JP6798812B2 - ヒータ - Google Patents

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Description

本開示は、流体加熱用ヒータ,粉体加熱用ヒータ,気体加熱用ヒータ,酸素センサ用ヒータ,半田ゴテ用ヒータ等に用いられるヒータに関するものである。
従来から、水などの液体または空気などの気体を加熱するヒータとして、セラミック体の内部に発熱抵抗体を設けたセラミックヒータが用いられている。このセラミックヒータを加熱対象物の入った容器等の他部材へ取り付けるために、セラミック体の外周面にフランジが接合されたセラミックヒータが知られている(例えば、特許文献1を参照。)。
このようなヒータとして、金属製のフランジがセラミック体に設けられた金属層にろう材で接合されたものがあり、必要に応じてフランジの表面にはめっき層が設けられている。
特開2001−210453号公報
めっき層が設けられたフランジを備えたヒータを、高温、高湿度の環境下で使用すると、フランジの表面のめっき層に欠陥が生じるおそれがあった。さらに、このめっき層の欠陥を起点としたクラックが下地のフランジに到達した場合、ガルバニック腐食によりフランジが腐食して耐久性が低下してしまうおそれがあった。
本開示のヒータは、柱状または筒状のセラミック体と、該セラミック体の内部に設けられた発熱抵抗体と、前記セラミック体の外周面に周方向に沿って設けられた金属層と、該金属層に接合材を介して接合されたフランジと、該フランジを被覆するめっき層とを備えている。そして、前記めっき層は、該フランジを覆う第1めっき層と、該第1めっき層を覆う第2めっき層とを有し、前記フランジは角部を有する形状であって、前記めっき層の
厚みが前記フランジの角部において他の部位よりも厚い
本開示のヒータによれば、第2めっき層の表面からフランジに向かってクラックが進展したとしても、第1めっき層と第2めっき層との境界でその進展が食い止められ、クラックがフランジまで到達することが抑えられるので、フランジが腐食することを抑えることができ、フランジの耐久性が向上したヒータとなる。
ヒータの実施形態の一例を示す概略斜視図であり、(a)は後端側からの斜視図で、(b)は先端側からの斜視図である。 (a)は図1に示すヒータの概略縦断面図であり、(b)は(a)における領域Bを拡大して示す断面図である。 図2(a)における領域Bの他の例を拡大して示す断面図である。 図2(a)における領域Cの一例を拡大して示す断面図である。
以下、ヒータの実施形態について図面を参照しながら説明する。
図1は、ヒータの実施形態の一例を示す概略斜視図、図2(a)は図1に示すヒータの概略縦断面図、図2(b)は図2(a)に示す領域Bの一例の拡大図である。
図1および図2に示すヒータ1は、柱状または筒状のセラミック体2と、セラミック体2の内部に設けられた発熱抵抗体3と、セラミック体2の外周面に周方向に沿って設けられた金属層4と、金属層4に接合材5を介して接合されたフランジ6と、フランジ6を被覆するめっき層7とを備えている。そして、めっき層7は、当該フランジ6を覆う第1めっき層71と、第1めっき層71を覆う第2めっき層72とを有する。
本実施形態のヒータ1は、例えば、このセラミック体2の周囲に液体、気体および粉体のような流体の被加熱物を通過させて加熱させることができる。ヒータ1におけるセラミック体2は、長さ方向を有する柱状または筒状の部材である。柱状としては、例えば円柱状または角柱状等が挙げられる。なお、ここでいう柱状とは、例えば特定の方向に長く伸びた板状も含んでいる。また、筒状としては、例えば円筒状または角筒状が挙げられる。図1に示すヒータ1においては、セラミック体2は円筒状である。
セラミック体2が筒状(円筒状)である場合には、ヒータ1はセラミック体2の内周面または外周面に被加熱物を接触させて加熱するように用いられる。また、図示しないが、セラミック体2が柱状の場合は、ヒータ1はセラミック体2の外周面に被加熱物を接触させて加熱するように用いられる。
セラミック体2は、絶縁性のセラミック材料から成る。絶縁性のセラミック材料としては、例えばアルミナ、窒化珪素または窒化アルミニウムが挙げられる。熱伝導率に優れるという点では窒化アルミニウムを用いることが好ましい。一方、耐酸化性があって製造しやすい点ではアルミナを用いることが好ましい。
セラミック体2が円筒状である場合の寸法は、例えば長さ方向の全長が40〜150mm、外径が4〜30mm、内径が1〜28mmに設定することができる。また、セラミック体が円柱状の場合の寸法は、例えば長さ方向の全長が40〜150mm、外径が4〜30mmに設定することができる。
セラミック体2の内部には、発熱抵抗体3が設けられている。すなわち、セラミック体2には発熱抵抗体3が埋設されている。発熱抵抗体3は、電流が流れることによって発熱してセラミック体2を加熱するものである。発熱抵抗体3の一端が後述する一対の引出電極9のうちの一方と電気的に接続され、他端が後述する一対の引出電極9のうちの他方と電気的に接続されている。図示していないが、発熱抵抗体3は、長さ方向に繰り返して折り返しながら周方向に沿って設けられた折り返し部(蛇行部)を有している。
発熱抵抗体3は、例えばタングステン(W)、モリブデン(Mo)またはレニウム(Re)等の高融点の金属を主成分とした導電体から成る。発熱抵抗体3の寸法は、例えば、幅を0.3〜2mm、厚みを0.01〜0.1mm、全長を500〜5000mmに設定することができる。これらの寸法は、発熱抵抗体3の発熱温度および発熱抵抗体3に加える電圧等によって適宜設定される。
また、セラミック体2には引出電極9が埋設されている。引出電極9は、一端が発熱抵抗体3に接続されているとともに、他端がセラミック体2の後端側(図中の右側)の表面に設けられた外部電極8に接続されている。引出電極9は、発熱抵抗体3と同じ金属材料からなるものでもよく、異なる金属材料からなるものでもよい。また、発熱抵抗体3と同
時に形成されたものでもよく、別々に形成されたものでもよい。引出電極9が円柱状の場合の直径は、例えば0.3mm〜1mmとされる。
上述のように、セラミック体2の後端側(図中の右側)の表面には、外部電極8が設けられている。外部電極8は、引出電極9を介して発熱抵抗体3と電気的に接続されている。また、外部電極8は外部の電源と発熱抵抗体3とを電気的に接続するためのものであって、セラミック体2の後端側の2か所にそれぞれ設けられ、リード端子が接合されて当該リード端子を介して外部の電源に接続される。この外部電極8は、例えばタングステン、モリブデン等の金属材料からなる。外部電極8の寸法は、例えば長さを9mmに、幅を5mmに、厚みを0.02mmに設定することができる。
セラミック体2の外周面のうちフランジ6が取り付けられる領域には、周方向に沿って金属層4が設けられている。図に示す例では、金属層4が設けられた領域(フランジ6が取り付けられる領域)は、セラミック体2の後端側にあって、外部電極8よりも先端側の位置にある。
なお、金属層4は、フランジ6とセラミック体2との間だけではなく、そこからセラミック体2の先端側および後端側にかけても設けられている。言い換えると、セラミック体2の長さ方向を含む断面で見たときに、フランジ6の幅よりも金属層4の幅が大きい。これにより、フランジ6のうちセラミック体2の先端側および後端側の両方と金属層4とを接合材5で接合することができる。また、金属層4の広範囲に接合材5を濡れ広がらせることができるので、フランジ6と金属層4との接合強度を向上できる。
金属層4は、例えば、タングステン、モリブデン等の金属材料からなる。また、接合材5としては、金属層6とフランジ6とを接合するための材料を適宜選択することができる。本実施形態のヒータ1においては、接合材5としてろう材を用いている。ろう材としては、例えば、銀または銀−銅ろう等を用いることができる。特に、金属層4をメタライズ層およびめっき層の複合層とすることによって、金属層4と接合材5との濡れ性を向上させてもよい。これにより、セラミック体2とフランジ6との接合強度を向上できる。このようなめっき層としては、例えば、ニッケル層を用いることができる。
金属層4には接合材5を介してフランジ6が接合されている。フランジ6は、セラミック体2を外部機器に取り付けやすくするための部材である。外部機器としては、例えば温水洗浄便座等が挙げられる。本実施形態のヒータ1が温水洗浄便座に用いられる場合には、温水洗浄便座における洗浄用の水がセラミック体2の内部(筒の内周面を壁面とする流路)を通過して加熱されることによって温水になるように用いられる。具体的には、例えば、セラミック体2の後端側から水が導入され、この水がセラミック体2の内部の流路を通過する間に発熱抵抗体3によって加熱された後に、セラミック体2の先端側から温水となって放出される。このとき、セラミック体2の先端側から放出される温水は、セラミック体2の外表面に付着する可能性があるが、この水がセラミック体2の後端側に設けられた外部電極8に触れてしまうことによって漏電が生じることを防ぐ必要がある。ヒータ1を温水洗浄便座に用いた場合には、フランジ6は、温水が外部電極8に付着することを防止することで、結果として漏電を防止するための役割も有している。
フランジ6は、環状の部材であって、セラミック体2が挿入されている。本実施形態のヒータ1においては、フランジ6は内周から外周に至る途中に2つの屈曲部を有している。具体的には、フランジ6は、金属層4から外周側に垂直に立ち上る第1部分61と、第1部分61の外周側の端部から後端側に延びる第2部分62と、第2部分62の後端から外周側に延びる第3部分63とを有している。そして、第1部分61と第2部分62とによって、および、第2部分62と第3部分63とによって、2つの屈曲部が形成されてい
る。
フランジ6は、例えばステンレス鋼または鉄−コバルト−ニッケル合金等の金属材料からなる。特に耐腐食性の観点からは、フランジ6はステンレス鋼からなることが好ましい。フランジ6の寸法は、例えば以下の通り設定することができる。具体的には、第1部分61の内径をセラミック体2の外径とほぼ等しく、第3部分63の外径を8mm〜50mm程度に設定することができる。また、セラミック体2の長さ方向における長さ(第2部分62の長さ)は、例えば0.3mm〜5mm程度に設定できる。
図2(b)に示す例のように、フランジ6の表面は、めっき層7で被覆されている。そして、めっき層7は、フランジ6を覆う第1めっき層71と、第1めっき層71を覆う第2めっき層72とを有している。このような構成により、第2めっき層71の表面からフランジ6に向かってクラックが進展したとしても、第1めっき層71と第2めっき層72との境界でその進展が食い止められる。すなわち、めっき層7の表面の欠陥等に起因するクラックがフランジ6まで到達することが抑えられるので、フランジ6が腐食することを抑えることができ、フランジ6の耐久性が向上したヒータ1となる。図2(b)は図2(a)のB部を拡大して示しているが、B部以外の部分においても同様に、フランジ6の表面に第1めっき層71、第2めっき層72がある。めっき層7が第1めっき層71および第2めっき層72の2層からなるのは、めっき層7が表面に露出する部分だけでよい。具体的には、フランジ6の第1部分61の金属層4側の端部は接合材5に覆われており、この部分は第1のめっき層71だけであってもよい。
第1めっき層71および第2めっき層72は、例えばニッケル、錫、金等の金属のめっき層である。第1めっき層71と第2めっき層72とは同じ金属であってもよいし、異なる金属であってもよい。また、上記金属を主成分として他の成分を副成分として含んでいてもよい。例えば、ニッケルめっきであって、ホウ素(B)あるいはリン(P)を副成分として含むものであってもよい。また、第1めっき層71と第2めっき層72とは同じ金属であって、副成分が異なっていてもよい。
第1めっき層71を第2めっき層72よりも厚くしてもよい。このようにすると、めっき層71と第2めっき層72とで金属の種類が異なっている場合には、第1めっき層71の表面でクラックの進展が止まって腐食が始まったとしても、フランジ6の表面上の第1めっき層71の厚みが厚いことで、フランジ6への腐食の進行を遅らせることができる。また、めっき層71と第2めっき層72とで金属の種類が同じ場合には、第2めっき層72が薄いことで第1めっき層71とフランジ6との間に生じる熱応力が大きくなることが抑えられ、めっき層7のフランジ6からの剥がれが抑えられる。すなわち、いずれの場合においても、フランジ6の耐久性が向上したヒータ1となる。
第1めっき層71の厚みは、例えば1μm〜20μmに設定することができる。第2めっき層72の厚みは、例えば0.5μm〜10μmに設定することができる。
第1めっき層71が電気めっきから成るとともに、第2めっき層72が無電解めっきから成るものとすることができる。上述したように、フランジ6の表面の第1めっき層71の厚みを厚くするのがよい。電気めっきにより第1めっき層71形成すると、効率よく厚いめっき層を形成することができる。また、電気めっきでめっき層を形成する場合には、電流を印加するための電極をめっき対象物(フランジ6)に接触させて行なう。このとき、電極が接触していた部分が電極跡として残って欠陥となる場合がある。最表面に位置する第2めっき層72が無電解めっきから成ることで、このような欠陥が表面にないめっき層7とすることができるので、フランジ6の耐久性が向上したヒータ1となる。
第2めっき層72は第1めっき層71よりもホウ素の含有率が高いものとすることができる。第2めっき層7のホウ素の含有率が高いと、第2めっき層72の融点が高くなるので表面からの熱による劣化を防ぐことができる。また、第2めっき層72の硬度が大きくなるのでめっき層7の表面に傷などの欠陥が生じ難くなる。また、第1めっき層のホウ素の含有率が低いと、第1めっき層71の硬度が小さくなるので、フランジ6との間の熱応力を緩和しやすくなる。これらのことから、フランジ6の耐熱性および耐久性が向上したヒータ1となる。
ホウ素の含有率は、例えば第1めっき層71は0〜0.3%で、第2めっき層72は0.3〜3%に設定することができる。例えば、還元剤としてジメチルアミンボランを用いた無電解めっきにより第2めっき層72を形成することとで、ホウ素を含有するニッケルめっき層を形成することができる。また、ホウ素を含有しない電解液を用いた電気めっきによりホウ素を含まない第1めっき層71を形成することができる。
第1めっき層71および第2めっき層72のホウ素の含有率は、波長分散型X線マイクロアナライザー分析(EPMA)によって測定することができる。表面に第1めっき層71および第2めっき層72が形成されたフランジ6を切断してフランジ6の表面に対しておおよそ垂直な断面を形成し、この断面に鏡面研磨を施して、第1めっき層71および第2めっき層72の断面を波長分散型X線マイクロアナライザーにて分析すればよい。また、蛍光X線元素分析(XRF)による分析でもよい。
ここで、図3は、図2(a)における領域Bの他の例を拡大して示す断面図である。また、図4は、図2(a)における領域Cの一例を拡大して示す断面図である。領域Bは、フランジ6の第3部分63の外周側の端部である。領域Cは、フランジ6における第1部分61と第2部分62との間の屈曲部である。このように、フランジ6は、端部の角(エッジ)および屈曲部といった角部を有している。フランジ6の第1部分61の内側の端部の角(エッジ)およびフランジ6の第2部分62と第3部分63との間の屈曲部も角部である。
めっき層7の厚みがこのフランジ6の角部において他の部位よりも厚くてもよい。フランジ6の角部では応力が集中してクラックが発生し易く、めっき層7が剥がれる場合がある。この角部におけるめっき層7の厚みが厚いことでクラックが発生し難くなり、クラックが発生してもクラックの進行が抑えられるので、めっき層7のフランジ6からの剥がれが抑えられる。よって、フランジ6の耐久性が向上したヒータ1となる。
図3および図4に示す例では、第1めっき層71のフランジ6の角部における厚みが他の部位の厚みよりも厚くなっている。これにより、めっき層7の厚みがフランジ6の角部において他の部位よりも厚くなっている。これに限られず、第2めっき層72の厚みが角部において厚いことで角部におけるめっき層7の厚みが厚くなっていてもよい。あるいは、第1めっき層71および第2めっき層72の両方が角部において厚いことで角部におけるめっき層7の厚みが厚くなっていてもよい。
角部におけるめっき層7の厚みを他の部位より厚くするには、電気めっきでめっき層7を形成することで容易にできる。電気めっきによるめっき層の形成では、角部は電流密度が高くなりやすいので、角部に形成されるめっき層の厚みが厚くなり傾向がある。電気めっきの際の電流を大きくすることで、よりこの傾向が強くなり、より容易に角部におけるめっき層の厚みを厚くすることができる。無電解めっきで形成する場合は、全体に同程度の厚みのめっき層を形成し、角部以外をマスク等で覆うなどして角部のみにさらめっき層を形成して角部の厚みを厚くすることができる。
第1めっき層71はクロムを含有していてもよい。第1めっき層71が腐食に強いクロムを含有していることで、第1めっき層71によって腐食の進行をさらに抑えやすくなるので、フランジ6の耐久性がより向上したヒータ1となる。
また、第1めっき層71中のクロムは、第2めっき層72側よりもフランジ側において多く分布していてもよい。第1めっき層71がこのような構成であると、第2めっき層72の表面に生じた欠陥を起因とするクラックが発生し、第1めっき層71と第2めっき層72との境界を越えて第1めっき層71までクラックが到達した場合であっても、第1めっき層71内おいて組成が変化しているのでクラックの進展を抑えやすくなる。そして、クロムの多い領域は腐食し難いので、腐食はクロムの多い領域とクロムの少ない領域との境界に沿って進むこととなり、フランジまで腐食が進むのを遅らせることができ、耐久性がより向上する。
クロムを含有する第1めっき層71は、例えば、ステンレス鋼のようなクロムを含む金属から成るフランジ6を用い、このフランジ6の表面に第1めっき層71を形成した後に熱処理を施すことで形成することができる。熱処理によってフランジ6に含まれるクロムが第1めっき層71中へ拡散することで第1めっき層71はクロムを含有するものとなる。また、熱処理条件によってクロムの拡散状態を調整することで、クロムが第2めっき層72側よりもフランジ6側に多く分布したもの、すなわちクロムの含有率が第2めっき層72側よりもフランジ6側の方が多いものにすることができる。ここで、第1めっき層71における第2めっき層72側およびフランジ6側とは、第1めっき層71の厚み方向の断面において、第1めっき層71の厚みの2分の1の位置に引いた仮想線より第2めっき層72側およびフランジ6側という。
第1めっき層71中のクロムの存在(含有率)および分布の確認は、上述したホウ素の含有率の測定と同様に、波長分散型X線マイクロアナライザー分析(EPMA)によって行なうことができる。上述と同様の方法で第1めっき層71の断面を波長分散型X線マイクロアナライザー分析にて分析し、クロム元素のマッピングを行なうことで、第1めっき層71中のクロムの存在(含有率)および分布を確認することができる。
次に、本実施形態のヒータの製造方法の一例について説明する。なお、本例では、セラミック体2が円筒状のアルミナ質セラミックスからなる場合の例について説明する。
まず、Alを主成分とし、SiO,CaO,MgO,ZrOが合計で10質量%以内になるように調整したアルミナ質セラミックグリーンシートを作製する。
そして、このアルミナ質セラミックグリーンシートの表面に、発熱抵抗体3となる所定のパターンを形成する。発熱抵抗体3の形成方法としてはスクリーン印刷法、転写法、抵抗体埋設法、その他の方法として金属箔をエッチング法などにより形成する方法や、ニクロム線をコイル状に形成し埋設する方法などがあるが、スクリーン印刷法で形成することが品質面での安定性や製造コストが抑えられるといった面から用いられやすい。
セラミックグリーンシートの発熱抵抗体3を形成する面とは反対側の面に、金属層4および外部電極8となるパターンを発熱抵抗体3の形成と同様に、スクリーン印刷、ディスペンサー等を用いて所定のパターン形状に形成する。
また、セラミックグリーンシートには、発熱抵抗体3と外部電極8とを電気的に接続するための引出電極9を形成するための孔加工および導体ペーストの充填がなされる。
発熱抵抗体3、金属層4、外部電極8および引出電極9は、例えばタングステン、モリ
ブデン、レニウムなどの高融点金属を主成分とする導電性ペーストを用いることができる。
一方、押し出し成型にて円筒状のアルミナ質セラミック成型体を成型する。
そして、この円筒状のアルミナ質セラミック成型体に前述のアルミナ質セラミックグリーンシートを巻きつけ、同一の組成のアルミナ質セラミックスを分散させた密着液を塗布して密着させることで、セラミック体2となるアルミナ質一体成型体を得ることができる。
こうして得られたアルミナ質一体成型体を1500〜1600℃の還元雰囲気中(窒素雰囲気)で焼成することで、アルミナ質一体成型体が収縮し、アルミナ質一体焼結体(セラミック体2)を作製することができる。
一方、フランジ6は、ステンレス鋼の板に打ち抜き加工およびプレス加工を施して、第1部分61、第2部分62、第3部分63を有してセラミック体2が挿入される孔を備えた形状にすることで作製することができる。
次に、セラミック体2に形成された金属層4および外部電極8上にめっきを施す。めっきは、ニッケルめっき、金めっき、スズめっきなどが汎用的である。厚みは、3〜10μmとすればよい。このめっきによって、金属層4にフランジを接合するための接合材(ろ
う材)の濡れ性(接合性)、および外部電極8へリード端子を接合するための接合材(は
んだ)の濡れ性(接合性)を向上させることができる。めっきの方法は無電解めっきや電気めっき、バレルめっきなどの方法を目的に応じて選択するとよい。
また、フランジ6には電気めっきにより1〜6μmのニッケルめっき層を第1めっき層71として形成する。
次に、第1めっき層71が形成されたフランジ6の孔にセラミック体2を挿入し、フランジ6の孔(第1部分61の内側の端部)がセラミック体2の金属層4と重なるように位置合わせして、Ag系のろう材(接合材5)を用いて還元雰囲気の炉にて約1000℃の温度でろう付けする。
そして、セラミック体2にろう付けされたフランジ6に厚みが1〜3μmの第2めっき層72を無電解めっきにて形成することでヒータ1となる。
なお、外部電極8には、より線からなるリード端子をはんだ付けすることで給電部を形成してもよい。
1:ヒータ
2:セラミック体
3:発熱抵抗体
4:金属層
5:接合材
6:フランジ
7:めっき層
71:第1めっき層
72:第2めっき層
8:外部電極
9:引出電極

Claims (6)

  1. 柱状または筒状のセラミック体と、該セラミック体の内部に設けられた発熱抵抗体と、前記セラミック体の外周面に周方向に沿って設けられた金属層と、該金属層に接合材を介して接合されたフランジと、該フランジを被覆するめっき層とを備えており、
    前記めっき層は、該フランジを覆う第1めっき層と、該第1めっき層を覆う第2めっき層とを有し、前記フランジは角部を有する形状であって、前記めっき層の厚みが前記フランジの角部において他の部位よりも厚いことを特徴とするヒータ。
  2. 前記第1めっき層が前記第2めっき層よりも厚いことを特徴とする請求項1に記載のヒータ。
  3. 前記第1めっき層が電気めっきから成るとともに、前記第2めっき層が無電解めっきから成ることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のヒータ。
  4. 前記第2めっき層は前記第1めっき層よりもホウ素の含有率が高いことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載のヒータ。
  5. 前記第1めっき層はクロムを含有していることを特徴とする請求項1乃至請求項のいずれかに記載のヒータ。
  6. 前記クロムが前記第2めっき層側よりも前記フランジ側において多く分布していることを特徴とする請求項に記載のヒータ。
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