JP6819817B2 - スピン軌道トルク型磁化回転素子、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ - Google Patents

スピン軌道トルク型磁化回転素子、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子及び磁気メモリ Download PDF

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Description

本発明は、スピン軌道トルク型磁化回転素子、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子及び磁気メモリに関する。本願は、２０１８年５月３１日に、日本に出願された特願２０１８−１０５３９３号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。
強磁性層と非磁性層の多層膜からなる巨大磁気抵抗（ＧＭＲ）素子、及び、非磁性層に絶縁層（トンネルバリア層、バリア層）を用いたトンネル磁気抵抗（ＴＭＲ）素子が知られている。これらの素子は、磁気センサ、高周波部品、磁気ヘッド及び不揮発性ランダムアクセスメモリ（ＭＲＡＭ）等に利用されている。
ＭＲＡＭは、絶縁層を挟む二つの強磁性層の互いの磁化の向きが変化するとＴＭＲ素子の素子抵抗が変化するという特性を利用してデータを読み書きする。ＭＲＡＭの書き込み方式としては、電流が作る磁場を利用して書き込み（磁化反転）を行う方式や磁気抵抗効果素子の積層方向に電流を流して生ずるスピントランスファートルク（ＳＴＴ）を利用して書き込み（磁化反転）を行う方式が知られている。
ＳＴＴを利用して書込みを行う磁気抵抗効果素子では、磁化反転をする強磁性層のダンピング定数を小さくする試みが進められている。例えば、特許文献１には、ダンピング定数を０．０１以下にすることが記載されている。ＳＴＴを利用した臨界書き込み電流密度は強磁性層のダンピング定数に比例することが知られており、省エネルギー、高耐久性及び高集積の観点からダンピング定数が低い材料を用いることが好ましい。近年ではＭｎ−ＧａやＭｎ−Ｇｅ合金は、ダンピング定数が低い材料として期待されている。しかしながら、強磁性層のダンピング定数が低いということは読み込み電流によって誤書き込みを行う可能性もあり、デバイスとしての信頼性を下げるという問題も同時に生じる。
ダンピング定数は、スピン軌道相互作用を起源とする物理量である。そのためダンピング定数は、磁気異方性エネルギーと密接な関係を有する。一般に、ダンピング定数を小さくすると磁気異方性エネルギーも小さくなる。磁気異方性エネルギーが小さくなると、強磁性層の磁化が反転しやすくなり、データの読み書きが容易になる。
また非特許文献１には、一般的に磁気抵抗効果素子で用いられている材料であるＣｏ−Ｆｅ合金はダンピング定数が０．０１未満であることが記載されている。非特許文献１によると、スパッタで作製されるＣｏ−Ｆｅ−Ｂ合金でも同様にダンピング定数が０．０１未満である。Ｃｏ−Ｆｅ−Ｂ合金のうちダンピング定数が０．０１以上であるものは、高い出力特性を得ることができないＢＣＣ構造以外の構造のみである。そのため、ＳＴＴを用いた磁気抵抗効果素子には、ダンピング定数が０．０１未満の強磁性材料が用いられている。
一方、近年、反転電流を低減する手段としてスピン軌道相互作用により生成された純スピン流を利用した磁化反転に注目が集まっている（例えば、非特許文献２）。スピン軌道相互作用によって生じた純スピン流は、スピン軌道トルク（ＳＯＴ）を誘起する。純スピン流は同数の上向きスピンの電子と下向きスピン電子とが互いに逆向きに流れることで生み出される。純スピン流は、逆向きに流れる電子の数が同数であるため電荷の流れは相殺されている。そのため純スピン流が流れることにより磁気抵抗効果素子に流れる電流はゼロであり、磁気抵抗効果素子の長寿命化が期待されている。
ＳＯＴを用いた磁化反転においてもダンピング定数は、磁化反転の挙動に作用する要素の一つである。非特許文献３には、Ｐｔ酸化膜とＮｉ８１Ｆｅ１９と酸化物キャップ層との積層体において、Ｐｔ酸化膜の酸化度を高めることで、Ｎｉ８１Ｆｅ１９のダンピング定数が大きくなることが記載されている。
特開２０１１−２５８５９６号公報
M.Oogane, T. Wakitani, S. Yakata, R. Yilgin, Y. Ando, A. Sakuma and T. Miyazaki, Japanease Journal of Applied Physics, Vol.45, pp. 3889-3891 (2006). I.M.Miron,K.Garello,G.Gaudin,P.J.Zermatten,M.V.Costache,S.Auffret,S.Bandiera,B.Rodmacq,A.Schuhl,and P.Gambardella,Nature,476,189(2011). Hongyu An, Takeo Ohno, Yusuke Kanno, Yuito Kageyama, Yasuaki Monnai, Hideyuki Maki, Ji Shi, Kazuya Ando, Science Advances, 4, eaar 2250 (2018)
ＳＯＴを用いたスピン軌道トルク型磁化回転素子は、まだ研究が始まったばかりである。ＳＯＴを用いた磁化反転素子は、ＳＴＴを用いた磁化反転素子と磁化反転のメカニズムが異なる。そのため、ＳＯＴを用いた磁化反転素子を駆動させるために、適切な構成については十分知られていない。
本発明は上記問題に鑑みてなされたものであり、磁化反転を素早く行うことができるスピン軌道トルク型磁化回転素子、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子及び磁気メモリを提供することを目的とする。
本発明者らは、上記の課題を解決するために検討した結果、スピン軌道トルク型磁化回転素子において磁化反転する強磁性層（自由層）に酸化物含有層を挿入することで、強磁性層（自由層）の磁化反転を素早く行うことが可能となることを見出した。
すなわち、本発明は、上記課題を解決するため、以下の手段を提供する。
（１）第１の実施形態のスピン軌道トルク型磁化回転素子は、スピン軌道トルク配線と、前記スピン軌道トルク配線に積層された積層体と、を備え、前記積層体は、第１強磁性層と、酸化物含有層と、第２強磁性層と、を前記スピン軌道トルク配線側から順に備え、前記酸化物含有層が非磁性元素の酸化物を含み、前記第１強磁性層と前記第２強磁性層とが強磁性結合している。
（２）上記態様にかかるスピン軌道トルク型磁化回転素子において、前記第１強磁性層の磁化容易軸は、前記スピン軌道トルク配線から前記第１強磁性層に注入されるスピンの向きと交差していてもよい。
（３）上記態様に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子において、前記非磁性元素は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｂｉからなる群より選ばれる少なくとも一つを含んでいてもよい。
