JP6817822B2 - 加工方法 - Google Patents

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Description

本発明は、半導体ウェーハ等の被加工物の加工方法に関する。
半導体ウェーハ等の被加工物に対して透過性を有する波長のレーザビームを、その集光点をストリートと呼ばれる分割予定ラインに対応する内部に位置付けて裏面側から照射して、被加工物内部に改質層を形成し、この改質層に外力を付与して被加工物を個々のチップに分割するステルスダイシングと呼ばれる加工方法が実用化されている(例えば、特許文献1参照)。
特許3408805号公報
ステルスダイシングにおいては、チップへの分割性を向上させるために、改質層から表面に至るクラックを発生させる条件で被加工物にレーザ加工を施すことが好ましい。その一方で、レーザ加工後に被加工物を研削して薄化することで作製されたチップに改質層が残存していると、チップの抗折強度が低下してしまうという問題がある。
よって、いわゆるステルスダイシングにより被加工物を個々のチップに分割する場合においては、チップへの分割性を損なわずにチップの抗折強度を向上させるという課題がある。
上記課題を解決するための本発明は、複数のストリートが設定された表面を有した被加工物の加工方法であって、被加工物に対して透過性を有する波長のレーザビームの集光点を被加工物の内部に位置付け該ストリートに沿って該レーザビームを被加工物の裏面に照射して該ストリートに沿った改質層を形成するとともに該改質層から該表面に至るクラックを伸長させるレーザビーム照射ステップと、該レーザビーム照射ステップを実施した後、被加工物に切削液を供給しつつ被加工物の該ストリートに沿って該裏面を切削ブレードで切削して該改質層を除去する切削ステップと、を備え、該切削ステップでは、該切削ブレードの先端の断面における最下位置が該クラックに対して該ストリートの伸長方向と直交する方向にずれた状態で切削が遂行されることで該切削液とともに切削屑が該クラックに浸入することを防止する加工方法である。
前記切削ブレードの先端の断面形状は中心が両端に比べて凹んだ中凹形状、または左右一方から他方に傾斜した片減り形状であり、前記切削ステップでは、切削ブレードの厚み方向の中心が前記クラックと一致した状態で切削が遂行されるものとすると好ましい。
前記切削ブレードの先端の断面形状はR形状であり、前記切削ステップでは、該切削ブレードの厚み方向の中心が前記クラックに対して前記ストリートの伸長方向と直交する方向にずれた状態で切削が遂行されるものとすると好ましい。
本発明に係る被加工物の加工方法は、被加工物に対して透過性を有する波長のレーザビームの集光点を被加工物の内部に位置付けストリートに沿ってレーザビームを被加工物の裏面に照射してストリートに沿った改質層を形成するとともに改質層から表面に至るクラックを伸長させるレーザビーム照射ステップと、レーザビーム照射ステップを実施した後、被加工物に切削液を供給しつつ被加工物のストリートに沿って裏面を切削ブレードで切削して改質層を除去する切削ステップと、を備え、切削ステップにおいて、切削ブレードの先端の断面における最下位置がクラックに対してストリートの伸長方向と直交する方向にずれた状態で切削が遂行されることで、クラック形成によるチップの分割性の向上という利点を得つつ、改質層除去よるチップの抗折強度の向上も図ることでき、さらに、切削液とともに切削屑がクラックに浸入することを防止することができ、チップ側面に汚れが付着するのを防止することができる。
また、切削ステップにおいて、切削ブレードの先端の断面における最下位置がクラックに対してストリートの伸長方向と直交する方向にずれた状態で切削が遂行されることで、切削液とともに切削屑がクラックに浸入することを防止することができ、チップ側面に汚れが付着するのを防止することができる。
