶解度が高く、低融点で操作性のよい、さらに光学特性や耐熱性等の特性についても向上しうる芳香族ジヒドロキシアルコキシ化合物が求められている。
しかしながら、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１，１−ジフェニルメタンは高融点で溶剤への溶解性が低く、操作性や加工性が悪く、例えば、工業的に多量に使用すれば、溶解や溶融に長時間要するか、より多くの溶剤やより高温が必要となる等の問題がある。
また、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１−フェニルエタンのような化合物は、低融点で溶剤溶解性が高いものの、得られる樹脂の屈折率やガラス転移温度が低いものであった（特許文献４）。
そこで、溶解度が高く、低融点で操作性のよい、さらに光学特性や耐熱性等の特性についても向上しうる芳香族ジヒドロキシアルコキシ化合物が求められている。
従って、本発明は、溶解度が高く、低融点で操作性がよく、さらに光学特性や耐熱性等の特性についても向上しうる新たな芳香族ジヒドロキシアルコキシ化合物を提供することを目的とする。
本発明者らは、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１，１−ジフェニルメタンなどのテトラフェニル骨格を有する芳香族ジヒドロキシアルコキシ化合物の上記したような問題点を鋭意検討した結果、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシアルコキシ）フェニル］−１，１−ジフェニルメタンにおいてヒドロキシアルコキシ基を有するフェニル基に更にフェニル基を置換させた多核芳香族ジヒドロキシアルコキシ化合物が低融点で有機溶剤への溶解性が優れ、また、屈折率やガラス転移温度も同等若しくは優れていることを見出し本発明を完成した。
即ち、本発明は、
下記一般式（１）で表されるビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類である。
（式中、Ｒは炭素原子数２又は３のアルキレン基を表す。）
下記一般式（１）で表されるビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類である。
本発明のビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類は、ジフェニルメタン骨格を有しており、更に、ヒドロキシアルコキシ基が置換したフェニル基にもフェニル基が置換した構造を有する多核芳香族炭化水素の芳香族ジアルコールである。
そのような構造でありながら、本発明の上記芳香族ジアルコールは、従来の例えばビス｛４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル｝ジフェニルメタンに比して、低融点であり、溶解性がすぐれているので、反応や精製における操作性が改善できる。例えば、工業的に多量に使用する場合には、溶融若しくは溶解時間を短縮することができる。また、より低温であっても同程度の溶解時間を得ることができるか、あるいは、使用溶剤が同じであれば、その溶剤の使用量を少なくすることができる。
更に、従来の例えば１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１−フェニルエタンのような化合物は、低融点で溶剤溶解性が高く、かつ得られる樹脂の屈折率やガラス転移温度が低いのに対し、本発明の化合物は、低融点でありながら屈折率やガラス転移温度は変わらず、むしろ向上するので得られる樹脂の屈折率や耐熱性も向上することが期待される。
そのような構造でありながら、本発明の上記芳香族ジアルコールは、従来の例えばビス｛４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル｝ジフェニルメタンに比して、低融点であり、溶解性がすぐれているので、反応や精製における操作性が改善できる。例えば、工業的に多量に使用する場合には、溶融若しくは溶解時間を短縮することができる。また、より低温であっても同程度の溶解時間を得ることができるか、あるいは、使用溶剤が同じであれば、その溶剤の使用量を少なくすることができる。
更に、従来の例えば１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１−フェニルエタンのような化合物は、低融点で溶剤溶解性が高く、かつ得られる樹脂の屈折率やガラス転移温度が低いのに対し、本発明の化合物は、低融点でありながら屈折率やガラス転移温度は変わらず、むしろ向上するので得られる樹脂の屈折率や耐熱性も向上することが期待される。
本発明のビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類は、上記一般式（１）で表される。
