JP6790250B2 - 疎水性シリカ成形体の製造方法 - Google Patents
疎水性シリカ成形体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6790250B2 JP6790250B2 JP2019516631A JP2019516631A JP6790250B2 JP 6790250 B2 JP6790250 B2 JP 6790250B2 JP 2019516631 A JP2019516631 A JP 2019516631A JP 2019516631 A JP2019516631 A JP 2019516631A JP 6790250 B2 JP6790250 B2 JP 6790250B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- mixture
- silica
- hydrophobizing agent
- molded product
- hydrophobic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 171
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 title claims description 84
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 50
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 title claims description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 88
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 42
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 40
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims description 36
- -1 siloxanes Chemical class 0.000 claims description 31
- 238000007906 compression Methods 0.000 claims description 23
- 230000006835 compression Effects 0.000 claims description 22
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 claims description 10
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 claims description 10
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 claims description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 7
- 238000000197 pyrolysis Methods 0.000 claims description 6
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 17
- 239000000047 product Substances 0.000 description 17
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 16
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 description 14
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 14
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 13
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229920000297 Rayon Polymers 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 10
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 235000013870 dimethyl polysiloxane Nutrition 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 8
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 8
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Chemical compound [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 7
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 6
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 238000012863 analytical testing Methods 0.000 description 5
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 5
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 5
- 150000003254 radicals Chemical group 0.000 description 5
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 4
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 4
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 3
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 3
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N Iron oxide Chemical compound [Fe]=O UQSXHKLRYXJYBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005909 Kieselgur Substances 0.000 description 2
