JP6791213B2 - 分光分析装置及び分光分析方法 - Google Patents

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Description

本開示は、分光分析装置及び分光分析方法に関する。
従来、分析対象に関する情報を光吸収スペクトル等の分光スペクトルに基づいて分光学的に取得する技術が知られている。
例えば、特許文献1には、2つの光源と、2つの光源にそれぞれ対応する2つの光検出器とを用いて、分析波長の異なる2種類のガス成分を1つの装置で同時に分析可能な挿入型ガス濃度測定装置が開示されている。
特開2015−137910号公報
このような分光分析装置は、分析対象成分の光吸収スペクトルピークの波長位置を検出するための参照セルをさらに有し、参照セルを透過した参照光用の光検出器をさらに有する場合がある。すなわち、2種類のガス成分それぞれに対して、測定光用及び参照光用の一対の光検出器が配置され、分光分析装置は、合計で4つの光検出器を有する。
このとき、各光検出器から出力される受光信号に対してアナログ信号からデジタル信号に変換する変換部を各光検出器に接続すると、製品コストが増大し、受光信号を処理する回路系が複雑になる。
本開示は、1つの分析対象成分に対して2つの受光信号をそれぞれ処理する場合であっても製品コストが低減可能な分光分析装置及び分光分析方法を提供することを目的とする。
幾つかの実施形態に係る分光分析装置は、分光スペクトルに関する情報をそれぞれ含む第1受光信号及び第2受光信号を取得し、制御部による制御に基づき前記第1受光信号又は前記第2受光信号に出力を切り替える切替部と、前記切替部から出力される前記第1受光信号又は前記第2受光信号をデジタル信号に変換する変換部と、を備える。このような分光分析装置によれば、2つの受光信号を1つの変換部で処理することができるため、製品コストが低減可能である。より具体的には、分光分析装置では、時分割によって各受光信号の出力タイミングを切替部が調整することで、2つの受光信号が1つの変換部によってデジタル化される。したがって、2つの変換部が必要とされる従来技術と比較して、変換部関連の回路部品の数が低減する。
一実施形態に係る分光分析装置において、前記制御部は、前記第1受光信号が前記変換部へ繰り返し出力される時間である第1時間よりも、前記第2受光信号が前記変換部へ繰り返し出力される時間である第2時間が短くなるように前記切替部を制御してもよい。このように、制御部が2つの受光信号に応じて切替部の切り替え時間に重み付けを与えることで、第1受光信号に基づく分析周期が短縮する。第1受光信号及び第2受光信号をそれぞれ処理する場合であっても、分光分析装置として重要な第1受光信号に基づく分析周期が短縮化される。これにより、分光分析装置による分析効率が向上する。
一実施形態に係る分光分析装置において、前記制御部は、前記切替部からの出力が前記第1受光信号に切り替わってから経過した時間が前記第1時間に到達すると、前記第1時間の間に前記変換部によって変換された前記第1受光信号に基づいて分光スペクトルを分析してもよい。これにより、第1時間の間に繰り返し含まれる分光スペクトルに関する情報を用いて、第1受光信号に基づく分光スペクトルの分析が可能となる。したがって、例えば平均化等の信号処理を実行することで、分光スペクトルを用いた分析の精度が向上する。
一実施形態に係る分光分析装置において、前記制御部は、積算された前記第2時間が予め設定された所定時間に到達したか否かを判定し、積算された前記第2時間が前記所定時間に到達したと判定すると、積算された前記第2時間の間に前記変換部によって変換された前記第2受光信号に基づいて分光スペクトルを分析してもよい。これにより、積算された第2時間の間に繰り返し含まれる分光スペクトルに関する情報を用いて、第2受光信号に基づく分光スペクトルの分析が上記の第1受光信号の場合と同様に可能となる。したがって、例えば平均化等の信号処理を実行することで、分光スペクトルを用いた分析の精度が同様に向上する。
一実施形態に係る分光分析装置において、前記所定時間は、前記第1時間に等しくてもよい。これにより、分光分析装置は、第1受光信号及び第2受光信号の間で光学系に起因するSN比が同等である場合、第1受光信号に基づく分光スペクトルのSN比と同等のSN比で、第2受光信号に基づく分光スペクトルの分析を行うことができる。したがって、分光スペクトルを用いた分析の精度が向上する。
一実施形態に係る分光分析装置において、前記第1受光信号は、被測定ガス中の分析対象成分の光吸収スペクトルに関する情報を含み、前記第2受光信号は、前記被測定ガス中の前記分析対象成分と同一で、かつ既知濃度のガスの光吸収スペクトルに関する情報を含んでもよい。例えば、蛍光分光法及びラマン分光法等の他の分光法では、蛍光及びラマン光等の測定光の強度は弱く、測定光の検出は容易でない。これに対して、吸収分光法を用いることで測定光の強度が増大し、測定光の検出が容易になる。したがって、分光分析装置は、分光スペクトルを容易に算出可能である。
幾つかの実施形態に係る分光分析方法は、分光分析装置による分光分析方法であって、分光スペクトルに関する情報をそれぞれ含む第1受光信号及び第2受光信号を取得し、前記第1受光信号又は前記第2受光信号に出力を切り替えるステップと、切り替えられた前記第1受光信号又は前記第2受光信号をデジタル信号に変換するステップと、を含む。このような分光分析方法によれば、2つの受光信号の出力を切り替えて処理することができるため、製品コストが低減可能である。より具体的には、分光分析方法では、時分割によって各受光信号の出力タイミングを調整することで、2つの受光信号が1つの変換部を用いてデジタル化可能である。したがって、2つの変換部が必要とされる従来技術と比較して、変換部関連の回路部品の数が低減する。
一実施形態に係る分光分析方法では、前記デジタル信号に変換するステップにおいて、前記第1受光信号が繰り返される時間である第1時間よりも、前記第2受光信号が繰り返される時間である第2時間が短くてもよい。このように、2つの受光信号に応じて切り替え時間に重み付けを与えることで、第1受光信号に基づく分析周期が短縮する。第1受光信号及び第2受光信号をそれぞれ処理する場合であっても、分光分析装置として重要な第1受光信号に基づく分析周期が短縮化される。これにより、分光分析装置による分析効率が向上する。
一実施形態に係る分光分析方法において、前記第1受光信号に切り替わってから経過した時間が前記第1時間に到達すると、前記第1時間の間に前記デジタル信号に変換された前記第1受光信号に基づいて分光スペクトルを分析するステップをさらに含んでもよい。これにより、第1時間の間に繰り返し含まれる分光スペクトルに関する情報を用いて、第1受光信号に基づく分光スペクトルの分析が可能となる。したがって、例えば平均化等の信号処理を実行することで、分光スペクトルを用いた分析の精度が向上する。