上記一般式（１）において、式中、ヒドロキシアルコキシ基が置換したフェニル基に置換したフェニル基であるＲ1の置換位置は、ヒドロキシアルコキシ基のオルソ位が好ましい。また、ヒドロキシアルコキシ基が置換したフェニル基に置換した該フェニル基は、本願発明の効果を阻害しない範囲で炭素原子数１〜３程度のアルキル基又はアルコキシル基により１〜２程度置換されていてもよいが、耐熱性や屈折率の観点から置換されていないほうが好ましい。またａは１〜３の整数を示し、好ましくは１又は２であり、より好ましくは１である。
上記一般式（１）において、式中、ヒドロキシアルコキシ基が置換したフェニル基に置換したフェニル基であるＲ1の置換位置は、ヒドロキシアルコキシ基のオルソ位が好ましい。また、ヒドロキシアルコキシ基が置換したフェニル基に置換した該フェニル基は、本願発明の効果を阻害しない範囲で炭素原子数１〜３程度のアルキル基又はアルコキシル基により１〜２程度置換されていてもよいが、耐熱性や屈折率の観点から置換されていないほうが好ましい。またａは１〜３の整数を示し、好ましくは１又は２であり、より好ましくは１である。
式中、Ｒ2は各々独立して炭素原子数１〜６のアルキル基、炭素原子数１〜６のアルコキシ基又はハロゲン原子を表す。
炭素原子数１〜６のアルキル基としては、好ましくは炭素原子数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、炭素原子数５〜６の環状アルキル基であり、具体的には例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
炭素原子数１〜６のアルコキシ基としては、好ましくは炭素原子数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基、炭素原子数５〜６の環状アルコキシ基であり、具体的には例えば、エトキシ基、プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ等が挙げられる。
また、ハロゲン原子としては、具体的には例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
このようなＲ2としては、アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
炭素原子数１〜６のアルキル基としては、好ましくは炭素原子数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基、炭素原子数５〜６の環状アルキル基であり、具体的には例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
炭素原子数１〜６のアルコキシ基としては、好ましくは炭素原子数１〜４の直鎖状又は分岐鎖状アルコキシ基、炭素原子数５〜６の環状アルコキシ基であり、具体的には例えば、エトキシ基、プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、シクロヘキシルオキシ等が挙げられる。
また、ハロゲン原子としては、具体的には例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
このようなＲ2としては、アルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。
Ｒ2の置換位置は、置換数ｂが１の場合、ヒドロキシアルコキシ基のオルソ位が好ましい。
また、ｂは０、又は１〜３の整数を示し、０、１又は２が好ましく、耐熱性や屈折率の観点から０又は１がより好ましい。ｂが２以上の場合、Ｒ2は同一でも異なっていてもよく、また、１≦ａ＋ｂ≦４の範囲である。
また、ｂは０、又は１〜３の整数を示し、０、１又は２が好ましく、耐熱性や屈折率の観点から０又は１がより好ましい。ｂが２以上の場合、Ｒ2は同一でも異なっていてもよく、また、１≦ａ＋ｂ≦４の範囲である。
上記一般式（１）において、式中、Ｒは炭素原子数２〜６のアルキレン基を表す。
該アルキレン基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、好ましくは炭素原子数２〜４のアルキレン基であり、炭素原子数２又は３のアルキレン基が特に好ましい。従ってＲとしては具体的には例えば、１，２−エチレンジイル基、１，２−プロパンジイル基、１，３−プロパンジイル基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。
また、式中、−Ｏ−Ｒ−ＯＨで表されるヒドロキシアルコキシ基において、アルキレン基Ｒに結合したヒドロキシ基の結合位置は、エーテル基と直接結合したアルキレン基Ｒを構成する炭素原子（１位炭素原子と称呼する。）には結合しない。即ち、アルキレン基Ｒの２位−６位の炭素原子に結合する。