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 description 2
- 239000004594 Masterbatch (MB) Substances 0.000 description 2
- 229910018540 Si C Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004283 SiO 4 Inorganic materials 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000005840 aryl radicals Chemical group 0.000 description 2
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 238000005553 drilling Methods 0.000 description 2
- 238000011049 filling Methods 0.000 description 2
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 2
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 125000000325 methylidene group Chemical group [H]C([H])=* 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 239000011490 mineral wool Substances 0.000 description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 2
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 2
- 229910002012 Aerosil® Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002748 Basalt fiber Polymers 0.000 description 1
- 229920003043 Cellulose fiber Polymers 0.000 description 1
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- 229910000519 Ferrosilicon Inorganic materials 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N Protium Chemical compound [1H] YZCKVEUIGOORGS-IGMARMGPSA-N 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000218 acetic acid group Chemical group C(C)(=O)* 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000010425 asbestos Substances 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 239000000378 calcium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical class Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 1
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000001079 digestive effect Effects 0.000 description 1
- FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N dimagnesium dioxido-bis[[oxido(oxo)silyl]oxy]silane hydrate Chemical compound O.[Mg+2].[Mg+2].[O-][Si](=O)O[Si]([O-])([O-])O[Si]([O-])=O FSBVERYRVPGNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010891 electric arc Methods 0.000 description 1
- 238000004134 energy conservation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000012634 fragment Substances 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011491 glass wool Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- JCDAAXRCMMPNBO-UHFFFAOYSA-N iron(3+);oxygen(2-);titanium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Ti+4].[Fe+3].[Fe+3] JCDAAXRCMMPNBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N iron;titanium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Ti].[Fe] YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000002386 leaching Methods 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 239000000391 magnesium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910052919 magnesium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019792 magnesium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 125000000896 monocarboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N octamethyltrisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C CXQXSVUQTKDNFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010450 olivine Substances 0.000 description 1
