JP6803483B2 - 光学系における倍率補正及び／又はビームステアリング - Google Patents

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は、その全体が参照により本明細書に組み込まれる、２０１７年６月１９日に出願された「ＭＡＧＮＩＦＩＣＡＴＩＯＮ ＣＯＭＰＥＮＳＡＴＩＯＮ ＡＮＤ／ＯＲ ＢＥＡＭ ＳＴＥＥＲＩＮＧ ＩＮ ＯＰＴＩＣＡＬ ＳＹＳＴＥＭＳ」という名称の米国仮特許出願第６２／５２２，０６２号に対する優先権及び利益を主張するものである。

（発明の分野）
１つ以上の実施形態は、概して光学系に関し、より具体的には、例えば、光学系における倍率補正及びビームステアリングに関する。

投影システムは、物体平面の物体を像平面上に投影するために利用される。半導体技術では、リソグラフィシステムは、マスク上のパターンをウェハ上に投影することができる。場合によっては、マスクによって提供される所望のパターンとウェハ上に形成された実際のパターンとの間に欠陥が存在し得る。一部の欠陥は無作為に生じ得るが、他の欠陥は、倍率誤差により得る。倍率誤差は、ｘ方向及びｙ方向に異なり得、１つ以上のロボットによるウェハ上のダイの不完全な配置、ウェハ及び／若しくはマスクの膨張（例えば、熱膨張）、ダイをキャリアウェハ上に成形するために使用される化合物の沈降、並びに／又は他の原因など、様々な原因に起因し得る。従来の投影システムは、ターゲット像を調整（例えば、拡大又は縮小）するために、マスク又はウェハを加熱及び／又は冷却することによって、倍率誤差の軽減を試み得る。しかしながら、このような加熱及び／又は冷却は時間を要し、スループットに悪影響を及ぼし、ウェハからウェハへの倍率に関して非実用的であり得る。加えて、加熱及び冷却は、概して対称補正のみを適用することが可能であり、マスク又はウェハの熱膨張係数によって制限され得る。

１つ以上の実施形態では、光学系は、物体に関連付けられた第１の放射線を受容し、物体の像に関連付けられた第２の放射線を像平面に向けて方向付けるように構成されたレンズシステムを含む。レンズシステムは、第１の放射線を受容し、選択的に拡大するように構成された第１のレンズセットを含む。レンズシステムはまた、第１のレンズセットを選択的に調整して、像に関連付けられた倍率を第１の方向及び第２の方向に沿って対称的に調整するように構成されたアクチュエータシステムを含む。レンズシステムはまた、第１のレンズセットによって選択的に拡大された第１の放射線を少なくともビームステアリングレンズの傾斜に基づいて方向付けて、第２の放射線を提供するように構成されたビームステアリングレンズを含む。ビームステアリングレンズの傾斜は、アクチュエータシステムによって調整可能であってもよい。第１の方向は、第２の方向に直交してもよい。場合によっては、像平面は、物体平面に平行であってもよい。他の場合には、像平面は、物体平面に平行ではない。

１つ以上の態様では、光学系はまた、複数のレンズを含むレンズアセンブリを含んでもよい。光学系は、第１の放射線をレンズアセンブリまで通過させるように構成された第１のプリズムを更に含んでもよく、第１のレンズセットは、第１の放射線を第１のプリズムまで通過させるように構成される。光学系は、レンズアセンブリの複数のレンズを介して第１のプリズムから第１の放射線を受容し、第１の放射線を反射するように構成されたミラーを更に含んでもよい。光学系は、レンズアセンブリの複数のレンズを介してミラーから反射された第１の放射線を受容し、光路上の第１の放射線を像平面に向けて方向付けるように構成された第２のプリズムを更に含んでもよい。

いくつかの実施形態では、光学系は、第１の放射線を受容し、選択的に拡大するように構成された第２のレンズセットを更に含んでもよい。アクチュエータシステムは、第２のレンズセットを選択的に調整して、第１の方向又は第２の方向に沿って倍率を調整するように更に構成されてもよい。ビームステアリングレンズは、第１のレンズセット及び第２のレンズセットによって選択的に拡大された第１の放射線を少なくともビームステアリングレンズの傾斜に基づいて方向付けて、第２の放射線を提供するように構成されてもよい。光学系は、複数のレンズを含むレンズアセンブリを更に含んでもよい。光学系は、第１の放射線をレンズアセンブリまで通過させるように構成された第１のプリズムを更に含んでもよい。光学系は、レンズアセンブリの複数のレンズを介して第１のプリズムから第１の放射線を受容し、第１の放射線を反射するように構成されたミラーを更に含んでもよい。光学系は、レンズアセンブリの複数のレンズを介してミラーから反射された第１の放射線を受容し、光路上の第１の放射線を像平面に向けて方向付けるように構成された第２のプリズムを更に含んでもよい。第１のレンズセットは、第１の放射線を第１のプリズムまで通過させるように構成されてもよい。第２のプリズムは、第１の放射線を第２のレンズセットまで通過させるように構成されてもよい。

１つ以上の態様では、アクチュエータシステムは、第２のレンズセットを調整して、第１の方向に沿った第１の倍率補正値を倍率に適用し、かつ第２の方向に沿った第２の倍率補正値を倍率に適用するように構成されてもよい。第１の倍率補正値は、第２の倍率補正値と異なってもよい。アクチュエータシステムは、第１のレンズセットの少なくとも１つのレンズを第１の位置から第２の位置に、及び／又は第２のレンズセットの少なくとも１つのレンズを第３の位置から第４の位置に移動させて、倍率を調整するように構成されてもよい。場合によっては、第２のレンズセットは単レンズであり、アクチュエータシステムは、単レンズを屈曲及び／又は回転させて、倍率を調整するように構成されてもよい。

１つ以上の実施形態では、光学系はリソグラフィシステムである。物体は、マスクのパターンを含んでもよい。像平面は、ウェハを含んでもよい。像は、ウェハ上の物体の投影を含んでもよい。光学系は、少なくともウェハの位置に対するマスクの位置に基づく倍率の調整に関連付けられた、１つ以上の制御信号を生成するように構成された倍率コントローラを更に含んでもよい。アクチュエータシステムは、１つ以上の制御信号を受信し、１つ以上の制御信号に応答して倍率の調整を引き起こすように構成されてもよい。光学系は、ウェハ上の像の位置を遷移させるために、マスクの位置に対するウェハの位置を調整するように構成されたウェハ位置決めコントローラを更に含んでもよい。いくつかの態様では、レンズシステムは、パターンのそれぞれの部分をウェハのそれぞれの部分上に投影するように構成されてもよい。アクチュエータシステムは、１つ以上の制御信号に応答してビームステアリングレンズの傾斜を調整するように更に構成されてもよく、ウェハのそれぞれの部分は、ビームステアリングレンズのそれぞれの傾斜に関連付けられている。

１つ以上の実施形態では、本方法は、物体に関連付けられた第１の放射線を受容するステップを含む。この方法は、第１の放射線を少なくとも第１のレンズセットを通して方向付けて選択的に拡大された第１の放射線を得るステップであって、第１の放射線のこの方向付けの間に、第１のレンズセットを選択的に調整して、物体の像に関連付けられた倍率を第１の方向及び第２の方向に沿って対称的に調整する、該ステップを更に含む。この方法は、選択的に拡大された第１の放射線を少なくともビームステアリングレンズの傾斜に基づいて方向付けて、像平面に向かう第２の放射線を提供するステップを更に含む。いくつかの態様では、第１のレンズセットは、複数のレンズを含んでもよく、第１のレンズセットを選択的に調整するステップは、複数のレンズのうちの少なくとも２つの間の距離を調整するステップを含んでもよい。第１の方向は、第１の方向に直交してもよい。場合によっては、像平面は、物体平面に平行であってもよい。他の場合には、像平面は、物体平面に平行ではない。

１つ以上の態様では、第１の放射線を方向付けるステップは、選択的に拡大された第１の放射線を得るために、少なくとも第１のレンズセット及び第２のレンズセットを通して第１の放射線を方向付けるステップであって、第１の放射線のこの方向付けの間に、第２のレンズセットを選択的に調整して、第１の方向又は第２の方向に沿って倍率を調整する、該ステップを含んでもよい。第２のレンズセットを選択的に調整するステップは、第２のレンズセットを選択的に調整して、第１の方向に沿った第１の倍率補正値を倍率に適用し、かつ第１の倍率補正値とは異なる第２の方向に沿った第２の倍率補正値を倍率に適用するステップを含んでもよい。

いくつかの実施形態では、この方法はリソグラフィシステムに利用される。物体は、マスクのパターンを含んでもよい。像平面は、ウェハを含んでもよい。像は、ウェハ上の物体の投影を含んでもよい。選択的に拡大された第１の放射線を方向付けるステップは、パターンのそれぞれの部分をウェハのそれぞれの部分上に投影するステップを含んでもよい。いくつかの態様では、この方法は、少なくともウェハの位置に対するマスクの位置に基づく倍率の調整に関連付けられた、１つ以上の制御信号を生成するステップを更に含んでもよく、第１のレンズセットを選択的に調整するステップは、１つ以上の制御信号に基づく。この方法は、１つ以上の制御信号に応答してビームステアリングレンズの傾斜を調整するステップを更に含んでもよく、ウェハのそれぞれの部分は、ビームステアリングレンズのそれぞれの傾斜に関連付けられる。

１つ以上の実施形態では、光学系は、物体に関連付けられた第１の放射線を受容し、物体の像に関連付けられた第２の放射線を像平面に向けて方向付けるように構成されたレンズシステムを含む。レンズシステムは、第１の放射線を受容し、選択的に拡大するように構成された第１のレンズセットを含む。レンズシステムはまた、第１の放射線を受容し、選択的に拡大するように構成された第２のレンズセットを含む。レンズシステムはまた、第１のレンズセットを選択的に調整して、像に関連付けられた倍率を第１の方向及び第２の方向に沿って対称的に調整するように構成されたアクチュエータシステムを含む。アクチュエータシステムはまた、第２のレンズセットを選択的に調整して、第１の方向又は第２の方向の少なくとも１つに沿って倍率を調整するように構成される。１つ以上の態様では、レンズシステムは、第１の放射を少なくともビームステアリングレンズの傾斜に基づいて方向付けて、第２の放射線を提供するように構成されたビームステアリングレンズを更に含んでもよい。ビームステアリングレンズの傾斜は、アクチュエータシステムによって調整可能であってもよい。

いくつかの実施形態では、光学系は、複数のレンズを含むレンズアセンブリを更に含む。光学系は、第１の放射線をレンズアセンブリまで通過させるように構成された第１のプリズムを更に含む。光学系は、レンズアセンブリの複数のレンズを介して第１のプリズムから第１の放射線を受容し、第１の放射線を反射するように構成されたミラーを更に含む。光学系は、レンズアセンブリの複数のレンズを介してミラーから反射された第１の放射線を受容し、光路上の第１の放射線を像平面に向けて方向付けるように構成された第２のプリズムを更に含む。第１のレンズセットは、第１の放射線を第１のプリズムまで通過させるように構成されてもよく、第２のプリズムは、第１の放射線を第２のレンズセットまで通過させるように構成されてもよい。

いくつかの態様では、アクチュエータシステムは、第２のレンズセットを調整して、第１の方向に沿った第１の倍率補正値を倍率に適用し、かつ第２の方向に沿った第２の倍率補正値を倍率に適用するように構成されてもよい。第１の倍率補正値は、第２の倍率補正値と異なってもよい。場合によっては、第１の方向は、第２の方向に直交してもよい。いくつかの実装では、アクチュエータシステムは、第１のレンズセットの少なくとも１つのレンズを第１の位置から第２の位置に、及び／又は第２のレンズセットの少なくとも１つのレンズを第３の位置から第４の位置に移動させて、倍率を調整するように構成されてもよい。

いくつかの実施形態では、光学系はリソグラフィシステムであってもよい。物体は、マスクのパターンを含んでもよい。像平面はウェハを含んでもよい。像は、ウェハ上の物体の投影を含んでもよい。光学系は、第２の放射線を少なくともビームステアリングレンズの傾斜に基づいて提供するように構成された、ビームステアリングレンズを含んでもよい。レンズシステムは、パターンのそれぞれの部分をウェハのそれぞれの部分上に投影するように構成されてもよい。アクチュエータシステムは、１つ以上の制御信号に応答してビームステアリングレンズの傾斜を調整するように更に構成されてもよい。ウェハのそれぞれの部分は、ビームステアリングレンズのそれぞれの傾斜に関連付けられてもよい。

１つ以上の実施形態では、本方法は、物体に関連付けられた放射線を受容するステップを含む。この方法は、少なくとも第１のレンズセット及び第２のレンズセットを通して、放射線を像平面に向けて方向付けるステップを含む。この方法は、この方向付けの間に、第１のレンズセットを選択的に調整して、物体の像に関連付けられた倍率を第１の方向及び第２の方向に沿って対称的に調製するステップと、第２のレンズセットを選択的に調整して、第１の方向又は第２の方向に沿って倍率を調整するステップと、を含む。

リソグラフィシステムなどのいくつかの実施形態では、物体はマスクのパターンを含み、像平面はウェハを含んでもよく、像はウェハ上の物体の投影を含んでもよく、放射線を方向付けるステップは、パターンのそれぞれの部分をウェハのそれぞれの部分上に投影するステップを含む。この方法は、少なくともウェハの位置に対するマスクの位置に基づいて１つ以上の制御信号を生成するステップを更に含んでもよい。この方法は、１つ以上の制御信号に応答してビームステアリングレンズの傾斜を調整するステップを更に含んでもよい。ウェハのそれぞれの部分は、ビームステアリングレンズのそれぞれの傾斜に関連付けられてもよい。

１つ以上の実施形態では、方法は、レンズシステムの第１のレンズセットと、レンズシステムの第２のレンズセットとを提供するステップを含む。この方法は、レンズシステムによって、物体に関連付けられた第１の放射線を受容するステップを更に含む。この方法は、第１の放射線を第１の方向及び第１の方向に直行する第２の方向に沿って対照的に拡大するように、第１の放射線を第１のレンズセットに通して方向付けるステップを更に含む。この方法は、第１の放射線を第１の方向又は第２の方向に沿って拡大するように、第１の放射線を第２のレンズセットに通して方向付けるステップを更に含む。この方法は、物体の像に関連付けられた第２の放射線を像平面に向けて方向付けるステップを更に含み、第２の放射線は、第１及び第２のレンズセットを通過した第１の放射線に基づく。

本開示の範囲は、参照によりこの項に組み込まれる特許請求の範囲によって定義される。本開示の実施形態のより完全な理解は、以下に示す１つ以上の実施形態の詳細な説明を考慮することによって、その更なる利点の実現と共に、当業者に与えられるであろう。添付の図面シートを参照するが、まず、これらの図面シートについて簡単に説明する。

本開示の１つ以上の実施形態による光学系を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、対称倍率レンズセット、非対称倍率レンズセット、並びに関連する取り付けシステム及びアクチュエータシステムを示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、対称倍率レンズセット、非対称倍率レンズセット、並びに関連する取り付けシステム及びアクチュエータシステムを示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、対称倍率レンズセットのレンズの相対的な位置決めの例を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、対称倍率レンズセットのレンズの相対的な位置決めの例を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、対称倍率レンズセットのレンズの相対的な位置決めの例を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、対称倍率レンズセットの例示的な断面図を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、非対称倍率レンズセットの例示的な断面図を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、光学系のレンズデュオを示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、非対象倍率レンズを示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、光学系のビームステアリングレンズを示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、ビームステアリングレンズ及び関連する構成要素を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、リソグラフィシステムを示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、走査リソグラフィ機又はその一部分を示す。 走査リソグラフィ機の露光フィールドの例を示す。 走査リソグラフィ機の露光フィールドの例を示す。 ウェハ上の様々なダイの実際及び所望のダイサイズ並びに場所を示す。 図１２のダイの拡大図を提供する。 図１２のダイの拡大図を提供する。 本開示の１つ以上の実施形態による、ウェハが移動されたときの光学系のビームステアリングレンズの傾斜を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、ウェハが移動されたときの光学系のビームステアリングレンズの傾斜を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、ウェハが移動されたときの光学系のビームステアリングレンズの傾斜を示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、スキャナ露光視野の位置と、関連するウェハ位置の遷移とを示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、スキャナ露光視野の位置と、関連するウェハ位置の遷移とを示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、スキャナ露光視野の位置と、関連するウェハ位置の遷移とを示す。 本開示の１つ以上の実施形態による、スキャナ露光視野の位置と、関連するウェハ位置の遷移とを示す。

本開示の実施形態及びそれらの利点は、以下の詳細な説明を参照することにより最良に理解される。同様の参照番号が、図面のうちの１つ以上に示される同様の要素を識別するために使用されることを理解されたい。

以下に記載される詳細な説明は、対象技術の様々な構成の説明として意図され、対象技術が実施され得る唯一の構成を表すことを意図するものではない。添付の図面は、本明細書に組み込まれ、詳細な説明の一部を構成する。詳細な説明は、本主題技術の完全な理解を提供する目的のための具体的な詳細を含む。しかしながら、本主題技術は、本明細書に記載される具体的な詳細に限定されず、１つ以上の実施形態を使用して実施され得ることは、当業者には明確かつ明白であろう。１つ以上の事例において、構造体及び構成要素は、対象技術の概念を不明瞭にすることを避けるために、ブロック図の形態で示される。本主題開示の１つ以上の実施形態は、１つ以上の図によって例示され、かつ／又は１つ以上の図に関連して説明され、特許請求の範囲に記載される。

光学系における倍率補正及びビームステアリングを促進するための様々な技術が提供される。倍率補正は、ウェハ上のダイの不完全な配置、ウェハ及び／若しくはマスクの膨張、並びに／又は他の状況などによる倍率誤差を考慮するために利用され得る。いくつかの実施形態では、光学系は、倍率補正（例えば、倍率修正又は倍率調整とも称される）を提供するためのレンズセットを含んでもよい。倍率補正に利用されるレンズセットは、集合的に倍率補正レンズと称され得る。倍率補正は、光学系の公称倍率を調整（例えば、変更、修正、補正）するために使用されてもよい。この点に関して、光学系の公称倍率は、倍率補正レンズによって提供される任意の倍率補正なしの光学系の倍率を指し得る。一態様では、倍率補正レンズによって提供される倍率補正は、倍率補正レンズが物体に倍率を効果的に提供するため、単に倍率と称され得る。本明細書で使用するとき、倍率補正レンズによって提供される倍率は、正の倍率（例えば、提供された倍率なしの場合に比べて像を大きくする）、負の倍率（例えば、提供された倍率なしの場合に比べて像を小さくする）、又はゼロ倍率（例えば、倍率補正レンズは拡大も縮小もしない）であってもよい。一態様では、倍率は、像平面（例えば、対象平面とも称される）における像サイズと物体平面における物体サイズとの比を指し得る。

第１のレンズセットは、ｘ方向及びｘ方向に直交するｙ方向の両方に沿って同じ倍率補正を提供してもよい。このような倍率補正は、対称倍率補正又は回転対称倍率補正と称され得る。第１のレンズセットは、対称倍率レンズセットと称され得るか、又はそれによって実施され得る。対称倍率レンズセットは、１つ以上の球面レンズなど、１つ以上の対称レンズを含んでもよい。第２のレンズセットは、ｘ方向及び／又はｙ方向に沿って異なる倍率補正を提供してもよい。このような倍率補正は、単軸倍率補正又は非対称倍率補正と称され得る。第２のレンズセットは、非対称倍率レンズセットと称され得る。非対称倍率レンズセットは、１つ以上の円柱レンズなど、１つ以上の非対称レンズを含んでもよい。本開示の様々な実施形態に記載される光学系は、対称倍率補正のための１つのレンズセットと、非対称倍率補正のための別のレンズセットとを含み、光学系は、他の実施形態では、対称倍率補正及び／又は非対称倍率補正を提供するためにより少ないレンズセット、追加のレンズセット、及び／又は異なる組み合わせのレンズセットを含んでもよい。例えば、一実施形態では、光学系は、対称倍率補正のための単一のレンズセットを含んでもよい（例えば、非対称倍率補正のためのレンズセットを有さない）。

それぞれのレンズセットは、１つ以上のレンズ（例えば、１つ以上の凸レンズ及び／又は１つ以上の凹レンズ）を含んでもよい。一態様では、第１のレンズセットは、３つのレンズ（例えば、レンズトリオとも称される）を含んでもよい。一例として、３つのレンズは、２つの平凹レンズ及び１つの両凸レンズを含んでもよい。別の例として、３つのレンズは、２つの平凸レンズ及び１つの両凹レンズを含んでもよい。

光学系は、倍率補正レンズによって提供される倍率補正の調整を容易にするためのアクチュエータシステムを含んでもよい。一例として、レンズセットが２つ以上のレンズを含む場合、このレンズセットによって提供される倍率補正は、セット内のレンズのうちの少なくとも２つの間の間隙（例えば、エアギャップ）のサイズを調整することによって調整され得る。この点に関して、アクチュエータシステムは、間隙のサイズを調整するために、セット内のレンズのうちの１つ以上を移動させ得る。別の例として、レンズセットが単レンズを含む場合、単レンズによって提供される倍率補正は、アクチュエータシステムを使用して力を加えることなどによって、単レンズを曲げる（例えば、変形させる）ことによって調整され得る。

１つ以上の実施形態では、光学系は、ビームを像平面に方向付ける（direct）ための１つ以上のビームステアリング要素を含んでもよい。ビームステアリング要素は、ビームステアリングレンズ、ビームステアリング窓（BS Window）、傾斜レンズ、傾斜窓、及び／又はそれらの変形形態であってもよく、又はそのように称されてもよい。ビームステアリング要素（複数可）は、第１及び第２のレンズセットを通って伝播したビームを受容（receive）し得る。

様々な実施形態を使用して、テレセントリック光学系などの光学系の倍率が制御され得る。いくつかの実施形態では、光学系は、Ｗｙｎｎ−Ｄｙｓｏｎ１：１（例えば、単位倍率）走査投影システム及び／若しくは他のフォトリソグラフィ像システムなどの半導体リソグラフィシステム、並びに／又は概ね、物体平面における物体の像を像平面上に投影するための任意の投影レンズシステムであってもよく、それを含んでもよく、又はその一部であってもよい。いくつかの態様では、物体及び像においてテレセントリックである投影レンズシステムの場合、倍率は、物体距離又は像距離の変更によって変更され得ない。場合によっては、倍率補正を提供するために、投影レンズの物体テレセントリック空間又は像テレセントリック空間に大半径の凸レンズ及び凹レンズが用いられてもよい。投影レンズシステムにおける倍率補正レンズの使用により、光学系によって提供される倍率の調整が可能になる。場合によっては、投影レンズシステムにより大きい半径の倍率補正レンズを追加することにより、（例えば、より小さい倍率補正レンズの追加と比べて）像性能に対する影響が小さくなる。倍率補正及びビームステアリングは、拡大誤差を低減しながらスループットを維持するために、迅速に実行され得る。更に、このような技術は、異なる倍率補正が異なる方向に提供される非対称倍率補正を可能にする。

ここで図を参照すると、図１は、本開示の１つ以上の実施形態による光学系１００を示す。しかしながら、図示された構成要素の全てが必要とされなくてもよく、１つ以上の実施形態は、図１に示されていない追加の構成要素を含んでもよい。構成要素の配置及びタイプの変形は、本明細書に記載される請求項の趣旨又は範囲から逸脱することなく行われてもよい。追加の、より少ない、及び／又は異なる構成要素が提供されてもよい。一実施形態では、光学系１００は、ビームステアリングを用いて光学非対称倍率を提供するために利用されてもよい。

光学系１００の様々な光学構成要素は、光学構成要素上に入射する又はそれを通って伝搬する放射線を反射及び／又は屈折させる。いくつかの態様では、放射線は電磁（ＥＭ）放射である。ＥＭ放射線は、概ね、ＥＭスペクトル内の任意の放射線を指し得、放射線のＥＭビーム、ＥＭビーム、光線、ビーム、又はそれらの変異（例えば、光のＥＭビーム）と称され得る。用語「光線」は、可視光線、赤外光線、紫外線（ＵＶ）光線、又は概ね、ＥＭスペクトルの任意の部分を含み得る。場合によっては、光学系１００の様々な構成要素の光透過性表面は、そこを通る光透過を増加させるための材料でコーティングされてもよい。代替的及び／又は追加的に、光学系１００の様々な構成要素の反射表面は、反射率を増加させるようにコーティングされてもよい。

図１に示されるような一実施形態では、物体平面１０５は、ｚ方向（例えば、図１の垂直方向）に沿って像平面１１０に平行であり、そこから離間している。物体平面１０５と像平面１１０との間の例示的な距離は、約８．５８インチである。物体平面１０５及び像平面１１０は、光学系１００の反対側に配設される。放射線源（図１には示されていない）は、物体平面１０５を通って光学系１００までビーム１１５（例えば、ＥＭ放射線）を提供し得る。例えば、放射線源は、ＵＶ光源などの光源であってもよい。ビーム１１５は、光学系１００の様々な構成要素を通って伝搬し、ビーム１２０として像平面１１０に出力されてもよい。このようにして、物体平面１０５における物体の像は、像平面１１０上に投影され得る。他の実施形態では、物体及び像平面は、互いに規定の角度にある（例えば、物体及び像平面は互いに平行ではない）。

一実施形態では、例えば、光学系１００がリソグラフィシステム（例えば、半導体リソグラフィシステム）の一部として提供されるとき、レチクル、マスク、又は概ね、マイクロエレクトロニクスパターンが上（例えば、材料のプレート／フィルム上）に画定されている任意の構造体は、像平面１１０上に投影されるように、物体平面１０５に物体として提供されてもよい。構造体が上に製作又は製造されるウェハは、マイクロエレクトロニクスパターンの投影を受容するように、像平面１１０に提供されてもよい。この点に関して、ビーム１１５は、物体平面１０５の物体（例えば、レチクル、マスクなど）を通って伝搬し、光学系１００によって像平面１１０に方向付けられる。場合によっては、光学系１００は、ビーム１１５に倍率（例えば、正又は負の倍率）を適用してもよい。一態様では、倍率は、像平面１１０における像サイズと物体平面１０５における物体サイズとの比を指し得る。

いくつかの実施形態では、光学系１００は、対称倍率レンズセット１２５と、非対称倍率レンズセット１３０と、ビームステアリングレンズ１３５と、プリズム１４０及び１４５と、レンズアセンブリ１５０と、ミラー１５５とを含む。場合によっては、図１の破線ボックスは、光学系１００のハウジングを表し得る。例えば、ハウジングは、ビーム１１５が光学系１００に入る（例えば、連結する）ことを可能にする窓及び／又は材料を含んでもよい。いくつかの態様では、非対称倍率レンズセット１３０は、本明細書で更に説明されるように任意選択的である。

レンズアセンブリ１５０は、レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５を含む。レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５は、それぞれ平凸レンズ、凹凸レンズ、凸凹レンズ、及びメニスカスレンズであってもよい。一態様では、ミラー１５５及びレンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５は、光学系１００の光軸に沿って位置付けられる（例えば、取り付けられる）。光学系１００の光軸は、ビームが屈折することなく横断し得る軸を指し得る。一態様では、レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５は、色収差、フィールド収差、及び／又は非点収差を集合的に修正するための材料で作製され、及び／又はそのように位置付けられる。レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５は、同じ又は異なるガラスタイプで作製されてもよい。

レンズ１６０は、ミラー１５５から離れる方を向く平面と、ミラー１５５の方を向く凸面とを有する。レンズ１６０の凸面は、レンズ１６５の凹面の方を向いてもよい。場合によっては、レンズ１６０の凸面は、レンズ１６５の凹面に入れ子にされてもよい。例えば、レンズ１６０及び１６５は、ダブレットを形成するように、共にセメントで接合されてもよい。レンズ１６５は、ミラー１５５の方を向く凸面を有する。レンズ１６５の凸面の曲率は、レンズ１６５の凹面の曲率より小さく、かつレンズ１６０の凸面の曲率より小さくてもよい。

レンズ１７０は、ミラー１５５から離れてレンズ１６０に向かう方を向く凸面と、ミラー１５５の方を向く凹面とを有する。レンズ１７５は、ミラー１５５の方を向く凸面と、ミラー１５５から離れてレンズ１６０に向かう方を向く凹面とを有する。場合によっては、レンズ１７５の表面の曲率は、レンズ１６５及びレンズ１７０の曲率より小さい。

ミラー１５５は、光学系１００の光軸を中心とし、レンズ１６０の方を向く凹面１８０を有する。凹面１８０は、球面又はわずかに非球面であってもよい（例えば、実質的に球面とも称される）。凹面１８０は、大きいフィールドの高次色収差を修正するのを助けるために、わずかに球面（例えば、わずかに楕円）であってもよい。一態様では、レンズアセンブリ１５０の凹面１８０並びにレンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５の形状と、その位置決め／配置とが、色収差の修正を容易にし得る。前述のものは、レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５の例示的特性を提供することに留意されたい。レンズ及び／又はレンズ特性の他の組み合わせが利用されてもよい。一実施形態では、レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５は、球面又は非球面のいずれかであり得る。Ｄｙｓｏｎレンズの他の実施形態は、当業者に既知であり、本開示に記載される定義済みの倍率及びビームステアリングと共に使用され得る。

プリズム１４０（例えば、屋根型プリズムとも称される）とプリズム１４５（例えば、折り畳みプリズムとも称される）は、物体平面１０５と像平面１１０との間にある。物体平面とプリズム１４０の上面との間の例示的な距離は、約１．４１インチである。図１に示されるような場合には、プリズム１４０及び１４５は、互いに隣接して、レンズ１６０に取り付けられる。この点に関して、プリズム１４０及び１４５は、ミラー１５５から遠いレンズ１６０の側に隣接する。プリズム１４０及び１４５はそれぞれ、レンズ１６０の平面に隣接する平面を有する。プリズム１４０及び１４５のこの平面は、物体平面１０５、像平面１１０、並びにレンズアセンブリ１５０及びミラー１５５の光軸に対して垂直な面内にある。

プリズム１４０は、物体平面１０５に対して４５°の角度及びレンズ１６０の平面に対して４５°の角度で、物体平面１０５に向かって延在する頂点縁部１４２を有する。プリズム１４０は、平面状であり、頂点縁部１４２まで延在する屋根面を有する。屋根面は、互いに９０°の角度であってもよい。プリズム１４５は、物体平面１０５に対して平行であり、かつ物体平面１０５の方を向く平面を有する。プリズム１４５は、物体平面１０５及び像平面１１０に対して４５°の角度にある面１４７を有する。面１４７は、プリズム１４０の頂点縁部１４２を含む平面、並びに物体平面１０５及び像平面１１０に対して垂直である。プリズム１４０の面１４７及び頂点縁部１４２は、互いに対して、ミラー１５５に向かう方向に収束する。プリズム１４０及び１４５は、概ね、物体平面１０５と像平面１１０との間のほぼ中間であり、かつそれらに対して平行である平面内で互いに隣接している。図１に示されるような場合には、プリズム１４０及び１４５は、この中間点で互いに隣接する平坦面を有する。

プリズム１４０及び１４５並びにレンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５は、物体平面１０５から像平面１１０に投影される特定のフィールドサイズ及び形状を受容し、通過させるために適切なサイズに（例えば、十分に大きく）設定される。対称倍率レンズセット１２５及び非対称倍率レンズセット１３０は、特定のフィールドサイズ及び形状を提供するために利用され得る。図１では、対称倍率レンズセット１２５は、物体平面１０５とプリズム１４０との間に位置付けられ、非対称倍率レンズセット１３０は、プリズム１４５と像平面１１０との間に位置付けられる。対称倍率レンズセット１２５は、物体平面１０５から受容したビーム１１５を拡大し得る。非対称倍率レンズセット１３０は、プリズム１４５を通過したビームを拡大して、ビーム１２０を像平面１１０に提供し得る。非対称倍率レンズセット１３０が光学系１００内に提供されない態様では、プリズム１４５は、ビーム１２０を像平面１１０に提供し得る。例えば、非対称倍率レンズセット１３０を有さない実施形態では、図１の残りの構成要素は、ビームステアリングレンズ１３５の表面を向くプリズム１４５の表面、及びビームステアリングレンズ１３５を介してビーム１２０を像平面１１０に提供するプリズム１４５を除き、図１に示すままであってもよい。

対称倍率レンズセット１２５は、ｘ方向及びｙ方向に沿って対称倍率補正を提供する。対称倍率レンズセット１２５は、レンズ１２５Ａ〜Ｃを含む。レンズ１２５Ａ〜Ｃは、１つ以上の球面レンズであってもよく、又はそれを集合的に提供してもよい。一例では、レンズ１２５Ａ、１２５Ｂ、及び１２５Ｃは、それぞれ平凹レンズ、両凸レンズ、及び凹平レンズであってもよい。別の例では、レンズ１２５Ａ、１２５Ｂ、及び１２５Ｃは、平凸レンズ、両凹レンズ、及び凸平レンズであってもよい。一態様では、レンズ１２５Ａ〜Ｃのうちの少なくとも１つは、対称倍率レンズセット１２５によって提供される対称倍率補正を調整するため、光学系１００に関連付けられたアクチュエータシステム（図１には示されていない）によって移動可能であってもよい（例えば、並進運動を介する）。例えば、アクチュエータシステムは、光学系１００の一部として提供されてもよく、ないしは別の方法で光学系１００に連結されてもよい。場合によっては、レンズ１２５Ａ〜Ｃのうちの１つ又は２つは移動可能であるが、レンズ１２５Ａ〜Ｃのうちの残りは、定位置に固定されたままであることが意図される。更なる実施形態では、レンズ１２５Ａ〜Ｃの全ては移動可能である。

非対称倍率レンズセット１３０は、ｘ方向又はｙ方向の一方又は両方に沿って倍率補正調整を提供する。非対称倍率レンズセット１３０は、レンズ１３０Ａ〜Ｃを含む。レンズ１３０Ａ〜Ｃは、１つ以上の円柱レンズであってもよく、又はそれを集合的に提供してもよい。一例では、レンズ１３０Ａ、１３０Ｂ、及び１３０Ｃは、平凸レンズ、凹凹レンズ、及び凸平レンズであってもよい。別の例では、レンズ１３０Ａ〜Ｃは、それぞれ平凹レンズ、両凸レンズ、及び凹平レンズであってもよい。レンズ１３０Ａ〜Ｃの最も厚い部分は、約２ｍｍ〜１０ｍｍであってもよい。一例では、レンズ１３０Ａ〜Ｃは、円形、正方形、又は矩形ガラスを使用して作製されてもよい。場合によっては、矩形の外形は、製造及び位置合わせがより容易であり得る。一態様では、レンズ１３０Ａ〜Ｃのうちの少なくとも１つは、非対称倍率レンズセット１３０によって提供される非対称倍率補正を調整するため、光学系１００に関連付けられたアクチュエータシステムによって移動可能であってもよい（例えば、並進運動を介する）。場合によっては、レンズ１２５Ａ〜Ｃのうちの１つ又は２つは移動可能であるが、レンズ１３０Ａ〜Ｃのうちの残りは、定位置に固定されたままであることが意図される。更なる実施形態では、全てのレンズ１３０Ａ〜Ｃは移動可能である。

一態様では、大きい非対称倍率補正はシステム非点収差に影響を及ぼし得るため、非対称倍率レンズセット１３０によって提供される非対称倍率補正範囲は、対称倍率レンズセット１２５によって提供される対称倍率補正範囲よりも小さくてもよい（例えば、より小さくなるように設計されてもよい）。一例として、対称倍率レンズセット１２５は、ｘ方向及びｙ方向の両方に沿って−２５０百万分率（ｐｐｍ）〜＋２５０ｐｐｍの対称倍率補正範囲を提供するために利用されてもよく、非対称倍率レンズセット１３０は、ｘ方向又はｙ方向の一方又は両方に沿って−５０ｐｐｍ〜＋５０ｐｐｍの倍率補正範囲を提供するために利用されてもよい。一態様では、正の倍率補正は倍率の増加をもたらし（例えば、倍率補正レンズを有さない場合と比べて）、負の倍率補正は倍率の減少をもたらし、ゼロ倍率補正は倍率を維持する。この例では、光学系１００は、約±２５０ｐｐｍの対称補正の補正範囲と、約±５０ｐｐｍの単軸補正範囲とを提供し得る。

一態様では、対称倍率レンズセット１２５は、２対のレンズであってもよく、又はそのようにみなされてもよい。例えば、第１の対のレンズ間の間隙（例えば、エアギャップ）のサイズは、０〜＋２５０ｐｐｍの倍率補正範囲を提供し得、第２の対のレンズ間の間隙のサイズは、−２５０ｐｐｍ〜０の倍率補正範囲を提供し得る。この点に関して、第１の対のレンズは、レンズ１２５Ａ及び１２５Ｂを含んでもよく、第２の対のレンズはレンズ１２５Ｂ及び１２５Ｃを含んでもよい。

任意選択的に、ビームステアリングレンズ１３５は、非対称倍率レンズセット１３０の出力を受容し、ビーム１２０を像平面１１０に方向付けてもよい。場合によっては、ビームステアリングレンズ１３５は、（例えば、ビームステアリングレンズ１３５を有さない場合と比べて）ビーム１２０をｘ方向及び／又はｙ方向に沿って方向付けるための調整可能な傾斜を有してもよい。非対称倍率レンズセット１３０が光学系１００に提供されない態様では、プリズム１４５は、ビーム１２０をビームステアリングレンズ１３５に提供してもよく、ビームステアリングレンズ１３５は、ビーム１２０を像平面１１０に方向付けてもよい。

光学系１００の光路は、物体平面１０５から提供されるビーム１１５が、出力ビーム１２０として提供されるように光学系１００を横断して、像平面１１０上に方向付けられる経路である。ビーム１１５が光路を横断し、光路に沿って様々な構成要素（例えば、レンズ、ミラー）を横断し、かつ／又はミラー面に衝突する際に、ビーム１１５の強度は、吸収及び／又は散乱損失などによって減衰され得ることに留意されたい。

光学系１００の光路を横断する際に、ビーム１１５は、物体平面１０５の物体を通過し、光学系１００に入る。光学系１００に入ると、ビーム１１５は、対称倍率レンズセット１２５を通過する。対称倍率レンズセット１２５は、ビーム１１５に対称倍率補正を適用し得る。得られたビームは、対称倍率レンズセット１２５を出て、プリズム１４０を通過し、プリズム１４０、例えば頂点縁部１４２によって異なる方向に反射される。プリズム１４０によって反射されたビームは、順に、レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５を通過し、ミラー１５５の凹面１８０の異なる部分に衝突する。ミラー１５５の凹面１８０は入射ビームを反射する。凹面１８０によって反射されたビームは、順に、レンズ１７５、１７０、１６５、及び１６０を通過してプリズム１４５に至り、続いてプリズム１４５は、ビームを非対称倍率レンズセット１３０に向けて方向付ける。非対称倍率レンズセット１３０は、ビームに非対称倍率補正を適用してもよい。得られたビームは、ビームステアリングレンズ１３５に提供されて、ビームステアリングレンズ１３５によって像平面１１０に方向付けられてもよい。ビームステアリングレンズ１３５の出力は、光学系１００の出力ビームとみなされ得るビーム１２０である。

図１は、レンズアセンブリ１５０のプリズム１４０及び１４５、レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５と、ミラー１５５と、それらの配置（例えば、物体平面１０５及び像平面１１０に対する）との例示的な組み合わせを示すことに留意されたい。場合によっては、光学系１００には、より少ない、より多い、かつ／又は異なる構成要素が用いられてもよい。一例として、対称倍率レンズセット１２５及び非対称倍率レンズセット１３０はそれぞれ、３つのレンズを有するものとして描かれているが、対称倍率レンズセット１２５及び非対称倍率レンズセット１３０はそれぞれ、１つのレンズ、２つのレンズ、又は３つを超えるレンズなど、図１に示される３つのレンズとは異なる数のレンズを有してもよい。対称倍率レンズセット１２５は、非対称倍率レンズセット１３０とは異なる数のレンズを有してもよい。別の例として、場合によっては、ビームステアリングレンズ１３５は、光学系１００に用いられない。別の例として、レンズアセンブリ１５０のレンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５のうちの１つ以上は、光学系１００に用いられない。

構成要素及び／又はその配置の他の組み合わせが、光学系に用いられてもよい。１つの変形例として、プリズム１４０及び１４５の位置は、プリズム１４０及び１４５の動作に影響を及ぼすことなく反転され得る。別の変形例として、対称倍率レンズセット１２５及び／又は非対称倍率レンズセット１３０は、図１に示される場所とは異なる場所に提供されてもよい。例えば、一実施形態では、対称倍率レンズセット１２５は、プリズム１４０とレンズ１６０との間に配置されてもよい。別の例では、レンズセット１２５及び１３０は、レンズ１６０とプリズム１４０及び１４５のいずれか又は両方との間に配置されてもよい。別の例では、レンズセット１２５及び１３０は、図１に示されるものとは位置が逆であってもよく、又は概ね、レンズセット１３０がレンズセット１２５よりも光路において先の方の地点に配置されるように位置が逆であってもよい。この例の１つの変形では、非対称倍率レンズセット１３０は、プリズム１４０の上方に配置されてもよく、対称倍率レンズセット１２５は、プリズム１４５の下方に配置されてもよい。換言すれば、非対称倍率レンズセット１３０は、プリズム１４０よりも光路において先の方の地点にあり、対称倍率レンズセット１２５は、プリズム１４５よりも光路において後の方の地点にある。別の構成では、レンズセット１２５及び１３０は、単一のレンズセットに組み合わされ、以前に定義された場所のうちのいずれかに配置され得る。これらの例及び／又は他の配置の様々な組み合わせは、レンズセット１２５及び／又は１３０をプリズム１４０及び１４５並びにレンズ１６０に対して配置する際に利用されてもよい。構成要素及び／又はそれらの配置の組み合わせの更なる例は、参照によりその全体が本明細書に組み込まれる米国特許第５，５５９，６２９号に提供されている。

図１の光学系１００は、物体平面１０５が像平面１１０に平行である例を示しているが、別の実施形態（図示せず）では、物体平面１０５及び像平面１１０は互いに平行ではない。このような実施形態では、物体平面１０５に最も近いプリズム１４０の面は、物体平面１０５と平行であり、像平面１１０に最も近いプリズム１４５の面は、像平面１１０に平行である。レンズ１６０に最も近いプリズム１４０及び１４５の面は平行である。このような実施形態では、例えば、プリズム１４０及び１４５は両方とも、内部的に反射する折り畳みプリズムであり得る。

図２Ａ及び図２Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、光学系１００の対称倍率レンズセット１２５及び非対称倍率レンズセット１３０、並びに関連する取り付けシステム及びアクチュエータシステムを示す。しかしながら、図示された構成要素の全てが必要とされなくてもよく、１つ以上の実施形態は、図２Ａ及び図２Ｂに示されていない追加の構成要素を含んでもよい。構成要素の配置及びタイプの変形は、本明細書に記載される請求項の趣旨又は範囲から逸脱することなく行われてもよい。追加の、より少ない、及び／又は異なる構成要素が提供されてもよい。説明の目的のために、プリズム１４０及び１４５並びにレンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５などの光学系１００の他の構成要素は、図２Ａ及び図２Ｂには示されていない。図２Ａ及び図２Ｂに示されるように、光学系１００は、図１に示される様々な構成要素並びに関連する取り付けシステム及びアクチュエータシステムが内部に配設されるハウジング２０２（例えば、エンクロージャとも称される）を含んでもよい。

取り付けシステムは、レンズセット１２５及び１３０（あるいは光学系１００の他の構成要素）を支持（例えば、定位置に保持）するのを助ける構造的特徴／構成要素（例えば、ねじ、接着剤、クランプ、受容インターフェースなど）を含んでもよい。アクチュエータシステムは、アクチュエータ２０５、アクチュエータ２１０、アクチュエータコントローラ２１５、フィードバック装置２２０、及びフィードバック装置２２５を含んでもよい。アクチュエータ２０５は、対称倍率レンズセット１２５の１つ以上のレンズを移動させるように構成されてもよい。例えば、対称レンズセット１２５の１つ、２つ、又は３つ全てのレンズは、アクチュエータ２０５によって移動可能である一方、対称レンズセット１２５の残りのレンズ（存在する場合）は定位置に固定されたままであってもよい。同様に、アクチュエータ２１０は、非対称レンズセット１３０の１つ以上のレンズを移動させるように構成されてもよい。アクチュエータコントローラ２１５は、情報を受信し、受信した情報に基づいてアクチュエータ２０５及び２１０に対する制御信号を生成してもよい。フィードバック装置２２０及び２２５は、エンコーダ、容量センサ、誘導性センサ、若しくはレーザーセンサ、ひずみゲージ、並びに／又は概ね、作動の前、その間、及びその後にレンズ１２５Ａ〜Ｃ及び１３０Ａ〜Ｃの位置をそれぞれ検証するために使用され得る任意の装置でそれぞれあってもよく、それぞれ含んでもよく、又はそれぞれその一部であってもよい。この点に関して、アクチュエータコントローラ２１５並びにフィードバック装置２２０及び２２５は、レンズ１２５Ａ〜Ｃ及び１３０Ａ〜Ｃが、レンズ１２５Ａ〜Ｃのうちの１つ以上及びレンズ１３０Ａ〜Ｃのうちの１つ以上の作動の前、その間、及びその後に適切な位置にあることを確実にするのを助けるため、連係して動作してもよい（例えば、適切な情報を交換する）。

一実施形態では、アクチュエータコントローラ２１５は、マスク及びウェハの相対的な位置決めに関連付けられた情報を受信してもよい。リソグラフィシステムでは、マスク及びウェハの像をカメラシステムによってキャプチャして、ウェハ上へのマスク（例えば、マスクのパターン）の予期される投影が決定され得る。予期される投影を使用して、予期される投影から所望の投影に調整するために必要な倍率補正及び／又はビームステアリングが決定され得る。例えば、ウェハ上の１つ以上の場所で撮影されたウェハターゲットの像が、マスクターゲットよりもウェハの中心から更に外れている場合、ウェハは、正の倍率を有すると決定され、適切に正の倍率及びステアリングが適用され得る。ウェハターゲットの像がマスクターゲットよりもウェハの中心に近い場合、ウェハは負の倍率を有すると決定され、適切に負の倍率及びステアリングが適用され得る。上の例は、マスクが倍率バイアスを有さない場合として定義されることに留意されたい。マスクが倍率バイアスを有する場合、所望の倍率を提供するために適切な計算が適用され得る。一般に、新たに印刷された特徴がウェハの全ての要素にわたって以前に印刷された特徴に適切に重なり合うように、印刷されたマスク像は出射ウェハ像の倍率と一致する（ゼロ倍率又は０ｍａｇとして知られる）ことが望ましい。この点に関して、様々な実施形態を使用して、所望に応じてゼロ倍率、正の倍率、又は負の倍率を印刷することが可能である。加えて、マスクターゲットに対するウェハターゲットの位置のオフセットは、ビームステアリングを使用して修正され得る。

いくつかの態様では、適切な位置合わせを決定するために、マスクに対してウェハ上の複数の点が検査される。場合によっては、対称倍率補正では、対称倍率補正を利用すべきか否かを決定するために最低２点が必要であり、非対称倍率補正では、非対称倍率補正を利用すべきか否かを決定するために少なくとも３つの点が必要とされ得、好ましくは４つの点が検査される。しかしながら、ウェハ上のより多くの点を検査して、全体的により良好な位置合わせ及び倍率性能を与えることができる。

ビームステアリング又はマイクロウェハの位置決めの付加的な使用により、位置合わせルーチンの間に識別されるマスクとウェハとの間の小さな並進及び／又は回転差が補正され得る。例えば、ウェハをマスクに対して並進させる場合、ウェハをマスクの直下になるように再位置決めすることができ、又はビームステアリングを利用してオフセットを補正することができる。このような再位置決め及び／又はビームステアリングは、回転差にも適用され得る。これはまた、位置合わせのためにｘ方向対ｙ方向に必要とされる異なる修正が存在する場合にも適用され得る。

場合によっては、制御信号は、レンズセット１２５及び／又は１３０によって提供される倍率補正を示し得る。これらの場合、アクチュエータ２０５及び２１０は、制御信号に示される倍率補正を達成し、決定された距離だけ適切なレンズ（複数可）を移動させるために、移動可能レンズのうちの１つ以上を移動させる距離を（例えば、プロセッサを使用して）決定し得る。他の場合、代替的に及び／又は組み合わせにより、制御信号は、アクチュエータ２０５及び／又は２１０に、それぞれのレンズセットの移動可能レンズのうちの１つ以上を移動させる距離を直接示し得る。

前述のように、像平面１１０上に投影された像の倍率の変更は、対称倍率レンズセット１２５及び非対称倍率レンズセット１３０の一方又は両方を調整することによって達成され得る。図３Ａ〜図３Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による対称倍率レンズセット１２５のレンズ１２５Ａ〜Ｃの相対的な位置決めの例を示す。図３Ａ〜図３Ｃでは、レンズ１２５Ｃが光線３０５の伝搬方向（例えば、ｚ方向）に沿って移動可能である一方、レンズ１２５Ａ〜Ｂは定位置に固定されたままである。

図３Ａ〜図３Ｃの破線３１０は、対称倍率レンズセット１２５の光軸を通過する光線３０５の一部の光路を示す。対称倍率レンズセット１２５のレンズ１２５Ａ〜Ｃは、それぞれの光軸が重なり合うように位置付けられる。対称倍率レンズセット１２５の光軸を通過する光線３０５の一部は、レンズ１２５Ａ〜Ｃによって屈折（例えば、屈曲）されない。図３Ａ〜図３Ｃの破線３１５は、ｘ方向に沿った光軸に平行であり、その光軸から距離ｒだけ変位される。図３Ａ、図３Ｂ、及び図３Ｃの実線３２０、３２５、及び３３０は、それぞれ、線３１０からの距離ｒで、ｚ方向からレンズ１２５Ａに入射する光線３０５の一部の光路である。

対称倍率レンズセット１２５によって提供される倍率補正を調整するため、レンズ１２５Ａ及び１２５Ｂが定位置に固定されている一方で、レンズ１２５Ｃをｚ方向に沿って（例えば、アクチュエータによって）移動させることによって、レンズ１２５Ａの最上面とレンズ１２５Ｃの最下面との間の距離（図３Ａ、図３Ｂ、及び図３ＣでそれぞれＤ_Ａ、Ｄ_Ｂ、及びＤ_Ｃと示される）が調整される。一例として、図３Ａ〜図３Ｃでは、Ｄ_Ａ＜Ｄ_Ｂ＜Ｄ_Ｃである。他の場合、代替的に及び／又は追加的に、レンズ１２５Ａ及び／又は１２５Ｂは、レンズ１２５Ａの最上面とレンズ１２５Ｃの最下面との間の距離を調整するために移動可能であってもよい。場合によっては、より少ない数の移動可能レンズが、低減された数のアクチュエータ及び／又は複雑さに関連付けられ得る。

図３Ａ〜図３Ｃでは、レンズ１２５Ｃのみがこの例で移動可能であるため、異なる距離Ｄ_Ａ、Ｄ_Ｂ、及びＤ_Ｃは、レンズ１２５Ｂと１２５Ｃとの間の異なる間隙サイズ（例えば、エアギャップサイズ）に起因する。線３１０によって示される光軸から離れた光路を有するビームについては、レンズ１２５Ａ及び１２５Ｂがビームを屈折させる。線３１５に関して、ビームの光路（実線３２０、３２５、及び３３０によって示される）は、レンズ１２５Ｂと１２５Ｃとの間の異なる間隙がビームによって横断されるため、レンズ１２５Ｂを出た後の光路の部分で互いから偏位する。図３Ａでは、ビームはレンズ１２５Ｂを出て、線３１５に向かって収束するが、線３１５に到達しない。レンズ１２５Ｃの出力における線３１０と線３２０との間の距離は、ｒ_Ａで示されている。この点に関して、レンズ１２５Ｂと１２５Ｃとの間の間隙は、結果的にｒ＜ｒ_Ａとなり、これは、対称倍率レンズセット１２５が倍率を増加させることを示す。倍率の増加は、正の倍率補正と称され得る。

図３Ａでは、ビームはレンズ１２５Ｂを出て、線３１５に向かって収束し、線３１５と重なり合う。レンズ１２５Ｃの出力における線３１０と線３２５との間の距離は、ｒ_Ｂで示されている。この点に関して、レンズ１２５Ｂと１２５Ｃとの間の間隙は、結果的にｒ＝ｒ_Ｂとなり、これは、対称レンズセット１２５が倍率を提供しない（例えば、ゼロ倍率補正を提供する）ことを示す。図３Ｃでは、ビームはレンズ１２５Ｃを出て、線３１５に向かって収束し、次いでそこを通過する。レンズ１２５Ｃの出力における線３１０と線３３０との間の距離は、ｒ_Ｃで示されている。この点に関して、レンズ１２５Ｂと１２５Ｃとの間の間隙は、結果的にｒ＞ｒ_Ｃとなり、これは、対称倍率レンズセット１２５が倍率を減少させることを示す。倍率の減少は、負の倍率補正によって定量化され得る。

図３Ａ〜図３Ｃの説明では、対称倍率レンズセット１２５のレンズ１２５Ａ〜Ｃを参照しているが、同様の説明が、非対称倍率レンズセット１３０のレンズ１３０Ａ〜Ｃに概ね適用される。

図４Ａは、本開示の１つ以上の実施形態による、レンズ１２５Ａ〜Ｃの例示的な断面図を示す。図４Ｂは、本開示の１つ以上の実施形態による、レンズ１３０Ａ〜Ｃの例示的な断面図を示す。

一実施形態では、倍率レンズセット（例えば、１２５、１３０）は、当業者に理解されるように、倍率レンズセットが、光学系（例えば、１００）に制御可能な度量を選択的に追加して、光学系に関連付けられた倍率を変更し得るように設計されてもよい。一例として、２つのレンズからなる薄肉レンズ群の場合、薄肉レンズの度（φ'_ａｂとして示される）の組み合わせは、以下のように計算することができる。

式中、φ'_ａは第１のレンズの度であり、φ'_ｂは第２のレンズの度であり、ｄは第１のレンズと第２のレンズとの間の距離である。φ'_ａ＝−φ'_ｂである場合、φ'_ａｂ＝ｄφ'_ａ ^２となる。したがって、この場合、レンズの間隙（例えば、レンズのエアギャップ）がゼロ（即ち、ｄ＝０）であるとき、薄い倍率レンズ群はゼロ度を有する。レンズの間隙が増加すると、倍率レンズ群の度が増加する。

ｄは正の値であるため、この倍率レンズ群は正の度を生成する。一態様では、倍率レンズが正又は負の倍率修正を生成するために、反対側の（例えば、等しい）レンズの度を有する別の薄肉レンズ群を用いることができ、そのため、２つのレンズ群の倍率レンズ群の度は次のようになる。

式中、ｄ_１は、第１の薄肉レンズ群の２つのレンズ間の距離であり、ｄ_２は、第２の薄肉レンズ群の２つのレンズ間の距離である。ｄ_１＝ｄ_２のとき、φ'_ａｂ＝０である。ｄ_１＞ｄ_２のとき、φ'_ａｂ＞０である。ｄ_１＜ｄ_２のとき、φ'_ａｂ＜０である。この場合、倍率レンズ群は４つの薄肉レンズを有する。４つの薄肉レンズは、中間の２つのレンズが両凸レンズ又は両凹レンズとして組み合わされる場合、３つのレンズであってもよい。一実施形態では、倍率レンズセット１２５及び／又は１３０は、上に提供されるような第１及び第２の薄肉レンズ群を含んでもよい。例えば、倍率レンズセット１３０では、距離ｄ_１は、レンズ１３０Ａと１３０Ｂとの間の間隙を表してもよく、距離ｄ_２は、レンズ１３０Ｂと１３０Ｃとの間の間隙を表してもよい。

上記では、φ'_ａ＝−φ'_ｂである。他の場合には、φ'_ａ≠−φ'_ｂである（例えば、第１のレンズの度は、第２のレンズの度と大きさが等しくない）。これらの場合、

のとき、φ'_ａｂ＝０である。

のとき、φ'_ａｂ＜０である。

のとき、φ'_ａｂ＞０である。

場合によっては、より多くのレンズを有する倍率レンズセットは、より大きい倍率修正範囲（例えば、倍率補正範囲とも称される）を可能にし得る。この点に関して、より大きい倍率修正範囲が所望されるとき、例えば、約±２５０ｐｐｍ又はそれより広い倍率修正範囲の場合、３つ、４つ、又はそれより多くのレンズが倍率レンズセットで利用されてもよい。例えば、倍率レンズセット１２５は、レンズ１２５Ａ〜Ｃを含み、場合によっては、約±２５０ｐｐｍの倍率修正範囲を提供し得る。場合によっては、倍率修正が概ね、比較的小さい範囲内、例えば約７０ｐｐｍ又はそれ以下（例えば、−７０ｐｐｍ〜＋７０ｐｐｍ、−７０ｐｐｍ〜０、０〜＋７０ｐｐｍなど）の倍率修正範囲内であるとき、倍率レンズセット内の２つのレンズが選択されてもよい。例えば、４つのレンズ群内の追加のレンズは（例えば、２つのレンズ群に対して）、光学系に余分な歪みを導入し得る。したがって、所望の倍率修正範囲が小さいほど、少ないレンズの使用で歪みを小さくすることができる。

一実施形態では、光学系１００（及び／又は他の光学系）は、ステッパリソグラフィーツール又はスキャナリソグラフィツールで利用されてもよい。例えば、光学系１００は、ステッパ又はスキャナで使用されるＤｙｓｏｎレンズシステム上に用いられてもよい。一態様では、ステッパ上で使用される場合、一度に全フィールドが露光される。ステッパでは、フィールドは概ね矩形形状を有する。対称倍率レンズセット１２５及び非対称倍率レンズセット１３０は、フィールドの倍率を調整する（例えば、倍率補正を適用する）ために利用されてもよい。フィールドが次の部位へステップオーバーされるとき、ステップ距離は、ウェハにわたる倍率が得られるように変化する。ステッパツールでは、視野（ＦＯＶ）はウェハよりも小さく、そのため、ステッパツールは、ウェハにわたるＦＯＶをステップする。それぞれのステップは、部位とみなされる。場合によっては、ステッパツールでこのような倍率調整を使用するとき、倍率は、ウェハ全体にわたる平均倍率に設定され得る。他の場合には、ステッパツールでこのような倍率調整を使用するとき、倍率設定は、露光されるフィールドの平均倍率に調整されてもよく、倍率設定は、ウェハが部位から部位に移動する際に調整されてもよい。

非対称倍率レンズセット１３０は、非対称倍率を達成するために利用されてもよい。非対称倍率レンズセット１３０は、スキャナのＦＯＶの１つの軸に沿って倍率補正を提供するように配向されてもよい（例えば、ｘ方向又はｙ方向のいずれかの倍率補正）。一実施形態では、非対称倍率レンズセット１３０は、走査方向に垂直な非対称倍率を生成するように配向される。例えば、走査方向はｘ方向であってもよく、倍率補正はｙ方向に適用されてもよい。

動作中、対称倍率レンズセット１２５は、スキャナのＦＯＶにわたってｘ方向及びｙ方向の両方における対称倍率補正を提供し得、非対称倍率レンズセット１３０は、ｙ方向に倍率補正を提供し得る。対称倍率補正の例示的範囲は、約±２５０ｐｐｍであってもよく、非対称倍率補正の例示的範囲は、約±５０ｐｐｍ（例えば、ｙ方向）であってもよい。この点に関して、＋２５０ｐｐｍ〜−２５０ｐｐｍの任意の対称倍率補正が達成され得、＋５０ｐｐｍ〜−５０ｐｐｍの任意の非対称倍率補正が達成され得る。これらの例示的範囲は、Ｘ及びＹが光学系１００の公称ｘ方向倍率及び公称ｙ方向倍率である（例えば、ｘ方向及びｙ方向におけるゼロ倍率補正を伴う）、以下の極端をもたらす。
極端１：最大対称倍率補正＋最大非対称倍率補正
Ｘ＋２５０ｐｐｍ、Ｙ＋３００ｐｐｍ
極端２：最大対称倍率補正＋最小非対称倍率補正
Ｘ＋２５０ｐｐｍ、Ｙ＋２００ｐｐｍ
極端３：最小対称倍率補正＋最大非対称倍率補正
Ｘ−２５０ｐｐｍ、Ｙ−２００ｐｐｍ
極端４：最小対称倍率補正＋最小非対称倍率補正
Ｘ−２５０ｐｐｍ、Ｙ−３００ｐｐｍ

場合によっては、光学設計及び機械設計に対するわずかな改良を利用して、光学系の主要設計を変更することなく、対称倍率及び／又は非対称倍率の量を調整することができる。例えば、光学設計及び機械設計に対するわずかな改良を利用して、主要設計を変更することなく、対称及び非対称倍率の量を増減させることができる。このようなわずかな改良は、倍率補正レンズの半径を調整すること、及びレンズの移動を増減させることを含み得る。場合によっては、設計された倍率の２〜３倍程度が達成され得る。

図１〜図４は、それぞれ３つのレンズを有する２つのレンズセットを参照して説明されているが、それぞれのレンズセットは、図１〜図４に示されるレンズよりも少ない、多い、及び／又は異なるレンズを有してもよい。加えて、図１〜図４は、１つのレンズセットが対称倍率を提供するように構成され得（例えば、設計される）、別のレンズセットが非対称倍率を提供するように構成され得る、例示的実施形態を示しているが、他の実施形態では、対称及び／又は非対称倍率を提供するために、より多くの及び／又は異なるレンズセットが利用されてもよい。一例として、別の実施形態では、光学系は、２つの非対称円柱レンズアセンブリを含み得る。場合によっては、このような光学系は、理想的には、ｘ方向に±２５０ｐｐｍの倍率のＸに沿った１つのレンズセットと、ｙ方向に±２５０ｐｐｍの倍率のＹに沿った第２のレンズセットと、の２つのレンズセットを、互いに直交するように位置合わせする。

図５は、本開示の１つ以上の実施形態による、光学系のレンズデュオ５００を示す。レンズデュオ５００は、レンズ５０５及びレンズ５１０を含む。レンズ５０５及び５１０は、レンズ５０５及び５１０が光軸を共有するように位置合わせされてもよい。レンズ５０５及び５１０は、ｚ方向に沿った距離ｄだけ（例えば、空気によって）分離される。図５では、レンズデュオ５００は、回転対称倍率補正を提供するための対称倍率レンズセットを形成する。一例として、レンズ５０５及び５１０は、それぞれ平凸レンズ及び平凹レンズであってもよい。一実施形態では、レンズデュオ５００は、図１に示す対称倍率レンズセット１２５として使用されてもよい。

破線５１５は、レンズデュオ５００の光軸（例えば、レンズ５０５及び５１０の光軸）を通過するビームの光路を示す。破線５２０は、ｘ方向に沿った光軸に平行であり、その光軸から距離ｒだけ変位される。実線５２５は、線５１５からの距離ｒでレンズ５０５に入り、レンズ５０５と５１０との間のエアギャップを通過するときに線５１５に向かって収束し、光軸からの距離ｒ_１＝ｒ−（Δｘ／Δｙ）でレンズ５１０を通過する、ビームの光路を示す。ｒ＞ｒ_１であるため、レンズデュオ５００は倍率を減少させる（例えば、負の倍率補正を提供する）。レンズデュオ５００によって提供される倍率補正を調整するため、レンズ５０５又はレンズ５１０の一方又は両方が移動可能であってもよい。例えば、レンズ５０５及び／又は５１０は、レンズ５０５とレンズ５１０との間の距離ｄを調整するために、ｚ方向に沿ってアクチュエータシステムの１つ以上のアクチュエータによって移動させられてもよい。

一態様では、１つの間隙だけを有する図５のレンズデュオ５００は、負又は正の倍率補正を生成する。この倍率補正は、φ'_ａ≠−φ'_ｂ（例えば、第１のレンズの度は第２のレンズの度と大きさが等しくない）の場合に以前定義されたように実現され得る。即ち、この場合、

のとき、φ'_ａｂ＝０である。

のとき、φ'_ａｂ＜０である。

のとき、φ'_ａｂ＞０である。レンズ５０５及び５１０が異なる半径を有するとき、２つのレンズ群（φ'_ａｂとして示される）の倍率は、レンズ５０５とレンズ５１０との間の間隙ｄの様々な値に対して正から負に変更され得る。場合によっては、レンズデュオの使用は、より安価であり得、かつ／又はレンズトリオ又は３つを超えるレンズの使用よりも単純な製品をもたらし得る。

図５のレンズデュオ５００は対称倍率レンズセットを形成しているが、光学系は、レンズデュオ５００を用いる代わりに、かつ／又はそれに加えて、非対称倍率レンズセット用にレンズデュオを用いてもよい。この点に関して、対称倍率レンズセット内のレンズの数は同じであってもよく、又は非対称倍率レンズセット内のレンズの数と異なってもよい。光学系で使用されるレンズの数は、コスト、製造の複雑さ、性能仕様、及び／又は他の考慮事項などの考慮事項に基づいてもよい。場合によっては、レンズデュオは、（例えば、３つ以上のレンズを有するレンズセットよりも）低い貨幣原価及び製造の複雑さに関連付けられ得る。場合によっては、対称倍率レンズセット及び非対称倍率レンズセットがそれぞれレンズデュオを含む場合、マスクは、非対称性によって小さめ及び／又は大きめであってもよい。例えば、基準サイズのマスクに対して、マスクは、異なる要因によって小さめであってもよく、かつ／又はマスクの異なる部分の異なる要因によって大きめであってもよい。

一実施形態では、非対称倍率レンズセットは、一方向（例えば、ｘ軸又はｙ軸のいずれか）に沿った非対称倍率補正、及び正の倍率補正又は負の倍率補正のうちの１つのみを提供するために使用されてもよい。例えば、３つ（又はそれ以上）のレンズを有する非対称倍率レンズセットに対して軸のうちの１つを−５０ｐｐｍ〜＋５０ｐｐｍのいずれかによって修正することとは対照的に、２つのレンズを有する非対称倍率レンズセットは、軸のうちの１つを０〜＋５０ｐｐｍのいずれか又は０〜−５０ｐｐｍのいずれかによって修正するために使用され得る。場合によっては、２つのレンズの使用は、製造がより容易であり得る（例えば、２つのレンズシステムのそれぞれのレンズをより厚くすることができる）。場合によっては、レンズデュオは、１つの軸に沿って倍率補正を可能にするように回転可能であってもよい。例えば、レンズデュオの１つの配向では、レンズデュオは、ｘ軸のみに沿った非対称の倍率修正を提供し得る。このレンズデュオを９０°回転して、ｙ方向のみに沿った倍率修正を提供することもできる。

いくつかの実施形態では、非対称倍率レンズセット１３０のレンズ１３０Ａ、１３０Ｂ、及び１３０Ｃは、レンズ１３０Ａ〜Ｃの最も厚い部分が約２ｍｍ〜１０ｍｍである平凸レンズ、凹凹円柱レンズ、及び凸平レンズであってもよい。一態様では、単レンズは、レンズ１３０Ａ、１３０Ｂ、及び１３０Ｃの代わりに用いられてもよい。図６は、本開示の１つ以上の実施形態による非対称倍率レンズ６００を示す。一実施形態では、非対称倍率レンズセット１３０は、非対称倍率レンズ６００であってもよい。他の実施形態では、非対称倍率レンズセット１３０は、１つ以上の他のレンズと共に非対称倍率レンズ６００を含んでもよい。

非対称倍率レンズ６００は、図６に示すような平窓であってもよい。アクチュエータは、非対称倍率レンズ６００を屈曲させて、平窓を（例えば、その屈曲された軸に沿って）倍率補正を発生させ得る凹凸レンズに変形させることができる。非対称倍率レンズ６００が屈曲する方向に応じて、非対称倍率レンズ６００は、正又は負の倍率補正を生成し得る。場合によっては、非対称倍率レンズ６００は、必要に応じてｘ方向、ｙ方向、又はその両方において選択的に屈曲（例えば、変形）されて、ｘ方向又はｙ方向の一方又は両方において所望の倍率補正（例えば、非対称倍率補正）を生成し得る。

一態様では、アクチュエータシステムは、非対称倍率レンズ６００によって提供される倍率を制御するために提供されてもよい。アクチュエータシステムは、アクチュエータ６２０、アクチュエータコントローラ６２５、及びフィードバック装置６３０を含んでもよい。アクチュエータ６２０は、アクチュエータコントローラ６２５によってアクチュエータ６２０に提供される制御信号に従って、ｘ方向、ｙ方向、又はその両方の倍率補正を提供するために、非対称倍率レンズ６００上で設定方向に沿って力を加えるように構成されてもよい。アクチュエータコントローラ６２５は、情報を受信し、受信した情報に基づいてアクチュエータ６２０に対する制御信号を生成してもよい。この情報は、非対称倍率レンズ６００によって提供される所望の倍率を示し得る。場合によっては、アクチュエータコントローラ６２５によって生成される制御信号は、アクチュエータ６２０によって非対称倍率レンズ６００に加えられる力（存在する場合）、及び力を加える方向を示し得る。非対称倍率レンズ６００に力を加えることによって、アクチュエータ６２０は、非対称倍率レンズ６００に所望の倍率を提供させ得る。フィードバック装置６３０は、エンコーダ、容量センサ、誘導性センサ、若しくはレーザーセンサ、ひずみゲージ、並びに／又は概して、アクチュエータ６２０によって力が加えられる前、その間、及び／若しくはその後に非対称倍率レンズ６００の構成（例えば、屈曲の量、屈曲の方向、関連する倍率）を検証するために使用され得る任意の装置であってもよく、それらを含んでもよく、又はそれらの一部であってもよい。この点に関して、アクチュエータコントローラ６２５及びフィードバック装置６３０は、非対称倍率レンズ６００が適切に構成されていることを確実にするために、連係して動作してもよい（例えば、適切な情報を交換する）。場合によっては、アクチュエータ６２０又は他のアクチュエータは、非対称倍率レンズ６００を屈曲させる代わりに、又はそれに加えて、非対称倍率レンズ６００を回転させて、ｘ方向、ｙ方向、又はその両方において所望の倍率補正を達成し得る。

例えば、非対称倍率レンズ６００は、光線が屈曲方向とは反対の方向に移動するときに正の倍率補正を引き起こすレンズ６０５を提供するように、（例えば、アクチュエータコントローラ６２５からの適切な制御信号に基づいて）アクチュエータ６２０によって屈曲されてもよい。別の例としては、非対称レンズ６００は、光線が屈曲方向と同じ方向に移動するときに負の倍率補正を引き起こすレンズ６１０を提供するように、アクチュエータ６２０によって屈曲されてもよい。非対称倍率レンズ６００が屈曲されていないとき、非対称倍率レンズ６００によって倍率補正は提供されない。一態様では、非対称倍率レンズ６００などの単レンズの使用は、機械設計及び／又は制御の複雑さ（例えば、屈曲に関連付けられた）を伴い得、より容易な製造、より小さい光学厚さ、光学系内のより少ない空間の占有を可能にし得る。場合によっては、代替的及び／又は追加的に、対称正倍率補正又は対称負倍率補正を提供するように変形され得る単一の対称倍率レンズが、対称倍率レンズセットとして利用され得る。

図７は、本開示の１つ以上の実施形態による、光学系１００のビームステアリングレンズ１３５を示す。ビームステアリングレンズ１３５はまた、傾斜レンズと称されてもよい。ビームステアリングレンズ１３５は、光ビームを所望の場所（例えば、像平面１１０上）に方向付け直すため、必要に応じて（例えば、アクチュエータシステムのアクチュエータによって）傾斜されてもよい。例えば、ビームステアリングレンズ１３５は、ビームステアリングレンズ１３５の傾斜を制御し得るアクチュエータシステムに連結されてもよい。アクチュエータシステムは、図２Ａ、図２Ｂ、及び図６の対応するアクチュエータシステムと同じ又は類似の方法で実装され得る、アクチュエータ７０５と、アクチュエータコントローラ７１０と、フィードバック装置７１５と、を含んでもよい。傾斜は、１つ以上の角度によって表され得る。角度αは、ｘ方向に沿った傾斜量を提供し得る。別の角度（図示せず）は、ｙ方向に沿った傾斜量を提供し得る。図７において、ビームステアリングレンズ１３５の傾斜は、ビームステアリングレンズ１３５が傾斜していない場合と比べて、距離（Δｘ／Δｙ）だけビームの変位を引き起こす。図７に示すように、ビームステアリングレンズ１３５によるビームの変位は、ビームステアリングレンズ１３５の傾斜角度（複数可）、及びビームステアリングレンズ１３５の寸法（例えば、ビームが伝搬するために通る必要のあるビームステアリングレンズ１３５内の距離）に基づく。

図８は、本開示の１つ以上の実施形態による、ビームステアリングレンズ８００及び関連する構成要素を示す。しかしながら、図示された構成要素の全てが必要とされなくてもよく、１つ以上の実施形態は、図８に示されていない追加の構成要素を含んでもよい。構成要素の配置及びタイプの変形は、本明細書に記載される請求項の趣旨又は範囲から逸脱することなく行われてもよい。追加の、より少ない、及び／又は異なる構成要素が提供されてもよい。一実施形態では、光学系１００は、ビームステアリングを用いて光学非対称倍率を提供するために利用されてもよい。一実施形態では、ビームステアリングレンズ８００は、ビームステアリングレンズ１３５であってもよい。

ビームステアリングレンズ８００は、環状ハウジング８０５及び８２５内に支持されてもよい。環状ハウジング８０５は、ビームステアリングレンズ８００が第１の方向（例えば、ｘ方向）に回転することを可能にする旋回シャフト８１０を有する。弯曲部材８１２は、環状ハウジング８０５に接続されている。リニアドライブ８１５は、ボイスコイルアクチュエータ８２０、ボールスライドアセンブリ（図示せず）、及びリニアエンコーダを含む。ボイスコイルアクチュエータ８２０は、弯曲部材８１２に連結されてもよく、直線軸によって弯曲部材８１２を変位させてビームステアリングレンズ８００の回転を引き起こし得る。リニアドライブ８１５のリニアエンコーダは、ボイスコイルアクチュエータ８２０及び／又はボールスライドアセンブリにフィードバックを提供して、リニアドライブ８１５によって達成されるビームステアリングレンズ８００の変位及び／又は回転を制御し得る。

ビームステアリングレンズ８００の環状ハウジング８２５は、第２の軸におけるビームステアリングレンズ８００の傾斜を容易にし得る。例えば、第２の軸は、第１の軸に直交してもよい。環状ハウジング８２５は、環状ハウジング８０５に連結される。環状ハウジング８２５は、旋回シャフト８３０を有する。旋回シャフト８３０は、弯曲部材８３５及びリニアドライブ８４０に取り付けられる。リニアドライブ８４０は、ボイスコイルアクチュエータ８４５、ボールスライドアセンブリ（図示せず）、及びリニアエンコーダ８５０を含む。ボイスコイルアクチュエータ８４５は、弯曲部材８３５に連結されてもよく、直線軸によって弯曲部材８３５を変位させて、ビームステアリングレンズ８００の回転を引き起こし得る。リニアエンコーダ８５０は、ボイスコイルアクチュエータ８４５及び／又はリニアドライブ８４０のボールスライドアセンブリにフィードバックを提供して、リニアドライブ８４０によって達成されるビームステアリングレンズ８００の変位及び／又は回転を制御し得る。

図８は、ビームステアリングレンズ及び関連する構成要素の一例を示すが（例えば、ビームステアリングレンズを機械的に変位及び／又は回転させるために）、他のビームステアリングレンズ及び／又は関連する構成要素が用いられてもよい。例えば、ボイスコイルアクチュエータ８２０及び／又は８４５は、機械式又は空気圧式リニアアクチュエータ及び／又はピエゾステッピングアクチュエータと交換されてもよく、又はそれに加えて使用されてもよい。別の例として、ボールスライドアセンブリは、交差ローラースライドであってもよい。いくつかの態様では、ビームステアリングレンズは、回転モーターに取り付けられたカムを使用して傾斜されてもよい。いくつかの態様では、ビームステアリングレンズの軸は、回転モーター及び／又はギア付きモーターを使用して直接駆動されてもよい。

いくつかの実施形態では、ビームステアリングレンズ（例えば、１３５、７００、８００）は、図１〜図６に示されるものなど、本開示に記載される１つ以上のレンズセットと共に利用されてもよい。いくつかの態様では、ビームステアリングレンズは、１つ以上の対称倍率レンズセット（例えば、１２５）及び／又は１つ以上の非対称倍率レンズセット（例えば、１３０）などの１つ以上のレンズセットと共に利用されてもよい。例えば、図１を参照すると、ビームステアリングレンズ１３５は、対称倍率レンズセット１２５と共に（例えば、非対称倍率レンズセット１３０なしで）利用されてもよく、又はビームステアリングレンズ１３５は、非対称倍率レンズセット１３０と共に（例えば、対称倍率レンズセット１２５なしで）利用されてもよい。

倍率レンズセット１２５又は１３０のうちの１つを除去するための図１の光学系１００に対するこのような修正は、プリズム１４０及び１４５並びにレンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５などの１つ以上の関連する構成要素の適切な調整（例えば、位置決め）に関連付けられてもよく、又はこれらのいずれの構成要素の調整にも関連付けられなくてもよい。一例として、非対称倍率レンズセット１３０が光学系１００から除去されていると考える。ある場合には、前述のように、対称倍率レンズセット１２５、プリズム１４０及び１４５、レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５、並びにミラー１５５は、図１に示されるままであってもよい。プリズム１４５からの出力ビームは、ビームステアリングレンズ１３５に（例えば、ビーム１２０として）提供され、像平面１１０上に方向付けられてもよい。別の場合には、対称倍率レンズセット１２５は、非対称倍率レンズセット１３０が図１に示される場所に位置付けられてもよく、一方、プリズム１４０及び１４５、レンズ１６０、１６５、１７０、及び１７５、並びにミラー１５５は、図１に示されるままであってもよい。対称倍率レンズセット１２５からの出力ビームは、ビームステアリングレンズ１３５に提供され、像平面１１０上に方向付けられてもよい。更に別の場合には、対称倍率レンズセット１２５は、プリズム１４０と１４５との間などの他の場所に位置付けられてもよい。対称倍率レンズセット１２５を提供し、非対称倍率レンズセット１３０は提供しない他の方法が利用されてもよい。

１つ以上の実施形態では、光学系は、リソグラフィシステムで使用される投影レンズシステムであってもよく、それを含んでもよく、その一部であってもよい。図９は、本開示の１つ以上の実施形態による、リソグラフィシステム９００を示す。しかしながら、図示された構成要素の全てが必要とされなくてもよく、１つ以上の実施形態は、図９に示されていない追加の構成要素を含んでもよい。構成要素の配置及びタイプの変形は、本明細書に記載される請求項の趣旨又は範囲から逸脱することなく行われてもよい。追加の、より少ない、及び／又は異なる構成要素が提供されてもよい。一実施形態では、光学系１００は、ビームステアリングを用いて光学非対称倍率を提供するために利用されてもよい。

リソグラフィシステム９００は、放射線源９０５、ミラー９１０及び９１５、マスク９２５、光学系９３０、ウェハ９３５、並びにエアベアリングステージ９４０を含む。図９では、ミラー９１０及び９１５は、放射線源９０５からマスク９２５へ放射線（例えば、ＵＶ光）を方向付けるために利用される光学構成要素である。放射線源９０５とマスク９２５との間に、より少ない、より多い、及び／又は異なる光学構成要素が提供されてもよい。例えば、光導波路、レンズ、及びミラーなどの追加の光学構成要素が、ミラー９１０と９１５との間にあってもよい。場合によっては、ミラー９１０及び９１５及び／又は他の光学構成要素は、光学距離（例えば、放射線源９０５からの放射線によって移動してマスク９２５に到達する距離）、ビーム形状、ビームサイズ、ビーム偏光などのような、放射線源９０５からの放射線のビーム特性を調整し得る。マスク９２５は、リソグラフィシステム９００の物体平面に配設されてもよく、ウェハ９３５は、リソグラフィシステム９００の像平面１１０に配設されてもよく、リソグラフィシステム９００は、光学系９３０を使用してマスク９２５上のパターンをウェハ９３５上に投影するために利用される。この点に関して、光学系９３０は、対称及び／又は非対称倍率を提供し得る。一実施形態では、光学系９３０は、図１の光学系１００であってもよく、それを含んでもよく、その一部であってもよい。この実施形態では、マスク９２５は物体平面１０５に配設され、ウェハ９３５は像平面１１０に配設される。

いくつかの実施形態では、リソグラフィシステム９００は、走査リソグラフィ機であってもよく、それを含んでもよく、又はその一部であってもよい。例えば、図１０は、本開示の１つ以上の実施形態による走査リソグラフィ機又はその一部分を示す。この実施形態では、ウェハ９３５及びマスク９２５は両方とも、並進ステージにおいて光学系９３０の下で走査されるキャリッジに取り付けられてもよい。ウェハ９３５及びマスク９２５は、走査プロセスの前に互いに位置合わせされてもよい。位置合わせプロセスは、ウェハ９３５をマスク９２５に対して並進及び／又は回転させることを伴ってもよく、ウェハ位置決めステージで実行されてもよい。

図１１Ａ及び図１１Ｂは、走査リソグラフィ機の露光フィールドの例を示す。露光フィールドは、リソグラフィシステム９００のスキャナのＦＯＶを表す。露光フィールドは、ｘ方向に沿ってウェハ９３５にわたって移動し、ｙ方向に沿って変位し、図１１Ａ及び図１１Ｂに示されるように、方向転換点に到達した後にｘ方向を反転させる。場合によっては、時間的に隣接する走査は、ウェハ９３５にわたる均一な露光を生成するのに役立つように重なり合い得る。図１１Ａでは、露光フィールド（例えば、１１０５）はダイヤモンド形状を有する。図１１Ｂでは、露光フィールドは六角形形状を有する。場合によっては、六角形の露光フィールドの使用は、走査パス間のステップ距離を増加させることによってウェハ９３５を走査するのに必要な時間を削減し得る。この点に関して、六角形形状は、重なり合う領域の減少を可能にし、これにより、より少ない走査パスでより高い機械スループットを可能にする。以下の説明は、ダイヤモンド形状の露光フィールドに関して提供されるが、六角形形状、矩形形状などの他の露光フィールドの形状が利用されてもよい。

いくつかの実施形態では、露光フィールドのサイズ（例えば、ダイヤモンド形状、六角形形状など）は、ウェハ９３５にわたる走査の間に調整される必要がある場合があり、かつ／又はウェハ９３５上で露光フィールドが突き当たる場所を操作する必要がある場合がある。図１２は、ウェハ９３５上の様々なダイの実際及び所望のダイサイズ並びに場所を示す。図１２では、同じ倍率がウェハ９３５のそれぞれの部分に関連付けられ、同じビームステアリングがウェハ９３５に関連付けられる（又は関連付けられるビームステアリングはない）。実際のダイサイズ及び場所は、所望のダイサイズ及び位置に重なり合う。ダイ１２０５（例えば、ウェハ９３５の中心のダイ）は、実際のダイサイズ及び場所であり、ダイ１２１０は、ダイ１２０５に対してその対応する所望のダイサイズ及び場所である。同様に、ダイ１２１５は、実際のダイサイズ及び場所であり、ダイ１２２０は、ダイ１２１５に対してその対応する所望のダイサイズ及び場所である。

図１３Ａは、図１２のダイ１２０５及びダイ１２１０の拡大図を提供する。ダイ１２１０を得るために、ダイ１２０５は同じ場所に留まり得るが、正の倍率補正が、ウェハ９３５上により大きい投影を提供するために適用される。図１３Ｂは、図１２のダイ１２１５及びダイ１２２０の拡大図を示す。ダイ１２２０を得るため、正の倍率補正及び像の遷移が適用されてもよい。図１を参照すると、正の倍率補正は、対称レンズセット１２５及び／又は非対称レンズセット１３０によって提供されてもよく、遷移はビームステアリングレンズ１３５によって適用されてもよい。

場合によっては、このような倍率補正及び／又は像ステアリングは、ウェハ９３５が露光フィールドの下で前後に並進される際に調整されてもよい。前に示したように、１つ以上のビームステアリングレンズが、像平面に（例えば、ウェハ９３５に）形成される像の場所を操作するために利用されてもよい。このような技術は、光ビームステアリングと称され得る。リソグラフィ用途に関しては、光ビームステアリングは、ウェハ位置と協調するビームステアリングレンズを使用して、マスク９２５の投影像を傾斜させるために利用されてもよい。図１４Ａ〜図１４Ｃは、本開示の１つ以上の実施形態による、ウェハ９３５が移動させられたときの光学系９００のビームステアリングレンズの傾斜を示す。図１２及び図１４Ａ〜図１４Ｃを参照すると、ウェハ９３５が左から右に走査されるとき、ビームは、ウェハ９３５の左端に向かって更に像を投影するように傾斜されてもよい。ウェハ９３５が図１４Ａのその位置から右に走査されるとき、ビームステアリングレンズによって提供される傾斜は、ウェハ９３５及びマスク９２５（例えば、スキャナシステム内で一緒にロックされる）の動作と同期して連続的に調整されてもよい。図１４Ｂに示すように、ウェハ９３５がビームステアリングレンズの直下に（例えば、中心のダイに）あるとき、ビームステアリングレンズは、ゼロ傾斜を提供し得る。ウェハ９３５が図１４Ｃに示すように右に進むと、ビームステアリングレンズは、像をウェハ９３５の右端に投影するように傾斜される。図７を再び参照すると、ビームステアリングレンズは、ｘ軸及びｙ軸の一方又は両方に沿った傾斜を可能にし得る。例えば、走査がｘ方向に沿って発生する場合、ビームステアリングレンズのｘ軸傾斜は、ｘ方向に沿ったウェハ走査動作と同期して実行される。ｙ軸傾斜は、走査の行の間のステップで実行されてもよい。

いくつかの実施形態では、１つ以上のビームステアリングレンズを使用するビームステアリングの代わりに及び／又はそれに加えて、マイクロウェハの位置決めが利用されてもよい。マイクロウェハの位置決めでは、ウェハ９３５が光学系にわたって（例えば、ビームステアリングレンズあり又はなしで）走査される際に、マスクに対するウェハの位置が微調整されてもよい。ウェハ位置決めステージが、走査露光中にウェハ９３５に対するマスク９２５の相対的な位置決めを維持する一方、ウェハ９３５の位置は、並進ステージがその走査経路を実行している間に、走査軸内で駆動されてもよい。ウェハ９３５が＋ｘ方向（例えば、右）に走査される際に、マイクロウェハの位置決めは、並進ステージと協調した方法でウェハ９３５をマスク９２５に対して遷移させてもよい。このようにして、ウェハ９３５は、行走査中にマスク９２５に対して連続的に移動させられる。並進ステージが次の行にステップするとき、並進ステージは、ｙ方向のオフセットを調整するため、マイクロステップを実行してウェハ９３５をマスク９２５に対して遷移させてもよい。場合によっては、マイクロウェハ位置決めは、ウェハ９３５を移動させることによってウェハ９３５上に像が形成されるウェハ９３５上の位置を遷移させるために、マスクの位置に対するウェハの位置を調整し得るウェハ位置決めコントローラによって実行され得る。本開示の前述の説明は、走査軸及びステップ軸としてｘ軸及びｙ軸をそれぞれ指しているが、ｘ軸はステップ軸であり、ｙ軸は走査軸であるという慣習もあり得ることが理解されることに留意されたい。

図１０を再び参照すると、ウェハ位置決めステージは、上述したマイクロウェハ位置決めをもたらすために使用され得る、正確かつ精密な位置決めアクチュエータを有し得る。場合によっては、機械式弯曲システムに作用するひずみゲージフィードバックを有する機械式ピエゾアクチュエータを使用して、並進ステージがレンズＦＯＶ下でウェハを走査及びステップしている一方で、マスクに対するウェアの位置を調整することができる。

例えば、図１５Ａ〜図１５Ｄは、本開示の１つ以上の実施形態による、スキャナ露光ＦＯＶの位置と、関連するウェハ位置の遷移とを示す。図１５Ａは、ウェハ９３５が−ｘ方向（例えば、左）及び−ｙ方向（例えば、下）に遷移されている、走査開始時のマイクロウェハの位置決めを示す。図１５Ｂは、ウェハ９３５が＋ｘ方向（例えば、右）に遷移されている、走査終了時のマイクロウェハの位置決めを示す。図１５Ｃは、ウェハ９３５が−ｘ方向及び＋ｙ方向に遷移されている、走査開始時のマイクロウェハの位置決めを示す。図１５Ｄは、ウェハ９３５が＋ｘ方向に遷移されている、走査終了時のマイクロウェハの位置決めを示す。

一実施形態では、アクチュエータコントローラ（例えば、図２の２１５）は、マスク９２５及びウェハ９３５の相対的な位置決めに関連付けられた情報を受信し得る。リソグラフィシステムでは、マスク９２５及びウェハ９３５の像がカメラシステムによってキャプチャされて、ウェハ９３５上へのマスク９２５の予期される投影（例えば、マスク９２５のパターン）が決定され得る。予期される投影を使用して、予期される投影から所望の投影に調整するために必要な倍率補正、ビームステアリング、及び／又はマイクロウェハの位置決めが決定されてもよい。アクチュエータコントローラは、倍率補正、ビームステアリング、及び／又はマイクロウェハの位置決めに関連付けられた制御信号を生成し、これらの制御信号を関連する構成要素に提供して、倍率補正（例えば、レンズセット１２５及び１３０のアクチュエータ２０５及び２１０）、ビームステアリング（例えば、ビームステアリングレンズ１３５のアクチュエータ）、及び／又はマイクロウェハの位置決めを達成し得る。図１４Ａ〜図１４Ｃ及び図１５Ａ〜図１５Ｄは、倍率補正、ビームステアリング、及び／又はマイクロウェハの位置決めの達成を示す。

一実施形態では、一例として、ウェハ９３５は、走査パスごとに交互にマスク９２５に対して一定速度で（例えば、アクチュエータシステムを使用して）移動させられてもよい。例えば、図２Ａ及び図９を参照すると、２００ｐｐｍのターゲット倍率を得るために、アクチュエータ２０５は、対称倍率レンズセット１２５を、２００ｐｐｍの倍率を提供することに関連付けられた位置まで移動させてもよく、次いでウェハ９３５は、それぞれの走査パス上のマスク９２５に対して、ウェハ９３５にわたって２００ｐｐｍに等しい量を走査する。倍率量が小さいほど、遷移も概ね小さくなり得る。関連する速度は、遷移量（例えば、倍率量に基づく）を、走査パスを完了するまでの時間で割ることによって定義され得る。この点に関して、より小さいターゲット倍率（例えば、５０ｐｐｍ）は、より大きい遷移、ゆえにより大きい速度を有するより大きいターゲット倍率（例えば、２００ｐｐｍ）に比べて、より小さい遷移を利用し、ゆえにより小さい速度を有し得る。所与の倍率では、速度は一定である。

一実施形態では、ビームステアリング及び／又はマイクロウェハの位置決めの更なる使用は、位置合わせルーチンの間に識別されるマスクとウェハとの間の小さな並進及び／又は回転差を補正することができる。例えば、ウェハをマスクに対して並進させる場合、ウェハをマスクの直下になるように再位置決めすることができ、又はビームステアリングを利用してオフセットを補正することができる。これは、回転差にも適用され得る。これはまた、位置合わせのためにｘ方向及びｙ方向に必要とされる異なる修正が存在する場合にも適用され得る。

非一時的命令、プログラムコード、及び／又はデータなどの本開示によるソフトウェアは、１つ以上の非一時的機械可読媒体上に記憶することができる。本明細書で識別されるソフトウェアは、１つ以上の汎用若しくは専用コンピュータ及び／又はコンピュータシステム、ネットワーク化、並びに／ないしは別の方法を使用して実装され得ることも企図される。適用可能な場合、本明細書に記載される様々なステップの順序は、変更され、複合ステップに組み合わされ、かつ／又はサブステップに分離されて、本明細書に記載される特徴を提供し得る。

前述の説明は、本開示を、開示される正確な形態又は特定の使用分野に限定することを意図するものではない。上記の実施形態は、本発明を例示するが、限定するものではない。本明細書に明示的に記載されるか又は暗示されるかにかかわらず、本発明に対する様々な代替実施形態及び／又は修正が、本開示を考慮すれば可能であることが企図される。したがって、本発明の範囲は、以下の特許請求の範囲によってのみ定義される。

Claims (25)

1. 光学系であって、
   物体に関連付けられた第１の放射線を受容し、前記物体の像に関連付けられた第２の放射線を像平面に向けて方向付けるように構成されている、レンズシステムを備え、
   前記物体がマスクのパターンを含み、前記像平面がウェハ上に配置され、前記像が前記ウェハ上の前記物体の投影を含み、前記レンズシステムは、
   前記第１の放射線を受容し、選択的に拡大するように構成されている、第１のレンズセットと、
   前記第１のレンズセットを選択的に調整して、前記像に関連付けられた倍率を第１の方向及び第２の方向に沿って対称的に調整するように構成されている、アクチュエータシステムと、
   前記第１のレンズセットによって選択的に拡大された前記第１の放射線を、少なくともビームステアリングレンズの傾斜に基づいて方向付けて、前記第２の放射線を提供するように構成されている、ビームステアリングレンズと、を含み、
   前記アクチュエータシステムは、１つ以上の制御信号に応答して、前記ウェハが走査される際に前記ビームステアリングレンズの前記傾斜を調整するように更に構成され、
   前記光学系は、前記第１の放射線を受容し、選択的に拡大するように構成されている第２のレンズセットを更に備え、前記アクチュエータシステムは、前記第２のレンズセットを選択的に調整し、前記第１の方向及び前記第２の方向に沿って前記倍率を非対称的に調整するように更に構成されており、前記ビームステアリングレンズは、前記第１のレンズセット及び前記第２のレンズセットによって選択的に拡大された前記第１の放射線を、少なくとも前記ビームステアリングレンズの前記傾斜に基づいて方向付けて、前記第２の放射線を提供するように構成される、光学系。
2. 複数のレンズを含むレンズアセンブリと、
   前記第１の放射線を前記レンズアセンブリまで通過させるように構成されている、第１のプリズムであって、前記第１のレンズセットは、前記第１の放射線を前記第１のプリズムまで通過させるように構成されている、該第１のプリズムと、
   前記レンズアセンブリの前記複数のレンズを介して前記第１のプリズムから前記第１の放射線を受容し、前記第１の放射線を反射するように構成されている、ミラーと、
   前記レンズアセンブリの前記複数のレンズを介して前記ミラーから反射された前記第１の放射線を受容し、光路上の前記第１の放射線を前記ビームステアリングレンズ及び前記像平面に向けて方向付けるように構成されている、第２のプリズムと、を更に備える、請求項１に記載の光学系。
3. 複数のレンズを含むレンズアセンブリと、
   前記第１の放射線を前記レンズアセンブリまで通過させるように構成されている、第１のプリズムと、
   前記レンズアセンブリの前記複数のレンズを介して前記第１のプリズムから前記第１の放射線を、前記レンズアセンブリの前記複数のレンズから直接受容し、前記第１の放射線を反射するように構成されている、ミラーと、
   前記レンズアセンブリの前記複数のレンズを介して前記ミラーから反射された前記第１の放射線を受容し、光路上の前記第１の放射線を前記像平面に向けて方向付けるように構成されている、第２のプリズムと、を更に備え、
   前記第１のレンズセットは、前記第１の放射線を前記第１のプリズムまで通過させるように構成されており、前記第２のプリズムは、前記第１の放射線を前記第２のレンズセットまで通過させるように構成されている、請求項１に記載の光学系。
4. 前記アクチュエータシステムが、前記第２のレンズセットを調整して、前記第１の方向に沿った第１の倍率補正値を前記倍率に適用し、かつ、前記第２の方向に沿った第２の倍率補正値を前記倍率に適用するように構成されており、
   前記第１の倍率補正値は、前記第２の倍率補正値と異なり、前記第１の方向は、前記第２の方向に直交している、請求項１に記載の光学系。
5. 前記アクチュエータシステムが、前記第１のレンズセットの少なくとも１つのレンズを第１の位置から第２の位置に、及び／又は、前記第２のレンズセットの少なくとも１つのレンズを第３の位置から第４の位置に移動させて、前記倍率を調整するように構成されている、請求項１に記載の光学系。
6. 前記第２のレンズセットが単レンズを含み、前記アクチュエータシステムが、前記単レンズを屈曲及び／又は回転させて、前記倍率を調整するように構成されている、請求項１に記載の光学系。
7. 前記光学系が、リソグラフィシステムであり、
   前記光学系が、前記ウェハの位置に対する前記マスクの位置に少なくとも基づく前記倍率に対する調整に関連付けられた、前記１つ以上の制御信号を生成するように構成されている倍率コントローラを更に備え、
   前記１つ以上の制御信号が、前記ビームステアリングレンズの前記傾斜の調整に関連付けられ、前記ウェハの位置に対する前記マスクの位置に少なくとも基づく前記倍率に対する調整に関連付けられ、
   前記アクチュエータシステムが、前記１つ以上の制御信号を受信し、前記１つ以上の制御信号に応答して前記倍率の調整を引き起こすように構成されている、請求項１に記載の光学系。
8. 前記マスクの前記位置に対する前記ウェハの前記位置を調整して、前記ウェハ上の前記像の位置を遷移させるように構成されている、ウェハ位置決めコントローラを更に備える、請求項７に記載の光学系。
9. 前記レンズシステムは、前記パターンのそれぞれの部分を前記ウェハのそれぞれの部分上に投影するように構成されており、
   前記アクチュエータシステムは、前記１つ以上の制御信号に応答して、前記ウェハの動きと更に協調して
   前記ビームステアリングレンズの前記傾斜を調整するように更に構成されており、
   前記ウェハのそれぞれの部分は、前記ビームステアリングレンズのそれぞれの傾斜に関連付けられている、請求項７に記載の光学系。
10. 方法であって、
    物体に関連付けられた第１の放射線を受容するステップであって、前記物体がマスクのパターンを含む、該ステップと、
    選択的に拡大された第１の放射線を得るために、前記第１の放射線を少なくとも第１のレンズセットを通して方向付けるステップであって、前記第１の放射線を方向付ける前記ステップ中に、前記第１のレンズセットを選択的に調整して、前記物体の像に関連付けられた倍率を第１の方向及び第２の方向に沿って対称的に調整し、前記像がウェハ上の前記物体の投影を含み、前記ウェハ上に像平面が配置される、該ステップと、
    前記ウェハが走査される際にビームステアリングレンズの傾斜を調整することによって、前記像平面に向かう第２の放射線を提供するために、前記選択的に拡大された第１の放射線を方向付けるステップでと、を含み、
    前記第１の放射線を方向付ける前記ステップが、前記選択的に拡大された第１の放射線を得るために、前記第１の放射線を少なくとも前記第１のレンズセット及び第２のレンズセットを通して方向付けるステップを含み、前記第１の放射線を方向付ける前記ステップ中に、前記第２のレンズセットを選択的に調整して、前記第１の方向及び前記第２の方向に沿って前記倍率を非対称的に調整するステップを含む、方法。
11. 前記第２のレンズセットを選択的に調整するステップが、前記第２のレンズセットを選択的に調整して、前記第１の方向に沿った第１の倍率補正値を前記倍率に適用し、かつ、前記第２の方向に沿った、前記第１の倍率補正値とは異なる第２の倍率補正値を前記倍率に適用するステップを含む、請求項１０に記載の方法。
12. 前記第１のレンズセットが複数のレンズを含み、前記第１のレンズセットを選択的に調整するステップが、前記複数のレンズのうちの少なくとも２つの間の距離を調整するステップを含む、請求項１０に記載の方法。
13. 前記選択的に拡大された第１の放射線を方向付ける前記ステップが、前記パターンのそれぞれの部分を前記ウェハのそれぞれの部分上に投影するステップを含む、請求項１０に記載の方法。
14. 少なくとも前記ウェハの位置に対する前記マスクの位置に基づく前記倍率に対する調整に関連付けられた、１つ以上の制御信号を生成するステップであって、前記第１のレンズセットを選択的に調整するステップは、前記１つ以上の制御信号に基づく、該ステップを更に含み、
    前記調整するステップは、前記１つ以上の制御信号に応答し、
    前記ウェハのそれぞれの部分は、前記ビームステアリングレンズのそれぞれの傾斜に関連付けられている、請求項１３に記載の方法。
15. 方法であって、
    物体に関連付けられた放射線を受容するステップと、
    少なくとも第１のレンズセット及び第２のレンズセットを通して、前記放射線を像平面に向けて方向付けるステップであって、前記方向付けるステップの間に、
    前記第１のレンズセットを選択的に調整して、前記物体の像に関連付けられた倍率を第１の方向及び第２の方向に沿って対称的に調整するステップと、
    前記第２のレンズセットを選択的に調整して、前記第１の方向及び前記第２の方向に沿って前記倍率を非対称的に調整するステップと、を含む、該ステップと、を含む、方法。
16. 前記物体が、マスクのパターンを含み、
    前記像平面が、ウェハを含み、
    前記像が、前記ウェハ上の前記物体の投影を含み、
    前記放射線を方向付ける前記ステップが、前記パターンのそれぞれの部分を前記ウェハのそれぞれの部分上に投影するステップを含む、請求項１５に記載の方法。
17. 少なくとも前記ウェハの位置に対する前記マスクの位置に基づいて、１つ以上の制御信号を生成するステップと、
    前記１つ以上の制御信号に応答してビームステアリングレンズの傾斜を調整するステップであって、前記ウェハのそれぞれの部分は、前記ビームステアリングレンズのそれぞれの傾斜に関連付けられている、該ステップと、を更に含む、請求項１６に記載の方法。
18. 光学系であって、
    物体に関連付けられた第１の放射線を受容し、前記物体の像に関連付けられた第２の放射線を像平面に向けて方向付けるように構成されている、レンズシステムを備え、前記レンズシステムは、
    前記第１の放射線を受容し、選択的に拡大するように構成されている、第１のレンズセットと、
    前記第１の放射線を受容し、選択的に拡大するように構成されている、第２のレンズセットと、
    アクチュエータシステムであって、
    前記第１のレンズセットを選択的に調整して、前記像に関連付けられた倍率を第１の方向及び第２の方向に沿って対称的に調整するように、かつ
    前記第２のレンズセットを選択的に調整して、前記第１の方向及び前記第２の方向に沿って前記倍率を非対称的に調整するように構成されている、該アクチュエータシステムと、を含む、光学系。
19. 前記レンズシステムが、前記第１の放射線を少なくともビームステアリングレンズの傾斜に基づいて方向付けて、前記第２の放射線を提供するように構成されている、ビームステアリングレンズを更に含み、前記ビームステアリングレンズの前記傾斜は、前記アクチュエータシステムによって調整可能である、請求項１８に記載の光学系。
20. 複数のレンズを含むレンズアセンブリと、
    前記第１の放射線を前記レンズアセンブリまで通過させるように構成されている、第１のプリズムと、
    前記レンズアセンブリの前記複数のレンズを介して前記第１のプリズムから前記第１の放射線を受容し、前記第１の放射線を反射するように構成されている、ミラーと、
    前記レンズアセンブリの前記複数のレンズを介して前記ミラーから反射された前記第１の放射線を受容し、光路上の前記第１の放射線を前記像平面に向けて方向付けるように構成されている、第２のプリズムと、を更に備える、請求項１８に記載の光学系。
21. 前記第１のレンズセットが、前記第１の放射線を前記第１のプリズムまで通過させるように構成されており、前記第２のプリズムが、前記第１の放射線を前記第２のレンズセットまで通過させるように構成されている、請求項２０に記載の光学系。
22. 前記アクチュエータシステムが、前記第２のレンズセットを調整して、前記第１の方向に沿った第１の倍率補正値を前記倍率に適用し、かつ、前記第２の方向に沿った第２の倍率補正値を前記倍率に適用するように構成されており、
    前記第１の倍率補正値は、前記第２の倍率補正値と異なり、
    前記第１の方向は、前記第２の方向に直交している、請求項１８に記載の光学系。
23. 前記アクチュエータシステムが、前記第１のレンズセットの少なくとも１つのレンズを第１の位置から第２の位置に、及び／又は、前記第２のレンズセットの少なくとも１つのレンズを第３の位置から第４の位置に移動させて、前記倍率を調整するように構成されている、請求項１８に記載の光学系。
24. 前記光学系が、リソグラフィシステムであり、
    前記物体が、マスクのパターンを含み、
    前記像平面が、ウェハを含み、
    前記像が、前記ウェハ上の前記物体の投影を含む、請求項１８に記載の光学系。
25. 少なくともビームステアリングレンズの傾斜に基づいて、前記第２の放射線を提供するように構成されている、ビームステアリングレンズを更に含み、
    前記レンズシステムは、前記パターンのそれぞれの部分を前記ウェハのそれぞれの部分上に投影するように構成されており、
    前記アクチュエータシステムは、１つ以上の制御信号に応答して前記ビームステアリングレンズの傾斜を調整するように更に構成されており、
    前記ウェハのそれぞれの部分は、前記ビームステアリングレンズのそれぞれの傾斜に関連付けられている、請求項２４に記載の光学系。

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