Ｒの炭素原子数が３以上の場合、アルキレン基Ｒの２位または３位に結合することが好ましく、２位がより好ましい。従って、好ましいヒドロキシアルコキシ基としては、具体的には例えば、２−ヒドロキシエトキシ基、２−ヒドロキシプロポキシ基、２−ヒドロキシ−１−メチルエトキシ基、３−ヒドロキシプロポキシ基等が挙げられる。
該アルキレン基としては、直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基が好ましく、好ましくは炭素原子数２〜４のアルキレン基であり、炭素原子数２又は３のアルキレン基が特に好ましい。従ってＲとしては具体的には例えば、１，２−エチレンジイル基、１，２−プロパンジイル基、１，３−プロパンジイル基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基等が挙げられる。
また、式中、−Ｏ−Ｒ−ＯＨで表されるヒドロキシアルコキシ基において、アルキレン基Ｒに結合したヒドロキシ基の結合位置は、エーテル基と直接結合したアルキレン基Ｒを構成する炭素原子（１位炭素原子と称呼する。）には結合しない。即ち、アルキレン基Ｒの２位−６位の炭素原子に結合する。
Ｒの炭素原子数が３以上の場合、アルキレン基Ｒの２位または３位に結合することが好ましく、２位がより好ましい。従って、好ましいヒドロキシアルコキシ基としては、具体的には例えば、２−ヒドロキシエトキシ基、２−ヒドロキシプロポキシ基、２−ヒドロキシ−１−メチルエトキシ基、３−ヒドロキシプロポキシ基等が挙げられる。
従って、上記一般式（１）で表される本発明のビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類において、好ましいビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類は、ビス（ヒドロキシエトキシフェニル）ジフェニルメタン類であり、下記一般式（２）で表される。
一般式（２）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ａ及びｂは一般式（１）のそれと同じであり、Ｒ3は各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、ただし、各々のヒドロキシエトキシ基に置換するＲ3の炭素原子数の合計は４以下である。）
一般式（２）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ａ及びｂは一般式（１）のそれと同じであり、Ｒ3は各々独立して水素原子又は炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、ただし、各々のヒドロキシエトキシ基に置換するＲ3の炭素原子数の合計は４以下である。）
上記一般式（２）において、Ｒ3のアルキル基は、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、イソブチル基等が挙げられる。中でもＲ3としては、水素原子又はメチル基が好ましい。
また、各々のヒドロキシエトキシ基に置換するＲ3の好ましい組合せとしては、同一炭素原子に２つのＲ3が結合した場合において、その２つのＲ3の内、少なくとも一つが水素原子であることが好ましく、Ｒ3がすべて水素原子であることがより好ましい。
また、各々のヒドロキシエトキシ基に置換するＲ3の好ましい組合せとしては、同一炭素原子に２つのＲ3が結合した場合において、その２つのＲ3の内、少なくとも一つが水素原子であることが好ましく、Ｒ3がすべて水素原子であることがより好ましい。
従って、好ましいビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類としては、具体的には例えば、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、
１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシプロポキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシ−１−メチルエトキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジフェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチル−５−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチル−５−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン等が挙げられる。