（４）上記態様に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子において、前記酸化物含有層の膜厚が１．０ｎｍ以下であってよい。
（５）上記態様に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子において、前記酸化物含有層に含まれる前記非磁性元素の酸化物は、化学量論組成に対して酸素が欠損していてもよい。
（６）上記態様に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子において、前記酸化物含有層と、前記第２強磁性層と、の間に拡散防止層が挿入されていてもよい。
（７）上記態様に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子において、前記第１強磁性層の膜厚が、前記第２強磁性層の膜厚より厚くてもよい。
（８）上記態様に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子において、前記第２強磁性層が、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｂからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含んでいてもよい。
（９）第２の態様に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子は、上記態様に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子と、前記積層体の前記スピン軌道トルク配線と反対側に積層された非磁性層と、前記積層体と前記非磁性層を挟む第３強磁性層と、を備える。
（１０）第３の態様に係る磁気メモリは、上記態様に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子を複数備える。
本発明によれば、磁化反転を素早く行うことができるスピン軌道トルク型磁化回転素子、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子及び磁気メモリを提供することが可能となる。
第１実施形態に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子の一例の断面模式図である。 変形例１に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子の別の一例の断面模式図である。 第２実施形態に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子の一例の断面模式図である。 変形例１に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子の断面模式図である。 変形例１に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子を別の面で切断した断面模式図である。 変形例２に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子の断面模式図である。 変形例２に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子の別の例の断面模式図である。 変形例３に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子の断面模式図である。 第３実施形態に係る磁気メモリを模式的に示した図である。 第３実施形態に係る磁気メモリの要部の断面模式図である。
以下、本発明の好ましい例について、図を適宜参照しながら詳細に説明する。以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴をわかりやすくするために便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などは実際とは異なっていることがある。以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに限定されるものではなく、本発明の効果を奏する範囲で適宜変更して実施することが可能である。
＜第１実施形態（スピン軌道トルク型磁化回転素子）＞
図１は、第１実施形態に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子の一例を模式的に示した断面図である。図１は、スピン軌道トルク型磁化回転素子をスピン軌道トルク配線５０のｙ方向の中心を通るｘｚ平面で切断した断面を示す。図１に示すスピン軌道トルク型磁化回転素子１０１は、積層体１０とスピン軌道トルク配線５０とを備える。
本明細書において、スピン軌道トルク配線が延在する方向をｘ方向、積層体１０の積層方向をｚ方向、ｘ方向及びｚ方向に直交する方向をｙ方向という。
［積層体１０］
積層体１０は、スピン軌道トルク配線５０の厚み方向に積層されている。積層体１０は、スピン軌道トルク配線５０側から第１強磁性層１１と、酸化物含有層１２と、第２強磁性層１３と、を備える。第１強磁性層１１と第２強磁性層１３とは、強磁性結合している。
（第１強磁性層及び第２強磁性層）
第１強磁性層１１及び第２強磁性層１３には、強磁性材料、特に軟磁性材料を適用できる。例えば、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｆｅ及びＮｉからなる群から選択される金属、これらの金属を少なくとも１種以上含む合金、これらの金属とＢ、Ｃ、及びＮの少なくとも１種以上の元素とが含まれる合金等を用いることができる。具体的には、Ｃｏ−Ｆｅ、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｂ、Ｎｉ−Ｆｅを例示できる。また第１強磁性層１１が面内磁化膜の場合は、例えば、Ｃｏ−Ｈｏ合金（ＣｏＨｏ２）、Ｓｍ−Ｆｅ合金（ＳｍＦｅ１２）等を用いることができる。
第１強磁性層１１及び第２強磁性層１３には、Ｃｏ２ＦｅＳｉ等のホイスラー合金を用いてもよい。ホイスラー合金は、ＸＹＺまたはＸ２ＹＺの化学組成をもつ金属間化合物を含む。ホイスラー合金の化学組成におけるＸは、周期表上でＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、あるいはＣｕ族の遷移金属元素または貴金属元素である。ホイスラー合金の化学組成におけるＹは、Ｍｎ、Ｖ、ＣｒあるいはＴｉ族の遷移金属又はＸの元素種である。ホイスラー合金の化学組成におけるＺは、ＩＩＩ族からＶ族の典型元素である。ホイスラー合金は、例えば、Ｃｏ２ＦｅＳｉ、Ｃｏ２ＦｅＧｅ、Ｃｏ２ＦｅＧａ、Ｃｏ２ＭｎＳｉ、Ｃｏ２Ｍｎ１−ａＦｅａＡｌｂＳｉ１−ｂ、Ｃｏ２ＦｅＧｅ１−ｃＧａｃ等が挙げられる。第２強磁性層１３は、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｂからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含むことが好ましい。第２強磁性層１３は、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｂであることが特に好ましい。
第１強磁性層１１と第２強磁性層１３とは、強磁性結合している。すなわち、第１強磁性層１１の磁化Ｍ１１と第２強磁性層１３の磁化Ｍ１３とは同じ方向に配向している。磁化Ｍ１１と磁化Ｍ１３とが強磁性結合するか、反強磁性結合するかは、酸化物含有層１２の材料、膜厚によって制御できる。本実施形態では、酸化物含有層１２の材料、膜厚を、磁化Ｍ１１と磁化Ｍ１３とが強磁性結合するように制御している。
また、第１強磁性層１１の膜厚は、第２強磁性層１３の膜厚より厚いことが好ましい。第１強磁性層１１の膜厚が厚くなると、磁化Ｍ１１を面内方向に配向させようとする作用が強くはたらく。一方で、第２強磁性層１３の膜厚が薄いと、磁化Ｍ１３を面直方向に配向させようとする作用が強くはたらく。磁化Ｍ１１と磁化Ｍ１３とは強磁性結合しているため、第１強磁性層１１の磁化Ｍ１１は、面直方向から傾いた方向に配向する。第１強磁性層１１の磁化Ｍ１１が傾くと、磁化反転の反転対称性が崩れ、第１強磁性層１１が磁化反転しやすくなり、無磁場磁化反転が容易になる。第１強磁性層１１の膜厚は、０．３ｎｍ以上２．０ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましい。第２強磁性層１３の膜厚は、０．５ｎｍ以上３．０ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましい。第１強磁性層１１の膜厚は、第２強磁性層１３の膜厚に対して１５０％以上２００％以下の範囲内にあることが好ましい。
（酸化物含有層）
酸化物含有層１２は、第１強磁性層１１と第２強磁性層１３との間に位置している。
非特許文献３にも記載のように、強磁性層に酸化膜を隣接して配置すると、強磁性層のダンピング定数が大きくなる。第１強磁性層１１及び第２強磁性層１３のダンピング定数は、酸化物含有層１２が第１強磁性層１１と第２強磁性層１３とのそれぞれに隣接していることで大きくなる。強磁性体の磁化は、歳差運動を行いながら磁化反転する。ダンピング定数が大きいと、磁化Ｍ１１が磁化容易方向に向こうとする力が大きくなり、磁化反転を素早く行うことができる。
酸化物含有層１２は、非磁性元素の酸化物を含む。非磁性元素は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｂｉからなる群より選ばれる少なくとも一つを含むことが好ましい。
非磁性元素が、原子番号が３８以下の軽金属（Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ）である場合、薄く安定的な酸化物含有層１２を形成することができる。これら軽元素の電気陰性度は、比較的小さいため、熱による酸素の拡散が引き起こされにくく、酸化物として安定している。
非磁性元素が、原子番号が３９以上の重金属（Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｂｉ）である場合、酸化物含有層１２は、第１強磁性層１１の磁化Ｍ１１を磁化反転させるのに必要な反転電流密度を低減できる。酸化物含有層１２にも電流の一部は侵入する。重金属を含む酸化物含有層１２に電流が流れると、酸化物含有層１２でもＳＯＴ（トルク）が効率的に生じ、第１強磁性層１１の磁化反転に寄与するためである。
酸化物含有層１２に含まれる強磁性金属元素の酸化物は、化学量論組成に対して酸素が欠損していることが好ましい。この場合、第１強磁性層１１から供給されるスピン流が酸化物含有層１２を通りやすくなり、第２強磁性層１３へのスピン流の伝達効率が向上する。強磁性金属元素の酸化物は、化学量論組成に対して、酸素が５原子％以上３０原子％以下の範囲内で欠損していることが好ましい。
酸化物含有層１２の膜厚は、１．０ｎｍ以下であることが好ましい。この場合、第１強磁性層１１と第２強磁性層１３とがより強く強磁性結合するので、熱擾乱等に対する磁化の安定性が高まる。また、酸化物含有層１２の膜厚が薄いと酸素が点在することになり、第１強磁性層１１の結晶構造の対象性を崩しやすくなる。このため、酸化物含有層１２の膜厚は、原子一層分以上であることが好ましい。なお、原子一層分の場合は、連続した一様な層にはならず、酸化物が点在することになるが、この場合も酸化物含有層として扱う。
［スピン軌道トルク配線］
スピン軌道トルク配線５０は、ｘ方向に延在する。スピン軌道トルク配線５０は、強磁性導電体層１１ａの一面に位置する。スピン軌道トルク配線５０は、強磁性導電体層１１ａに直接接続されていてもよいし、他の層を介して接続されていてもよい。
スピン軌道トルク配線５０は、電流が流れるとスピンホール効果によってスピン流を生成する。スピンホール効果とは、配線に電流を流した場合にスピン軌道相互作用に基づき、電流の向きに直交する方向にスピン流が誘起される現象である。スピンホール効果によりスピン流が生み出されるメカニズムについて説明する。
図１に示すように、スピン軌道トルク配線５０のｘ方向の両端に電位差を与えるとｘ方向に沿って電流Ｉが流れる。電流Ｉが流れると、ｙ方向に配向した第１スピンＳ１と−ｙ方向に配向した第２スピンＳ２はそれぞれ電流と直交する方向に曲げられる。通常のホール効果とスピンホール効果とは運動（移動）する電荷（電子）が運動（移動）方向を曲げられる点で共通する。一方で、通常のホール効果とスピンホール効果とは運動（移動）する電荷（電子）が運動（移動）方向を曲げられるのに必要な条件が異なる。通常のホール効果は磁場中で運動する荷電粒子がローレンツ力を受けて運動方向を曲げられるのに対して、スピンホール効果では磁場が存在しないのに電子が移動するだけ（電流が流れるだけ）で移動方向が曲げられる点で大きく異なる。スピンホール効果によって生じる第１スピンＳ１及び第２スピンＳ２の偏在状態を解消するために、ｚ方向にスピン流が生じる。
非磁性体（強磁性体ではない材料）は、第１スピンＳ１の電子数と第２スピンＳ２の電子数とが等しいので、図中で上方向に向かう第１スピンＳ１の電子数と下方向に向かう第２スピンＳ２の電子数が等しい。そのため、電荷の正味の流れとしての電流はゼロである。この電流を伴わないスピン流は特に純スピン流と呼ばれる。
ここで、第１スピンＳ１の電子の流れをＪ↑、第２スピンＳ２の電子の流れをＪ↓、スピン流をＪＳと表すと、ＪＳ＝Ｊ↑−Ｊ↓で定義される。スピン流ＪＳは、図中のｚ方向に流れる。図１において、スピン軌道トルク配線５０の上面には第１強磁性層１１が存在する。そのため、第１強磁性層１１にスピンが注入される。
第１強磁性層１１に注入されるスピンの向きと、第１強磁性層１１の磁化容易軸とは交差していることが好ましい。
例えば、第１強磁性層１１の磁化Ｍ１１が＋ｙ方向に配向し、注入されるスピンの向きが−ｙ方向の場合（第１強磁性層１１に注入されるスピンの向きと、第１強磁性層１１の磁化容易軸とが一致する場合）、磁化Ｍ１１は注入されるスピンにより１８０°ベクトル方向の異なる力を受ける。そのため、磁化Ｍ１１の初期動作は遅くなる。
これに対し、例えば、第１強磁性層１１の磁化Ｍ１１が＋ｚ方向に配向し、注入されるスピンの向きが−ｙ方向の場合（第１強磁性層１１に注入されるスピンの向きと、第１強磁性層１１の磁化容易軸とが交差する場合）、磁化Ｍ１１は注入されるスピンによりベクトル方向の異なる力を受け、素早く回転し始める。そのため、磁化Ｍ１１の初期動作は早くなる。
第１強磁性層１１のダンピング定数を大きくすると、磁化Ｍ１１の磁化反転が素早くなる。注入されるスピンの向きと、第１強磁性層１１の磁化容易軸とが、交差していると磁化Ｍ１１の磁化反転をより早めることができる。第１強磁性層１１に注入されるスピンの向きと、第１強磁性層１１の磁化容易軸とが交差する関係性は、ＳＯＴを用いたスピン軌道トルク型磁化回転素子ならではのものである。
スピン軌道トルク配線５０は、電流が流れる際のスピンホール効果によってスピン流を発生させる機能を有する金属、合金、金属間化合物、金属硼化物、金属炭化物、金属珪化物、金属燐化物のいずれかによって構成される。
スピン軌道トルク配線５０の主構成は、非磁性の重金属であることが好ましい。ここで、重金属とは、イットリウム以上の比重を有する金属を意味する。非磁性の重金属は最外殻にｄ電子又はｆ電子を有する、原子番号３９以上の、原子番号が大きい非磁性金属であることが好ましい。これらの非磁性金属は、スピンホール効果を生じさせるスピン軌道相互作用が大きい。
電子は、一般にそのスピンの向きに関わりなく、電流とは逆向きに動く。しかしながら、最外殻にｄ電子又はｆ電子を有する原子番号が大きい非磁性金属の電子が動く方向は、電子のスピンの向きに依存する。なぜなら、最外殻にｄ電子又はｆ電子を有する原子番号が大きい非磁性金属はスピン軌道相互作用が大きく、スピンホール効果が強く作用するためである。従って、最外殻にｄ電子又はｆ電子を有する原子番号が大きい非磁性の重金属中ではスピン流ＪＳが発生しやすい。
またスピン軌道トルク配線５０は、磁性金属を含んでもよい。磁性金属とは、強磁性金属、あるいは、反強磁性金属を指す。非磁性金属に微量な磁性金属が含まれると磁性金属はスピンの散乱因子となる。スピンが散乱するとスピン軌道相互作用が増強され、電流に対するスピン流の生成効率が高くなる。
一方で、磁性金属の添加量が多過ぎると、発生したスピン流が添加された磁性金属によって散乱され、結果としてスピン流が減少する作用が強くなる場合がある。そのため、添加される磁性金属のモル比はスピン軌道トルク配線を構成する元素の総モル比よりも十分小さい方が好ましい。添加される磁性金属のモル比は、全体の３％以下であることが好ましい。
スピン軌道トルク配線５０は、トポロジカル絶縁体を含んでもよい。トポロジカル絶縁体とは、物質内部が絶縁体、あるいは、高抵抗体であるが、その表面にスピン偏極した金属状態が生じている物質である。トポロジカル絶縁体にはスピン軌道相互作用により内部磁場が生じる。そこで外部磁場が無くてもスピン軌道相互作用の効果で新たなトポロジカル相が発現する。すなわち、トポロジカル絶縁体は、外部磁場が無くても物質内部の絶縁体、あるいは、高抵抗体の磁化方向の対称性が乱される。トポロジカル絶縁体は、強いスピン軌道相互作用とエッジにおける反転対称性の破れにより純スピン流を高効率に生成できる。
トポロジカル絶縁体としては例えば、ＳｎＴｅ、Ｂｉ１．５Ｓｂ０．５Ｔｅ１．７Ｓｅ１．３、ＴｌＢｉＳｅ２、Ｂｉ２Ｔｅ３、Ｂｉ１−ｘＳｂｘ、（Ｂｉ１−ｘＳｂｘ）２Ｔｅ３などが好ましい。これらのトポロジカル絶縁体は、高効率にスピン流を生成することが可能である。
スピン軌道トルク型磁化回転素子１０１は、例えば、スピン軌道トルク配線５０側から、第１強磁性層１１、酸化物含有層１２、第２強磁性層１３をこの順に積層することによって製造することができる。以下、本明細書においてスピン軌道トルク配線５０上に積層された層を総称して積層体という場合がある。例えば、スピン軌道トルク型磁化回転素子１０１において、第１強磁性層１１、酸化物含有層１２、第２強磁性層１３を総称して積層体１０という。第１強磁性層１１、第２強磁性層１３を積層する方法としては、スパッタリング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法などの公知の方法を用いることができる。酸化物含有層１２を積層する方法としては、例えば、スパッタリング法やＣＶＤ法により、強磁性金属膜を形成し、次いで得られた強磁性金属膜を酸化させる方法、強磁性金属と酸化物とをコスパッタリングする方法を用いることができる。
得られた積層体１０は、アニール処理を行うことが好ましい。アニール処理を行うことによって、各層の結晶性が向上し、積層体４のＭＲ比を高めることができる。
アニール処理としては、Ａｒなどの不活性雰囲気中で、３００℃以上５００℃以下の温度で、５分以上１００分以下の時間加熱した後、２ｋＯｅ以上１０ｋＯｅ以下の磁場を印加した状態で、１００℃以上５００℃以下の温度で、１時間以上１０時間以下の時間加熱することが好ましい。
以上のような構成とされた本実施形態のスピン軌道トルク型磁化回転素子１０１は、第２強磁性層１３の磁化反転を素早く行うことができる。これは、積層体１０が、酸化物含有層を有することによって、第１強磁性層１１及び第２強磁性層１３のダンピング定数が増大するためである。ダンピング定数が増大することによって、第１強磁性層１１の磁化Ｍ１１及び第２強磁性層１３の磁化Ｍ１３が磁化容易方向に向こうとする力が大きくなるので、磁化反転を素早く行うことができる。
図２は、第１実施形態に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子の変形例１の断面模式図である。図２は、スピン軌道トルク型磁化回転素子１０２をスピン軌道トルク配線５０のｙ方向の中心を通るｘｚ平面で切断した断面である。図２に示すスピン軌道トルク型磁化回転素子１０２は、拡散防止層１４を有していること以外は、図１に示したスピン軌道トルク型磁化回転素子１０１と同様である。このため、スピン軌道トルク型磁化回転素子１０１と同一の構成については同一の符号を付し、説明を省略する。
拡散防止層１４は、酸化物含有層１２と、第２強磁性層１３の間に挿入されている。拡散防止層は、例えば酸化物含有層１２と第２強磁性体層１３との間に位置する。拡散防止層１４は、例えば、スピン軌道トルク型磁化回転素子１０２の製造時においてアニール処理を行ったときなどの高温環境下において、第２強磁性層１３に含まれる元素が酸化物含有層１２の方向に元素拡散することを抑制する。
拡散防止層１４は、非磁性元素を含むことが好ましい。非磁性元素は、例えば、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕである拡散防止層１４は、これの元素の１種を単独で含んでいてもよいし、２種以上を組合せて含んでいてもよい。また、拡散防止層１４の厚さは、拡散防止層１４を構成する元素の直径の２倍以上であることが好ましい。非磁性元素をこの程度の厚さで成膜しようとすると非磁性元素は、厳密には島状に点在する。従って、拡散防止層１４は、上層又は下層の一部と非磁性元素との混合層となる。
拡散防止層１４の膜厚は、０．３ｎｍ以上２．０ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
スピン軌道トルク型磁化回転素子１０２は、酸化物含有層１２と、第２強磁性層１３との間に、拡散防止層１４を積層すること以外は、スピン軌道トルク型磁化回転素子１０１の場合と同様にして製造することができる。拡散防止層１４を積層する方法としては、スパッタリング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法などの公知の方法を用いることができる。
以上のような構成とされたスピン軌道トルク型磁化回転素子１０２は、酸化物含有層１２を備えるので、第１強磁性層１１及び第２強磁性層１３のダンピング定数が大きくなり、磁化反転が素早くなる。またスピン軌道トルク型磁化回転素子１０２は、拡散防止層１４を有するので、高温環境下においても第２強磁性層１３に含まれる元素が酸化物含有層１２に元素拡散することが起こりにくい。このため、酸化物含有層１２が長期間にわたって安定する。
＜第２実施形態（スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子）＞
図３は、第２実施形態に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子の好ましい例の断面模式図である。図３は、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００のスピン軌道トルク配線５０のｙ方向中心を通るｘｚ平面で切断した断面である。図３に示すスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００は、第１実施形態に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子１０１と、非磁性層２０と、第３強磁性層３０とを備える。第１実施形態のスピン軌道トルク型磁化回転素子１０１と同等の構成については、同一の符号を付し説明を省略する。
積層体１０と非磁性層２０と第３強磁性層３０とが積層された機能部４０は、通常の磁気抵抗効果素子と同様に機能する。機能部４０は、第３強磁性層３０の磁化Ｍ３０が一方向（ｚ方向）に固定され、第２強磁性層１３の磁化Ｍ１３の向きが相対的に変化することで機能する。第３強磁性層３０の磁化Ｍ３０は、同じ外力が印加された場合に、第２強磁性層１３の磁化Ｍ１３より動きにくい。保磁力差型（擬似スピンバルブ型；Pseudo spin valve 型）のＭＲＡＭに適用する場合には、第３強磁性層３０の保磁力を第２強磁性層１３の保磁力よりも大きくする。交換バイアス型（スピンバルブ；spin valve型）のＭＲＡＭに適用する場合には、第３強磁性層３０の磁化Ｍ３０を反強磁性層との交換結合によって固定する。
また機能部４０において、非磁性層２０が絶縁体からなる場合、機能部４０はトンネル磁気抵抗（ＴＭＲ：Tunneling Magnetoresistance）素子と同様の構成となる。また、非磁性層２０が金属からなる場合、機能部４０は巨大磁気抵抗（ＧＭＲ：Giant Magnetoresistance）素子と同様の構成となる。
機能部４０の積層構成は、公知の磁気抵抗効果素子の積層構成を採用できる。例えば、機能部４０の各層は複数の層からなるものでもよい。例えば、機能部４０は、第３強磁性層３０の磁化方向を固定するための反強磁性層等、積層体１０、非磁性層２０、第３強磁性層３０以外の層をさらに備えてもよい。第３強磁性層３０は固定層や参照層などと言われる場合があり、積層体１０は自由層や記憶層などと言われる場合がある。
第３強磁性層３０は、公知の材料である。例えば、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｆｅ及びＮｉからなる群から選択される金属、及び、この群から選択される金属を１種以上含み強磁性を示す合金である。第３金属層３０は、これらの金属や合金以外にも、これらの金属と、Ｂ、Ｃ、及びＮの少なくとも１種以上の元素とを含む合金を用いることもできる。第３強磁性層３０は、例えばＣｏ−ＦｅやＣｏ−Ｆｅ−Ｂを用いることができる。
また第３強磁性層３０には、Ｃｏ２ＦｅＳｉなどのホイスラー合金を用いてもよい。ホイスラー合金を用いることで、機能部４０のＭＲ比をより高くすることができる。ホイスラー合金は、ＸＹＺまたはＸ２ＹＺの化学組成をもつ金属間化合物を含み、ホイスラー合金の化学組成のＸは、周期表上でＣｏ、Ｆｅ、Ｎｉ、あるいはＣｕ族の遷移金属元素または貴金属元素である。ホイスラー合金の化学組成のＹは、Ｍｎ、Ｖ、ＣｒあるいはＴｉ族の遷移金属またはＸの元素種である。ホイスラー合金の化学組成のＺは、ＩＩＩ族からＶ族の典型元素である。ホイスラー合金は、例えば、Ｃｏ２ＦｅＳｉ、Ｃｏ２ＭｎＳｉやＣｏ２Ｍｎ１−ａＦｅａＡｌｂＳｉ１−ｂなどを第３強磁性層３０として用いることができる。
第３強磁性層３０の膜厚は、０．５ｎｍ以上５．０ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
第３強磁性層３０の積層体１０に対する保磁力をより大きくするために、第３強磁性層３０に接してＩｒＭｎ、ＰｔＭｎなどの反強磁性材料を備えていてもよい。また、第３強磁性層３０の漏れ磁場を積層体１０に影響させないようにするため、シンセティック強磁性結合の構造としてもよい。
非磁性層２０には、公知の材料を用いることができる。
例えば、非磁性層２０が絶縁体からなる場合（トンネルバリア層である場合）、非磁性層２０は、例えば、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＭｇＯ、及び、ＭｇＡｌ２Ｏ４等である。また、非磁性層２０は、これらの他にも、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇの一部が、Ｚｎ、Ｂｅ等に置換されたものも用いることができる。これらの中でも、ＭｇＯやＭｇＡｌ２Ｏ４は非磁性層２０として用いるとコヒーレントトンネルが実現できるため、スピンを効率よく注入できる。非磁性層２０が金属からなる場合、非磁性層２０は、例えばＣｕ、Ａｕ、Ａｇ等である。さらに、非磁性層２０が半導体からなる場合、非磁性層２０は、例えばＳｉ、Ｇｅ、ＣｕＩｎＳｅ２、ＣｕＧａＳｅ２、Ｃｕ（Ｉｎ，Ｇａ）Ｓｅ２などである。
非磁性層２０の膜厚は、０．３ｎｍ以上３．０ｎｍ以下の範囲内にあることが好ましい。
機能部４０は、その他の層を有していてもよい。例えば、積層体１０とスピン軌道トルク配線５０との間に下地層を有していてもよいし、第３強磁性層３０の非磁性層２０と反対側の面にキャップ層を有していてもよい。
スピン軌道トルク配線５０と第１強磁性層１１との間に層を配設する場合は、スピン軌道トルク配線５０から伝播するスピンを散逸しないことが好ましい。例えば、銀、銅、マグネシウム、及び、アルミニウム等は、スピン拡散長が１００ｎｍ以上と長く、スピンが散逸しにくいことが知られており、好適に用いることができる。また、スピン軌道トルク配線５０と第１強磁性層１１との間に配設する層の厚みは、この層を構成する物質のスピン拡散長以下であることが好ましい。層の厚みがスピン拡散長以下であれば、スピン軌道トルク配線５０から伝播するスピンを第１強磁性層１１に十分伝えることができる。
スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００は、第２強磁性層１３の磁化Ｍ１３と第３強磁性層３０の磁化Ｍ３０との相対角の違いにより生じる機能部の抵抗値変化を用いてデータの記録、読出しを行う。
スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００は、スピン軌道トルク型磁化回転素子１０１の第２強磁性層１３に、非磁性層２０、第３強磁性層３０をこの順に積層することによって製造することができる。非磁性層２０、第３強磁性層３０を積層する方法としては、スパッタリング法、化学気相成長（ＣＶＤ）法などの公知の方法を用いることができる。
得られた機能部４０は、アニール処理を行うことが好ましい。アニール処理を行うことによって、各層の結晶性が向上し、機能部４０のＭＲ比を高めることができる。
以上のような構成とされたスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００は、酸化物含有層１２を備えるので、第１強磁性層１１及び第２強磁性層１３のダンピング定数が大きくなり、磁化反転が素早くなる。
図４及び図５は、変形例１に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０１の断面模式図である。図４は、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０１をスピン軌道トルク配線５０のｙ方向の中心を通るｘｚ平面で切断した断面である。図５は、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０１を機能部４０のｘ方向の中心を通るｙｚ平面で切断した断面である。図４及び図５に示すスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０１は、機能部４０の側面の形状及びスピン軌道トルク配線５０の第１面５０ａの形状が異なること以外は、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００と同様である。このため、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００と同一の構成については同一の符号を付し、説明を省略する。
図４及び図５に示す機能部４０は、ｚ方向から見て、スピン軌道トルク配線５０に近づくに従い、ｘｙ面内に広がっている。ｚ方向から見て、機能部４０の外周長または外径は、スピン軌道トルク配線５０に近づくに従い、大きくなる。またｘ方向又はｙ方向から見て、機能部４０の側面４０ｓは、ｘｙ平面に対して傾斜している。側面４０ｓのｘｙ平面に対する傾斜角θは、ｚ方向の高さ位置によって異なっていても、一定でもよい。側面４０ｓのｘｙ平面に対する傾斜角θは、例えば、スピン軌道トルク配線５０に近づくにつれて小さくなる。
機能部４０の側面４０ｓは、第３強磁性層３０、非磁性層２０、第２強磁性層１３、酸化物含有層１２、第１強磁性導層１１のそれぞれの側面３０ｓ、２０ｓ、１３ｓ、１２ｓ、１１ｓによって構成される。側面１１ｓ、１２ｓ、１３ｓ、２０ｓ、３０ｓは、それぞれｘｙ平面に対して傾斜する。側面１１ｓ、１２ｓ、１３ｓ、２０ｓ、３０ｓは、それぞれ連続し、一つの側面４０ｓを形成する。ここで「連続」とは、ｘｚ平面又はｙｚ平面で切断した切断面において、側面４０ｓに沿って引いた接線の傾きが一定である、又は、連続的に変化することをいう。
またスピン軌道トルク配線５０の第１面５０ａは、場所によってｚ方向の高さ位置が異なる。第１面５０ａは、スピン軌道トルク配線５０の機能部４０に近い側の面である。以下、第１面５０ａのうち、ｚ方向において機能部４０と重なる部分を第１面５０ａＡと称し、重ならない部分を第１面５０ａＢと称する。第１面５０ａＡは、第１面５０ａＢより＋ｚ方向に位置する。すなわち、第１面５０ａＡは、第１面５０ａＢより後述する基板Ｓｕｂから離れた位置にある。第１面５０ａＢは、機能部４０を所定の形状に加工する際のイオンミリング等により、第１面５０ａＡより−ｚ方向の位置に形成される場合がある。
また図５に示すように、スピン軌道トルク配線５０の側面５０ｓは、ｘｙ平面に対して傾斜する。側面５０ｓと側面４０ｓとは、例えば、不連続である。「不連続」とは、ｘｚ平面又はｙｚ平面で切断した切断面において、側面５０ｓ、４０ｓに沿って引いた接線の傾きが連続的に変化しないことを言う。スピン軌道トルク配線５０を所定の形状に加工した後に、機能部４０を所定の形状に加工する場合、側面５０ｓと側面４０ｓとは不連続になる場合がある。
また図４及び図５では、機能部４０及びスピン軌道トルク配線５０の周囲を囲む絶縁層９０、９１を同時に図示した。絶縁層９０、９１は、多層配線の配線間や素子間を絶縁する絶縁層である。絶縁層９０、９１は、例えば、酸化シリコン（ＳｉＯｘ）、窒化シリコン（ＳｉＮｘ）、炭化シリコン（ＳｉＣ）、窒化クロム、炭窒化シリコン（ＳｉＣＮ）、酸窒化シリコン（ＳｉＯＮ）、酸化アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯｘ）等である。
以上のような構成とされたスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０１は、第１強磁性層１１のダンピング定数が大きくなるので、磁化Ｍ１１が磁化容易方向に向こうとする力が大きくなり、磁化反転を素早く行うことができる。また第１強磁性体層１１の側面１１ｓがｘｙ平面に対して傾斜していることで、スピン軌道トルク配線５０から第１強磁性層１１への電流の流れがスムーズになる。すなわち、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０１は、急激な電流密度の変化に伴う電流のロスを抑制できる。
図６は、変形例２に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０２の断面模式図である。図６は、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０２をスピン軌道トルク配線５０のｙ方向の中心を通るｘｚ平面で切断した断面である。図６に示すスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０２は、機能部４０の側面の形状が異なること以外は、変形例１にかかるスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０２と同様である。このため、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０２と同一の構成については同一の符号を付し、説明を省略する。
図６に示す機能部４０は、ｚ方向から見て、スピン軌道トルク配線５０に近づくに従い、段階的にｘｙ面内に広がっている。図６に示す機能部４０のうち金属により構成される第３強磁性層３０、第２強磁性層１３、第１強磁性層１１は、スピン軌道トルク配線５０に近づくに従い、外周長又は外径が大きくなる。図６に示す機能部４０のうち金属以外により構成される非磁性層２０、酸化物含有層１２は、スピン軌道トルク配線５０に近づくに従い、外周長又は外径が小さくなる。
第３強磁性層３０、第２強磁性層１３、第２強磁性層１１の側面３０ｓ、１３ｓ、１１ｓは、例えば、ｘｙ平面に対して傾斜角θ１で傾斜する。非磁性層２０、酸化物含有層１２の側面２０ｓ、１２ｓは、例えば、ｘｙ平面に対して傾斜角θ２で傾斜する。傾斜角θ１、θ２は、ｚ方向の高さ位置によって異なっていても、一定でもよい。傾斜角θ１と傾斜角θ２とは、異なる。傾斜角θ１は、例えば９０°未満であり、傾斜角θ２は例えば９０°以上である。
機能部４０の側面４０ｓは、不連続である。各層の側面１１ｓ、１２ｓ、１３ｓ、２０ｓ、３０ｓの境界において、側面４０ｓは不連続である。側面４０ｓは、例えば、第３強磁性層３０と非磁性層２０との境界、非磁性層２０と第２強磁性層１３との境界、第２強磁性層１３と酸化物含有層１２との境界、酸化物含有層１２と第１強磁性層１１との境界において、段差を有する。
機能部４０を形成する場合に、マスクを介してｚ方向から加工の後に、ｘ方向またはｙ方向からイオンミリング（サイドミリング）等を行う場合がある。サイドミリングを行うと、機能部４０のｘ方向及びｙ方向の幅を小さくでき、機能部４０のサイズを微細化できる。サイドミリングの進行度は、層を構成する材料によって異なる。金属は非金属より柔らかい場合が多く、金属の方が非金属よりサイドミリングが進行する場合がある。各層のサイドミリングの進行度の違いにより、機能部４０の側面４０ｓは、不連続になる。
以上のような構成とされたスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０３は、第１強磁性層１１のダンピング定数が大きくなるので、磁化反転を素早く行うことができる。また強磁性導電体層１１の側面１１ｓがｘｙ平面に対して傾斜していることで、スピン軌道トルク配線５０から強磁性導電体層１１への電流の流れがスムーズになる。さらに、側面４０ｓが不連続であることで、絶縁層９０との密着性を高めることができる。
また図７は、変形例２に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子の例の断面模式図である。図７は、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０２をスピン軌道トルク配線５０のｙ方向の中心を通るｘｚ平面で切断した断面である。スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０２Ａは、傾斜角θ２が９０°の場合の例である。
図８は、変形例３に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０３の断面模式図である。図８は、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０３をスピン軌道トルク配線５０のｙ方向の中心を通るｘｚ平面で切断した断面である。図８に示すスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０３は、機能部４０とスピン軌道トルク配線５０との位置関係が異なること以外は、図６に示すスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０２と同様である。このため、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０２と同一の構成については同一の符号を付し、説明を省略する。
スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０３は、スピン軌道トルク配線５０が機能部４０に対して＋ｚ方向の位置にある。すなわち、スピン軌道トルク配線５０は、機能部４０より後述する基板Ｓｕｂから離れた位置にある。
機能部４０は、第３強磁性層３０、非磁性層２０、第２強磁性層１３、酸化物含有層１２、第１強磁性層１１を＋ｚ方向に順に有する。第３強磁性層３０は、第１強磁性層１１より後述する基板Ｓｕｂに近い位置にある。機能部４０は、ボトムピン構造と言われる場合がある。
スピン軌道トルク配線５０は、機能部４０及び絶縁層９０の＋ｚ方向の位置に積層されている。スピン軌道トルク配線５０の第１面５０ａ及び第２面５０ｂは、場所によってｚ方向の高さ位置が異なる。第１面５０ａは、スピン軌道トルク配線５０の機能部４０に近い側の面であり、第２面５０ｂは第１面５０ａと反対側の面である。以下、第１面５０ａのうち、ｚ方向において機能部４０と重なる部分を第１面５０ａＡと称し、重ならない部分を第１面５０ａＢと称する。以下、第２面５０ｂのうち、ｚ方向において機能部４０と重なる部分を第２面５０ｂＡと称し、重ならない部分を第２面５０ｂＢと称する。第１面５０ａＢは、第１面５０ａＡより＋ｚ方向に位置する。第１面５０ａを例えば化学機械研磨（ＣＭＰ）する際の研磨スピードの違いにより、第１面５０ａＡは第１面５０ａＢに対して−ｚ方向に凹む。第２面５０ａＢは、第２面５０ａＡより＋ｚ方向に位置する。第２面５０ｂは、第１面５０ａの形状を反映する。
以上のような構成とされたスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２０３は、ボトムピン構造であっても、第１強磁性層１１のダンピング定数が大きくなるので、磁化反転を素早く行うことができる。
変形例１〜３の特徴的な構成は、第１実施形態に係るスピン軌道トルク型磁化回転素子にも適用可能である。
＜第３実施形態（磁気メモリ）＞
図９は、磁気メモリ３００の模式図である。磁気メモリ３００は、第１実施形態のスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００（図３参照）を複数備える。図３は、図９におけるＡ−Ａ面に沿ってスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００を切断した断面図に対応する。図９に示す磁気メモリ３００は、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００が３×３のマトリックス配置をしている。図９は、磁気メモリの一例であり、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００の構成、数及び配置は任意である。
スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００には、それぞれ１本のワードラインＷＬ１〜ＷＬ３と、１本のビットラインＢＬ１〜ＢＬ３、１本のリードラインＲＬ１〜ＲＬ３が接続されている。
ワードラインＷＬ１〜ＷＬ３とビットラインＢＬ１〜ＢＬ３との間に所定値以上の電圧差を与えることで、任意のスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００のスピン軌道トルク配線５０に電流が流れ、書き込み動作が行われる。またリードラインＲＬ１〜ＲＬ３とビットラインＢＬ１〜ＢＬ３との間に所定値以上の電圧差を与えることで、任意のスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００の機能部４０の積層方向に電流が流れ、読み出し動作を行う。これらの複数のスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００から任意の素子のデータを読み出すことで磁気メモリとしての活用ができる。
また図１０は、図９に示す磁気メモリ３００の要部をＡ−Ａ面に沿って切断した断面図である。磁気メモリ３００は、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００と、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００に接続された複数のスイッチング素子とを有する。
図１０に示すスイッチング素子は、トランジスタＴｒである。トランジスタＴｒは、ゲート電極Ｇと、ゲート絶縁膜ＧＩと、基板Ｓｕｂに形成されたソース領域Ｓ及びドレイン領域Ｄと、を有する。基板Ｓｕｂは、例えば、半導体基板である。
トランジスタＴｒのそれぞれとスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００、ワードラインＷＬ及びビットラインＢＬとは、導電部Ｃｗを介して、電気的に接続されている。導電部Ｃｗは、例えば、接続配線、ビア配線と言われることがある。導電部Ｃｗは、導電性を有する材料を含む。導電部Ｃｗは、ｚ方向に延びる。
またスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００の機能部４０には電極８０が形成されている。電極８０は、導電性を有する材料を含む。電極８０は、リードラインＲＬに接続される。リードラインＲＬと電極８０との間に、スイッチング素子（例えば、トランジスタ）を有してもよい。リードラインＲＬと電極８０との間のスイッチング素子は、図１０における紙面奥行き方向（−ｙ方向）に例えば位置する。
記憶素子１００とトランジスタＴｒとは、導電部Ｃｗを除いて、絶縁層９０によって電気的に分離されている。
第３実施形態に係る磁気メモリ３００は、第２実施形態に係るスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００を複数有する。上述のように、スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子２００は、それぞれ磁化反転を素早く行うことができる。したがって、磁気メモリ３００は、素早く駆動できる。
１０…積層体、１１…第１強磁性層、１２…酸化物含有層、１３…第２強磁性層、２０…非磁性層、３０…第３強磁性層、４０…機能部、５０…スピン軌道トルク配線、１０１、１０２…スピン軌道トルク型磁化回転素子、２００…スピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子、３００…磁気メモリ

Claims (12)

  1. スピン軌道トルク配線と、
    前記スピン軌道トルク配線に積層された積層体と、を備え、
    前記積層体は、第１強磁性層と、酸化物含有層と、第２強磁性層と、を前記スピン軌道トルク配線側から順に備え、
    前記酸化物含有層が非磁性元素の酸化物を含み、
    前記酸化物含有層に含まれる前記酸化物は、化学量論組成に対して酸素が欠損しており、
    前記第１強磁性層と前記第２強磁性層とは、強磁性結合している、スピン軌道トルク型磁化回転素子。
  2. スピン軌道トルク配線と、
    前記スピン軌道トルク配線に積層された積層体と、を備え、
    前記積層体は、第１強磁性層と、酸化物含有層と、第２強磁性層と、を前記スピン軌道トルク配線側から順に備え、
    前記酸化物含有層と、前記第２強磁性層と、の間に拡散防止層が挿入されており、
    前記酸化物含有層が非磁性元素の酸化物からなり、
    前記第１強磁性層と前記第２強磁性層とは、強磁性結合している、スピン軌道トルク型磁化回転素子。
  3. スピン軌道トルク配線と、
    前記スピン軌道トルク配線に積層された積層体と、を備え、
    前記積層体は、第１強磁性層と、酸化物含有層と、第２強磁性層と、を前記スピン軌道トルク配線側から順に備え、
    前記酸化物含有層が非磁性元素の酸化物からなり、
    前記第１強磁性層と前記第２強磁性層とは、強磁性結合しており、
    前記第１強磁性層の膜厚が、前記第２強磁性層の膜厚より厚い、スピン軌道トルク型磁化回転素子。
  4. 前記第１強磁性層の磁化容易軸は、前記スピン軌道トルク配線から前記第１強磁性層に注入されるスピンの向きと交差している、請求項１〜３のいずれか一項に記載のスピン軌道トルク型磁化回転素子。
  5. 前記酸化物含有層に含まれる前記酸化物の前記非磁性元素は、Ａｌ、Ｓｉ、Ｍｇ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｂｉからなる群より選ばれる少なくとも一つを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載のスピン軌道トルク型磁化回転素子。
  6. 前記酸化物含有層の膜厚が１．０ｎｍ以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載のスピン軌道トルク型磁化回転素子。
  7. 前記酸化物含有層に含まれる前記酸化物は、化学量論組成に対して酸素が欠損している、請求項２〜６のいずれか一項に記載のスピン軌道トルク型磁化回転素子。
  8. 前記酸化物含有層と、前記第２強磁性層と、の間に拡散防止層が挿入されている、請求項１または請求項３〜７のいずれか一項に記載のスピン軌道トルク型磁化回転素子。
  9. 前記第１強磁性層の膜厚が、前記第２強磁性層の膜厚より厚い、請求項１、２、４〜８のいずれか一項に記載のスピン軌道トルク型磁化回転素子。
  10. 前記第２強磁性層が、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｂからなる群より選ばれる少なくとも一つの元素を含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載のスピン軌道トルク型磁化回転素子。
  11. 請求項１〜１０のいずれか一項に記載のスピン軌道トルク型磁化回転素子と、
    前記積層体の前記スピン軌道トルク配線と反対側に積層された非磁性層と、
    前記積層体と前記非磁性層を挟む第３強磁性層と、を備えるスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子。
  12. 請求項１１に記載のスピン軌道トルク型磁気抵抗効果素子を複数備える、磁気メモリ。
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