- 229910052609 olivine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003605 opacifier Substances 0.000 description 1
- 238000005457 optimization Methods 0.000 description 1
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001282 organosilanes Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004987 plasma desorption mass spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000013001 point bending Methods 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 230000008092 positive effect Effects 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 229910052895 riebeckite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004513 sizing Methods 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 229920002994 synthetic fiber Polymers 0.000 description 1
- 239000012209 synthetic fiber Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 1
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 1
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 1
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N zirconium(iv) silicate Chemical compound [Zr+4].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] GFQYVLUOOAAOGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C1/00—Treatment of specific inorganic materials other than fibrous fillers; Preparation of carbon black
- C09C1/28—Compounds of silicon
- C09C1/30—Silicic acid
- C09C1/3081—Treatment with organo-silicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K9/00—Use of pretreated ingredients
- C08K9/04—Ingredients treated with organic substances
- C08K9/06—Ingredients treated with organic substances with silicon-containing compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B26/00—Compositions of mortars, concrete or artificial stone, containing only organic binders, e.g. polymer or resin concrete
- C04B26/30—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Other silicon-containing organic compounds; Boron-organic compounds
- C04B26/32—Compounds having one or more carbon-to-metal or carbon-to-silicon linkages ; Other silicon-containing organic compounds; Boron-organic compounds containing silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B30/00—Compositions for artificial stone, not containing binders
- C04B30/02—Compositions for artificial stone, not containing binders containing fibrous materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G77/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule
- C08G77/04—Polysiloxanes
- C08G77/14—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups
- C08G77/16—Polysiloxanes containing silicon bound to oxygen-containing groups to hydroxyl groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K3/00—Use of inorganic substances as compounding ingredients
- C08K3/34—Silicon-containing compounds
- C08K3/36—Silica