１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシプロポキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシ−１−メチルエトキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（３−ヒドロキシプロポキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３，５−ジフェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−メチル−５−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−２−メチル−５−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン等が挙げられる。
本発明の前記一般式（１）で表されるビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類、好ましくはビス（ヒドロキシエトキシフェニル）ジフェニルメタン類の製造方法は特に制限されず、公知の方法を用いて製造することができる。
例えば、本発明の前記一般式（１）で表されるビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類に対応する、下記一般式（３）のビスフェノール類と下記一般式（４）のアルキレンカーボネート類又は下記一般式（５）のアルキレンオキサイド類を用いて製造する方法、或いは前記のビスフェノール類と下記一般式（６）のハロゲン化アルコール類とを用いて、炭酸カリウム等のアルカリ存在下、ジメチルホルムアミド等の極性溶媒中で反応させて製造する方法等が挙げられる。
例えば、本発明の前記一般式（１）で表されるビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類に対応する、下記一般式（３）のビスフェノール類と下記一般式（４）のアルキレンカーボネート類又は下記一般式（５）のアルキレンオキサイド類を用いて製造する方法、或いは前記のビスフェノール類と下記一般式（６）のハロゲン化アルコール類とを用いて、炭酸カリウム等のアルカリ存在下、ジメチルホルムアミド等の極性溶媒中で反応させて製造する方法等が挙げられる。
これらの製造方法のうち、アルキレンカーボネート類又はアルキレンオキサイド類を用いる方法は、主として経済性の観点から、特に、本発明の好ましい態様である上記一般式（２）のビス（ヒドロキシエトキシフェニル）ジフェニルメタン類の製造方法として好ましい。
一般式（３）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ａ又はｂは一般式（１）のそれと同じである。）
一般式（４）
（式中、Ｒ3は一般式（２）のそれと同じである）
一般式（５）
（式中、Ｒ3は一般式（２）のそれと同じである。）
一般式（６）
（式中、Ｒは一般式（１）のそれと同じであり、Ｘはハロゲン原子を示し、但しＸは水酸基が置換した炭素原子に置換しない。）
一般式（３）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ａ又はｂは一般式（１）のそれと同じである。）
一般式（４）
（式中、Ｒ3は一般式（２）のそれと同じである）
一般式（５）
（式中、Ｒ3は一般式（２）のそれと同じである。）
一般式（６）
（式中、Ｒは一般式（１）のそれと同じであり、Ｘはハロゲン原子を示し、但しＸは水酸基が置換した炭素原子に置換しない。）
本発明のビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類の製造方法について、一例として、前記したアルキレンカーボネート類を用いる方法について、さらに詳しく述べる。
上記反応を反応式で示すと、例えば、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタンとエチレンカーボネートとの反応は下記反応式（１）で表される。
反応式（１）
上記反応を反応式で示すと、例えば、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタンとエチレンカーボネートとの反応は下記反応式（１）で表される。
反応式（１）
この方法において、上記一般式（３）で表される原料ビスフェノール類としては、好ましくは、例えば、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（５−メチル−４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジフェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−２−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタン等があげられる。