被加工物の一例を示す斜視図である。 レーザビーム照射手段により被加工物に改質層及びクラックを形成している状態を示す断面図である。 改質層及びクラックが形成された被加工物の一部を示す断面図である。 先端の断面が中凹形状である切削ブレードにより被加工物を切削している状態の一部を示す断面図である。 先端の断面が中凹形状である切削ブレードにより被加工物を切削している場合に生じる切削屑の集積状態を一部拡大して示す断面図である。 先端の断面が中凹形状である別例の切削ブレードにより被加工物を切削している場合に生じる切削屑の集積状態を一部拡大して示す断面図である。 先端の断面が中凹形状である別例の切削ブレードにより被加工物を切削している場合に生じる切削屑の集積状態を一部拡大して示す断面図である。 先端の断面が片減り形状である切削ブレードにより被加工物を切削している場合に生じる切削屑の集積状態を一部拡大して示す断面図である。 先端の断面がR形状である切削ブレードにより被加工物を切削している状態の一部を示す断面図である。 先端の断面がR形状である切削ブレードにより被加工物を切削している場合に生じる切削屑の集積状態を一部拡大して示す断面図である。 先端の断面がR形状である別例の切削ブレードにより被加工物を切削している場合に生じる切削屑の集積状態を一部拡大して示す断面図である。
以下に、本発明に係る被加工物の加工方法を実施して図1に示す被加工物Wを個々のデバイスチップに分割する場合の各ステップについて説明していく。図1に示す被加工物Wは、例えば、シリコン基板等からなる円形状の半導体ウェーハであり、被加工物Wの表面Waには、ストリートSによって区画された格子状の領域にデバイスDが形成されている。図1において−Z方向側を向いている被加工物Wの表面Waは、被加工物Wよりも大径のダイシングテープTに貼着されており、ダイシングテープTにより保護されている。ダイシングテープTの粘着面の外周領域には円形の開口を備える環状フレームFが貼着されており、被加工物Wは、ダイシングテープTを介して環状フレームFによって支持され、環状フレームFを介したハンドリングが可能な状態になっている。
(1)レーザビーム照射ステップ
被加工物Wに改質層を形成する図2に示すレーザ加工装置1は、例えば、被加工物Wを吸引保持するチャックテーブル10と、チャックテーブル10に保持された被加工物Wに対してレーザビームを照射するレーザビーム照射手段11と、を少なくとも備えている。チャックテーブル10は、例えば、その外形が円形状であり、ポーラス部材等からなる保持面10a上で被加工物Wを吸引保持する。チャックテーブル10は、鉛直方向(Z軸方向)の軸心周りに回転可能であるとともに、図示しない加工送り手段によってX軸方向に往復移動可能となっている。
チャックテーブル10の外周部には、例えば4つ(図示の例においては、2つのみ図示している)の固定クランプ100が均等に配設されている。挟持板100aと挟持台100bとからなる固定クランプ100は、図示しないバネ等によって回転軸100cを軸に挟持板100aが回動可能となっており、挟持板100aの下面と挟持台100bの上面との間に環状フレームF及びダイシングテープTを挟み込むことができる。
レーザビーム照射手段11は、図示しないレーザビーム発振器から発振され被加工物Wに対して透過性を有するレーザビームを、光ファイバー等の伝送光学系を介して集光器111の内部の集光レンズ111aに入光させることで、レーザビームをチャックテーブル10で保持された被加工物Wの内部の所定の高さ位置に正確に集光して照射できる。
例えば、レーザビーム照射手段11の近傍には、チャックテーブル10上に保持された被加工物WのストリートSを検出するアライメント手段12が配設されている。アライメント手段12は、赤外線を照射する図示しない赤外線照射手段と、赤外線を捕らえる光学系および赤外線に対応した電気信号を出力する撮像素子(赤外線CCD)等で構成された赤外線カメラ120とを備えており、赤外線カメラ120により取得した画像に基づき、パターンマッチング等の画像処理によって被加工物Wの表面WaのストリートSを検出することができる。アライメント手段12とレーザビーム照射手段11とは一体となって構成されており、両者は連動してY軸方向及びZ軸方向へと移動する。
レーザビーム照射ステップにおいては、まず、図2に示すように、環状フレームFによって支持されている被加工物Wが、裏面Wbが上側を向いた状態でチャックテーブル10により吸引保持される。また、各固定クランプ100によって環状フレームFが固定される。
次いで、チャックテーブル10に保持された被加工物Wが−X方向(往方向)に送られるとともに、アライメント手段12によりストリートSが検出される。ここで、ストリートSが形成されている被加工物Wの表面Waは下側に位置し、アライメント手段12と直接対向してはいないが、赤外線カメラ120により被加工物Wの裏面Wb側から透過させてストリートSを撮像することができる。赤外線カメラ120によって撮像されたストリートSの画像により、アライメント手段12がパターンマッチング等の画像処理を実行し、レーザビームを照射すべきX軸方向に延びるストリートSのY軸方向における座標位置が検出される。
ストリートSの位置が検出されるのに伴って、レーザビーム照射手段11がY軸方向に割り出し送りされ、レーザビームを照射するストリートSと集光器111とのY軸方向における位置合わせがなされる。この位置合わせは、例えば、集光器111に備える集光レンズ111aの直下にストリートSの中心線が位置するように行われる。また、被加工物Wのチップへの分割性を向上させるためには、被加工物Wの内部に改質層を形成するとともに、改質層から表面Waに至るクラックを発生させる条件でレーザ加工を施すことが好ましい。そのために、レーザビーム照射手段11のレーザビームの出力や繰り返し周波数等が、改質層から表面Waに至るクラックを発生させる条件に設定される。
上記条件の一例は、例えば下記の通りである。
波長: 1342nmのパルスレーザ
繰り返し周波数: 90kHz
平均出力: 2W
加工送り速度: 700mm/秒
次いで、集光器111で被加工物Wに対して透過性を有するレーザビームの集光点を、ストリートSに対応する被加工物Wの内部の所定の高さ位置、すなわち、図示の例においては、被加工物Wの厚さ方向(Z軸方向)の略中間よりも下方にある高さ位置に位置付けるとともに、ストリートSに沿ってレーザビームを被加工物Wの裏面Wbに照射してストリートSに沿った改質層MLを形成する。図示しないレーザビーム発振器から発振され集光点に到達する前のレーザビームは、被加工物Wに対して透過性を有しているが、集光点に到達したレーザビームは被加工物Wに対して局所的に非常に高い吸収特性を示す。そのため、集光点付近の被加工物Wはレーザビームを吸収して改質され、集光点から主に上方に向かって所定の長さの改質層MLが形成される。図2に示すように、改質層MLが被加工物Wに形成されるのに伴い、改質層MLから被加工物Wの表面Waに向かって伸びる多数の微細なクラックCも被加工物Wに形成される。なお、クラックCを、被加工物Wの表面Waのみならず裏面Wbに向かって伸長させるものとしてもよい。
被加工物Wを−X方向に所定の加工送り速度で加工送りし、被加工物Wの内部にストリートSに沿って改質層MLをX軸方向に極微小な間隔を保ちつつ連続的に形成し、かつ、改質層MLから表面Waに伸びるクラックCを形成しつつ、例えば、一本のストリートSにレーザビームを照射し終えるX軸方向の所定の位置まで被加工物Wを−X方向に進行させる。
次いで、レーザビームの照射を停止するとともに被加工物Wの−X方向(往方向)での加工送りを一度停止させ、レーザビーム照射手段11をY軸方向に割り出し送りし、レーザビームが照射されたストリートSの隣に位置しレーザビームがまだ照射されていないストリートSと集光器111とのY軸方向における位置合わせを行う。次いで、被加工物Wが+X方向(復方向)へ加工送りされ、往方向でのレーザビームの照射と同様にストリートSにレーザビームが照射されていく。順次同様のレーザビームの照射を行うことにより、X軸方向に延びる全てのストリートSに沿ってレーザビームが被加工物Wの裏面Wb側から照射され、図3に示すように被加工物Wの内部にX軸方向に延びる全てのストリートSに沿って改質層ML及びクラックCが形成されていく。なお、クラックCは改質層MLから裏面Wbに向かっても短い距離伸長しているが、図2及び図3においては省略して示しており、後述する図4〜図11においても同様に省略して示している。