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09C—TREATMENT OF INORGANIC MATERIALS, OTHER THAN FIBROUS FILLERS, TO ENHANCE THEIR PIGMENTING OR FILLING PROPERTIES ; PREPARATION OF CARBON BLACK ; PREPARATION OF INORGANIC MATERIALS WHICH ARE NO SINGLE CHEMICAL COMPOUNDS AND WHICH ARE MAINLY USED AS PIGMENTS OR FILLERS
- C09C3/00—Treatment in general of inorganic materials, other than fibrous fillers, to enhance their pigmenting or filling properties
- C09C3/12—Treatment with organosilicon compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/12—Surface area
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/20—Resistance against chemical, physical or biological attack
- C04B2111/27—Water resistance, i.e. waterproof or water-repellent materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K2201/00—Specific properties of additives
- C08K2201/002—Physical properties
- C08K2201/006—Additives being defined by their surface area
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/91—Use of waste materials as fillers for mortars or concrete
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Thermal Insulation (AREA)
- Pigments, Carbon Blacks, Or Wood Stains (AREA)
Description
i) 55℃以下の温度において親水性シリカを含有する混合物を疎水化剤で被覆し、
ii) 工程iから得た混合物を、30日以下の貯蔵時間の後に圧縮して成形物を得て、
iii) 温度は、工程iおよびiiの間および成形物の使用まで、55℃以下である、
疎水性シリカ成形物の製造方法を提供する。
当業者に公知の全ての親水性シリカを、本発明の方法において使用することができる。熱分解法シリカもしくは沈降シリカまたはその混合物を使用することが好ましい。DIN66131(窒素を使用して決定)に従った、50〜800m2/g、特に好ましくは100〜500m2/gの範囲のBET表面積を有するシリカ、特に、150〜400m2/gの範囲の表面積を有するシリカがさらに好ましい。本発明の目的のため、親水性であるとは、表面上のSi−OH基が利用でき、シリカが水により湿潤することができることを意味する。150〜400m2/gの範囲のBET表面積を有する熱分解法シリカを使用することが特に好ましい。
さらなる成分として、特に工程iにおいて、赤外領域の熱放射を吸収、散乱または反射する添加剤を添加することができる。概して、これらは、IR乳白剤と呼ばれる。好ましくは、これらの乳白剤は、好ましくは1.5〜10mのIRスペクトル範囲において最大値を有する。粒子の粒径は、好ましくは0.5〜15μmである。このような物質の例は、好ましくは、酸化チタン、酸化ジルコニウム、チタン鉄鉱、チタン酸鉄、酸化鉄、ケイ酸ジルコニウム、炭化ケイ素、酸化マンガンおよびカーボンブラックである。
疎水化剤として、シリカを疎水化するための当業者に公知の全ての材料、特に、有機ケイ素化合物(例えば、有機シラン、有機シロキサンまたはシリコーン樹脂)および炭化水素(例えば、パラフィン、ワックス、カルボン酸、特に脂肪酸)を使用することができる。25℃において液体であり、疎水性を有し、かつシリカ表面のSi−OH基と反応することができる反応性有機シラン、有機シロキサンまたはシリコーン樹脂を、疎水化剤として好適に使用する。
R1 nR2 mSiX4−(n+m) (I)、
式中、nおよびmは0、1、2、または3であり、n+mの合計は3以下であり、
R1は、−CN、−NCO、−NR3、−COOH、−COOR3、−ハロゲン、−アクリル、−エポキシ、−SH、−OHまたは−CONR3 2、好ましくはC1−C18炭化水素ラジカル、またはアリールラジカルまたはC1−C15炭化水素オキシラジカル、好ましくはC1−C8炭化水素オキシラジカル、特に好ましくはC1−C4炭化水素オキシラジカルにより置換されていてもよい飽和または一不飽和もしくは多価不飽和一価Si−C結合C1〜C20炭化水素ラジカルであり、いずれの場合も、1つ以上の隣接しないメチレン単位は−O−、−CO−、−COO−、−OCO−もしくは−OCOO−、−S−または−NR3−末端基により置換されていてもよく、1つ以上の隣接しないメチン単位は−N=、−N=N−または−P=基により置換されていてもよく、
R2は、水素または−CN、−NCO、−NR3 2、−COOH、−COOR3、−ハロゲン、−アクリル、−エポキシ、−SH、−OHもしくは−CONR3 2、好ましくはC1−C18炭化水素ラジカル、もしくはアリールラジカルもしくはC1−C15炭化水素オキシラジカル、好ましくはC1−C8炭化水素オキシラジカル、特に好ましくはC1−C4炭化水素オキシラジカルにより置換されていてもよい飽和または一不飽和もしくは多価不飽和一価Si−C結合C1〜C20炭化水素ラジカルであり、いずれの場合も、1つ以上の隣接しないメチレン単位は−O−、−CO−、−COO−、−OCO−もしくは−OCOO−、−S−または−NR3−基により置換されていてもよく、1つ以上の隣接しないメチン単位は−N=、−N=N−または−P=基により置換されていてもよく、
R3は、R2と同じ意味を有し、R2およびR3は同じでも異なっていてもよく、
Xは、C−O結合されたC1〜C15炭化水素ラジカル、好ましくはC1〜C8炭化水素ラジカル、特に好ましくはC1〜C3炭化水素ラジカル、またはアセチルラジカルもしくはハロゲンラジカル、好ましくは塩素、または水素ラジカルもしくはOHラジカルである、
の有機シラン、
または、
R11 iR22 jSi−Y−SiR11 iR22 j (II)
式中、R11は前記R1の意味を有し、R22は前記R2の意味を有し、
iおよびjは、0、1、2または3であり、i+jの合計は3であり、
Yは、基NHまたは−O−である、
の有機シランを使用するのが好ましい。
(R4 aZbSiO1/2) (III−a)