また、上記一般式（４）で表されるアルキレンカーボネートとしては、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、１，２−ブチレンカーボネート等が例示できる。
また、アルキレンカーボネートの使用量は、ビスフェノール類１モルに対して、通常２〜１０モル程度の範囲、好ましくは３〜５モル程度の範囲である。
反応は、通常、塩基触媒の存在下で行う。
塩基触媒としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ触媒、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウムハライド等が例示できる。
触媒の量は、ビスフェノール類１モルに対して通常、０．００５〜０．５モルの範囲、好ましくは０．０１〜０．３の範囲である。
反応温度は、通常、１００〜１５０℃の範囲、好ましくは１２０〜１３０℃の範囲である。
塩基触媒としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等のアルカリ触媒、テトラブチルアンモニウムブロマイド、テトラエチルアンモニウムクロライド、テトラメチルアンモニウムクロライド等の４級アンモニウムハライド等が例示できる。
触媒の量は、ビスフェノール類１モルに対して通常、０．００５〜０．５モルの範囲、好ましくは０．０１〜０．３の範囲である。
反応温度は、通常、１００〜１５０℃の範囲、好ましくは１２０〜１３０℃の範囲である。
反応には、通常、溶媒が用いられる。溶媒としては、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン、１，２−ジエトキシエタン等のエーテル系溶媒、１−ブタノール、２−ブタノール、エチレングリコール等の脂肪族アルコール溶媒、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド等の非プロトン極性溶媒が例示できる。溶媒の量は、例えばビスフェノール類１００重量部に対して５０〜３００重量部が好ましく、１００〜２００重量部がより好ましい。
反応は、例えば、反応原料、触媒、溶媒等を一括で反応容器に仕込んで、反応温度まで昇温してもよく、また、ビスフェノール類、溶媒、触媒の混合液を所定の温度に昇温し、そこにアルキレンカーボネート類を滴下してもよい。
反応終了後、反応終了混合物からは、公知の精製方法により粗製品、又は高純度品として目的物を取り出すことができる。
例えば、反応終了後、反応終了混合物に水を加えて過剰のアルキレンカーボネートを分解する。アルカリ触媒を用いた場合には、酸を加えて中和してもよい。次に必要に応じて水と分離する溶媒を加えた後、油層を水洗し、触媒若しくは中和塩を除去する。
その後、油層を冷却するか、または、油層を濃縮した後、溶媒を加えて溶解してから冷却して晶析、濾過することによって目的物を得ることができる。再結晶すれば、さらに高純度の目的物を得ることができる。
反応終了後、反応終了混合物からは、公知の精製方法により粗製品、又は高純度品として目的物を取り出すことができる。
例えば、反応終了後、反応終了混合物に水を加えて過剰のアルキレンカーボネートを分解する。アルカリ触媒を用いた場合には、酸を加えて中和してもよい。次に必要に応じて水と分離する溶媒を加えた後、油層を水洗し、触媒若しくは中和塩を除去する。
その後、油層を冷却するか、または、油層を濃縮した後、溶媒を加えて溶解してから冷却して晶析、濾過することによって目的物を得ることができる。再結晶すれば、さらに高純度の目的物を得ることができる。
また、上記一般式（３）で表される原料のビスフェノール類は、公知の方法を用いて製造することができる。例えば前記ビスフェノール類に対応した、一般式（７）で表されるフェニルフェノール類と一般式（８）で表されるジクロロジフェニルメタン類を加温下で反応させる方法により得ることができる。上記反応を反応式で示すと、例えば、２−フェニルフェノール類とジクロロジフェニルメタンとの反応により１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタンを得る反応は下記反応式（２）で表される。
反応式（２）
一般式（７）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ａ及びｂは一般式（１）のそれと同じである。ただし、Ｒ1は水酸基のパラ位に置換せず、ｂが１以上の場合、Ｒ2は水酸基のパラ位に置換しない。）
一般式（８）
反応式（２）
一般式（７）
（式中、Ｒ1、Ｒ2、ａ及びｂは一般式（１）のそれと同じである。ただし、Ｒ1は水酸基のパラ位に置換せず、ｂが１以上の場合、Ｒ2は水酸基のパラ位に置換しない。）
一般式（８）
上記反応に際し、ジクロロジフェニルメタン類とフェニルフェノール類のモル比は、通常、ジクロロジフェニルメタン類１モルに対してフェニル置換フェノール類は、２〜１０モルの範囲、好ましくは２．５〜５モルの範囲である。
