JP6819973B2 - 親水性金属表面処理剤 - Google Patents
親水性金属表面処理剤 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6819973B2 JP6819973B2 JP2019112183A JP2019112183A JP6819973B2 JP 6819973 B2 JP6819973 B2 JP 6819973B2 JP 2019112183 A JP2019112183 A JP 2019112183A JP 2019112183 A JP2019112183 A JP 2019112183A JP 6819973 B2 JP6819973 B2 JP 6819973B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal surface
- surface treatment
- treatment agent
- och
- hydrophilic metal
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 0 *[C@](OC1)OC[C@]1OCC(CO)O[C@]1CO[C@](*)OC1 Chemical compound *[C@](OC1)OC[C@]1OCC(CO)O[C@]1CO[C@](*)OC1 0.000 description 2
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C327/00—Thiocarboxylic acids
- C07C327/20—Esters of monothiocarboxylic acids
- C07C327/32—Esters of monothiocarboxylic acids having sulfur atoms of esterified thiocarboxyl groups bound to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by carboxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/12—Oxygen-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D317/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D317/08—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3
- C07D317/10—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings
- C07D317/14—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms having the hetero atoms in positions 1 and 3 not condensed with other rings with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
- C07D317/18—Radicals substituted by singly bound oxygen or sulfur atoms
- C07D317/20—Free hydroxyl or mercaptan
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C319/00—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides
- C07C319/02—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols
- C07C319/12—Preparation of thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides of thiols by reactions not involving the formation of mercapto groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C323/00—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups
- C07C323/10—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton
- C07C323/11—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton
- C07C323/12—Thiols, sulfides, hydropolysulfides or polysulfides substituted by halogen, oxygen or nitrogen atoms, or by sulfur atoms not being part of thio groups containing thio groups and singly-bound oxygen atoms bound to the same carbon skeleton having the sulfur atoms of the thio groups bound to acyclic carbon atoms of the carbon skeleton the carbon skeleton being acyclic and saturated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C327/00—Thiocarboxylic acids
- C07C327/20—Esters of monothiocarboxylic acids
- C07C327/22—Esters of monothiocarboxylic acids having carbon atoms of esterified thiocarboxyl groups bound to hydrogen atoms or to acyclic carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D319/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having two oxygen atoms as the only ring hetero atoms
- C07D319/04—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes
- C07D319/06—1,3-Dioxanes; Hydrogenated 1,3-dioxanes not condensed with other rings
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/18—Materials not provided for elsewhere for application to surfaces to minimize adherence of ice, mist or water thereto; Thawing or antifreeze materials for application to surfaces
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C22/00—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals
- C23C22/05—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions
- C23C22/60—Chemical surface treatment of metallic material by reaction of the surface with a reactive liquid, leaving reaction products of surface material in the coating, e.g. conversion coatings, passivation of metals using aqueous solutions using alkaline aqueous solutions with pH greater than 8
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C26/00—Coating not provided for in groups C23C2/00 - C23C24/00
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/16—Sulfur-containing compounds
Description
また、本発明者らは水溶性を向上させる構造を化合物に導入するための合成中間体として2種の分岐型グリセロール三量体を開発しているが、ジメチル分岐型グリセロール三量体は合成が難しく、無置換分岐型グリセロール三量体もその前駆体を不純物から分離することができないため効率的な合成が難しく且つ脱保護に比較的難しいという問題があった。
そこで本発明は、金属の表面に撥水性を付与して金属の腐食や変色を抑制できる親水性の金属表面処理剤、当該親水性金属表面処理剤を用いる金属表面の処理方法、および、当該親水性金属表面処理剤の有効成分である分岐型グリセロール誘導体の合成中間体化合物とその効率的な製造方法を提供することを課題とする。
以下、本発明を示す。
R1は炭素数10以上、30以下の炭化水素基を示し、
XはSまたはカルボニル基を示し、
Yはn+1価のリンカー基を示し、
nは1以上、5以下の整数を示す。]
上記[1]〜[6]のいずれかに記載の親水性金属表面処理剤により金属の表面を処理する工程を含むことを特徴とする方法。
グリセリンとアルデヒド化合物R2−CHOを反応させて下記式(III−1)〜(III−4)で表される化合物を含む混合物を得る工程、
上記混合物から、上記式(III−1)で表される化合物を蒸留により精製する工程、および、
上記式(III−1)で表される化合物とエピハロヒドリンを反応させることにより上記式(II)で表される保護分岐型グリセロール誘導体を得る工程を含むことを特徴とする方法。
なお、以下では「分岐型グリセロール」を「BGL」と略記する。