(R4 2SiO2/2) (III−b)
(R4SiO3/2) (III−c)
(R4R5SiO2/2) (III−d)
(SiO4/2) (III−e)、
のビルディングブロックからなる鎖状または環式、分岐鎖または非分岐鎖有機シロキサンであって、
該ビルディングブロックはいずれもの混合物中に存在し、
式中、
R4は前記R1の意味を有し、R5は前記R2の意味を有し、
Zは前記Xの意味を有し、いずれの場合も、同じでも異なっていてもよく、aおよびbは0、1、2、または3であり、a+bの合計は3である、
該有機シロキサンを使用するのが好ましい。
工程iにおいて添加される疎水化剤の量は、シリカの比表面積(BET表面積)、混合物中のこれらの割合、シランまたはシロキサンの種類および末端応用に必要な疎水性に依存する。添加される量は、好ましくは、いずれの場合も、全混合物に対して、0.5〜20重量%、好ましくは1〜15重量%、特に好ましくは5〜10重量%である。
好ましい実施形態では、成分を混合する。混合物の製造中、好ましくは、疎水化剤を液体で添加し;このとき、個々の成分が均質混合することが必要である。好ましくは、移動床または流動床において、液体疎水化剤と一緒にシリカを噴霧することにより、疎水化剤の吸着を行う。
加圧成形混合操作後に、得られた粉末混合物を加圧成形することにより圧縮を行う。粉末混合物は、好ましくは、混合操作の完了後、40〜180g/L、好ましくは40〜90g/Lの範囲のかさ密度を有する。製造された粉末混合物は良好な粉末流動性を有し、容易に型に導入またはベルトに適用し、その後圧縮することができる。
本発明による成形物を断熱材および/または防音材として使用し、断熱材のために好適に使用する。したがって、本発明による成形物を、例えば、中空建築用ブロックの充填物として使用することができる。同様に、包囲後にガス抜きをした後に真空断熱パネルとしてこれらを使用することができる。特に、本発明による成形物を、建物の壁および天井の直接防音および断熱用絶縁要素の製造のために使用することができる。例えば、自動車部門または航空機部門の電気機器、冷凍装置など建築用途以外の使用も可能である。良好な機械的安定性によって、成形物の取り扱いは簡便である。本発明により製造された成形物を、好ましくは、例えば、接着、断熱システム設置のための当業者に公知のくぎ、ねじまたはさらなる可能性を用いた機械的締結により、例えば、壁への応用により断熱システムとして好適に使用する。疎水性と低可燃性とを組合せた良好な絶縁作用(断熱および防音)が必要である場合、疎水性でシリカ含有断熱成形物を好適に使用する。
プレートの密度を、プレートの重量およびプレート体積から算出した。プレートの体積をプレートの外寸から算出した。特に指示がない限り、密度はリットル当たりのグラム(g/l)で報告する。
加圧成形操作によるプレート状物体の製造では、寸法11×11×2cmのプレートに対し、Hesto社のA206装置でDIN EN12667:2001に基づいた方法により23℃の温度において熱伝導度を決定した。
加圧成形後2週間目で疎水性の評価を行った。この目的のため、約5mmの大きさを有する小片を鋭利なナイフを用いて切り出した。これらの小片1gを水100ml中に入れて、密閉した容器内で24時間貯蔵した。次の通り評価を行う:
+ 疎水性:プレートの小片は水によりほとんど濡れず、水面上に完全に浮く。
○ 部分的に疎水性:プレートの小片は水に濡れるが、水面にほとんど浮く。
− 疎水性でない:プレートの小片は直ちに濡れ、数分以内で水中下方に沈む。
破砕強度、すなわち、断熱プレートの破砕が起こるまでの力を、DIN 53423(3点曲げ試験)に基づいた方法により決定した。この目的のため、Zwick/Roell社のBTC−FR010TH.A50装置を使用した。測定の支持体間のスパン幅は100mmであり、プレートの寸法は110×110mmである。プレートの厚さは20mmである(正確な値については表参照)。
サンプルの炭素含有率(C含有率)の決定をLeco CS230アナライザーで行った。酸素流中でのサンプルの高周波燃焼により分析を行った。非分散型赤外線検出器を用いて検出を行った。
HDK(登録商標)T30:300m2/gのBET表面積を有するWacker Chemie AGの親水性熱分解法シリカ。
方法A
シリカおよび添加剤からなる混合物を25℃で10分間激しく撹拌して、材料を流動化した。有機シロキサンを二流体ノズルによりアトマイズし、流動化シリカ上に噴霧した。被覆後、繊維を添加し、混合物を高速度ミキサー(4000rpm)内でさらに2分間激しく混合した。これにより混合物を得て、これを圧縮前に最大3日間室温において貯蔵した。
シリカおよび添加剤からなる使用される混合物の10%を25℃で10分間激しく撹拌して、材料を流動化した。その後、有機シロキサンを撹拌しながら混合物に滴下した。撹拌機および撹拌時間の選択では、容器の壁に有機シロキサンがほとんど残らないことを保証するように注意を払った。例えば、有機シロキサンの着色および得られた混合物の重量測定により、これをチェックすることができ、必要に応じて最適化した。
混合物A:
HDK T30 800g
OH末端ポリジメチルシロキサン(粘度 35mm2/秒) 150g
ビスコースステープル繊維 50g
混合物B:
HDK T30 800g
炭化ケイ素 50g
OH末端ポリジメチルシロキサン(粘度 35mm2/秒) 100g
ビスコースステープル繊維 50g
混合物C:
HDK T30 875g
OH末端ポリジメチルシロキサン(粘度 35mm2/秒) 75g
ビスコースステープル繊維 50g
方法Aにより製造された混合物A 60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、型からダメージを受けず取ることができた。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。
方法Bにより製造された混合物A 60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、ダメージなしで型抜きすることができた。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。
方法Aにより製造された混合物B 60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、型からダメージを受けず取ることができた。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。
親水性シリカ(HDK T30) 85.0gを、25℃で10分間激しく撹拌して、材料を流動化した。OH末端ポリジメチルシロキサン(粘度 35mm2/秒) 15.0gを、二流体ノズルによりアトマイズし、混合物上に噴霧した。プレートは、繊維を含むプレート(実施例1)と比較して、脆く、機械的安定性が小さく、型抜き中および分析試験中に注意深く取り扱わなければならない。混合物を得て、これを圧縮前に最大3日間室温において貯蔵した。