触媒は、通常、用いなくてもよい。
通常、例えば、温度２０〜８０℃の範囲、好ましくは４０〜７０℃の範囲で反応し、次いで１００℃〜１５０℃の範囲、好ましくは１２０〜１３０℃の範囲に昇温して反応させる方法が好ましい。
溶媒は原料が液状で混合できれば特に必要でないが、原料が反応温度で固体の場合等の理由で混合できなければ使用することが好ましい。用いられる溶媒は反応を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒等が挙げられる。
反応は、例えば、反応原料を一括して仕込み、反応させてもよく、あるいは、フェニルフェノール類を仕込んだ後、ジクロロジフェニルメタン類を低温下で滴下して反応させ、その後、昇温して更に反応させてもよい。
反応終了後、反応終了混合物からは、公知の精製方法により粗製品、又は精製品として目的物を得る事が出来る。
触媒は、通常、用いなくてもよい。
通常、例えば、温度２０〜８０℃の範囲、好ましくは４０〜７０℃の範囲で反応し、次いで１００℃〜１５０℃の範囲、好ましくは１２０〜１３０℃の範囲に昇温して反応させる方法が好ましい。
溶媒は原料が液状で混合できれば特に必要でないが、原料が反応温度で固体の場合等の理由で混合できなければ使用することが好ましい。用いられる溶媒は反応を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えば、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、ｎ−ヘプタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素溶媒、ジオキサン、テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒等が挙げられる。
反応は、例えば、反応原料を一括して仕込み、反応させてもよく、あるいは、フェニルフェノール類を仕込んだ後、ジクロロジフェニルメタン類を低温下で滴下して反応させ、その後、昇温して更に反応させてもよい。
反応終了後、反応終了混合物からは、公知の精製方法により粗製品、又は精製品として目的物を得る事が出来る。
次に、本発明について、実施例を示し、さらに具体的に説明する。
（参考例１）（原料ビスフェノールの合成）
撹拌装置を備えた１リッターの四つ口フラスコに純度９９．０％の２−フェニルフェノール３０６．２ｇ、キシレン１８３．６ｇを仕込み、６０℃に昇温して溶解した。その溶液に撹拌下６０℃でジクロロジフェニルメタン１４１．６ｇを４．５時間かけて滴下した。滴下終了後、反応液を１２０℃に昇温し、１２０℃から１３５℃で３０時間撹拌した。
反応終了後、３０℃に冷却し、反応混合物に１６％水酸化ナトリウム水溶液を加え中和した後、析出した結晶を濾別した。得られた結晶を減圧下６０℃で乾燥して、純度７４．７％（高速液体クロマトグラフィー分析による）の黄色粉末状結晶９７．５ｇを得た。
（参考例１）（原料ビスフェノールの合成）
撹拌装置を備えた１リッターの四つ口フラスコに純度９９．０％の２−フェニルフェノール３０６．２ｇ、キシレン１８３．６ｇを仕込み、６０℃に昇温して溶解した。その溶液に撹拌下６０℃でジクロロジフェニルメタン１４１．６ｇを４．５時間かけて滴下した。滴下終了後、反応液を１２０℃に昇温し、１２０℃から１３５℃で３０時間撹拌した。
反応終了後、３０℃に冷却し、反応混合物に１６％水酸化ナトリウム水溶液を加え中和した後、析出した結晶を濾別した。得られた結晶を減圧下６０℃で乾燥して、純度７４．７％（高速液体クロマトグラフィー分析による）の黄色粉末状結晶９７．５ｇを得た。
得られた結晶９７．５ｇの内４７．５ｇにメチルイソブチルケトン１９０．０ｇを加え、１１０℃においてスラリー状態で４時間撹拌した後、室温まで冷却し、結晶を濾別、乾燥させた。その結晶にメチルイソブチルケトン１６０．０ｇを加えて同様の操作をして、高速液体クロマトグラフィー分析による純度が９６．７％の結晶３５．８ｇを得た。
更に、得られた結晶３５．８ｇの内１６．０ｇにメチルエチルケトン７６９．８ｇを加えて８１℃に昇温して溶解した。その溶液に蒸留水を加えて撹拌し、水層を分離除去する水洗操作を４回実施した。水洗した油層を７８．９ｇまで濃縮した後、冷却して晶析を行った。
室温まで冷却後、析出している結晶を濾別、乾燥して、高速液体クロマトグラフィー分析による純度が９９．０％の１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン１２．９ｇを得た。
融点：２９０．８℃（示差走査熱量測定法）
分子量：５０３（Ｍ−Ｈ）-（液体クロマトグラフィー質量分析法）
1Ｈ−ＮＭＲ測定結果
（４００ＭＨｚ、溶媒；DMSO-d6、内部標準：テトラメチルシラン）