図3に示すように、クラックCの幅(図3におけるY軸方向長さ)は、改質層MLの幅に比べて小さく、また、クラックC及び改質層MLは、X軸方向に延びるストリートSの中心線と重なるように形成されていく。なお、例えば、チャックテーブル10の往方向への移動と復方向への移動との切り替えごとに、集光器111でレーザビームの集光点の高さ位置を変更しつつ、同一のストリートSにレーザビームを複数回照射することで、被加工物Wの内部に改質層MLを厚さ方向に複数段形成するものとしてもよい。
さらに、チャックテーブル10を90度回転させてから同様のレーザビームの照射を被加工物Wに対して行うと、縦横全てのストリートSに沿って改質層ML及びクラックCが形成される。
(2−1)切削ステップの実施形態1
上記のようにレーザビーム照射ステップを実施した後、図4に示すように、被加工物Wに切削液を供給しつつ被加工物WのストリートSに沿って裏面Wbを切削ブレード60で切削して改質層MLを除去する。図4において、切削ブレード60を備える切削装置に搬送された被加工物Wは、図示しないチャックテーブルにより裏面Wbが上側を向いた状態で吸引保持されており、鉛直方向(Z軸方向)の軸心周りに回転可能であるとともに、X軸方向に往復移動可能となっている。
図4において一部を示す切削ブレード60は、例えば、全形が環状のワッシャー型ブレードであり、その刃厚は例えば約30μm〜約40μmである。切削ブレード60の先端600の縦断面形状は、例えば厚さ方向の中心が両端に比べてブレードの径方向内側に凹んだ中凹形状となっている。なお、切削ブレード60は、ワッシャー型ブレードに限定されるものではなく、基台と基台の外周側に形成された切り刃とを備えるハブタイプのブレードであってもよい。
切削ブレード60は、軸方向が被加工物Wの移動方向(X軸方向)に対し水平方向に直交する方向(Y軸方向)であるスピンドル61に装着されている。そして、モータ62によりスピンドル61が回転駆動されることに伴って、切削ブレード60もY軸方向の軸心周りに高速回転する。
切削ブレード60が切削するべきストリートSの検出は、図4に示すアライメント手段12が赤外線カメラ120により取得した画像に基づき、パターンマッチング等の画像処理を行うことでなされる。
切削加工においては、主に被加工物Wに対して切削ブレード60が接触する加工点に切削液を供給しながら切削を実施する。加工点に対する切削液の供給は、図4に示す切削液供給ノズル63によってなされる。切削液供給ノズル63は、例えば、切削ブレード60をY軸方向両側から挟むように2本配設されており、切削ブレード60の側面に向く噴射口を備えており、図示しない切削液供給源に連通している。切削ブレード60、アライメント手段12、及び切削液供給ノズル63は連動してY軸方向及びZ軸方向へと移動する。
切削ステップにおいては、まず、被加工物Wが−X方向(図4においては、紙面手前側)に送られるとともに、赤外線カメラ120によりストリートSを含む被加工物Wの表面Waについての画像が撮像されて、この画像に基づくアライメント手段12によるパターンマッチング等のストリートSの検出が実行され、切削ブレード60を切り込ませるべきストリートSのY軸方向における座標位置が算出される。切削すべきストリートSが検出されるのに伴って、切削ブレード60がY軸方向に割り出し送りされ、切削すべきX軸方向に延びるストリートSと切削ブレード60とのY軸方向における位置合わせがなされる。この位置合わせは、例えば、切削ブレード60先端600の中凹形状部分の直下にストリートSの中心線が位置するように、すなわち、切削ブレード60の厚み方向(図4におけるY軸方向)の中心がクラックCと一致するように行われる。このように切削ブレード60をストリートSに対して位置付けることによって、切削ブレード60の先端600の断面における最下位置600PがクラックCに対してストリートSの伸長方向(図4におけるX軸方向)と直交する方向(図4におけるY軸方向)にずれた状態となる。
次いで、切削ブレード60が−Z方向に降下していき、例えば、切削ブレード60の先端600がクラックCの上端側に僅かに切り込む高さ位置に切削ブレード60が位置付けられる。被加工物Wがさらに所定の切削送り速度で−X方向に送り出されるとともに、モータ62がスピンドル61を+Y方向側から見て時計回り方向に高速回転させ、スピンドル61に固定された切削ブレード60がスピンドル61の回転に伴って高速回転することで、切削ブレード60がストリートSに沿って被加工物Wの裏面Wb側から内部に切り込んでいく。また、切削加工中においては、切削ブレード60と被加工物Wとの接触部位及びその周囲に対して、切削液供給ノズル63から切削液を噴射する。切削液供給ノズル63から噴射された切削液は、加工点を冷却・洗浄するとともに、切削により生じた図5に示す切削屑Eを被加工物Wから除去していく。そして、図5に示すように、切削ブレード60を先端600がクラックCの上端側に僅かに切り込む高さ位置に位置付けて切削を進行させているため、切削ブレード60により改質層MLが被加工物Wの内部から除去されていく。
上記切削を行った結果として、X軸方向に延びるストリートSに沿って、図4に示す切削溝G1が被加工物Wに形成される。切削溝G1は、例えば、溝の最深部がクラックCの上端から少し下方にある位置となり、かつ、溝の最深部がクラックCに対してY軸方向にずれている。
チップの抗折強度を向上させるために、改質層MLを切削ブレード60で上記のように除去することは好ましい。その一方で、改質層MLから表面Waに至るクラックCが形成された被加工物Wに対して切削ブレード60で漫然と切削を施して改質層MLを除去すると、切削で発生した切削屑Eを含む切削液の殆どは切削で形成された切削溝G1を伝って被加工物W外に排出されるものの、切削屑Eを含む切削液の一部がクラックCに浸入しデバイスDを備えるチップの側面を汚染するという問題が発生する。そして、切削が完了した直後には、チップ間に十分な隙間がないため、被加工物Wを洗浄してもチップ側面全面に洗浄水が十分に行き渡らず十分な洗浄ができない。更にチップ間隔をエキスパンド装置等で広げた後に洗浄を行っても、チップ側面に付着した汚れはすでに乾燥して固着しているため、除去することが難しい。そして、チップの側面の汚れの付着を放置しておくと、例えば、本願発明に係る加工方法の後に実施するボンディング工程時において、汚れがボンディングパッド上に落下してボンディング不良を引き起こすおそれがある。
上記問題を鑑みて、本願発明の発明者は研究を重ねることで、切削屑はその自重により切削溝内を降下して切削溝の中でも最下位置付近に集まることを発見した。そこで、本発明に係る被加工物Wの加工方法においては、先端600の断面形状が、中心が両端に比べて凹んだ中凹形状である切削ブレード60を使用し、本切削ステップでは、切削ブレード60の先端600の断面における最下位置600PがクラックCに対してストリートSの伸長方向と直交する方向にずれた状態、すなわち、切削ブレード60の厚み方向の中心がクラックCと一致した状態で改質層MLの除去を伴う切削を行うことによって、切削により生ずる切削屑Eをその自重により降下させて、図5に示すように、切削溝G1のクラックCからY軸方向両側に所定距離だけずれた最深部に集積させることが可能となる。そのため、切削屑EのクラックCへの侵入を防ぎ、チップ側面に汚れが付着することを防止できる。よって、改質層MLの除去によるチップの抗折強度の向上と共に、チップ分割後の工程における不良の発生を防止することができる。
切削ブレード60が、一本のストリートSを切削し終えるX軸方向の所定の位置まで被加工物Wが送られると、被加工物Wの切削送りを一度停止し、切削ブレード60を被加工物Wから離間させ、次いで、被加工物Wを+X方向に移動させ原点位置に戻す。そして、隣り合うストリートSの間隔ずつ切削ブレード60を+Y方向に割り出し送りしながら順次同様の切削を行うことにより、被加工物Wの同方向の全てのストリートSに沿って改質層MLを除去しつつ切削溝G1を形成する。さらに、被加工物Wを90度回転させてから同様の切削加工を行うことで、各ストリートSの全てに沿って改質層MLを除去しつつ切削溝G1を形成することができる。
なお、実施形態1の切削ステップにおいて使用する先端の断面形状が中心が両端に比べて凹んだ中凹形状である切削ブレードは、図4,5に示す切削ブレード60に限定されるものではなく、例えば、図6に示す切削ブレード60A又は図7に示す切削ブレード60Bであってもよい。切削ブレード60Aの先端601の断面形状は、切削ブレード60と同様にその中心が両端に比べて凹んだ中凹形状となっているが、切削ブレード60に比べて中凹形状の勾配を緩くしたものとなっている。また、図7に示すような切削ブレード60Bも、切削ブレード60Aと同様に先端602の断面形状を切削ブレード60に比べて中凹形状の勾配を緩くしたものであるが、切削ブレード60Aの中凹形状が曲線で構成されているのに対して、切削ブレード60Bの中凹形状は直線で構成されている。
図6,7に示すように、切削ステップにおいて、切削ブレード60の代わりに、切削ブレード60A、切削ブレード60Bのいずれを使用した場合においても、切削ブレードの先端の断面における最下位置がクラックCに対してストリートSの伸長方向と直交する方向にずれた状態で、かつ、切削ブレードの厚み方向の中心がクラックCと一致した状態で改質層MLの除去を伴う切削を行うことによって、切削により生ずる切削屑Eをその自重により降下させて、図6に示す切削溝G11又は図7に示す切削溝G12のクラックCからY軸方向両側に所定距離だけずれた各々の溝最深部に集積させることが可能となる。そのため、切削屑EのクラックCへの侵入を防ぎ、チップ側面に汚れが付着することを防止できる。よって、改質層MLの除去によるチップの抗折強度の向上と共に、チップ分割後の工程における不良の発生を防止することができる。
また、本実施形態1の切削ステップにおいては、先端600の断面形状が中心が両端に比べて凹んだ中凹形状である切削ブレード60の代わりに、図8に示す先端650の断面形状が左右一方(図8においては−Y方向側)から他方(図8においては+Y方向側)に傾斜した片減り形状となっている切削ブレード65を使用してもよい。
切削ステップにおいて、切削ブレード60の代わりに切削ブレード65を使用した場合でも、切削ブレード65の先端650の断面における最下位置650PがクラックCに対してストリートSの伸長方向と直交する方向にずれた状態で、かつ、切削ブレードの厚み方向の中心がクラックCと一致した状態で改質層MLの除去を伴う切削を行うことによって、切削により生ずる切削屑Eをその自重により降下させて、切削溝G2のクラックCから+Y方向側に所定距離だけずれた切削溝G2の最深部に集積させることが可能となる。そのため、切削屑EのクラックCへの侵入を防ぎ、チップ側面に汚れが付着することを防止できる。よって、改質層MLの除去によるチップの抗折強度の向上と共に、チップ分割後の工程における不良の発生を防止することができる。
例えば、各ストリートSの全てに沿って改質層MLが除去され図4に示す切削溝G1が形成された被加工物Wは、図示しないエキスパンド装置に搬送される。そして、エキスパンド装置において、被加工物Wに貼着されている図1に示すダイシングテープTが径方向外側に向かって拡張されることで、ダイシングテープTを拡張する外力をダイシングテープTを介して被加工物WのクラックCに加えることができ、被加工物WをクラックCを起点にデバイスDを備える個々のチップに分割することができる。
(2−2)切削ステップの実施形態2
上記(1)レーザビーム照射ステップを実施した後に実施する切削ステップは、以下に説明する本実施形態2のように実施してもよい。
図9において、切削ブレード69を備える切削装置に搬送された被加工物Wは、図示しないチャックテーブルにより裏面Wbが上側を向いた状態で吸引保持されており、鉛直方向(Z軸方向)の軸心周りに回転可能であるとともに、X軸方向に往復移動可能となっている。
図9において一部を示す切削ブレード69は、例えば、全形が環状のワッシャー型ブレードであり、その刃厚は例えば約30μm〜約40μmであり、スピンドル61に装着されている。切削ブレード69の先端690の縦断面形状はR形状、図示の例においては、略円弧状になっている。そして、モータ62によりスピンドル61が回転駆動されることに伴って、切削ブレード69もY軸方向の軸心周りに高速回転する。なお、切削ブレード69は、ワッシャー型ブレードに限定されるものではなく、ハブタイプのブレードであってもよい。
切削ブレード69が切削するべきストリートSの検出は、アライメント手段12が赤外線カメラ120により取得した画像に基づき、パターンマッチング等の画像処理を行うことでなされる。
例えば、図9に示すように、切削ブレード69をY軸方向両側から挟むように2本の切削液供給ノズル63が配設されており、切削液供給ノズル63は図示しない切削液供給源に連通している。切削ブレード69、アライメント手段12、及び切削液供給ノズル63は連動してY軸方向及びZ軸方向へと移動する。
本実施形態2の切削ステップでは、まず、被加工物Wが−X方向(図9においては、紙面手前側)に送られるとともに、アライメント手段12により、切削ブレード69を切り込ませるべきストリートSのY軸方向における座標位置が検出される。切削すべきストリートSが検出されるのに伴って、切削ブレード69がY軸方向に割り出し送りされ、切削すべきX軸方向に延びるストリートSと切削ブレード69とのY軸方向における位置合わせがなされる。この位置合わせは、切削ブレード69の厚み方向(Y軸方向)の中心がクラックCに対してストリートSの伸長方向(図9においてはX軸方向)と直交する方向(図9においてはY軸方向)にずれた状態になるように行われる。そして、先端690の縦断面形状がR形状である切削ブレード69をこのようにストリートSに対して位置付けることによって、切削ブレード69の先端690の断面における最下位置690PがクラックCに対してストリートSの伸長方向と直交する方向にずれた状態となる。
次いで、切削ブレード69の先端690がクラックCの上端側に僅かに切り込む高さ位置まで切削ブレード69が下降した後、被加工物Wがさらに所定の切削送り速度で−X方向に送り出されるとともに、+Y方向側から見て時計回り方向に切削ブレード69が高速回転することで、切削ブレード69がストリートSに沿って被加工物Wの裏面Wb側から内部に切り込んでいく。また、切削加工中においては、切削ブレード69と被加工物Wとの接触部位及びその周囲に対して、切削液供給ノズル63から切削液を噴射する。切削液供給ノズル63から噴射された切削液は、加工点を冷却・洗浄するとともに、切削により生じた図10に示す切削屑Eを被加工物Wから除去していく。図10に示すように、切削ブレード69をその先端690がクラックCの上端側に僅かに切り込む高さ位置に位置付けて切削しているため、切削ブレード69により改質層MLは切削され除去されていく。また、図9、10に示す切削溝G3が被加工物Wに形成されていく。
本実施形態2の切削ステップにおいては、先端690の断面形状がR形状である切削ブレード69を使用し、切削ブレード69の厚み方向の中心をクラックCに対してストリートSの伸長方向と直交する方向にずれた状態になるように切削ブレード69をストリートSに対して位置付け、切削ブレード69の先端690の断面における最下位置690PをクラックCに対してストリートSの伸長方向と直交する方向にずれた状態とする。この状態で改質層除去を伴う切削を行うことで、切削により生ずる切削屑Eをその自重により降下させて、図10に示す切削溝G3のクラックCから+Y方向側に所定距離だけずれた最深部に集積させることが可能となる。そのため、切削屑EのクラックCへの侵入を防ぎ、チップ側面に汚れが付着することを防止できる。よって、改質層MLの除去によるチップの抗折強度の向上と共に、チップ分割後の工程における不良の発生を防止することができる。
なお、実施形態2の切削ステップにおいて使用する先端の縦断面形状がR形状を備える切削ブレードは、図10に示す切削ブレード69に限定されるものではなく、例えば、図11に示すような切削ブレード69Aであってもよい。切削ブレード69Aの先端691の断面形状は、最下位置691Pとなるフラット形状の両隅にR形状が備えられた所謂隅R形状となっている。
図11に示すように、本実施形態2の切削ステップにおいて、切削ブレード69の代わりに切削ブレード69Aを使用した場合でも、切削ブレード69Aの厚み方向の中心をクラックCに対してストリートSの伸長方向と直交する方向にずれた状態になるように切削ブレード69AのストリートSに対する位置付けを行うことで、切削ブレード69Aの先端691の断面における最下位置691PをクラックCに対してストリートSの伸長方向と直交する方向にずれた状態とする。そして、この状態で改質層除去を伴う切削を行うことで、切削により生ずる切削屑Eをその自重により降下させて、図11に示す切削溝G31のクラックCから+Y方向側に所定距離だけずれた最深部に集積させることが可能となる。そのため、切削屑EのクラックCへの侵入を防ぎ、チップ側面に汚れが付着することを防止できる。よって、改質層MLの除去によるチップの抗折強度の向上と共に、チップ分割後の工程における不良の発生を防止することができる。
W:被加工物 Wa:被加工物の表面 Wb:被加工物の裏面 T:ダイシングテープ F:環状フレーム ML:改質層 C:クラック E:切削屑
1:レーザ加工装置 10:チャックテーブル 10a:保持面
100:固定クランプ 100a:挟持板 100b:挟持台 100c:回転軸
11:レーザビーム照射手段 111:集光器 111a:集光レンズ
12:アライメント手段 120:赤外線カメラ
60:先端の断面形状が中凹形状の切削ブレード 60:切削ブレードの先端 61:スピンドル 62:モータ
63:切削液供給ノズル
65:先端の断面形状が片減り形状の切削ブレード
69:先端の断面形状がR形状の切削ブレード

Claims (3)

  1. 複数のストリートが設定された表面を有した被加工物の加工方法であって、
    被加工物に対して透過性を有する波長のレーザビームの集光点を被加工物の内部に位置付け該ストリートに沿って該レーザビームを被加工物の裏面に照射して該ストリートに沿った改質層を形成するとともに該改質層から該表面に至るクラックを伸長させるレーザビーム照射ステップと、
    該レーザビーム照射ステップを実施した後、被加工物に切削液を供給しつつ被加工物の該ストリートに沿って該裏面を切削ブレードで切削して該改質層を除去する切削ステップと、を備え
    該切削ステップでは、該切削ブレードの先端の断面における最下位置が該クラックに対して該ストリートの伸長方向と直交する方向にずれた状態で切削が遂行されることで該切削液とともに切削屑が該クラックに浸入することを防止する加工方法。
  2. 前記切削ブレードの先端の断面形状は中心が両端に比べて凹んだ中凹形状、または左右一方から他方に傾斜した片減り形状であり、
    前記切削ステップでは、該切削ブレードの厚み方向の中心が前記クラックと一致した状態で切削が遂行される、請求項に記載の加工方法。
  3. 前記切削ブレードの先端の断面形状はR形状であり、
    前記切削ステップでは、該切削ブレードの厚み方向の中心が前記クラックに対して前記ストリートの伸長方向と直交する方向にずれた状態で切削が遂行される、請求項に記載の加工方法。
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