方法Aにより製造された混合物A 60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。不織布フィルターで覆われた下部取付板を経て減圧を印加し、この結果、加圧成形される材料を脱気して、これにより予備圧縮した。その後、材料を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さまでパンチを使用して加圧成形した。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、型からダメージを受けず取ることができた。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。
方法Aにより製造された混合物C 60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、型からダメージを受けず取ることができた。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。プレートは、疎水化剤のより小さい割合のせいで、いくらかより低い疎水性を示した。
実施例1に従って新たに製造された断熱プレートを、帯のこを用いて、約5mmのストリップに切断した(切断屑)。方法Aにより製造された新たに製造された混合物A 80gを、高速度ミキサー(4000rpm)で3分間、切断屑20gと混合した。この混合物60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、型からダメージを受けず取ることができた。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。
丸底フラスコ内で、ジメチルジエトキシシラン11g、Ti(OiPr)4 0.5gおよびHDK T30 10gを混合し、易流動性粉末を生成した。この粉末混合物を、高速度ミキサー(4000rpm)で、HDK T30の追加の45gとさらに60分間混合した。その後、ビスコースステープル繊維3.3gを添加した。この混合手順を2分間継続した。その後、粉末混合物を11×11cmの寸法を有する加圧成形型に移動し、水圧プレスを用いて2cmの厚さまで圧縮した。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、ダメージなしで型抜きすることができた。さらなる分析前に25℃、2週間プレートを貯蔵した。
丸底フラスコ内で、メチルトリエトキシシラン6g、ジメチルジエトキシシラン6g、Ti(OiPr)4 0.5gおよびHDK T30 10gを混合し、易流動性粉末を生成した。この粉末混合物を、高速度ミキサー(4000rpm)で、HDK T30の追加の40gとさらに60分間混合した。その後、ビスコースステープル繊維3.3gを添加した。この混合手順を2分間継続した。その後、粉末混合物を11×11cmの寸法を有する加圧成形型に移動し、水圧プレスを用いて2cmの厚さまで圧縮した。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、ダメージなしで型抜きすることができた。さらなる分析前に25℃、2週間プレートを貯蔵した。
方法Aにより製造された混合物A 60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。その後、プレートを、125℃で60分間加熱した。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、型からダメージを受けなかった。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。追加の加熱処理にもかかわらず、プレートは、その後の加熱処理を省略する本発明による実施例1と匹敵する疎水性を示した。
方法Aにより製造された混合物A 100gを、60℃で6時間貯蔵した。その後、この混合物60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは、疎水化剤の同じ含有率を有する本発明による実施例と比較して、著しく低い機械的安定性を示し、注意深く取り扱う場合のみ、ダメージなしで型抜きすることができた。分析試験のため、無処置のプレートのみを使用し;これらを得るために、必要に応じて多くのプレートを製造した。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。
HDK T30 800gを、25℃で10分間激しく撹拌して、材料を流動化した。OH末端ポリジメチルシロキサン(粘度 35mm2/秒) 150gを、二流体ノズルによりアトマイズし、流動化シリカ上に噴霧した。被覆処理後、混合物を25℃で3か月間貯蔵した。その後、貯蔵された被覆されたシリカおよびビスコースステープル繊維50gを高速度ミキサー(4000rpm)で2分間激しく混合した。その後、この混合物60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは、疎水化剤の同じ含有率を有する本発明による実施例と比較して、著しく低い機械的安定性を示し、注意深く取り扱う場合のみ、ダメージなしで型抜きすることができた。分析試験のため、無処置のプレートのみを使用し;これらを得るために、必要に応じて多くのプレートを製造した。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。
疎水性シリカ(HDK H18)95.0gおよびビスコースステープル繊維5.0gを25℃で2分間激しく混合した(高速度ミキサー、4000rpm)。その後、この混合物60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは、本発明による実施例と比較して、著しく低い機械的安定性を示し、注意深く取り扱う場合のみ、ダメージなしで型抜きすることができた。分析試験のため、無処置のプレートのみを使用し;これらを得るために、必要に応じて多くのプレートを製造した。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。
親水性シリカ(HDK H30)95.0gおよびビスコースステープル繊維5.0gを25℃で2分間激しく混合した(高速度ミキサー、4000rpm)。その後、この混合物60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは、本発明による実施例と比較して、著しく低い機械的安定性を示し、注意深く取り扱う場合のみ、ダメージなしで型抜きすることができた。分析試験のため、無処置のプレートのみを使用し;これらを得るために、必要に応じて多くのプレートを製造した。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。