更に、得られた結晶３５．８ｇの内１６．０ｇにメチルエチルケトン７６９．８ｇを加えて８１℃に昇温して溶解した。その溶液に蒸留水を加えて撹拌し、水層を分離除去する水洗操作を４回実施した。水洗した油層を７８．９ｇまで濃縮した後、冷却して晶析を行った。
室温まで冷却後、析出している結晶を濾別、乾燥して、高速液体クロマトグラフィー分析による純度が９９．０％の１，１−ビス（３−フェニル−４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン１２．９ｇを得た。
融点：２９０．８℃（示差走査熱量測定法）
分子量：５０３（Ｍ−Ｈ）-（液体クロマトグラフィー質量分析法）
1Ｈ−ＮＭＲ測定結果
（４００ＭＨｚ、溶媒；DMSO-d6、内部標準：テトラメチルシラン）
（実施例１）
撹拌装置を備えた２００ｍｌの四つ口フラスコを窒素置換し、そこに純度９６．７％の１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）ジフェニルメタン１４．５ｇ、炭酸エチレン７．６ｇ、水酸化カリウム０．３ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３ｇ、ｎ−ブタノール７２．５ｇを仕込み、１１５℃に昇温し、その後１１５℃から１２０℃の温度で４４時間撹拌した。
途中、炭酸エチレンを３３時間後に０．７ｇ、３８時間後に０．７ｇ、４０時間後に１．４ｇ追加した。この反応液に蒸留水３６．２ｇを加え９５℃で６時間撹拌した後、７０℃で酢酸を加え中和した。水層を分離してから、油層に蒸留水３６．２ｇを加えて撹拌して水洗し、さらに同様の操作でもう一度油層を水洗し、油層から減圧下で８５℃まで昇温し、溶剤を留去した。
蒸留残渣である１７．６ｇの白色固体を２６．４ｇメチルイソブチルケトンで再溶解し、その溶液に５３．０ｇメタノールを添加して晶析した。
撹拌装置を備えた２００ｍｌの四つ口フラスコを窒素置換し、そこに純度９６．７％の１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）ジフェニルメタン１４．５ｇ、炭酸エチレン７．６ｇ、水酸化カリウム０．３ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド０．３ｇ、ｎ−ブタノール７２．５ｇを仕込み、１１５℃に昇温し、その後１１５℃から１２０℃の温度で４４時間撹拌した。
途中、炭酸エチレンを３３時間後に０．７ｇ、３８時間後に０．７ｇ、４０時間後に１．４ｇ追加した。この反応液に蒸留水３６．２ｇを加え９５℃で６時間撹拌した後、７０℃で酢酸を加え中和した。水層を分離してから、油層に蒸留水３６．２ｇを加えて撹拌して水洗し、さらに同様の操作でもう一度油層を水洗し、油層から減圧下で８５℃まで昇温し、溶剤を留去した。
蒸留残渣である１７．６ｇの白色固体を２６．４ｇメチルイソブチルケトンで再溶解し、その溶液に５３．０ｇメタノールを添加して晶析した。
その後、冷却、濾過して、得られた結晶をメタノールで洗浄し、６５℃で減圧乾燥して、純度が９７．８％（高速液体クロマトグラフィー分析による）である白色粉末状の１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン１３．８ｇを得た。原料の１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタン対する収率は８１．２モル％であった。
更にメチルイソブチルケトンに溶解しメタノールを添加して、再結晶、濾過する同様の精製操作を２回行い、１２５℃で減圧乾燥することによって、純度９９．１％（高速液体クロマトグラフィー分析による）白色結晶の１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン１０．７ｇを得た。原料の１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタンに対する収率は６２．９モル％であった。
融点 ：１６０℃（示差走査熱量測定法による）
分子量：５９３（Ｍ＋Ｈ）+（液体クロマトグラフィー質量分析法）
1Ｈ−ＮＭＲ測定結果（４００ＭＨｚ、溶媒；DMSO-d6、内部標準：テトラ
メチルシラン）
更にメチルイソブチルケトンに溶解しメタノールを添加して、再結晶、濾過する同様の精製操作を２回行い、１２５℃で減圧乾燥することによって、純度９９．１％（高速液体クロマトグラフィー分析による）白色結晶の１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタン１０．７ｇを得た。原料の１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−フェニルフェニル）−１，１−ジフェニルメタンに対する収率は６２．９モル％であった。
融点 ：１６０℃（示差走査熱量測定法による）
分子量：５９３（Ｍ＋Ｈ）+（液体クロマトグラフィー質量分析法）
1Ｈ−ＮＭＲ測定結果（４００ＭＨｚ、溶媒；DMSO-d6、内部標準：テトラ
メチルシラン）
（物性測定比較）
以下の例におけるガラス転移温度及び飽和溶液中の化合物濃度は次の方法により測定した。
以下の例におけるガラス転移温度及び飽和溶液中の化合物濃度は次の方法により測定した。
＜ガラス転移温度測定方法＞
示差走査熱量計において、各化合物を融解した後冷却し、再度加熱することによってガラス転移点を測定した。この際、測定開始温度は３０℃、昇温速度は１０℃／分とした。
示差走査熱量計において、各化合物を融解した後冷却し、再度加熱することによってガラス転移点を測定した。この際、測定開始温度は３０℃、昇温速度は１０℃／分とした。
＜飽和溶液中の化合物濃度測定方法＞
試験管に溶剤を３ｇ入れ、測定温度において測定する化合物を添加して飽和溶液を作成した。この飽和溶液の上澄み液の濃度を液体クロマトグラフィーによる検量線で測定した。
試験管に溶剤を３ｇ入れ、測定温度において測定する化合物を添加して飽和溶液を作成した。この飽和溶液の上澄み液の濃度を液体クロマトグラフィーによる検量線で測定した。
（実施例１化合物物性測定）
実施例１の１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタンのガラス転移温度、融点、屈折率を測定し、表３にまとめた。
さらに、飽和溶液中の化合物濃度を測定し、表４にまとめた。
（比較例１）
純度９８．９％の１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１，１−ジフェニルメタン（ＢｉｓＰＤＰ−２ＥＯ）のガラス転移温度、融点、屈折率を測定し、表３にまとめた。
さらに、飽和溶液中の化合物濃度を測定し、表４にまとめた。
実施例１の１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−３−フェニルフェニル］−１，１−ジフェニルメタンのガラス転移温度、融点、屈折率を測定し、表３にまとめた。
さらに、飽和溶液中の化合物濃度を測定し、表４にまとめた。
（比較例１）
純度９８．９％の１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１，１−ジフェニルメタン（ＢｉｓＰＤＰ−２ＥＯ）のガラス転移温度、融点、屈折率を測定し、表３にまとめた。
さらに、飽和溶液中の化合物濃度を測定し、表４にまとめた。
（比較例２）
純度９８．９％の１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１−フェニルエタン（ＢｉｓＰＡＰ−２ＥＯ）のガラス転移温度、融点、屈折率を測定し、表３にまとめた。
さらに、飽和溶液中の化合物濃度を測定し、表４にまとめた。
純度９８．９％の１，１−ビス［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−１−フェニルエタン（ＢｉｓＰＡＰ−２ＥＯ）のガラス転移温度、融点、屈折率を測定し、表３にまとめた。
さらに、飽和溶液中の化合物濃度を測定し、表４にまとめた。
融点：示唆走査熱量測定法
屈折率：外挿法
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
上記の実施例及び比較例の結果によると、ヒドロキシエトキシ基が結合するフェニル基にさらにフェニル基が結合する本発明の化合物によれば、さらにフェニル基が結合しないＢｉｓＰＤＰ−２ＥＯよりも融点が低く、かつ溶媒への溶解度が高いことが理解できる。
この結果を考慮すると、ヒドロキシエトキシ基が結合するフェニル基にさらにフェニル基と共にアルキル基、アルコキシ基やハロゲン原子が結合したり、ヒドロキシエトキシ基のヒドロキシ基が結合するエチレン基に代えて炭素原子数３〜６のアルキレン基を採用しても、低融点や溶媒への溶解性に関して同程度の性質を備えることもわかる。
また、ビス（ヒドロキシエトキシフェニル）フェニルエタン骨格を持つＢｉｓＰＡＰ−２ＥＯは、低融点で溶剤溶解性に優れているが、本発明の化合物の方が、ガラス転移温度や屈折率が著しく優れている。
この結果を考慮すると、ヒドロキシエトキシ基が結合するフェニル基にさらにフェニル基と共にアルキル基、アルコキシ基やハロゲン原子が結合したり、ヒドロキシエトキシ基のヒドロキシ基が結合するエチレン基に代えて炭素原子数３〜６のアルキレン基を採用しても、低融点や溶媒への溶解性に関して同程度の性質を備えることもわかる。
また、ビス（ヒドロキシエトキシフェニル）フェニルエタン骨格を持つＢｉｓＰＡＰ−２ＥＯは、低融点で溶剤溶解性に優れているが、本発明の化合物の方が、ガラス転移温度や屈折率が著しく優れている。
Claims (1)
- 下記一般式（１）で表されるビス（ヒドロキシアルコキシフェニル）ジフェニルメタン類。
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