一実施形態に係る分光分析方法において、積算された前記第2時間が予め設定された所定時間に到達したか否かを判定するステップと、積算された前記第2時間が前記所定時間に到達したと判定すると、積算された前記第2時間の間に前記デジタル信号に変換された前記第2受光信号に基づいて分光スペクトルを分析するステップと、をさらに含んでもよい。これにより、積算された第2時間の間に繰り返し含まれる分光スペクトルに関する情報を用いて、第2受光信号に基づく分光スペクトルの分析が上記の第1受光信号の場合と同様に可能となる。したがって、例えば平均化等の信号処理を実行することで、分光スペクトルを用いた分析の精度が同様に向上する。
一実施形態に係る分光分析方法において、前記所定時間は、前記第1時間に等しくてもよい。これにより、第1受光信号及び第2受光信号の間で光学系に起因するSN比が同等である場合、第1受光信号に基づく分光スペクトルのSN比と同等のSN比で、第2受光信号に基づく分光スペクトルの分析が可能である。したがって、分光スペクトルを用いた分析の精度が向上する。
一実施形態に係る分光分析方法において、前記第1受光信号は、被測定ガス中の分析対象成分の光吸収スペクトルに関する情報を含み、前記第2受光信号は、前記被測定ガス中の前記分析対象成分と同一で、かつ既知濃度のガスの光吸収スペクトルに関する情報を含んでもよい。例えば、蛍光分光法及びラマン分光法等の他の分光法では、蛍光及びラマン光等の測定光の強度は弱く、測定光の検出は容易でない。これに対して、吸収分光法を用いることで測定光の強度が増大し、測定光の検出が容易になる。したがって、一実施形態に係る分光分析方法では、分光スペクトルを容易に算出可能である。
本開示によれば、1つの分析対象成分に対して2つの受光信号をそれぞれ処理する場合であっても製品コストが低減可能な分光分析装置及び分光分析方法を提供可能である。
一実施形態に係る分光分析装置の構成の一例を示すブロック図である。 制御部によって実行される制御及び処理の第1例を示す模式図である。 制御部によって実行される制御及び処理の第2例を示す模式図である。 図1の分光分析装置が行う処理の一例を示すフローチャートである。 制御部によって実行される制御及び処理の第3例を示す模式図である。 繰り返し掃引された半導体レーザの注入電流を示す模式図である。 被測定ガスを透過した半導体レーザ光の光強度の変化を示す模式図である。 算出された被測定ガスの光吸収スペクトルを示す模式図である。 分析波長の異なる2種類の分析対象成分の分光分析に用いられる従来の分光分析装置を示すブロック図である。
初めに、従来技術の背景及び問題点について説明する。
例えば、プロセスガス等の被測定ガスが流れる流路にレーザガス分析計が直接取り付けられ、分析対象成分の濃度分析が行われる。被測定ガスは、例えばCO(一酸化炭素)、CO2(二酸化炭素)、H2O(水)、Cnm(炭化水素)、NH3(アンモニア)、及びO2(酸素)等のガス分子を含む。流路は、配管、煙道、及び燃焼炉等を含む。
このようなレーザガス分析計は、例えばTDLAS(Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy:波長可変ダイオードレーザ吸収分光)式レーザガス分析計を含む。TDLAS式レーザガス分析計は、例えば被測定ガス中にレーザ光を照射することで分析対象成分の濃度を分析する。
被測定ガスに含まれるガス分子は、赤外から近赤外域において、分子の振動及び回転エネルギー遷移に基づく光吸収スペクトルを示す。光吸収スペクトルは、成分分子に固有である。Lambert−Beerの法則により、レーザ光に関するガス分子の吸光度がその成分濃度及び光路長に比例する。したがって、光吸収スペクトルの強度を測定することで分析対象成分の濃度が分析可能である。
TDLASでは、ガス分子が有するエネルギー遷移の吸収線幅よりも十分に狭い線幅の半導体レーザ光を被測定ガスに照射する。半導体レーザの注入電流を高速変調することで、その発振波長を掃引する。被測定ガスを透過した半導体レーザ光の光強度を測定して、1本の独立した光吸収スペクトルを測定する。
半導体レーザ光の掃引範囲は用途によって異なる。分析対象成分がO2の場合、半導体レーザ光の線幅は例えば0.0002nmであり、掃引幅は例えば0.1〜0.2nmである。0.1〜0.2nmの掃引幅を掃引することで、光吸収スペクトルの測定を行う。取得した1本の光吸収スペクトルから濃度換算を行うことにより、分析対象成分の濃度が求められる。濃度換算の方法は、ピーク高さ法、スペクトル面積法、及び2f法等の既知の方法を含む。
一般的に、半導体レーザの発振波長は、半導体レーザの注入電流及び温度に依存する。例えば、発振波長は、注入電流が大きくなるほど長くなる。例えば、発振波長は、温度が上昇するほど長くなる。
TDLASの測定の際に、測定したい光吸収スペクトルの波長帯域に半導体レーザの発振波長が大まかに一致するように半導体レーザの温度が調整される。半導体レーザの温度は、調整された値に維持される。その後、半導体レーザの注入電流を変化させて、発振波長の微調整が行われる。
ここで、図6A乃至図6Cを参照しながら、半導体レーザの発振波長を繰り返し掃引して被測定ガスの光吸収スペクトルを測定する従来の方法について説明する。
図6Aは、繰り返し掃引された半導体レーザの注入電流を示す模式図である。半導体レーザの発振波長が測定したい光吸収スペクトルの波長帯域に一致すると、当該波長帯域において半導体レーザの発振波長が繰り返し掃引される。このとき、半導体レーザの注入電流が繰り返し掃引される。例えば、半導体レーザの注入電流は、のこぎり波を示す。
図6Bは、被測定ガスを透過した半導体レーザ光の光強度の変化を示す模式図である。発振波長が繰り返し掃引された半導体レーザ光は、被測定ガスを透過して受光部に集光される。受光部は、被測定ガスによる半導体レーザ光の波長ごとの光吸収量を反映した、図6Bに示すような受光信号を出力する。このとき、半導体レーザの注入電流の掃引に伴って半導体レーザ光の照射強度も変化する。例えば、照射強度は、注入電流が大きくなるほど高くなる。したがって、注入電流の掃引に伴う照射強度の変化と被測定ガスによる波長ごとの光吸収量の変化とに基づいて、受光部から出力される受光信号は、のこぎり波にディップが重畳したような波形を示す。
そして、図6Bに示すような受光信号に基づいて、被測定ガスの光吸収スペクトルが算出される。図6Cは、算出された被測定ガスの光吸収スペクトルを示す模式図である。例えば、半導体レーザ光が被測定ガスを透過した場合の受光信号から、被測定ガスを透過しない場合の受光信号を差し引いて、かつ縦軸を対数とすることで、光吸収スペクトルが算出される。このような光吸収スペクトルが示す吸光度は、被測定ガスの成分濃度に比例する。例えば、光吸収スペクトルの面積が被測定ガスの成分濃度に比例する。したがって、吸光度に基づいて被測定ガスの成分濃度が算出可能である。
図7は、分析波長の異なる2種類の分析対象成分の分光分析に用いられる従来の分光分析装置を示すブロック図である。
従来、分析波長の異なる2種類の分析対象成分に対して分光分析を行うために、2つの半導体レーザが用いられる。1つの半導体レーザから照射された照射光は、2つに分岐する。分岐した一方の照射光は、被測定ガスを透過して測定光として測定用フォトディテクタにより検出される。分岐した他方の照射光は、参照セルを透過して参照光として参照用フォトディテクタにより検出される。
受光側を構成する回路系は、1つの半導体レーザに対して、測定用フォトディテクタ、測定用ADC(アナログデジタルコンバータ)、及び測定用メモリと、参照用フォトディテクタ、参照用ADC、及び参照用メモリとを有する。このように、各フォトディテクタから出力される受光信号に対してアナログ信号からデジタル信号に変換するADCが各フォトディテクタに接続されている。4つのフォトディテクタに対して4つのADCを要する従来の分光分析装置では、製品コストが増大し、受光信号を処理する回路系が複雑になる。
本開示は、1つの分析対象成分に対して測定光及び参照光に基づく2つの受光信号をそれぞれ処理する場合であっても製品コストが低減可能な分光分析装置1を提供することを目的とする。以下では、添付図面を参照しながら本開示の一実施形態について主に説明する。
図1は、一実施形態に係る分光分析装置1の構成の一例を示すブロック図である。分光分析装置1は、波長帯の異なる2種類の照射光を被測定ガスGに並行して照射し、異なる受光回路で処理された受光信号に基づいて、被測定ガスG中の異なる分析対象成分を並行して分析できる。
図1に示すとおり、分光分析装置1は、発光側を構成するレーザコントローラ10と、第1発光部11と、第2発光部12とを有する。
レーザコントローラ10は、後述する分光分析装置1の制御部100の一部を構成する。レーザコントローラ10は、第1発光部11及び第2発光部12に接続され、これらの動作を制御する。例えば、レーザコントローラ10は、発振波長制御信号を生成し、第1発光部11及び第2発光部12それぞれから照射される照射光の発振波長を制御する。その他にも、例えば、レーザコントローラ10は、第1発光部11及び第2発光部12それぞれによる照射のオン又はオフ、及び照射強度等を制御する。
第1発光部11及び第2発光部12それぞれは、例えば、被測定ガスGに対してTDLASによる測定が可能な任意の光源を有する。被測定ガスGは、例えばCO、CO2、H2O、Cnm、NH3、及びO2等のガス分子を含む。各発光部は、例えば、半導体レーザを有する。各発光部は、レーザコントローラ10から出力される注入電流に基づいて、発振波長が掃引された光を被測定ガスGに対して照射する。このとき、各発光部は、複数周期にわたり同一の波長範囲で発振波長が掃引された光を照射してもよい。第1発光部11の発振波長と第2発光部12の発振波長とは、被測定ガスGに含まれる異なる2種類の分析対象成分C1及びC2の分析波長にそれぞれ対応しており、互いに異なる。
分光分析装置1は、第1参照セル21をさらに有する。第1発光部11から照射された照射光は2つに分岐する。分岐した一方の照射光は被測定ガスGを透過する。分岐した他方の照射光は、第1参照セル21中に封入された、被測定ガスG中の分析対象成分C1と同一で、かつ既知濃度のガスG1を透過する。
分光分析装置1は、第2参照セル22をさらに有する。第2発光部12から照射された照射光は2つに分岐する。分岐した一方の照射光は被測定ガスGを透過する。分岐した他方の照射光は、第2参照セル22中に封入された、被測定ガスG中の分析対象成分C2と同一で、かつ既知濃度のガスG2を透過する。
分光分析装置1は、受光側を構成する各構成部を有する。より具体的には、分光分析装置1は、第1受光部31、第2受光部32、第3受光部33、及び第4受光部34と、第1切替部41及び第2切替部42と、第1変換部51及び第2変換部52とを有する。分光分析装置1は、さらに、タイミング調整コントローラ60と、第1記憶部71、第2記憶部72、第3記憶部73、及び第4記憶部74と、CPU(Central Processing Unit:中央処理装置)80とを有する。タイミング調整コントローラ60とCPU80とは、上述したレーザコントローラ10と共に分光分析装置1の制御部100を構成する。
第1受光部31及び第3受光部33それぞれは、例えば、被測定ガスGに対してTDLASによる測定が可能な任意の光検出器を有する。各受光部は、例えば、フォトダイオードを有する。各受光部は、被測定ガスGの分光スペクトルに関する情報を含む測定光を検出し、電気的な測定信号に変換する。分光スペクトルは、例えば光吸収スペクトルを含む。
第2受光部32及び第4受光部34は、例えば、第1参照セル21及び第2参照セル22に封入されたガスG1及びガスG2に対してそれぞれTDLASによる測定が可能な任意の光検出器を有する。各受光部は、例えば、フォトダイオードを有する。各受光部は、各参照セルに封入された各ガスの分光スペクトルに関する情報を含む参照光を検出し、電気的な参照信号に変換する。分光スペクトルは、例えば光吸収スペクトルを含む。
第1受光部31は、第1発光部11から照射され、被測定ガスGを透過した照射光の一部を、測定光として検出する。第1受光部31は、測定光を検出すると、分析対象成分C1の分光スペクトルに関する情報を含む第1受光信号S1を出力する。第2受光部32は、第1発光部11から照射され、第1参照セル21を透過した照射光の一部を、参照光として検出する。第2受光部32は、参照光を検出すると、ガスG1の分光スペクトルに関する情報を含む第2受光信号S2を出力する。
同様に、第3受光部33は、第2発光部12から照射され、被測定ガスGを透過した照射光の一部を、測定光として検出する。第3受光部33は、測定光を検出すると、分析対象成分C2の分光スペクトルに関する情報を含む第3受光信号S3を出力する。第4受光部34は、第2発光部12から照射され、第2参照セル22を透過した照射光の一部を、参照光として検出する。第4受光部34は、参照光を検出すると、ガスG2の分光スペクトルに関する情報を含む第4受光信号S4を出力する。
第1切替部41は、例えばスイッチ等の任意の信号切替回路を有する。第1切替部41は、第1受光部31及び第2受光部32に接続されている。第1切替部41は、第1受光部31及び第2受光部32からそれぞれ出力される第1受光信号S1及び第2受光信号S2を取得する。第1切替部41は、制御部100のタイミング調整コントローラ60による制御に基づき第1受光信号S1又は第2受光信号S2を切り替えて出力する。
同様に、第2切替部42は、例えばスイッチ等の任意の信号切替回路を有する。第2切替部42は、第3受光部33及び第4受光部34に接続されている。第2切替部42は、第3受光部33及び第4受光部34からそれぞれ出力される第3受光信号S3及び第4受光信号S4を取得する。第2切替部42は、制御部100のタイミング調整コントローラ60による制御に基づき第3受光信号S3又は第4受光信号S4を切り替えて出力する。
第1変換部51は、例えばADCを有する。第1変換部51は、第1切替部41に接続されている。第1変換部51は、第1切替部41から出力される第1受光信号S1又は第2受光信号S2をアナログ信号からデジタル信号に変換する。
同様に、第2変換部52は、例えばADCを有する。第2変換部52は、第2切替部42に接続されている。第2変換部52は、第2切替部42から出力される第3受光信号S3又は第4受光信号S4をアナログ信号からデジタル信号に変換する。
タイミング調整コントローラ60は、第1変換部51及び第2変換部52に接続されている。タイミング調整コントローラ60は、第1変換部51から出力される第1受光信号S1又は第2受光信号S2を取得する。同様に、タイミング調整コントローラ60は、第2変換部52から出力される第3受光信号S3又は第4受光信号S4を取得する。
タイミング調整コントローラ60は、第1切替部41にも接続されている。タイミング調整コントローラ60は、第1切替部41から第1変換部51へ出力される第1受光信号S1又は第2受光信号S2の出力時間及びタイミング等を制御して、時分割した状態で第1受光信号S1又は第2受光信号S2を第1変換部51へ出力させる。
同様に、タイミング調整コントローラ60は、第2切替部42にも接続されている。タイミング調整コントローラ60は、第2切替部42から第2変換部52へ出力される第3受光信号S3又は第4受光信号S4の出力時間及びタイミング等を制御して、時分割した状態で第3受光信号S3又は第4受光信号S4を第2変換部52へ出力させる。
第1記憶部71、第2記憶部72、第3記憶部73、及び第4記憶部74は、タイミング調整コントローラ60に接続されている。各記憶部は、例えば、HDD(Hard Disk Drive)、SSD(Solid State Drive)、EEPROM(Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory)、ROM(Read-Only Memory)、及びRAM(Random Access Memory)等の任意の記憶装置を有する。各記憶部は、例えば主記憶装置、補助記憶装置、又はキャッシュメモリとして機能してもよい。各記憶部は、分光分析装置1に内蔵されるものに限定されず、USB等のデジタル入出力ポート等によって接続された外付け型の記憶装置であってもよい。
第1記憶部71は、第1変換部51でデジタル化された第1受光信号S1に基づくデータを必要に応じて格納する。第2記憶部72は、第1変換部51でデジタル化された第2受光信号S2に基づくデータを必要に応じて格納する。第3記憶部73は、第2変換部52でデジタル化された第3受光信号S3に基づくデータを必要に応じて格納する。第4記憶部74は、第2変換部52でデジタル化された第4受光信号S4に基づくデータを必要に応じて格納する。
CPU80は、タイミング調整コントローラ60を介して第1記憶部71、第2記憶部72、第3記憶部73、及び第4記憶部74に接続されている。CPU80は、例えばタイミング調整コントローラ60における各受光信号に基づくデータ取得時間が、規定の掃引回数を含む所定時間に到達したか否かを判定する。CPU80は、データ取得時間が所定時間に到達したと判定すると、対応する記憶部からデータを取得して、対応する受光信号に基づいて分光スペクトルを分析する。
CPU80は、取得した受光信号に対して任意の信号処理を施す。例えば、CPU80は、取得した受光信号を複数周期にわたって平均化してもよい。平均化は、例えば、掃引波形の同一波長部分の信号強度を周期ごとに積算して、全掃引回数で除算することを意味する。これにより、CPU80は、取得した受光信号から光吸収スペクトルを算出してもよい。
レーザコントローラ10、タイミング調整コントローラ60、及びCPU80を含む制御部100は、1つ以上のプロセッサを含む。より具体的には、制御部100は、上述したレーザコントローラ10、タイミング調整コントローラ60、及びCPU80による各種の制御、及び処理等を実現可能な専用のプロセッサ等の任意のプロセッサを含む。
制御部100は、分光分析装置1の制御対象となる各構成部に接続され、これらの各構成部を制御及び管理する。例えば、レーザコントローラ10は、第1発光部11及び第2発光部12に接続され、これらを制御及び管理する。例えば、タイミング調整コントローラ60は、第1切替部41及び第2切替部42と、第1記憶部71、第2記憶部72、第3記憶部73、及び第4記憶部74とに接続され、これらを制御及び管理する。
制御部100は、取得したデータに基づいて必要に応じて信号処理を実行し、分光スペクトルを分析する。例えば、CPU80は、タイミング調整コントローラ60を介して各記憶部に接続され、対応する記憶部からデータを取得し、対応する受光信号を処理して、算出された光吸収スペクトルを分析する。
次に、図2乃至図4を参照しながら、制御部100、例えばタイミング調整コントローラ60及びCPU80によって実行される制御及び処理について主に説明する。
図2は、制御部100によって実行される制御及び処理の第1例を示す模式図である。図2において、横軸は時間を示す。図2において、第2変換部52へ入力される第3受光信号S3及び第4受光信号S4の図示を省略し、第1変換部51へ入力される第1受光信号S1及び第2受光信号S2を主に図示しているが、図2を用いた以下の説明と同様の説明が第3受光信号S3及び第4受光信号S4に対しても適用される。
図2の上段のグラフは、第1発光部11からの光出力の時間変化を示す。当該グラフは、第1発光部11からの照射光の発振波長が複数周期にわたって一定の波長範囲で掃引され、このような波長掃引によって発光強度が周期ごとに単調に変化している様子を示す。図2の中央のグラフは、第1受光信号S1の第1変換部51への入力の時間変化を示す。図2の下段のグラフは、第2受光信号S2の第1変換部51への入力の時間変化を示す。図2の中央及び下段のグラフでは、図示の簡便のために光吸収スペクトルに基づく受光強度の変化を省略して周期ごとに直線的に受光強度が増加している様子が示されているが、実際は、図6Bに示すような光吸収スペクトルに基づくディップが重畳した波形を示す。
ここで、発光強度は、上述したとおり、例えば半導体レーザの注入電流の掃引に伴って変化する。すなわち、図2における発光強度の変化は、注入電流の変化に対応してもよい。これに限定されず、発光強度の変化は、電圧によって制御される任意の波長掃引機構に入力される掃引電圧の変化に対応してもよい。同様に、受光強度の変化は、各受光部における信号の出力形態に合わせて、電流の変化に対応してもよいし、電圧の変化に対応してもよい。
制御部100、例えばタイミング調整コントローラ60は、第1受光信号S1が第1時間T1の間だけ第1変換部51へ繰り返し入力されるように第1切替部41を制御する。CPU80は、第1切替部41からの出力が第1受光信号S1に切り替わってから経過した時間が第1時間T1に到達すると、第1時間T1の間に第1変換部51によって変換された第1受光信号S1に基づいて分光スペクトルを分析する。より具体的には、第1変換部51によってデジタル信号に変換された第1受光信号S1を第1時間T1の間だけタイミング調整コントローラ60が取得すると、CPU80は、図2に黒塗りの逆三角形で示すタイミングで、取得した第1受光信号S1に基づいて分析対象成分C1の光吸収スペクトルを分析する。
タイミング調整コントローラ60は、第1受光信号S1から第2受光信号S2に出力を切り替えるように第1切替部41を制御する。
タイミング調整コントローラ60は、第2受光信号S2が第2時間T2の間だけ第1変換部51へ繰り返し入力されるように第1切替部41を制御する。第1変換部51によってデジタル信号に変換された第2受光信号S2を第2時間T2の間だけタイミング調整コントローラ60が取得すると、CPU80は、図2に白抜きの逆三角形で示すタイミングで、取得した第2受光信号S2に基づいてガスG1の光吸収スペクトルを分析する。
図2に示す第1例では、タイミング調整コントローラ60は、第1時間T1と第2時間T2とが同一になるように第1切替部41を制御する。
タイミング調整コントローラ60は、第2受光信号S2から第1受光信号S1に出力を再度切り替えるように第1切替部41を制御する。その後、タイミング調整コントローラ60とCPU80とは、上述した制御及び処理を繰り返す。図2に示す第1例では、第1時間T1と第2時間T2とが同一であるので、分析対象成分C1の光吸収スペクトルを分析する分析周期及びガスG1の光吸収スペクトルを分析する分析周期はそれぞれ2T1となり互いに同一である。
ここで、掃引の周期ごとの一般的な受光信号では信号強度が非常に低く、SN比が低いため、掃引を数千回繰り返す必要がある。上述した測定信号及び参照信号それぞれに対して同等のSN比が分光スペクトルにて得られるように、光学系の設計に応じて掃引回数、すなわち第1時間T1及び第2時間T2がそれぞれ調整される。測定信号及び参照信号の間で光学系に起因するSN比が異なる場合、第1時間T1及び第2時間T2が互いに同一であっても、測定信号及び参照信号それぞれに対する分光スペクトルのSN比は互いに異なる。一方で、測定信号及び参照信号の間で光学系に起因するSN比が同等である場合、測定信号及び参照信号それぞれに対して同等の掃引回数に調整されると、測定信号及び参照信号それぞれに対する分光スペクトルのSN比は互いに同等となる。このとき、第1時間T1及び第2時間T2を図2に示す第1例のように互いに同一とすると、分光分析装置1の主要な分析対象である分析対象成分C1の光吸収スペクトルの分析周期が2T1となり、分析の高速化が妨げられる。
仮に、タイミング調整コントローラ60が第2切替部42を図2に示す第1例のように制御し、CPU80が第3受光信号S3及び第4受光信号S4に対しても同様の処理を実行する場合、分析対象成分C2の光吸収スペクトルの分析周期も2T1となる。したがって、多成分を分析する分光分析装置1全体の更新周期も2T1となり、測定信号の取得時間である第1時間T1に対して倍の分析周期が必要とされる。
1つの分析対象成分に対して2つの受光信号をそれぞれ処理する場合であっても、分光分析装置1として重要な分析対象成分の分析周期を短縮化するために、制御部100は、図3に示すような制御及び処理を行う。
図3は、制御部100によって実行される制御及び処理の第2例を示す模式図である。図3の3つのグラフは、図2の3つのグラフとそれぞれ対応する。図3においても、第2変換部52へ入力される第3受光信号S3及び第4受光信号S4の図示を省略し、第1変換部51へ入力される第1受光信号S1及び第2受光信号S2を主に図示しているが、図3を用いた以下の説明と同様の説明が第3受光信号S3及び第4受光信号S4に対しても適用される。
図2における第1例と同様に、第1変換部51によってデジタル信号に変換された第1受光信号S1を第1時間T1の間だけタイミング調整コントローラ60が取得すると、CPU80は、図3に黒塗りの逆三角形で示すタイミングで、取得した第1受光信号S1に基づいて分析対象成分C1の光吸収スペクトルを分析する。
タイミング調整コントローラ60は、分析対象成分C1の光吸収スペクトルの分析と同時に、又は分析後に、第1受光信号S1から第2受光信号S2に出力を切り替えるように第1切替部41を制御する。
タイミング調整コントローラ60は、第2受光信号S2が第2時間T2の間だけ第1変換部51へ繰り返し入力されるように第1切替部41を制御する。ここで、タイミング調整コントローラ60は、第1時間T1よりも第2時間T2が短くなるように第1切替部41を制御する。例えば、タイミング調整コントローラ60は、第2時間T2が1/4T1となるように第1切替部41を制御する。
タイミング調整コントローラ60は、第1切替部41からの出力が第2受光信号S2に切り替わるごとに第2時間T2を積算し、積算された第2時間T2が例えばユーザ等によって予め設定された所定時間に到達したか否かを判定する。例えば、所定時間は、第1時間に等しくてもよいし、第1時間と異なっていてもよい。所定時間は、例えばタイミング調整コントローラ60における第2受光信号S2の掃引回数が、分光スペクトルを分析するのに十分なSN比が得られる規定の回数に到達した時間である。
タイミング調整コントローラ60は、積算された第2時間T2が予め設定された所定時間に到達していないと判定すると、第2受光信号S2から第1受光信号S1に出力を再度切り替えるように第1切替部41を制御する。その後、タイミング調整コントローラ60とCPU80とは、上述した制御及び処理を繰り返す。
一方で、積算された第2時間T2が予め設定された所定時間に到達したとタイミング調整コントローラ60が判定すると、CPU80は、積算された第2時間T2の間に第1変換部51によって変換された第2受光信号S2に基づいて分光スペクトルを分析する。タイミング調整コントローラ60は、ガスG1の光吸収スペクトルの分析と同時に、又は分析後に、第2受光信号S2から第1受光信号S1に出力を再度切り替えるように第1切替部41を制御する。その後、タイミング調整コントローラ60とCPU80とは、上述した制御及び処理を繰り返す。
以上のように、第2時間T2が1/4T1となるようにタイミング調整コントローラ60が第1切替部41を制御すると、分析対象成分C1の光吸収スペクトルを分析する分析周期は、T1+1/4T1となる。一方で、ガスG1の光吸収スペクトルを分析する分析周期は、第1時間T1に含まれる掃引回数と同等の掃引回数を得るために、図3に白抜きの逆三角形で示すように例えば5T1となる。
このように、タイミング調整コントローラ60が測定信号及び参照信号に応じて第1切替部41の切り替え時間に重み付けを与えることで、CPU80は、第1例と比較して、分析周期が3/4T1短縮した状態で分析対象成分C1の光吸収スペクトルを分析可能である。したがって、分析対象成分C1に対して第1受光信号S1及び第2受光信号S2をそれぞれ処理する場合であっても、分光分析装置1として重要な分析対象成分C1の分析周期が短縮化される。これにより、分光分析装置1による分析対象成分C1の分析効率が向上する。このとき、ガスG1の分析周期が例えば5T1となるが、ガスG1の光吸収スペクトルは波長確認用であるため、分析対象成分C1の場合ほど頻繁に分析の更新を実行する必要はなく、分析周期が長期化しても特段問題とならない。
タイミング調整コントローラ60が第2切替部42を図3に示す第2例のように制御し、CPU80が第3受光信号S3及び第4受光信号S4に対しても同様の処理を実行することで、分析対象成分C2の光吸収スペクトルの分析周期もT1+1/4T1となる。したがって、異なる分析対象成分C1及びC2を分析する分光分析装置1全体の更新周期もT1+1/4T1となり、CPU80は、測定信号の取得時間である第1時間T1と同等の分析周期で分析可能である。
図4は、図1の分光分析装置1が行う処理の一例を示すフローチャートである。図4に基づく以下の説明は、第1切替部41及び第1変換部51に基づいて第1受光信号S1及び第2受光信号S2を処理する場合を想定している。しかしながら、第2切替部42及び第2変換部52に基づいて第3受光信号S3及び第4受光信号S4を処理する場合にも同様の処理が実行される。
ステップS101では、分光分析装置1のタイミング調整コントローラ60は、第1受光信号S1及び第2受光信号S2のうち第1受光信号S1に出力を切り替えるように第1切替部41を制御する。
ステップS102では、分光分析装置1の第1変換部51は、第1切替部41から出力された第1受光信号S1をデジタル信号に変換する。
ステップS103では、分光分析装置1のCPU80は、第1時間T1の間に第1変換部51によってデジタル信号に変換された第1受光信号S1に基づいて、分析対象成分C1の分光スペクトルを分析する。
ステップS104では、分光分析装置1のタイミング調整コントローラ60は、第1受光信号S1及び第2受光信号S2のうち第2受光信号S2に出力を切り替えるように第1切替部41を制御する。
ステップS105では、分光分析装置1の第1変換部51は、第1切替部41から出力された第2受光信号S2をデジタル信号に変換する。
ステップS106では、分光分析装置1のタイミング調整コントローラ60は、積算された第2時間T2が予め設定された所定時間に到達したか否かを判定する。積算された第2時間T2が予め設定された所定時間に到達したとタイミング調整コントローラ60が判定すると、フローはステップS107に進む。積算された第2時間T2が予め設定された所定時間に到達していないとタイミング調整コントローラ60が判定すると、フローはステップS101に戻る。
ステップS107では、積算された第2時間T2が予め設定された所定時間に到達したとタイミング調整コントローラ60が判定すると、分光分析装置1のCPU80は、積算された第2時間T2の間に第1変換部51によってデジタル信号に変換された第2受光信号S2に基づいて、ガスG1の分光スペクトルを分析する。
以上のような一実施形態に係る分光分析装置1によれば、1つの分析対象成分に対して測定光及び参照光に基づく2つの受光信号をそれぞれ処理する場合であっても製品コストが低減可能である。分光分析装置1では、時分割によって各受光信号の出力タイミングを切替部が調整することで、測定信号及び参照信号が1つの変換部によってデジタル化される。したがって、2つのADCが必要とされる従来技術と比較して、ADC関連の回路部品の数が低減する。
本開示は、その精神又はその本質的な特徴から離れることなく、上述した実施形態以外の他の所定の形態で実現できることは当業者にとって明白である。したがって、先の記述は例示的であり、これに限定されない。開示の範囲は、先の記述によってではなく、付加した請求項によって定義される。あらゆる変更のうちその均等の範囲内にあるいくつかの変更は、その中に包含される。
例えば、上述した各構成部の配置及び個数等は、上記の説明及び図面における図示の内容に限定されない。各構成部の配置及び個数等は、その機能を実現できるのであれば、任意に構成されてもよい。
例えば、各手段又は各ステップ等に含まれる機能等は論理的に矛盾しないように再配置可能であり、複数の手段又はステップ等を1つに組み合わせたり、或いは分割したりすることが可能である。
例えば、本開示は、上述した分光分析装置1の各機能を実現する処理内容を記述したプログラム又はプログラムを記録した記憶媒体としても実現し得る。本開示の範囲には、これらも包含されると理解されたい。
例えば、制御部100によって実行される制御及び処理の例は、図2及び図3を参照しながらそれぞれ説明した第1例及び第2例に限定されない。図5は、制御部100によって実行される制御及び処理の第3例を示す模式図である。図5に示すとおり、分析波長の異なる2種類の分析対象成分C1及びC2に対して、第1発光部11及び第2発光部12の波長掃引時間が互いに異なっていてもよい。さらに、第1時間T1に対する第2時間T2の比率と、第3受光信号S3の取得時間である第3時間T3に対する、第4受光信号S4の取得時間である第4時間T4の比率とが互いに異なっていてもよい。
図5に示す第3例では、タイミング調整コントローラ60が第4時間T4を1/8T3となるように第2切替部42を制御すると、分析対象成分C2の光吸収スペクトルを分析する分析周期は、図5に黒塗りの逆三角形で示すようにT3+1/8T3となる。一方で、ガスG2の光吸収スペクトルを分析する分析周期は、第3時間T3に含まれる掃引回数と同等の掃引回数を得るために、図5に白抜きの逆三角形で示すように例えば9T3となる。
以上のように、分光分析装置1は、波長掃引時間を発光部ごとに変化させたり、参照信号の1回あたりの取得時間を短縮して分析対象成分の分析周期を短縮したりすることで、分析波長の異なる2種類の分析対象成分C1及びC2に対して互いに非同期で動作可能である。これにより、分光分析装置1は、分析対象成分及び使用する半導体レーザ素子等に基づいて、分析対象成分ごとに分析周期を最適化可能である。
上記実施形態では、TDLASに限定して説明したが、分光分析装置1は、繰り返しの掃引信号に基づいて任意の分析対象の分光分析を行う任意の分析計に対して応用可能である。
上記実施形態では、分光スペクトルは光吸収スペクトルを含むとして説明したが、これに限定されない。分光分析装置1は、このような吸収分光法以外にも任意の分光法を用いて分析対象成分を分析してもよい。分光法は、例えば、蛍光分光法及びラマン分光法等を含んでもよい。例えば、蛍光分光法では、分光スペクトルは蛍光スペクトルを含む。例えば、ラマン分光法では、分光スペクトルはラマンスペクトルを含む。
上記実施形態では、第1受光信号S1及び第3受光信号S3が分析対象成分C1及びC2に関する分光スペクトル情報をそれぞれ含み、第2受光信号S2及び第4受光信号S4が参照用のガスG1及びG2に関する分光スペクトル情報をそれぞれ含むとして説明したがこれに限定されない。各受光信号は、任意の対象に関する分光スペクトル情報を含んでもよい。例えば、参照用のガスG1及びG2に代えて新たな分析対象成分がそれぞれ封入され、第2受光信号S2及び第4受光信号S4も、第1受光信号S1及び第3受光信号S3同様に分析対象成分に関する分光スペクトル情報をそれぞれ含んでもよい。この場合、例えば、分析の対象としてより優先度の高いものが第1受光信号S1又は第3受光信号S3に基づいて分析され、分析の対象としてより優先度の低いものが第2受光信号S2又は第4受光信号S4に基づいて分析されてもよい。
1 分光分析装置
10 レーザコントローラ
11 第1発光部
12 第2発光部
21 第1参照セル
22 第2参照セル
31 第1受光部
32 第2受光部
33 第3受光部
34 第4受光部
41 第1切替部
42 第2切替部
51 第1変換部
52 第2変換部
60 タイミング調整コントローラ
71 第1記憶部
72 第2記憶部
73 第3記憶部
74 第4記憶部
80 CPU
100 制御部
C1、C2 分析対象成分
G 被測定ガス
G1、G2 ガス
S1 第1受光信号
S2 第2受光信号
S3 第3受光信号
S4 第4受光信号
T1 第1時間
T2 第2時間
T3 第3時間
T4 第4時間

Claims (16)

  1. 第1照射光を照射する第1発光部と、
    第2照射光を照射する第2発光部と、
    分光スペクトルに関する情報をそれぞれ含む第1受光信号及び第2受光信号を前記第1照射光及び前記第2照射光のそれぞれに対して取得し、制御部による制御に基づき前記第1受光信号又は前記第2受光信号に出力を切り替える第1切替部及び第2切替部と、
    前記第1切替部及び前記第2切替部のそれぞれから出力される前記第1受光信号又は前記第2受光信号をデジタル信号に変換する第1変換部及び第2変換部と、
    を備え
    前記制御部は、
    前記第1受光信号が前記第1変換部へ繰り返し入力される時間である第1時間よりも、前記第2受光信号が前記第1変換部へ繰り返し入力される時間である第2時間が短くなるように前記第1切替部を制御し、
    前記第1受光信号が前記第2変換部へ繰り返し入力される時間である第3時間よりも、前記第2受光信号が前記第2変換部へ繰り返し入力される時間である第4時間が短くなるように前記第2切替部を制御する、
    分光分析装置。
  2. 前記制御部は、前記第1切替部からの出力が前記第1受光信号に切り替わってから経過した時間が前記第1時間に到達すると、前記第1時間の間に前記第1変換部によって変換された前記第1受光信号に基づいて分光スペクトルを分析する、
    請求項に記載の分光分析装置。
  3. 前記制御部は、
    積算された前記第2時間が予め設定された第1所定時間に到達したか否かを判定し、
    積算された前記第2時間が前記第1所定時間に到達したと判定すると、積算された前記第2時間の間に前記第1変換部によって変換された前記第2受光信号に基づいて分光スペクトルを分析する、
    請求項1又は2に記載の分光分析装置。
  4. 前記第1所定時間は、前記第1時間に等しい、
    請求項に記載の分光分析装置。
  5. 前記制御部は、前記第2切替部からの出力が前記第1受光信号に切り替わってから経過した時間が前記第3時間に到達すると、前記第3時間の間に前記第2変換部によって変換された前記第1受光信号に基づいて分光スペクトルを分析する、
    請求項1乃至4のいずれか1項に記載の分光分析装置。
  6. 前記制御部は、
    積算された前記第4時間が予め設定された第2所定時間に到達したか否かを判定し、
    積算された前記第4時間が前記第2所定時間に到達したと判定すると、積算された前記第4時間の間に前記第2変換部によって変換された前記第2受光信号に基づいて分光スペクトルを分析する、
    請求項1乃至5のいずれか1項に記載の分光分析装置。
  7. 前記第2所定時間は、前記第3時間に等しい、
    請求項6に記載の分光分析装置。
  8. 前記第1受光信号は、被測定ガス中の分析対象成分の光吸収スペクトルに関する情報を含み、
    前記第2受光信号は、前記被測定ガス中の前記分析対象成分と同一で、かつ既知濃度のガスの光吸収スペクトルに関する情報を含む、
    請求項1乃至のいずれか1項に記載の分光分析装置。
  9. 分光分析装置による分光分析方法であって、
    第1照射光を照射する第1照射ステップと、
    第2照射光を照射する第2照射ステップと、
    分光スペクトルに関する情報をそれぞれ含む第1受光信号及び第2受光信号を前記第1照射光及び前記第2照射光のそれぞれに対して取得し、前記第1受光信号又は前記第2受光信号に出力を切り替える第1切替ステップ及び第2切替ステップと、
    前記第1切替ステップ及び前記第2切替ステップにおいてそれぞれ切り替えられた前記第1受光信号又は前記第2受光信号をデジタル信号に変換する第1変換ステップ及び第2変換ステップと、
    を含み、
    前記第1変換ステップにおいて、前記第1受光信号が繰り返される時間である第1時間よりも、前記第2受光信号が繰り返される時間である第2時間が短く、
    前記第2変換ステップにおいて、前記第1受光信号が繰り返される時間である第3時間よりも、前記第2受光信号が繰り返される時間である第4時間が短い、
    分光分析方法。
  10. 前記第1受光信号に切り替わってから経過した時間が前記第1時間に到達すると、前記第1時間の間に前記デジタル信号に変換された前記第1受光信号に基づいて分光スペクトルを分析するステップをさらに含む、
    請求項に記載の分光分析方法。
  11. 積算された前記第2時間が予め設定された第1所定時間に到達したか否かを判定するステップと、
    積算された前記第2時間が前記第1所定時間に到達したと判定すると、積算された前記第2時間の間に前記デジタル信号に変換された前記第2受光信号に基づいて分光スペクトルを分析するステップと、
    をさらに含む、
    請求項9又は10に記載の分光分析方法。
  12. 前記第1所定時間は、前記第1時間に等しい、
    請求項11に記載の分光分析方法。
  13. 前記第1受光信号に切り替わってから経過した時間が前記第3時間に到達すると、前記第3時間の間に前記デジタル信号に変換された前記第1受光信号に基づいて分光スペクトルを分析するステップをさらに含む、
    請求項9乃至12のいずれか1項に記載の分光分析方法。
  14. 積算された前記第4時間が予め設定された第2所定時間に到達したか否かを判定するステップと、
    積算された前記第4時間が前記第2所定時間に到達したと判定すると、積算された前記第4時間の間に前記デジタル信号に変換された前記第2受光信号に基づいて分光スペクトルを分析するステップと、
    をさらに含む、
    請求項9乃至13のいずれか1項に記載の分光分析方法。
  15. 前記第2所定時間は、前記第3時間に等しい、
    請求項14に記載の分光分析方法。
  16. 前記第1受光信号は、被測定ガス中の分析対象成分の光吸収スペクトルに関する情報を含み、
    前記第2受光信号は、前記被測定ガス中の前記分析対象成分と同一で、かつ既知濃度のガスの光吸収スペクトルに関する情報を含む、
    請求項9乃至15のいずれか1項に記載の分光分析方法。
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Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111220558B (zh) * 2020-01-22 2022-09-20 西安毅达信息系统有限公司 一种激光在线气体检测仪及检测方法
WO2022174905A1 (en) * 2021-02-18 2022-08-25 Lavchieff Analytics Gmbh Determining a concentration related information of a solution

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3958122A (en) 1974-12-19 1976-05-18 United Technologies Corporation Exhaust gas analyzer having pressure and temperature compensation
US4556888A (en) * 1982-07-19 1985-12-03 Cubic Corporation Polarization measurement system and method
JPS62157537A (ja) 1985-12-30 1987-07-13 Japan Spectroscopic Co 分光光度計における信号処理方法
DE3633931A1 (de) * 1986-10-04 1988-04-07 Kernforschungsz Karlsruhe Verfahren und einrichtung zur kontinuierlichen messung der konzentration eines gasbestandteiles
JPH0217429A (ja) 1988-07-05 1990-01-22 Fujitsu Ltd レーザ方式ガスセンサによる濃度測定方法
JPH02108167A (ja) * 1988-10-17 1990-04-20 Hitachi Constr Mach Co Ltd 光学検査装置
US4914719A (en) 1989-03-10 1990-04-03 Criticare Systems, Inc. Multiple component gas analyzer
DE4023649A1 (de) 1989-08-18 1991-02-21 Preussag Ag Feuerschutz Verfahren und vorrichtung zum erkennen von gefahrenzustaenden in einem raum
CN101131348A (zh) 2006-08-25 2008-02-27 淄博惠杰电气技术开发有限公司 Sf6气体测量装置
JP5357506B2 (ja) * 2008-10-29 2013-12-04 三菱重工業株式会社 濃度測定方法および装置
US20100176279A1 (en) * 2009-01-14 2010-07-15 Alverix, Inc. Methods and materials for detecting light released from a labeling material
CN101825562A (zh) * 2010-03-15 2010-09-08 李捍东 基于双波长激光的煤矿瓦斯浓度检测方法
JP4968358B2 (ja) * 2010-04-05 2012-07-04 横河電機株式会社 多点切換え型測定装置
CN201707297U (zh) * 2010-06-22 2011-01-12 厦门华厦职业学院 一种大肠杆菌荧光快速检测系统
JP2012177612A (ja) * 2011-02-25 2012-09-13 Mitsubishi Heavy Ind Ltd 信号処理装置およびレーザ計測装置
CN102735644A (zh) 2012-07-06 2012-10-17 北京大方科技有限责任公司 一种原位式激光气体分析仪的在线标定方法
JP6183227B2 (ja) 2014-01-22 2017-08-23 株式会社島津製作所 挿入型ガス濃度測定装置
CN204359680U (zh) * 2014-12-30 2015-05-27 南京大学 一种中红外激光气体传感检测装置
CN204556499U (zh) * 2015-03-10 2015-08-12 北京农业智能装备技术研究中心 调谐二极管吸收光谱的多通道高速数据采集和处理系统
CN105403542B (zh) * 2015-12-24 2019-03-08 北京农业智能装备技术研究中心 一种便携式土壤养分检测系统及方法
CN106226261B (zh) * 2016-07-05 2019-04-02 凯盾洛阳智能科技有限公司 一种tatp检测装置
DE102016009366B4 (de) * 2016-08-03 2019-12-05 Drägerwerk AG & Co. KGaA Vorrichtung zur Analyse eines Anästhesiebeatmungsgases sowie Anästhesiebeatmungsgerät
CN106596499B (zh) * 2016-11-01 2019-08-27 北京华泰诺安技术有限公司 一种拉曼光谱实时校准方法
CN207181281U (zh) * 2017-09-18 2018-04-03 南京固琦分析仪器制造有限公司 一种高频红外碳硫及多元素分析系统
WO2019080013A1 (zh) * 2017-10-25 2019-05-02 深圳达闼科技控股有限公司 拉曼检测方法、装置、存储介质及电子设备
JP6791214B2 (ja) * 2018-07-13 2020-11-25 横河電機株式会社 分光分析装置

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