親水性シリカ(HDK T30)95.0gおよびビスコースステープル繊維5.0gを25℃で2分間激しく混合した(高速度ミキサー、4000rpm)。その後、この混合物60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。プレートは良好な機械的安定性を示し、問題なく、ダメージなしで型抜きすることができた。型抜き後、厚さを測定した(表1参照)。プレートは疎水性ではない。
疎水性HDK(HDK H18) 60gを、一定の床高さを保証するように注意を払いながら、11×11cmの寸法を有する加圧成形型に入れた。その後、混合物を、手動水圧プレスを用いて2cmの厚さにした。型抜き後、厚さを測定した(表参照)。多くの試みにもかかわらず、低い機械的安定性のせいで、プレートをダメージなしで型から取り出して分析することができず、それだから、疎水性試験は別として、さらなる分析を行うことができなかった。繊維を含まない本発明による実施例(実施例4)と比較して、得られた小片の機械的安定性は著しく低いとして分類しなければならない。
Claims (9)
- 疎水性シリカ成形物の製造方法であって、前記方法が:
i) 55℃以下の温度において親水性シリカを含有する混合物を疎水化剤で被覆し、
ii) 工程iから得た混合物を、30日以下の貯蔵時間の後に圧縮して成形物を得て、
iii) 温度は、工程iおよびiiの間および成形物の使用まで、55℃以下であり、
前記疎水化剤が、25℃において液体であり、疎水性の特性を有し、かつ前記シリカ表面のSi−OH基と反応することができる反応性有機シラン、有機シロキサンまたはシリコーン樹脂の中から選択される、前記方法。 - 前記成形物がプレートおよびマットの中から選択される、請求項1に記載の方法。
- 25℃において測定された5mm2/秒〜100mm2/秒の動粘度を有するOH末端ポリジメチルシロキサンを疎水化剤として使用する、請求項1または2に記載の方法。
- DIN66131に従った100〜500m2/gの範囲のBET表面積を有する熱分解法シリカもしくは沈降シリカまたはその混合物を親水性シリカとして使用する、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
- 工程iにおいて、前記親水性シリカを、いずれの場合も、全混合物に対して0.5〜20重量%の疎水化剤で被覆する、請求項1〜4のいずれか一項に記載の方法。
- 前記混合物を、工程i後で、かつ、工程iiの圧縮前に、15日間以下貯蔵する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の方法。
- 目標密度までの圧縮を行う前に、工程iからの前記混合物を脱気する、請求項1〜6のいずれか一項に記載の方法。
- 工程ii前に、前記混合物に繊維を添加する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の方法。
- 前記方法において、および前記成形物の使用中に得られた残留物を前の工程段階に再び再循環する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/EP2017/054474 WO2018153495A1 (de) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | Verfahren zur herstellung hydrophober silica formkörper |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019532003A JP2019532003A (ja) | 2019-11-07 |
JP6790250B2 true JP6790250B2 (ja) | 2020-11-25 |
Family
ID=58191434
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019516631A Active JP6790250B2 (ja) | 2017-02-27 | 2017-02-27 | 疎水性シリカ成形体の製造方法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US11535727B2 (ja) |
EP (1) | EP3491072B1 (ja) |
JP (1) | JP6790250B2 (ja) |
KR (1) | KR102150978B1 (ja) |
CN (1) | CN109804023A (ja) |
WO (1) | WO2018153495A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102543511B1 (ko) * | 2018-07-17 | 2023-06-15 | 에보니크 오퍼레이션즈 게엠베하 | 발연 실리카 과립을 기재로 하는 단열성 조성물 및 그의 제조 방법 |
WO2020195184A1 (ja) * | 2019-03-26 | 2020-10-01 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 撥水部材、並びにそれを用いた建築部材及び水廻り部材 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3000542A1 (de) | 1980-01-09 | 1981-08-27 | Degussa Ag, 6000 Frankfurt | Waermeisolationsmischung und verfahren zu deren herstellung |
GB2357497A (en) * | 1999-12-22 | 2001-06-27 | Degussa | Hydrophobic silica |
CA2526918C (en) * | 2003-05-06 | 2011-03-15 | Tokuyama Corporation | Hydrophobic fumed silica |
JP4994880B2 (ja) * | 2007-02-20 | 2012-08-08 | 新日本製鐵株式会社 | 成形炭の製造方法 |
JP2008215492A (ja) * | 2007-03-05 | 2008-09-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空断熱材 |
JP2008215538A (ja) * | 2007-03-06 | 2008-09-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 真空断熱材 |
DE102007020716A1 (de) | 2007-05-03 | 2008-11-06 | Günter Dr. Kratel | Hohlbausteine mit integrierter mikroporöser Wärmedämmung |
CN100556964C (zh) * | 2007-06-12 | 2009-11-04 | 武汉理工大学 | 疏水性二氧化硅的制备方法 |
US7875674B2 (en) * | 2008-05-01 | 2011-01-25 | Wacker Chemical Corporation | Building materials incorporated with hydrophobic silicone resin(s) |
DE102009054566A1 (de) | 2009-12-11 | 2010-11-11 | Wacker Chemie Ag | Hydrophobe Wärmedämmung |
CN103748178B (zh) | 2011-07-27 | 2016-01-20 | 赢创德固赛有限公司 | 制备疏水性隔热模制品的方法 |
JP2014141604A (ja) * | 2013-01-25 | 2014-08-07 | Kaneka Corp | 貯蔵安定性の改善されたポリマー微粒子含有硬化性樹脂組成物 |
EP2781558B1 (de) * | 2013-03-19 | 2016-12-14 | Evonik Degussa GmbH | Modifizierte kieselsäure enthaltende zusammensetzung und diese zusammensetzung enthaltender silikonkautschuk |
ES2705245T3 (es) | 2014-08-08 | 2019-03-22 | Evonik Degussa Gmbh | Procedimiento para la producción de un cuerpo moldeado termoaislante hidrófobo |
CN110036521B (zh) * | 2016-12-02 | 2022-11-15 | 日本电气株式会社 | 锂离子二次电池 |
WO2020168359A1 (en) * | 2019-02-15 | 2020-08-20 | Gallagher John Henry | Oral hygiene appliance |
-
2017
- 2017-02-27 EP EP17707825.0A patent/EP3491072B1/de active Active
- 2017-02-27 CN CN201780061045.1A patent/CN109804023A/zh active Pending
- 2017-02-27 WO PCT/EP2017/054474 patent/WO2018153495A1/de unknown
- 2017-02-27 US US16/338,196 patent/US11535727B2/en active Active
- 2017-02-27 KR KR1020197008230A patent/KR102150978B1/ko active IP Right Grant
- 2017-02-27 JP JP2019516631A patent/JP6790250B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20200172706A1 (en) | 2020-06-04 |
JP2019532003A (ja) | 2019-11-07 |
WO2018153495A1 (de) | 2018-08-30 |
KR102150978B1 (ko) | 2020-09-03 |
KR20190042054A (ko) | 2019-04-23 |
EP3491072B1 (de) | 2019-12-11 |
US11535727B2 (en) | 2022-12-27 |
EP3491072A1 (de) | 2019-06-05 |
CN109804023A (zh) | 2019-05-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6644874B2 (ja) | 熱伝導率の低いシリカ成形体 | |
EP2829527A1 (en) | Heat insulator composition, heat insulator using same, and method for manufacturing heat insulator | |
JP2017533163A (ja) | 改善された疎水性エアロゲル材料 | |
JP2020523501A (ja) | 硬化表面を有するコア疎水性断熱板 | |
KR102543511B1 (ko) | 발연 실리카 과립을 기재로 하는 단열성 조성물 및 그의 제조 방법 | |
JP2014502305A (ja) | ポリウレタン複合材料 | |
CN112424144B (zh) | 在环境压力下使基于二氧化硅的成型隔绝材料体疏水化的方法 | |
JP6808720B2 (ja) | 表面処理された粒状無機材料の製造方法 | |
JP6790250B2 (ja) | 疎水性シリカ成形体の製造方法 | |
KR102542926B1 (ko) | 과립상 혼합 산화물 재료 및 그를 기재로 하는 단열성 조성물 | |
CN110337469B (zh) | 用于生产疏水二氧化硅颗粒的方法 | |
KR20220127284A (ko) | 증가된 극성을 갖는 실리카-기재 소수성 과립상 재료 | |
WO2014024413A1 (ja) | 断熱材及びその製造方法 | |
JP2023516146A (ja) | シリカ系断熱成形体 | |
WO2014118030A1 (de) | Verbundmaterial enthaltend nanoporöse partikel |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190329 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190329 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200407 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200527 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20201009 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20201104 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6790250 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |