JP6790445B2 - ガスバリア性フィルム - Google Patents
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Description
1)始めに、いわゆるセルフ・リミッティング効果(基材上の表面吸着において、表面がある種のガスで覆われると、それ以上、該ガスの吸着が生じない現象のことをいう。)を利用し、基材上に前駆体が一層のみ吸着した時点で未反応の前駆体を排気する(第1のステップ)。
2)次いで、チャンバー内に反応性ガスを導入して、先の前駆体を酸化または還元させて所望の組成を有する薄膜を一層のみ形成した後に該反応性ガスを排気する(第2のステップ)。
プラスチックフィルム基材として、厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(線膨張係数20ppm/℃)を用いた。この基材上に、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレートと、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレートと、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレートとの混合物の塗液を塗工し、この塗液の塗膜に紫外線を照射し硬化させ、厚さ0.5μmのアンダーコート層を形成した。このときアンダーコート層の線膨張係数は10ppm/℃であった。次に、アンダーコート層上に原子層堆積法を用いてTiOx膜を20nm(線膨張係数3ppm/℃)の膜厚で成膜して、実施例1のガスバリア性フィルムを作製した。
実施例1と同様のプラスチックフィルム基材上に、ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレポリマーと、フェニルフェノールアクリレートとの混合物の塗液を塗工し、この塗液の塗膜に紫外線を照射し硬化させ、厚さ0.5μmのアンダーコート層(線膨張係数15ppm/℃)を形成した。次に、アンダーコート層上に実施例1と同様の方法でTiOx膜を20nmの膜厚で成膜して、実施例2のガスバリア性フィルムを作製した。
アンダーコート層の厚さを5μm(線膨張係数12ppm/℃)とし、それ以外は実施例1と同様にして、実施例3のガスバリア性フィルムを作製した。
アンダーコート層の厚さを10μm(線膨張係数15ppm/℃)とし、それ以外は実施例1と同様にして実施例4のガスバリア性フィルムを作製した。
アンダーコート層の厚さを0.2μm(線膨張係数8ppm/℃)とし、それ以外は実施例1と同様にして比較例1のガスバリア性フィルムを作製した。
アンダーコート層の厚さを12μm(線膨張係数20ppm/℃)とし、それ以外は実施例1と同様にして比較例2のガスバリア性フィルムを作製した。
(1)実施例1〜4及び比較例1、2に係るガスバリア性フィルムを130℃に加熱してから室温に冷却するサイクルを3回繰り返した後の水蒸気透過率を、MOCON社製AQUATRAN(測定下限5×10−4g/m2・day)を用いて測定した。
2 アンダーコート層
3 原子層堆積膜
4 コーティング層
10 ガスバリア性フィルム
Claims (2)
- プラスチックフィルム基材の少なくとも一方の表面に、アンダーコート層を積層し、前記アンダーコート層の表面に原子層堆積膜を積層してなるガスバリア性フィルムにおいて、
前記アンダーコート層がアクリル系樹脂からなり、
前記アンダーコート層の厚みが0.5μm以上10μm以下であり、
前記プラスチックフィルム基材の線膨張係数α1、前記アンダーコート層の線膨張係数α2、及び前記原子層堆積膜の線膨張係数α3が、α1>α2>α3の関係を満たすことを特徴とする、ガスバリア性フィルム。 - 前記プラスチック基材の前記原子層堆積膜を積層しない側の表面に、前記アンダーコート層の材質と同じ材質からなるコーティング層を更に積層してなることを特徴とする、請求項1に記載のガスバリア性フィルム。
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