グリセリン(化合物1)(48g,0.521mol,1.0当量)とアセトアルデヒド(化合物2)(25.26g,0.573mol,1.1当量)とイオン交換樹脂(「Amberlyst(R) 17」Rohm and Haas社製)(0.3g)の混合物を0℃で撹拌した。最初の30分間では2層になるので撹拌すると白濁していたが、徐々に無色透明に変化した。最初のうちは放置するとアセトアルデヒドが蒸発してアルゴンガスを充填した風船が膨らむので0℃で撹拌した。しばらくして緩和な発熱反応が収まったら、40℃で12時間撹拌した。濾過によりイオン交換樹脂を除き、濾液を濃縮して、無色透明の4つの異性体3〜6の混合物(混合比−約1:1:1:1,沸点:172〜185℃/760mmHgの留分)を得た(混合物収量:44.10g,合計0.373mol,混合物収率:71.6%)。蒸留釜残渣の量は5.19gで、主にグリセリンが残留していた。
蒸留した異性体3〜6の混合物(44.10g,0.373mol)にイオン交換樹脂(「Amberlyst(R) 17」Rohm and Haas社製)(0.3g)を加え、減圧下(30mmHg)ゆっくりと流出させることにより、異性体3のみを得た(沸点:85〜88℃,収量:38.0g,0.369mol,純度:99%,上記混合物100%に対する収率:86%)。
FT−IR(neat):3477,2985,2862,1645,1447,1404,1340,1282,1244,1153,1089,983,854,806,752cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ4.73(q,J=5.2Hz,2H),4.21−4.15(m,4H),4.06(sext,J=4.8Hz,1H),3.83(d,J=12.0Hz,4H),3.70(dd,J=9.6,4.4Hz,2H),3.64(dd,J=10.0,4.4Hz,2H),3.28(quint,J=2.0Hz,2H),2.86(d,J=4.8Hz,1H),1.35 and 1.34(s,6H)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ99.20(CH×2),71.24(CH×2),69.73(CH),69.63(CH2×2),68.51(CH2×2),68.46(CH2×2),21.04(CH3×2)
HRMS(ESI−TOF): Calcd for C13H24NaO7 + [M+Na]+ requires 315.1420; found 315.1385
(1)高級直鎖チオールと無水コハク酸との反応
[13a]
FT−IR(KBr):3422,2926,2844,1719,1688,1612,1556,1506,1462,1412,1311,1217,1104cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ2.90−2.93(m,4H),2.71−2.75(m,2H),1.59(q,J=2.4Hz,2H),1.28(s,br,18H),0.91(t,J=7.2Hz,3H)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ197.79(C,S−C=O),178.00(C,CO2H),38.11(CH2),31.91(CH2),29.62(CH2×2),29.57(CH2),29.46(CH2×2),29.34(CH2),29.1(CH2×2),29.00(CH2),28.82(CH2),22.68(CH2),14.10(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C16H30O3SNa [M+Na]+ 325.1813, found 325.1837
[13b]
FT−IR(KBr):3359,2951,2920,2850,1713,1688,1462,1412,1305,1217,1079,1003,897,715cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ2.92(t,J=7.6Hz,4H),2.73(t,J=6.8Hz,2H),1.59(q,J=7.2Hz,2H),1.28(s,br,22H),0.90(t,J=6.8Hz,3H)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ197.79(C,S−C=O),177.64(C,CO2H),38.13(CH2),31.92(CH2),29.67(CH2),29.66(CH2),29.64(CH2),29.57(CH2),29.47(CH2×2),29.35(CH2),29.10(CH2),29.01(CH2),28.96(CH2),28.90(CH2),28.82(CH2),22.69(CH2),14.11(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C18H35O3S [M+H]+ 331.2307, found 331.2325
[13c]
FT−IR(KBr):3422,2954,2919,2850,1714,1693,1633,1608,1458,1408,1320,1227,1087,1001cm-1
1H NMR(CDCl3,400 MHz)δ2.90−2.94(m,4H),2.73(t,J=7.2Hz,2H),1.59(q,J=7.2Hz,2H),1.28(s,br,26H),0.91(t,J=7.2Hz,3H)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ197.79(C,S−C=O),177.74(C,CO2H),38.12(CH2),31.92(CH2),29.69(CH2×2),29.65(CH2),29.63(CH2),29.57(CH2),29.47(CH2×2),29.36(CH2),29.10(CH2),29.01(CH2),28.97(CH2×2),28.91(CH2),28.83(CH2),22.69(CH2),14.11(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C20H38O3S [M]+ 358.2542, found 358.2505
[13d]
FT−IR(neat):3417,2921,2850,2360,2341,1716,1693,1635,1462,1411,1321,1222,1087,1004cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ4.78(brs,1H,CO2H),2.889(t,J=7.5Hz,2H,CH2−S−C=O),2.886(t,J=7Hz,2H,S−C=O−CH2),2.70(t,J=7Hz,2H,CH2CO2H),1.56(quint,J=7.5Hz,SCH2CH2CH2),1.38−1.25(m,30H,alkylic CH2),0.88(t,J=7Hz,3H,CH3)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ197.9(C,S−C=O),176.1(C,CO2H),38.2(CH2),31.9(CH2),29.68(CH2×5),29.65(CH2×2),29.59(CH2),29.49(CH2×2),29.37(CH2),29.1(CH2),29.0(CH2),28.8(CH2×2),22.7(CH2),14.1(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C22H42O3SNa [M+Na]+ 409.2752, found 409.2766
[13e]
FT−IR(KBr):3406,2961,2920,2842,1721,1693,1462,1420,1320,1227,1086,1000,901,788,731,650cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ2.93−2.90(m,4H,CH2S and SCOCH2),2.73(t,J=7.2Hz,2H,CH2CO2H),1.59(quint,J=7.6Hz,SCH2CH2CH2),1.38−1.28(m,34H,alkylic,CH2),0.91(t,J=7.2Hz,3H,CH3)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ197.84(C,S−C=O),176.63(C,CO2H),38.15(CH2),31.92(CH2),29.70(CH2×6),29.67(CH2×2),29.64(CH2),29.58(CH2),29.47(CH2×2),29.36(CH2),29.10(CH2×2),29.01(CH2),28.83(CH2×2),22.69(CH2),14.11(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C24H47O3S[M+H]+ 415.3246, found 415.3245
[13f]
FT−IR(KBr):3406,2954,2917,2848,1714,1689,1646,1621,1465,1445,1408,1320,1220,1087,1001,901,788,725cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ2.92(t,J=7.2Hz,4H),2.72−2.75(m,2H),1.59(q,J=6.8Hz,2H),1.28(m,38H),0.91(t,J=7.2Hz,3H)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ197.84(C,S−C=O),176.63(C,CO2H),38.17(CH2),31.93(CH2),29.70(CH2×8),29.66(CH2×2),29.58(CH2),29.47(CH2×2),29.36(CH2×2),29.10(CH2×2),29.02(CH2),28.83(CH2),28.67(CH2),22.69(CH2),14.11(CH3)
HRMS (ESI−TOF) m/z calcd for C26H50O3S [M]+ 442.3481, found 442.3495
[14a]
FT−IR(neat):2995,2925,855,1740,1692,1461,1372,1251,1227,1199,1155,1086,985cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ5.08(q,J=5.2Hz,1H),3.95−4.00(m,4H),3.63−3.77(m,8H),3.44−3.50(m,2H),2.90(t,J=7.6Hz,4H),2.69(t,J=7.2Hz,2H),1.58(q,J=7.2Hz,2H),1.45(s,6H),1.42(s,6H),1.28(m,22H),0.90(t,J=6.8Hz,3H)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ197.70(C,S−C=O),171.41(C,CO2),98.18(C×2,C(CH3)2),71.95(CH,OCH(CH2)2),70.98(CH×2,OCH(CH2)2),67.04(CH2×2,OCH(CH2)2),62.49(CH2×2,OCH(CH2)2),62.37(CH×2),38.39(CH2),31.88(CH2),29.61(CH2),29.59(CH2),29.54(CH2),29.48(CH2),29.46(CH2),29.30(CH2),29.09(CH2×2),28.94(CH2),28.83(CH2),24.22 and 22.92(CH3×4,C(CH3)2),22.65(CH2),14.09(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C31H56O9S [M]+ 604.3645,found 604.3652
[14b]
FT−IR(neat):2991,2922,2852,1737,1686,1459,1364,1252,1226,1195,1150,1088,980,936,828,728cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ5.08(q,J=4.8Hz,1H),3.95−4.00(m,4H),3.63−3.77(m,8H),3.45−3.50(m,2H),2.90(t,J=7.6Hz,4H),2.69(t,J=6.8Hz,2H),1.58(q,J=7.2Hz,2H),1.45(s,6H),1.42(s,6H),1.28(m,22H),0.90(t,J=6.8Hz,3H)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ197.67(C,S−C=O),171.40(C,CO2),98.17(C×2,C(CH3)2),71.96(CH,OCH(CH2)2),71.00(CH×2,OCH(CH2)2),67.05(CH2×2,OCH(CH2)2),62.49(CH2×2,OCH(CH2)2),62.37(CH2×2,OCH(CH2)2),38.39(CH2),31.89(CH2),29.61(CH2×3),29.54(CH2),29.47(CH2),29.46(CH2),29.30(CH2×2),29.09(CH2×2),28.94(CH2),28.82(CH2),24.25 and 22.90(CH3×4,C(CH3)2),22.65(CH2),14.08(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C33H60O9S [M]+ 632.3958, found 632.3929
[14c]
FT−IR(neat):2995,2926,2850,1744,1688,1462,1367,1248,1223,1192,1154,1092,978,940cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ5.07(quint,J=5Hz,1H,OCH(CH2)2),3.98−3.94(m,4H,CHCH2O),3.75−3.71(m,4H,CHCH2O),3.69−3.62(m,4H,CHCH2O),3.48−3.44(m,2H,OCH(CH2)2),2.90−2.87(m,4H,SCOCH2 and CH2SCO),2.68(t,J=7Hz,2H,CH2CO2),1.57(quint,J=7Hz,2H,CH2CH2S),1.44 and 1.41(s,12H,CCH3),1.36−1.22(m,26H,alkylic CH2),0.89(t,J=7Hz,3H,CH3)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ197.72(C,S−C=O),171.43(C,CO2),98.20(C×2,C(CH3)2),71.96(CH,OCH(CH2)2),70.99(CH×2,OCH(CH2)2),67.06(CH2×2,OCH(CH2)2),62.51(CH2×2,OCH(CH2)2),62.39(CH2×2,OCH(CH2)2),38.40(CH2),31.91(CH2),29.67(CH2×3),29.65(CH2),29.63(CH2),29.57(CH2),29.48(CH2×2),29.34(CH2),29.30(CH2),29.11(CH2),28.96(CH2×2),28.85(CH2),24.25 and 22.92(CH3×4,C(CH3)2),22.68(CH2),14.10(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C35H64O9SNa [M+Na]+ 683.4169, found 683.4177
[14d]
FT−IR(neat):2918,2850,2360,2341,1737,1692,1469,1372,1251,1200,1086,985,938,830,721cm-1
1H NMR (CDCl3,500MHz)δ5.06(quint,J=5Hz,1H,OCH(CH2)2),3.96(dd,J=4,11.5Hz,2H,CHCH2O),3.95(dd,J=3.5,11.5Hz,2H,CHCH2O),3.729(dd,J=6,11.5Hz,2H,CHCH2O),3.723(dd,J=6,11.5Hz,2H,CHCH2O),3.67(dd,J=5,11.5Hz,2H,CHCH2O),3.63(dd,J=5,11.5Hz,2H,CHCH2O),3.47−3.43(m,2H,OCH(CH2)2),2.881(t,J=7Hz,2H,SCOCH2),2.876(t,J=7.5Hz,2H,CH2SCO),2.67(t,J=7Hz,2H,CH2CO2),1.55(quint,J=7.5Hz,2H,CH2CH2S),1.43 and 1.40(s,12H,CCH3×4),1.38−1.25(m,30H,alkylic CH2),0.88(t,J=7Hz,3H,CH3C17H34S)
13C NMR (CDCl3,125MHz)δ197.8(C,−S−C=O),171.5(C,CO2),98.2(C×2,C(CH3)2),72.0(CH,OCH(CH2)2),71.0(CH×2,OCH(CH2)2),67.1(CH2×2,OCH(CH2)2),62.5(CH2×2,OCH(CH2)2),62.4(CH2×2,OCH(CH2)2),38.4(CH2),32.0(CH2),29.72(CH2×5),29.70(CH2×2),29.64(CH2),29.5(CH2×2),29.4(CH2),29.3(CH2),29.2(CH2),29.0(CH2×2),24.3 and 23.0(CH3×4,C(CH)2),22.7(CH2),14.2(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C37H68O9SNa [M+Na]+ 711.4482, found 711.4492
[14e]
FT−IR(neat):2991,2922,2852,1737,1686,1459,1371,1245,1195,1156,1088,980,936,828,753cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ5.08(quint,J=5.2Hz,1H,OCH(CH2)2),3.99−3.95(m,4H,CHCH2O),3.76−3.72(m,4H,CHCH2O),3.71−3.63(m,4H,CHCH2O),3.50−3.44(m,2H,OCH(CH2)2),2.90(t,J=7.6Hz,4H,SCOCH2 and CH2SCO),2.69(t,J=6.8Hz,2H,CH2CO2),1.58(quint,J=6.8Hz,2H,CH2CH2S),1.45 and 1.42(s,12H,CCH3×4),1.38−1.28(m,34H,alkylic CH2×17),0.90(t,J=7.2Hz,3H,CH3)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ197.67(C,S−C=O),171.41(C,CO2H),98.17(C×2,C(CH3)2),71.95(CH,OCH(CH2)2),70.98(CH×2,OCH(CH2)2),67.04(CH2×2,OCH(CH2)2),62.49(CH2×2,OCH(CH2)2),62.37(CH2×2,OCH(CH2)2),38.39(CH2),31.90(CH2),29.67(CH2×7),29.63(CH2×2),29.56(CH2),29.48(CH2×2),29.34(CH2),29.29(CH2),29.10(CH2),28.94(CH2×2),28.84(CH2),24.23 and 22.92(CH3×4,C(CH3)2),22.67(CH2),14.10(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C39H72O9S [M]+ 716.4897, found 716.4899
[14f]
FT−IR(neat):2991,2922,2859,1737,1686,1466,1377,1245,1195,1150,1093,1037,980,936,828,753,728cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ5.05(quint,J=5Hz,1H,OCH(CH2)2),3.96−3.92(m,4H,CHCH2O),3.73−3.69(m,4H,CHCH2O),3.68−3.61(m,4H,CHCH2O),3.46−3.42(m,2H,OCH(CH2)2),2.88−2.85(m,4H,SCOCH2 and CH2SCO),2.66(t,J=7Hz,2H,CH2CO2),1.55(quint,J=7Hz,2H,CH2CH2S),1.42 and 1.38(s,12H,CCH3),1.35−1.18(m,38H,alkylic CH2),0.87(t,J=7Hz,3H,CH3)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ197.65(C,S−C=O),171.39(C,CO2),98.15(C×2,C(CH3)2),71.95(CH,OCH(CH2)2),70.98(CH×2,OCH(CH2)2),67.04(CH2×2,OCH(CH2)2),62.48(CH2×2,OCH(CH2)2),62.36(CH2×2,OCH(CH2)2),38.38(CH2),31.90(CH2),29.67(CH2×8),29.64(CH2),29.62(CH2×2),29.56(CH2),29.49(CH2),29.47(CH2),29.33(CH2×2),29.28(CH2),29.10(CH2),28.93(CH2),28.83(CH2),24.23 and 22.90(CH3×4,C(CH3)2),22.66(CH2),14.08(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C41H77O9S [M+H]+ 745.5288,found 745.5281
[15a]
FT−IR(neat):3401,3010,2928,2852,1737,1680,1459,1409,1377,1220,1170,1119,1068,1043,986cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ5.13(q,J=5.2Hz,1H),3.81(ddd,J=5.6Hz,4H),3.58−3.68(m,8H),3.45(q,J=5.2Hz,2H),2.90−2.94(m,4H),2.69(t,J=5.6Hz,2H),1.59(q,J=7.2Hz,2H),1.32(s,br,22H),0.92(t,J=6.8Hz,3H)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ198.35(C,S−C=O),172.06(C,CO2),81.79(CH×2,OCH(CH2)2),72.67(CH,OCH(CH2)2),68.26(CH2×2,OCH(CH2)2),61.11(CH2×2,OCH(CH2)2),61.07(CH2×2,OCH(CH2)2),37.95(CH2),31.67(CH2),29.38(CH2),29.36(CH2),29.29(CH2),29.22(CH2×2),29.07(CH2),28.86(CH2),28.83(CH2),28.43(CH2),28.27(CH2),22.34(CH2),13.06(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C25H48O9S [M]+ 524.3019, found 524.3051
[15b]
FT−IR(neat):3411,2974,2923,2859,1738,1686,1465,1408,1211,1174,1122,1072,755cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ5.12(q,J=5.2Hz,1H),3.81(ddd,J=5.6Hz,4H),3.57−3.68(m,8H),3.45(q,J=5.2Hz,2H),2.89−2.94(m,4H),2.69(t,J=6.8Hz,2H),1.58(q,J=7.2Hz,2H),1.31(s,br,22H),0.92(t,J=6.8Hz,3H)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ198.30(C,S−C=O),172.03(C,CO2),81.79(CH×2,OCH(CH2)),72.67(CH,OCH(CH2)2),68.26(CH2×2,OCH(CH2)2),61.13(CH2×2,OCH(CH2)2),61.09(CH2×2,OCH(CH2)2),37.97(CH2),31.69(CH2),29.44(CH2),29.41(CH2),29.39(CH2×2),29.32(CH2),29.25(CH2),29.10(CH2),28.86(CH2),28.61(CH2),28.47(CH2),28.45(CH2),28.29(CH2),22.36(CH2),13.11(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C27H53O9S [M+H]+ 553.3410, found 553.3438
[15c]
FT−IR(neat):3401,2960,2922,2852,1737,1692,1466,1409,1339,1207,1131,1088,1062cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ5.13(q,J=5Hz,1H),3.81(ddd,J=5.5Hz,4H),3.67−3.58(m,8H),3.45(q,J=5Hz,2H),2.94−2.90(m,4H),2.70(t,J=7Hz,2H),1.59(q,J=7.5Hz,2H),1.40−1.31(m,26H),0.92(t,J=7Hz,3H)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ198.20(C,S−C=O),172.01(C,CO2),81.78(CH×2,OCH(CH2)2),72.66(CH,OCH(CH2)2),68.26(CH2×2,OCH(CH2)2),61.15(CH2×2,OCH(CH2)2),61.11(CH2×2,OCH(CH2)2),38.02(CH2),31.75(CH2),29.49(CH2×3),29.45(CH2×2),29.43(CH2),29.40(CH2),29.32(CH2),29.17(CH2),28.93(CH2),28.88(CH2×2),28.56(CH2),28.35(CH2),22.42(CH2),13.22(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C29H57O9S [M+H]+ 581.3723, found 581.3704
[15d]
FT−IR (KBr):3403,2918,2850,2360,2342,1734,1686,1468,1127,1073,474,448,421,411cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ5.14(quint,J=5Hz,1H,OCH(CH2)2),3.87−3.82(m,4H,CHCH2O),3.79−3.73(m,4H,CHCH2O),3.71−3.64(m,4H,CHCH2O),3.67(dd,J=5.0,11.5Hz,2H,CHCH2O),3.63(dd,J=5,11.5Hz,2H,CHCH2O),3.55−3.51(m,2H,OCH(CH2)2),2.99(brs,2H,CH2OH),2.98(t,J=6.5Hz,2H,SCOCH2),2.88(t,J=7.5Hz,2H,CH2SCO),2.93−2.86(brs(hidden),2H,CH2OH),2.67(t,J=7Hz,2H,CH2CO2),1.56(quint,J=8Hz,2H,CH2CH2S),1.34−1.20(m,30H,alkylic CH2),0.88(t,J=7Hz,3H,CH3C17H34S)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ198.6(C,S−C=O),171.8(C,CO2),81.2(CH×2,OCH(CH2)2),72.0(CH,OCH(CH2)2),68.1(CH2×2,OCH(CH2)2),62.4(CH2×2,OCH(CH2)2),62.2(CH2×2,OCH(CH2)2),38.4(CH2),32.0(CH2),29.76(CH2×5),29.71(CH2×3),29.65(CH2),29.55(CH2),29.44(CH2),29.42(CH2),29.3(CH2),29.2(CH2),28.9(CH2),22.8(CH2),14.2(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C31H60O9SNa [M+Na]+ 631.3856, found 631.3913
[15e]
FT−IR(neat):3403,3020,2920,2857,1739,1688,1462,1417,1380,1210,1122,1066,777,745,664cm-1
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ5.17(quint,J=5.2Hz,1H,OCH(CH2)2),3.87(d,J=4.8Hz,4H,CHCH2O),3.83−3.76(m,4H,CHCH2O),3.73−3.67(m,4H,CHCH2O),3.58−3.53(m,2H,OCH(CH2)2),2.95−2.89(m,4H,SCOCH2 and CH2SCO),2.71−2.67(m,2H,CH2CO2),1.58(quint,J=7Hz,2H,CH2CH2S),1.38−1.28(m,34H,alkylic CH2),0.90(t,J=7Hz,3H,CH3)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ198.45(C,S−C=O),171.82(C,CO2),81.28(CH×2,OCH(CH2)2),72.10(CH,OCH(CH2)2),68.04(CH2×2,OCH(CH2)2),62.07(CH2×2,OCH(CH2)2),61.95(CH2×2,OCH(CH2)2),38.35(CH2),31.91(CH2),29.69(CH2×7),29.65(CH2×2),29.60(CH2),29.51(CH2),29.40(CH2),29.53(CH2),29.26(CH2×2),29.14(CH2),29.04(CH2),28.86(CH2),22.68(CH2),14.11(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C33H64O9S [M]+ 636.4271, found 636.4233
[15f]
FT−IR(neat):3408,3016,2916,2846,1737,1692,1471,1409,1377,1213,1131,1068,974,760cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ5.14(quint,J=5Hz,1H,OCH(CH2)2),3.89−3.83(m,4H,CHCH2O),3.81−3.76(m,4H,CHCH2O),3.72−3.67(m,4H,CHCH2O),3.56−3.53(m,2H,OCH(CH2)2),3.29−2.73(brs(hidden),4H,CH2OH),2.95−2.89(m,4H,SCOCH2 and CH2SCO),2.69(t,J=7.5Hz,2H,CH2CO2),1.58(quint,J=7Hz,2H,CH2CH2S),1.38−1.24(m,38H,alkylic CH2),0.90(t,J=7Hz,3H,CH3)
13C NMR(CDCl3,125MHz)δ198.49(C,COS),171.71(C,CO2),81.23(CH×2,OCH(CH2)2),71.98(CH,OCH(CH2)2),68.12(CH2×2,OCH(CH2)2),62.37(CH2×2,OCH(CH2)2),62.21(CH2×2,OCH(CH2)2),38.35(CH2),31.92(CH2),29.70(CH2×5),29.65(CH2×3),29.59(CH2×2),29.50(CH2),29.40(CH2),29.35(CH2×2),29.27(CH2×2),29.13(CH2),29.06(CH2×2),28.85(CH2),22.69(CH2),14.11(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C35H69O9S [M+H]+ 665.4662, found 665.4633
(1)ジブロモ化合物の合成
FT−IR(neat):3032,2936,2882,1607,1497,1454,1426,1367,1206,1141,1081,1017,911,846,828,736,698,627,569cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz):δ7.36−7.33(m,5H,aromatic),5.19(s,2H,Ph−CH2−O),4.18(s,2H,C−CH2−Br),4.15(s,2H,C−CH2−Br)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ151,6(C,C=N),136.9(C,aromatic),128.6(CH×2,aromatic),128.3(CH,aromatic),128.2(CH×2,aromatic),77.0(CH2,Ph−CH2−O),29.7(CH2,C−CH2−Br),18.6(CH2,C−CH2−Br)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C10H11NOBr2Na [M+Na]+ 341.9105 found 341.9121
FT−IR(neat):2992,2873,2306,2247,1455,1372,1251,1288,1199,1094,1043,937,830,733,700cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ7.37−7.30(m,5H,aromatic),5.09(s,2H,Ph−CH2−ON),4.47(s,2H,C−CH2−O),4.25(s,2H,C−CH2−O),3.95−3.90(m,8H,CH−CH2−O)3.72−3.67(m,8H,CH−CH2−O),3.64−3.60(m,2H,O−CH−CH2),3.58−3.50(m,8H,CH−CH2−O),3.44−3.39(m,4H,O−CH−CH2),1.42,1.41 and 1.39(s,24H,C−CH3)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ156.6(C,C=N),137.5(C,aromatic),128.4(CH×2,aromatic),128.2(CH×2,aromatic),128.0(CH,aromatic),98.2(C×4,O−C−O),78.6(CH,O−CH−CH2),77.3(CH,O−CH−CH2),76.3(CH2,Ph−CH2−O),71.01(CH×2,O−CH(−CH2)2),70.98(CH×2,O−CH(CH2)2),68.4(CH2,C−CH2−O),68.3(CH2,C−CH2−O),67.7(CH2×2,CH−CH2−O),62.7(CH2×2,CH−CH2−O),62.60(CH2×2,CH−CH2−O),62.58(CH2×2,CH−CH2−O),62.55(CH2×2,CH−CH2−O),62.53(CH2×2,CH−CH2−O),24.7(CH3×2,C−CH3),24.5(CH3×2,C−CH3),22.8(CH3×2,C−CH3),22.6(CH3×2,C−CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C40H65NO15Na [M+Na]+ 822.4260 found 822.4252
FT−IR(neat):2992,2873,2306,2247,1455,1372,1251,1288,1199,1094,1043,937,830,733,700cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz):δ7.37−7.30(m,5H,aromatic),5.09(s,2H,Ph−CH2−ON),4.47(s,2H,C−CH2−O),4.25(s,2H,C−CH2−O),3.95−3.90(m,8H,CH−CH2−O),3.72−3.67(m,8H,CH−CH2−O),3.64−3.60(m,2H,O−CH−CH2),3.58−3.50(m,8H,CH−CH2−O),3.44−3.39(m,4H,O−CH−CH2),1.42,1.41 and 1.39(s,24H,C−CH3)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ156.6(C,C=N),137.5(C,aromatic),128.4(CH×2,aromatic),128.2(CH×2,aromatic),128.0(CH,aromatic),98.2(C×4,O−C−O),78.6(CH,O−CH−CH2),77.3(CH,O−CH−CH2),76.3(CH2,Ph−CH2−O),71.01(CH×2,O−CH(CH2)2),70.98(CH×2,O−CH(CH2)2),68.4(CH2,C−CH2−O),68.3(CH2,C−CH2−O),67.7(CH2×2,CH−CH2−O),62.7(CH2×2,CH−CH2−O),62.60(CH2×2,CH−CH2−O),62.58(CH2×2,CH−CH2−O),62.55(CH2×2,CH−CH2−O),62.53(CH2×2,CH−CH2−O),24.7(CH3×2,C−CH3),24.5(CH3×2,C−CH3),22.8(CH3×2,C−CH3),22.6(CH3×2,C−CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C40H65NO15Na [M+Na]+ 822.4260 found 822.4252
FT−IR(neat):3336,2925,2854,1679,1533,1467,1372,1251,1228,1199,1096,985,940,831,732cm-1
1H NMR(CDCl3,500MHz)δ4.13(quint,J=3.5Hz,1H,NCH(CH2)2),3.98−3.93(m,6H,4H of CHCH2O and 2H of CHCH2O),3.76−3.70(m,8H,CHCH2O),3.62−3.50(m,12H,CHCH2O),3.43−3.40(m,4H,OCH(CH2)2),2.89(t,J=7Hz,2H,CH2CO),2.86(t,J=7.5Hz,2H,CH2SCO),2.54(t,J=7Hz,2H,CH2CO),1.55(quint,J=7.5Hz,2H,CH2CH2S),1.42,1.41 and 1.40(s,24H,CCH3),1.35−1.25(m,30H,alkylic CH2),0.88(t,J=7Hz,3H,CH3C17H34S)
13C NMR(CDCl3,125MHz):δ198.5(C,S−C=O),170.9(C,CONH),98.24 and 98.22(C×4,C(CH3)2),78.8(CH×2,OCH(CH2)2),71.2(CH×2,OCH(CH2)2),71.1(CH×2,OCH(CH2)2),68.9,68.7,62.6,62.41,62.36(CH2×14,CH(CH2)2),49.5(CH,NCH(CH2)2),39.1(CH2),31.9(CH2),30.9(CH2),29.71(CH2×5),29.70(CH2),29.64(CH2×2),29.6(CH2),29.5(CH2×2),29.4(CH2),29.2(CH2),28.9(CH2×2),24.0,23.7,23.6and 23.0(CH3×8,C(CH3)2),22.7(CH2),14.1(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C55H101NO16SNa [M+Na]+ 1086.6739, found 1086.6738
FT−IR(KBr):3735,3649,3417,2919,2850,2360,234,1653,1558,1541,1457,1121,1074,668cm-1
1H NMR(CD3OD,500MHz)δ4.11(quint,J=5Hz,1H,NCH(CH2)2),3.79−3.67(m,30H,28H of CHCH2O and 2H of OCH(CH2)2),3.43(quint,J=5Hz,4H,OCH(CH2)2),2.88(t,J=7Hz,2H,SCOCH2),2.87(t,J=7Hz,2H,CH2SCO),2.55(t,J=7Hz,2H,CH2CONH),1.56(quint,J=7.5Hz,2H,CH2CH2S),1.40−1.29(m,30H,alkylic CH2),0.90(t,J=7Hz,3H,CH3C17H34S)
13C NMR(CD3OD,125MHz)δ199.8(C,S−C=O),173.9(C,CO2),83.2(CH×4,OCH(CH2)2),83.1(CH×2,OCH(CH2)2),80.4(CH,NCH(CH2)2),70.8(CH2×2,NCH(CH2)2),69.9(CH2×4,OCH(CH2)2),62.6(CH2×4,OCH(CH2)2),62.5(CH2×4,OCH(CH2)2),40.0(CH2),33.1(CH2),31.8(CH2),30.78(CH2×2),30.77(CH2×5),30.75(CH2×2),30.70(CH2),30.6(CH2),30.5(CH2),30.3(CH2),29.9(CH2),29.7(CH2),23.7(CH2),14.4(CH3)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C43H85O16SNa[M+Na]+ 926.5487, found 926.5487
BGL三量体8(2.92g,10mmol)とN,N−ジメチル−4−アミノピリジン(122mg,1mmol,0.1eq)のピリジン溶液(20mL,19.74mg,24.9mmol)を0℃で攪拌した。得られた溶液に、アルゴン雰囲気下、2分間かけて塩化パラトルエンスルホニル(4.19g,22mmol,2.2eq)を加え、その後室温で7時間反応させた。得られた液状混合物を5%硫酸銅水溶液(40mL)に加え、酢酸エチル(60mL)で3回抽出した。得られた抽出液を重曹水(40mL)で3回洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮することにより、薄黄色オイル状の目的化合物22を得た(収量:4.07g,0.91mmol,収率:91%)。化合物22はそれ以上精製せず、次の反応に用いた。
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ7.83(d,J=8.0Hz,2H),7.33(d,J=8.0Hz,2H),4.74(quin,J=4.9Hz,1H),4.67(q,J=4.8Hz,2H),4.10−3.99(m,4H),3.82−3.71(m,8H),3.24(t,J=1.4Hz,2H,methyne × 2),2.44(s,3H),1.31(d,J=4.8Hz,6H)
13C NMR(CDCl3,400MHz)δ145.12(C),133.97(C),130.12(CH×2),128.36(CH×2),99.45(CH×2),80.09(CH),71.84(CH×2),69.03(CH2×2),68.27(CH2×2),67.19(CH2×2),21.99(CH3),21.36(CH3×2)
化合物22(41.55g,93.05mmol)とチオ酢酸カリウム(15.94g,139.57mmol)のアセトニトリル溶液(186mL,146.01g,3.55mol)をアルゴン雰囲気下、80℃で8時間撹拌した。得られた橙色の濁りを含む液状混合物を濾過し、酢酸エチルで洗浄後、得られた赤色混合溶液を濃縮し、ショートカラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル)に付し、赤色オイル状の化合物(31.5g)を得た。その後、更にカラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル/ヘキサン=3/1)を行い、赤色オイル状の目的化合物23を得た(収量:25.4g,72.48mmol,収率:78%)。
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ4.70(q,J=5.1Hz,2H),4.20−4.10(m,4H),3.98−3.90(m,1H),3.85−3.78(m,6H),3.71(dd,J=10.0 and 6.8Hz,2H),3.27(t,J=1.6Hz,2H),2.33(s,3H),1.33(d,J=5.1Hz,6H)
化合物23(12.0g,34.2mmol)と炭酸カリウム(4.72g,34.2mmol)のメタノール溶液(68mL,54g,1.68mol)をアルゴン雰囲気下、室温で4時間撹拌した。液状混合物を濾過した後に濃縮し、赤色オイル状化合物(8g)を得た。これをショートカラムクロマトグラフィー(溶離液:酢酸エチル)に付し、目的化合物24を得た(収量;5.9g,19.1mmol,収率:55%)。
1H NMR(CDCl3,400MHz)δ4.73(q,J=5.2Hz,2H),4.17(dd,J=12.8 and 1.2Hz,4H),3.88−3.77(m,6H),3.64(dd,J=9.2 and 6.4Hz,2H),3.25(t,J=1.4Hz,2H),3.22−3.13(m,1H),2.10(d,J=9.6Hz,1H),1.33(d,J=5.2Hz,6H)
13C NMR (CDCl3,500MHz)δ99.42(CH×2),77.36(CH×2),70.24(CH2×2),68.96(CH2×2),68.57(CH2×2),39.72(CH),21.39(CH3×2)
化合物24(172mg,0.55mmol)とイオン交換樹脂(「Amberlyst(R)」Rohm and Haas社製)(6mg)の水溶液(1.1mL)をアルゴン雰囲気下、100℃で4時間撹拌した。得られた混合物をフィルターに通した後2−プロパノールを加え、濃縮し、黄色のオイル状である化合物25を得た(収量:139mg,0.54mmol,収率:99%)。得られた化合物25は、ジスルフィド結合やチオエステル結合などを介して長鎖アルキル化合物を結合させることにより、親水性金属表面処理剤として用いることができる。
FT−IR(neat):3370,2932,2878,1652,1465,1407,1347,1120,1050,974,904,851cm-1
1H NMR(CD3OD,500MHz):δ3.88−3.87(m,4H,CHCH2O),3.67−3.55(m,8H,CHCH2O),3.44(quint,J=5Hz,2H,OCH(CH2)2),3.23(quint,J=6Hz,1H,SCH(CH2)2)
13C NMR(CD3OD,125MHz)δ83.0(CH×2,CHCH2O),70.5(CH2×2,CHCH2O),62.65(CH2×2,CHCH2O),62.58(CH2×2,CHCH2O),40.8(CH,SCHCH2)
HRMS(ESI−TOF) m/z calcd for C9H20O6SNa [M+Na]+ 279.0878 found 279.0882
上記残渣(理論上1.0mmol)のアセトニトリル溶液(20mL)にチオ酢酸カリウム(15.94g,139.57mmol)を加え、80℃で15時間撹拌した。得られた懸濁混合物を濾過し、残渣を酢酸エチルで洗浄後、濾液と洗浄液を合わせて濃縮し、ショートカラム(溶離液:酢酸エチル)を行い、オイル状の残渣を得た。この残渣はそれ以上精製せず、次の反応に用いた。
上記残渣(理論上1.0mmol)のメタノール溶液(30mL)に炭酸カリウム(138.21mg,1.0mmol)を加え、得られた懸濁液を室温で4時間撹拌した。得られた懸濁液の固定物を濾過で取り除き、濾液を減圧濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー(溶離液:ヘキサン/酢酸エチル=3/1)に付し、化合物29を得た(収量:452.35mg,0.60mmol,収率:60%)。
化合物29のメタノール溶液(30mL)にイオン交換樹脂(「Amberlyst(R) 15」Rohm and Haas社製)(50mg)を加え、室温で20時間撹拌した。得られた懸濁液を濾過し、濾液を濃縮することにより、目的化合物30を得た(収量:314.99mg,0.57mmol,収率:95%)。得られた化合物30は、ジスルフィド結合やチオエステル結合などを介して長鎖アルキル化合物を結合させることにより、親水性金属表面処理剤として用いることができる。
実施例3で製造した親水性金属表面処理剤(化合物21)(MW608.86,0.32g)を超純水(50.09g)に投入し、水温を60℃に加温し、撹拌した。撹拌初期は粒子状の親水性金属表面処理剤が撹拌溶液中に粒塊を形成したが、時間の経過とともに徐々に溶解が進み崩壊していき、3時間後には目視で確認できる溶け残りはなかった。
以上の通り、長鎖炭化水素基であるオクタデシル基(n−C18H37)を有する親水性金属表面処理剤であっても、10.32mMの濃度の水溶液を調製することができた。
特許文献3や特許文献4に記載の複素環式化合物を主成分とする従来の金属表面処理剤の場合、主成分が特定波長光に吸収性を示すことから、表面処理により金属表面における光の反射率が低下する。
それに対して、炭化水素を主成分とする本発明の親水性金属表面処理剤で処理された金属表面の反射率を確認した。
実施例6に示した通り、本発明の親水性金属表面処理剤は、界面活性剤や溶解補助剤などの添加物を加えなくても約10mMの濃度で水に溶解させることができる。しかしながら、親水性金属表面処理剤分子中の疎水性部位を効果的に金属表面に結合させるため、親水性金属表面処理剤水溶液にアルカリ剤を添加した水溶液を調製した。
トリエタノールアミン(10.0g)、ポリオキシエチレンラウリルアミン(40.0g)、および超純水(48.0g)の混合物を60℃に加温しながら撹拌し、均一な粘稠性の水溶液とした。その水溶液へ、実施例3で製造した親水性金属表面処理剤(化合物21)(2.0g)を投入し、撹拌して溶解させた。得られた水溶液(1.0g)を超純水(99.0g)に添加し、100倍に希釈することにより金属表面処理液を得た。
炭酸カリウム(1.38g)とポリオキシエチレンラウリルアミン(2.50g)を超純水(95.48g)へ60℃に加温しながら撹拌して溶解させた。得られた均一な水溶液へ実施例3で製造した親水性金属表面処理剤(化合物21)(0.64g)を投入し、60℃で撹拌して溶解させた。得られた水溶液(1.0g)を超純水(99.0g)に添加し、100倍に希釈することにより金属表面処理液を得た。
炭酸水素カリウム(1.00g)とポリオキシエチレンラウリルアミン(2.50g)を超純水(95.86g)へ60℃に加温しながら撹拌して溶解させた。得られた均一な水溶液へ実施例3で製造した親水性金属表面処理剤(化合物21)(0.64g)を投入し、60℃で撹拌して溶解させた。得られた水溶液(1.0g)を超純水(99.0g)に添加し、100倍に希釈することにより金属表面処理液を得た。
AuめっきまたはAgめっきを施した厚さ200μm×2cm×3cmの平板を、55℃に加温した各金属表面処理液(100mL)に3時間浸漬した。次いで、金属試料を各金属表面処理液から取り出し、超純水で洗浄した後に、ドライヤーを使って乾燥させた。
デジタルマイクロスコープ(「VHX−6000」キーエンス社製)を使って、上記処理前と処理後の金属試料の表面を10〜50倍に拡大して観察した。その結果、際立った外観の変化は観察されなかった。
また、紫外可視分光光度計(「U−3900」日立ハイテクサイエンス社製)を使って、上記処理前と処理後の金属試料の表面における可視光(波長:380〜780nm)の反射率を測定した。その結果、上記(1−1)〜(1−3)のいずれの処理金属試料の反射率曲線は、未処理金属試料の反射率曲線とほぼ変わらなかった。
金属の錆の原因の一つとして、金属表面に付着する水分が挙げられる。そこで、本発明に係る親水性金属表面処理剤による金属表面の撥水性の変化を評価するために、接触角を測定した。
AuめっきまたはAgめっきを施した厚さ200μm×2cm×3cmの平板を、55℃に加温した各金属表面処理液(100mL)に10秒間、30秒間、または6時間浸漬した。次いで、金属試料を各金属表面処理液から取り出し、超純水で洗浄した後に、ドライヤーを使って乾燥させた。
各処理金属試料および未処理金属試料の表面に1μLの超純水を滴下し、10秒間静置した。次いで、表面の水滴の接触角を接触角計(「Drop Master 300」協和界面科学社製)により測定した。結果を表1に示す。
本発明に係る親水性金属表面処理剤による耐食性向上効果を評価するために、硫化カリウム試験を実施した。
具体的には、Agめっきを施した厚さ200μm×2cm×3cmの平板を、55℃に加温した各金属表面処理液(100mL)に3時間浸漬した。次いで、金属試料を各金属表面処理液から取り出し、超純水で洗浄した後に、ドライヤーを使って乾燥させた。
表面処理したAgめっき板を5%硫化カリウム水溶液に2分間または15分間浸漬した。次いで、金属試料を硫化カリウム水溶液から取り出し、超純水で洗浄した後に、ドライヤーを使って乾燥させた。また、比較のために、未処理のAgめっき板も同様に処理した。結果を図1に示す。
図1に示された結果の通り、未処理のAgめっき板は、硫化カリウム水溶液に2分間浸漬した部分が茶色から赤紫色に変色し、15分間で更に変色した。それに対して本発明に係る親水性金属表面処理剤で処理されたAgめっき板には変色が認められず、Ag特有の光沢ある外観が維持されていた。この様に本発明に係る親水性金属表面処理剤は、硫化カリウムによる影響から金属を保護することができる。
本発明に係る親水性金属表面処理剤による耐食性向上効果を評価するために、硫化水素試験を実施した。
具体的には、Agめっきを施した厚さ200μm×2cm×3cmの平板を、55℃に加温した各金属表面処理液(100mL)に3時間浸漬した。次いで、金属試料を各金属表面処理液から取り出し、超純水で洗浄した後に、ドライヤーを使って乾燥させた。
定流量フロー形ガス腐食試験機(「GH−180」山崎精機研究所社製)を用い、上記処理済金属試料と未処理金属試料を硫化水素ガスに24時間または48時間暴露させた。当該試験器の試験槽内における硫化水素ガスの濃度を3ppm、槽内温度を40℃、槽内湿度を80%RHに調整した。また、比較のために、未処理のAgめっき板も同様に処理した。結果を図2に示す。
図2に示された結果の通り、未処理のAgめっき板は、硫化水素ガスに24〜48時間暴露した場合には群青色から青色に変色した。
それに対して本発明に係る親水性金属表面処理剤で処理されたAgめっき製板には、硫化水素ガスに24時間または48時間暴露したにもかかわらずAgめっき特有の色調が維持されており、本発明に係る親水性金属表面処理剤による耐食性向上効果を確認することができた。
本発明に係る親水性金属表面処理剤による耐食性向上効果を評価するために、塩水噴霧試験を実施した。
具体的には、AuめっきまたはAgめっきを施した厚さ200μm×2cm×3cmの平板を、55℃に加温した各金属表面処理液(100mL)に6時間浸漬した。次いで、金属試料を各金属表面処理液から取り出し、超純水で洗浄した後に、ドライヤーを使って乾燥させた。
塩水噴霧試験機(「STP−90V−2」スガ試験機社製)を用い、上記処理済金属試料と未処理金属試料に塩水を噴霧した。塩水濃度を5%、噴霧槽内温度を35℃、塩水噴霧量を1.5±0.5mL/80cm2/hourとし、Auめっき板に対する塩水噴霧時間を16時間、Agめっき板に対する塩水噴霧時間を48時間または72時間とした。また、比較のために、未処理のAuめっき板とAgめっき板も同様に処理した。Auめっき板の結果を図3に、Agめっき板の結果を図4に示す。
図3および図4に示された結果の通り、未処理のAuめっき板とAgめっき製板には、いずれにも表面に白い錆が発生した。
それに対して本発明に係る親水性金属表面処理剤で処理されたAuめっき板とAgめっき板には、塩水による腐食は全く発生せず、良好な外面が維持されている様子が観察された。
本発明に係る親水性金属表面処理剤による摺動性向上効果を評価するために、金属表面の摩擦係数を測定した。
具体的には、Auめっきを施した厚さ200μm×2cm×3cmの平板を、55℃に加温した各金属表面処理液(100mL)に6時間浸漬した。次いで、金属試料を各金属表面処理液から取り出し、超純水で洗浄した後に、ドライヤーを使って乾燥させた。
精密摺動試験装置(「CRS−G2050−CHD−A」山崎精機研究所社製)を用い、金属試料表面に計測用プローブを摺動させ、摩擦係数を計測した。試験条件は、荷重50gf、摺動速度0.33mm/sec、摺動距離0.5mm、測定電流1mA、プローブ径1.5mm、測定回数30回とした。また、比較のために、未処理のAuめっき板についても同様に計測した。結果を表2に示す。
エレクトロケミカルマイグレーションとは、電気回路上の電極間の絶縁性が電気的、化学的また熱などの要因により不良となり、電極金属がイオンとして溶出・還元されることで短絡を起こす現象である。本発明に係る親水性金属表面処理剤で表面処理されたAgめっき櫛形電極パターン基板の耐エレクトロケミカルマイグレーション(ECM)特性を評価するためECM試験を行い、印加電圧負荷時の絶縁抵抗値を計測した。
具体的には、Agめっきを施した厚さ200μm×2cm×3cmの平板を、55℃に加温した各金属表面処理液(100mL)に6時間浸漬した。次いで、金属試料を各金属表面処理液から取り出し、超純水で洗浄した後に、ドライヤーを使って乾燥させた。Agメッキ板上に、100μm幅、厚さ18μmの櫛形銅電極を100μm間隔で形成した(即ち、L/S=100μm)。櫛型電極上に厚さ3.0μmの下地Niメッキを施し、更に厚さ0.15μmの表層Auメッキを施した。
イオンマイグレーションテスター(「ECM−100」J−RAS社製)と恒温恒湿槽(ナガノサイエンス社製)を用いて評価基板に印加電圧を負荷し、印加中の絶縁抵抗値の変動を計測した。試験条件は、印加電圧DC20V、槽内温度85℃、槽内湿度85%RH、通電時間120時間とした。評価用基板として本発明に係る親水性金属表面処理剤で表面処理されたAgめっき櫛形パターン基板(最表面はAgめっき)を使用した。比較のために、未処理のAgめっき板についても同様に計測した。
その結果、未処理の基板においては、通電時間120時間の間に短絡(ECM)が発生し、絶縁抵抗値が1.0×106Ω以下まで低下した。それに対して、本発明に係る親水性金属表面処理剤で表面処理されたAgめっき板の基板では、通電時間内において絶縁抵抗値は初期絶縁抵抗値である1.0×1010Ω以上が維持されており、ECMの発生が抑制されていることが確認された。
Claims (11)
- 下記式(I)で表される分岐型グリセロール誘導体を有効成分として含有することを特徴とする親水性金属表面処理剤。
R1は炭素数10以上、30以下の炭化水素基を示し、
XはSまたはカルボニル基を示し、
Yはn+1価のリンカー基を示し、
nは1以上、5以下の整数を示す。] - 溶媒として水を含む請求項1に記載の親水性金属表面処理剤。
- 上記式(I)で表される分岐型グリセロール誘導体の濃度が0.005mM以上、5mM以下である請求項2に記載の親水性金属表面処理剤。
- 上記式(I)で表される分岐型グリセロール誘導体の濃度が0.001質量%以上、5質量%以下である請求項2に記載の親水性金属表面処理剤。
- 更にアルカリ剤を含む請求項1〜4のいずれかに記載の親水性金属表面処理剤。
- 更に界面活性剤を含む請求項1〜5のいずれかに記載の親水性金属表面処理剤。
- 金属の表面を処理する方法であって、
請求項1〜6のいずれかに記載の親水性金属表面処理剤により金属の表面を処理する工程を含むことを特徴とする方法。 - 液状の上記親水性金属表面処理剤に上記金属を浸漬するか、または液状の上記親水性金属表面処理剤を上記金属の表面に塗布もしくは噴霧することにより上記金属表面を処理する請求項7に記載の方法。
- 上記金属が、金、銀、白金、パラジウム、錫、アルミニウム、ニッケル、鉄、銅、亜鉛、またはこれらの合金である請求項7または8に記載の方法。
- 下記式(II)で表される保護分岐型グリセロール誘導体。
- 下記式(II)で表される保護分岐型グリセロール誘導体を製造するための方法であって、
グリセリンとアルデヒド化合物R2−CHOを反応させて下記式(III−1)〜(III−4)で表される化合物を含む混合物を得る工程、
上記混合物から、上記式(III−1)で表される化合物を蒸留により精製する工程、および、
上記式(III−1)で表される化合物とエピハロヒドリンを反応させることにより上記式(II)で表される保護分岐型グリセロール誘導体を得る工程を含むことを特徴とする方法。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019112183A JP6819973B2 (ja) | 2019-06-17 | 2019-06-17 | 親水性金属表面処理剤 |
PCT/JP2020/022193 WO2020255741A1 (ja) | 2019-06-17 | 2020-06-04 | 親水性金属表面処理剤 |
EP20825528.1A EP3971174A4 (en) | 2019-06-17 | 2020-06-04 | HYDROPHILIC METALLIC SURFACE TREATMENT AGENT |
CN202080004543.4A CN112566897B (zh) | 2019-06-17 | 2020-06-04 | 亲水性金属表面处理剂 |
US17/272,765 US11124881B2 (en) | 2019-06-17 | 2020-06-04 | Hydrophilic metal surface treatment agent |
TW109119986A TWI728843B (zh) | 2019-06-17 | 2020-06-15 | 親水性金屬表面處理劑、將金屬的表面加以處理之方法、保護分支型甘油衍生物、以及用以製造保護分支型甘油衍生物之方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019112183A JP6819973B2 (ja) | 2019-06-17 | 2019-06-17 | 親水性金属表面処理剤 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020204076A JP2020204076A (ja) | 2020-12-24 |
JP6819973B2 true JP6819973B2 (ja) | 2021-01-27 |
Family
ID=73836916
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019112183A Active JP6819973B2 (ja) | 2019-06-17 | 2019-06-17 | 親水性金属表面処理剤 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11124881B2 (ja) |
EP (1) | EP3971174A4 (ja) |
JP (1) | JP6819973B2 (ja) |
CN (1) | CN112566897B (ja) |
TW (1) | TWI728843B (ja) |
WO (1) | WO2020255741A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN113845791B (zh) * | 2021-10-13 | 2022-03-25 | 南昌航空大学 | 一种基于两性巯基化合物的自乳化金属防护处理液 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1999060187A1 (en) * | 1998-05-15 | 1999-11-25 | Dacral S.A. | Metal surface treatment agents, methods of treating metal surfaces and pre-coated steel sheets |
JP2001152363A (ja) | 1999-11-29 | 2001-06-05 | Dojin Kagaku Kenkyusho:Kk | 自己組織化単分子膜の製造方法 |
JP2002241957A (ja) * | 2001-02-14 | 2002-08-28 | Nippon Paint Co Ltd | 金属表面処理剤、金属表面処理方法および表面処理金属材料 |
JP3870225B2 (ja) | 2001-10-19 | 2007-01-17 | ユケン工業株式会社 | 金めっき封孔処理剤と方法 |
JP4722484B2 (ja) | 2002-09-26 | 2011-07-13 | 協和発酵キリン株式会社 | グリセロール誘導体 |
JPWO2008093655A1 (ja) * | 2007-01-30 | 2010-05-20 | 国立大学法人徳島大学 | ポリアルコール化合物および医薬 |
JP5396063B2 (ja) | 2008-10-27 | 2014-01-22 | 独立行政法人物質・材料研究機構 | 機能性金属複合基板およびその製造方法 |
JP5636692B2 (ja) | 2010-02-26 | 2014-12-10 | 国立大学法人徳島大学 | 5−ヒドロキシ−1,3−ジオキサンの製造方法および該方法により得られた5−ヒドロキシ−1,3−ジオキサンを原料とした分岐型グリセロール3量体の製造方法 |
WO2013035899A1 (ko) | 2011-09-07 | 2013-03-14 | 주식회사 코리아테크노에이전시 | 5-히드록시-1, 3-디옥산의 제조 방법 및 이를 원료로 한 분기형 글리세롤 3량체의 제조 방법 |
JP6271233B2 (ja) | 2013-11-29 | 2018-01-31 | ローム・アンド・ハース電子材料株式会社 | 表面処理液 |
JP6209996B2 (ja) | 2014-03-11 | 2017-10-11 | 住友金属鉱山株式会社 | 金属材の表面処理方法 |
CN104372355A (zh) * | 2014-07-24 | 2015-02-25 | 梁胜光 | 一种金属表面处理用的含水除锈防锈剂 |
JP2020023052A (ja) | 2017-01-16 | 2020-02-13 | 仲山貴金属鍍金株式会社 | 表面の疎水性もしくは親水性が高められた基体 |
JP6673324B2 (ja) | 2017-12-22 | 2020-03-25 | コベルコ建機株式会社 | 作業機械の手すり |
-
2019
- 2019-06-17 JP JP2019112183A patent/JP6819973B2/ja active Active
-
2020
- 2020-06-04 EP EP20825528.1A patent/EP3971174A4/en active Pending
- 2020-06-04 US US17/272,765 patent/US11124881B2/en active Active
- 2020-06-04 CN CN202080004543.4A patent/CN112566897B/zh active Active
- 2020-06-04 WO PCT/JP2020/022193 patent/WO2020255741A1/ja unknown
- 2020-06-15 TW TW109119986A patent/TWI728843B/zh active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN112566897B (zh) | 2022-03-01 |
CN112566897A (zh) | 2021-03-26 |
TW202110795A (zh) | 2021-03-16 |
TWI728843B (zh) | 2021-05-21 |
WO2020255741A1 (ja) | 2020-12-24 |
EP3971174A4 (en) | 2023-08-09 |
US11124881B2 (en) | 2021-09-21 |
US20210246560A1 (en) | 2021-08-12 |
JP2020204076A (ja) | 2020-12-24 |
EP3971174A1 (en) | 2022-03-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN104284890B (zh) | 新型石墨烯纳米分散液及其制备方法 | |
Burczyk et al. | Synthesis and Surface Properties of N-Alkyl-N-methylgluconamides and N-Alkyl-N-methyllactobionamides | |
JP6819973B2 (ja) | 親水性金属表面処理剤 | |
JP2014504920A (ja) | 腕時計製造用構成部品の疎油性を高めるための組成物 | |
JPS61500549A (ja) | 非イオン性放射線写真コントラスト媒体のための新合成方法 | |
JP2022183287A (ja) | カリケアマイシン誘導体を合成するための中間体および方法 | |
JP2980458B2 (ja) | 新規ジサルファイド、その製法およびこれを使用する分子層の形成方法 | |
KR20030053026A (ko) | 스핑고신의 합성을 위한 제조방법 | |
JPS60181056A (ja) | Ν−〔4−(3−アミノプロピル)アミノブチル〕−2,2−ジヒドロキシエタンアミドの製造法 | |
JPS5947033B2 (ja) | ヒドロキシ多塩基酸塩型防錆剤 | |
JPH075595B2 (ja) | 9―(1,3―ジヒドロキシ―2―プロポキシメチル)グアニン類化合物の製法 | |
JPS62207247A (ja) | 光学活性不飽和アミノアルコール誘導体の新規な製法 | |
CA2208992A1 (fr) | 1-c-perfluoroalkyl glycosides, procede de preparation et utilisations | |
Piasecki et al. | Synthesis and surface properties of chemodegradable anionic surfactants: Sodium carboxylates of cis‐1, 3‐dioxane derivatives | |
JP5751580B2 (ja) | メトキシオリゴエチレングリコール−シラン化合物表面修飾材料 | |
JP2002516895A (ja) | 保護ジヒドロキシプロピルトリアルキルアンモニウム塩およびそれらの誘導体の調製方法 | |
JP4018066B2 (ja) | 新規なへキサペリヘキサベンゾコロネン誘導体 | |
JP2016210778A (ja) | 化合物、表面処理剤、及び表面処理方法 | |
JP3256060B2 (ja) | アミド多価カルボン酸又はその塩及びこれらの製造方法 | |
JPH03223297A (ja) | スフィンゴ糖脂質類及びその合成法 | |
JP3845719B2 (ja) | メソ−置換ポルフイリン誘導体化合物の製造方法 | |
FR2755688A1 (fr) | Composes bolaformes a tetes glycerol, procedes de preparation et utilisations | |
EP2408793B1 (fr) | Procede de fonctionnalisation de surface par des alcynes disubstitues | |
JP2007176844A (ja) | 新規界面活性剤 | |
JP2022003028A (ja) | N−転移試薬、並びにそれを調製する方法及びその適用 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7426 Effective date: 20190704 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7426 Effective date: 20190711 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20190704 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20190711 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201119 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20201127 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20201204 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201215 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201221 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6819973 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |