JP6782952B1 - プラズマ生成装置 - Google Patents

Abstract

予備放電領域の設計の自由度を広げるとともにプラズマによる処理空間を広げることもできるプラズマ生成装置を提供する。プラズマ生成装置１００は、予備放電電極１０１、共通放電電極１０４および主放電電極１２０を備えている。予備放電電極１０１は、導線１０２をガラス管製の予備放電用誘電体１０３内に収容した長尺の棒状に形成されている。共通放電電極１０４は、予備放電用電極１０１に沿って延びる板状体で構成されているとともに予備放電電極１０１を露出した状態で収容する溝状の電極収容部１０５が形成されている。また、共通放電電極１０４には、予備放電電極１０１に沿ってプラズマガスを噴出する複数の貫通孔で構成されたプラズマガス出力口１０６が形成されている。主放電電極１２０は、共通放電電極１０４に沿って延びる板状体で構成されており共通放電電極１０４に対向配置されている。図１

Description

本発明は、大気圧下でも生成可能なプラズマ生成装置に関する。

従来から、アッシング、エッチングまたは被膜形成などの表面処理、接着性や濡れ性の改善または表面硬化などの表面改質、および医療器具や食べ物の洗浄や殺菌などの洗浄殺菌処理にプラズマ生成装置が用いられている。例えば、下記特許文献１には、誘電体で覆われた主電極の両側に誘電体で覆われた側電極を予備放電領域を介して配置したフラットパネルディスプレイまたは太陽電池の製造用のプラズマ生成装置が開示されている。

特開２００５−２６８１７０号公報

しかしながら、上記特許文献１に示されたプラズマ生成装置においては、主電極と側電極との間の予備放電領域がプラズマガスの流路も兼ねているため、予備放電領域の隙間の幅を含む形状がプラズマガスの流路としても機能するように設計しなければならず、予備放電領域の設計の自由度が低いという問題がある。また、上記プラズマ生成装置においては、予備放電領域の隙間が狭いためプラズマ処理空間に十分なプラズマガスを供給することができない場合もありプラズマ処理空間を広く形成することが困難であるという問題もある。

本発明は上記問題に対処するためなされたもので、その目的は、予備放電領域の設計の自由度を広げるとともにプラズマによる処理空間を広げることもできるプラズマ生成装置を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の特徴は、長尺に延びる導体を誘電体で覆った予備放電電極と、予備放電電極に隣接配置されて同予備放電電極に沿って延びる共通放電電極と、予備放電電極と共通放電電極との間に交流電圧を印加して予備プラズマを発生させるための予備放電電源と、共通放電電極に対して予備放電電極よりも離れた位置に共通放電電極および予備放電電極にそれぞれ対向した状態で延びる主放電電極と、主放電電極と予備放電電極および共通放電電極との間に配置されて予備放電電極、共通放電電極および主放電電極に沿って延びる誘電体からなる主放電用誘電体と、主放電電極と共通放電電極との間に交流電圧を印加して主プラズマを発生させるための主放電電源とを備え、共通放電電極は、予備放電電極に隣接する位置に同予備放電電極の延びる方向に沿ってプラズマガスを出力させるプラズマガス出力口を備えることにある。

このように構成した本発明の特徴によれば、プラズマ生成装置は、プラズマガスを出力させるプラズマガス出力口が予備放電電極に隣接する共通放電電極に同予備放電電極に沿って形成されているため予備放電電極と共通放電電極との間の予備プラズマを生じさせる領域の設計の自由度を広げることができる。このことは、予備プラズマの発生のし易さのみに着目して予備放電電極と共通放電電極との間の予備プラズマを生じさせる領域を設定できることを意味しており、予備プラズマを効果的に発生させることができることを意味している。また、本発明に係るプラズマ生成装置は、予備放電電極と共通放電電極との間の予備プラズマを生じさせる領域の幅を狭く形成してもプラズマガスの流量を自由に設定することができ主プラズマによる処理空間を広げることもできる。

また、本発明の他の特徴は、前記プラズマ生成装置において、プラズマガス出力口は、予備放電電極の両側にそれぞれ形成されていることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、プラズマ生成装置は、プラズマガス出力口が予備放電電極の両側にそれぞれ形成されているため、より広範で均一なプラズマガス雰囲気を形成することができ効果的に主プラズマによる処理空間を広げることができる。

また、本発明の他の特徴は、前記プラズマ生成装置において、プラズマガス出力口は、予備放電電極の延びる方向に沿って形成された複数の孔で構成されていることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、プラズマ生成装置は、プラズマガス出力口が予備放電電極の延びる方向に沿って形成された複数の孔で構成されているため、共通放電電極の剛性を確保し易いとともにプラズマガス出力口への異物の侵入を防止することができる。

また、本発明の他の特徴は、前記プラズマ生成装置において、プラズマガス出力口は、予備放電電極の両側にそれぞれ形成されているとともに、前記両側のうちの一方側のプラズマガス出力口を構成する各孔は他方側のプラズマガス出力口を構成する各孔に対してずれた位置にそれぞれ形成されていることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、プラズマ生成装置は、プラズマガス出力口が予備放電電極の両側にそれぞれ形成されるとともに、これらの両側のうちの一方側のプラズマガス出力口を構成する各孔と他方側のプラズマガス出力口を構成する各孔とが互いにずれた位置にそれぞれ形成されているため、出力されたプラズマガスのムラを抑制して均一な主プラズマを生成することができる。

また、本発明の他の特徴は、前記プラズマ生成装置において、さらに、プラズマガス出力口に面した状態で同プラズマガス出力口に供給されるプラズマガスを一時的に貯留するプラズマガスジャケットを備えることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、プラズマ生成装置は、プラズマガス出力口に面した状態で同プラズマガス出力口に供給されるプラズマガスを一時的に貯留するプラズマガスジャケットを備えているため、プラズマガス出力口を構成する一つの孔内においてまたは複数の孔同士間でムラのないプラズマガスを出力させることができる。

また、本発明の他の特徴は、前記プラズマ生成装置において、さらに、プラズマガスジャケットは、多数の貫通孔を有した多孔体を有しており、プラズマガスを多孔体を介してプラズマガス出力口に導くことにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、プラズマ生成装置は、プラズマガスジャケットが多数の貫通孔を有した多孔体を有しておりプラズマガスをこの多孔体を介してプラズマガス出力口に導くため、プラズマガス出力口を構成する一つの孔内または複数の孔間でムラのないプラズマガスを出力させることができる。この場合、多孔体としては、板状体に多数の貫通孔を形成したパンチングプレートのほか、無数の空洞を有したスポンジまたは繊維の集合体などの多孔質体で構成することができる。

また、本発明の他の特徴は、前記プラズマ生成装置において、さらに、プラズマガスジャケットに隣接して設けられて同プラズマガスジャケット内のプラズマガスを冷却する冷却器を備えることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、プラズマ生成装置は、プラズマガスジャケットに隣接して設けられて同プラズマガスジャケット内のプラズマガスを冷却する冷却器を備えているため、プラズマガスを介して予備放電電極、共通放電電極および主放電電極を冷却することができるとともに被処理物の加熱も防止することができる。

また、本発明の他の特徴は、前記プラズマ生成装置において、主放電電極は、主放電用誘電体に向けてプラズマガスを出力させる第２プラズマガス出力口を備えることにある。

このように構成した本発明の他の特徴によれば、プラズマ生成装置は、主放電電極は、主放電用誘電体に向けてプラズマガスを出力させる第２プラズマガス出力口を備えているため、主放電用誘電体に対して主放電電極側にプラズマガスを供給することができ主プラズマを早期にかつ広範な範囲で発生および維持させることができる。

本発明に係るプラズマ生成装置の構成の概略を模式的に示した側面断面図である。 図１に示すプラズマ生成装置の構成の概略を模式的に示した正面断面図である。 図１に示すプラズマ生成装置における予備放電電極を備えた共通放電電極の外観構成を模式的に示した平面図である。 図１に示すプラズマ生成装置における共通電極の外観構成を模式的に示した底面図である。 図１に示すプラズマ生成装置におけるジャケット覆い体の外観構成を模式的に示した底面図である。 図２に示すプラズマ生成装置における予備放電電極と共通放電電極との間に交流電圧を印加して予備プラズマを生成した状態を模式的に示す正面図である。 図２に示すプラズマ生成装置における予備放電電極と共通放電電極との間および主放電電極および共通放電電極との間にそれぞれ交流電圧を印加して主プラズマを生成した状態を模式的に示す正面図である。 本発明の変形例に係るプラズマ生成装置における予備放電電極を備えた共通放電電極の外観構成を模式的に示した平面図である。 本発明の変形例に係るプラズマ生成装置の構成の概略を模式的に示した側面断面図である。

以下、本発明に係るプラズマ生成装置の一実施形態について図面を参照しながら説明する。図１は、本発明に係るプラズマ生成装置１００の構成の概略を模式的に示した側面断面図である。また、図２は、図１に示すプラズマ生成装置１００の構成の概略を模式的に示した正面断面図である。また、図３は、図１に示すプラズマ生成装置１００における予備放電電極１０１を備えた共通放電電極１０４の外観構成を模式的に示した平面図である。なお、本明細書において参照する図は、本発明の理解を容易にするために一部の構成要素を誇張して表わすなど模式的に表している。このため、各構成要素間の寸法や比率などは異なっていることがある。このプラズマ生成装置１００は、標準大気圧の大気に開放された環境下でプラズマを生成して食品からなる被処理物ＷＫに照射して殺菌する機械装置である。

（プラズマ生成装置１００の構成）
プラズマ生成装置１００は、４つの予備放電電極１０１を備えている。各予備放電電極１０１は、予備プラズマＰ_Ｐを発生させるための部品であり、それぞれ長尺に延びる棒状に形成されている。これらの各予備放電電極１０１は、主として、導体１０２および予備放電用誘電体１０３をそれぞれ備えて構成されている。

導体１０２は、後述する共通放電電極１０４と対を構成する電極であり、導電性を有する材料を長尺に延ばして形成されている。本実施形態においては、導体１０２は、直径１．８ｍｍで長さが２５０ｍｍの銅線で構成されている。なお、導体１０２は、導電性を有する材料であれば良く、例えば、銀、金、チタンまたはアルミニウム材など銅以外の材料で構成することもできる。この導体１０２は、後述する予備放電電源１５０に電気的に接続されているとともにアース１５１を介して接地されている。

予備放電用誘電体１０３は、導体１０２を覆うとともに導体１０２と共通放電電極１０４との間で両者を電気的に絶縁するための部品であり、導体１０２を覆う大きさの不導体で構成されている。本実施形態においては、予備放電用誘電体１０３は、石英材を直径が４ｍｍ、内径が２ｍｍおよび長さが２３０ｍｍの有底円筒状に形成した透明な石英管で構成されている。

なお、予備放電用誘電体１０３は、導体１０２を覆う不導電体であれば良く、例えば、半透明または不透明のガラス、ガラス以外のセラミック材、樹脂材またはゴム材などで構成することもできる。また、導体１０２および予備放電用誘電体１０３からなる予備放電電極１０１の大きさは、予備プラズマＰ_Ｐを生成する必要性に応じて適宜設計されるものであり、本実施形態に限定されるものではないことは当然である。この予備放電用誘電体１０３は、導体１０２における予備放電電源１５０に接続される端部を露出させた状態で同端部以外の部分を収容して共通放電電極１０４に支持されている。

共通放電電極１０４は、予備放電電極１０１と対を構成して予備プラズマＰ_Ｐを発生させるとともに主放電電極１２０と対を構成して主プラズマＰ_Ｍを発生させるための部品であり、導電性を有する材料を長尺に延ばして形成されている。より具体的には、共通放電電極１０４は、予備放電電極１０１に沿って長尺に延びるとともに主放電電極１２０に対して対向する板状体で構成されている。本実施形態においては、共通放電電極１０４は、アルミニウム材を長さが２００ｍｍ、幅が６０ｍｍおよび厚さが１５ｍｍの板状体に形成して構成されている。なお、共通放電電極１０４は、導電性を有する材料であれば良く、例えば、銀、金、チタンまたは銅などアルミニウム材以外の材料で構成することもできる。

この共通放電電極１０４には、主放電電極１２０に対向する主電極対向面１０４ａに電極収容部１０５が形成されているとともにこの電極収容部１０５に沿ってプラズマガス出力口１０６が形成されている。また、共通放電電極１０４には、主電極対向面１０４ａおよび電極収容部１０５の裏側にプラズマガスジャケット１１０が形成されている。

主電極対向面１０４ａは、主放電電極１２０に面して主プラズマＰ_Ｍを発生させるための部分であり、主放電電極１２０と平行な平面状に形成されている。この場合、主電極対向面１０４ａは、共通放電電極１０４の長手方向および同長手方向に直交する幅方向の各端部および電極収容部１０５が開口する縁部分がそれぞれ丸みを帯びた曲面形状に形成されて局所的な放電が発生すること防止している。

電極収容部１０５は、４つの予備放電電極１０１をそれぞれ収容する部分であり、各予備放電電極１０１に沿って凹状に窪んで延びる溝状に形成されている。より具体的には、電極収容部１０５は、予備放電電極１０１における主放電電極１２０側の外表面を露出させた状態でその他の部分を覆う深さの溝状に形成されている。この場合、電極収容部１０５は、予備放電電極１０１の両側面に対して僅かな空隙を介して収容する形状に形成されている。本実施形態においては、電極収容部１０５は、深さが３ｍｍ、幅が４．１ｍｍで主放電電極１２０の長手方向に沿って貫通した状態で形成されている。

また、電極収容部１０５は、共通放電電極１０４の長手方向に直交する幅方向に４つ形成されている。この場合、４つの電極収容部１０５は、主プラズマＰ_Ｍが均一に生成されるように共通放電電極１０４の幅方向に等間隔でかつ互いに平行に延びて形成されている。そして、各電極収容部１０５内には、４つの予備放電電極１０１がそれぞれセラミック接着剤１０５ａによって固着された状態で収容され支持されている。

プラズマガス出力口１０６は、予備プラズマＰ_Ｐを発生し易くさせるとともに発生させた予備プラズマＰ_Ｐを主放電電極１２０側に導いて主プラズマＰ_Ｍを発生および維持させるためのプラズマガスを噴出させる部分であり、一方の端部（図示下端部）がプラズマガスジャケット１１０に連通するとともに他方の端部（図示上端部）が主電極対向面１０４ａに開口する貫通孔で形成されている。このプラズマガス出力口１０６は、電極収容部１０５内に収容される予備放電電極１０１に隣接する位置に同予備放電電極１０１が延びる長手方向に沿って複数の貫通孔が等間隔に配置されて構成されている。

この場合、プラズマガス出力口１０６は、予備放電電極１０１を挟むように予備放電電極１０１の両側にそれぞれ一列に並んで形成されている。ここで、予備放電電極１０１の両側とは、主電極対向面１０４ａ上において予備放電電極１０１が延びる長手方向に直交する幅方向である。また、この場合、主電極対向面１０４ａの幅方向に互いに隣接する２つのプラズマガス出力口１０６をそれぞれ構成する一列の貫通孔は、幅方向において互いに隣接し合わないように予備放電電極１０１の長手方向にずれて配置されている。

このプラズマガス出力口１０６は、本実施形態においては、直径１ｍｍの円筒形に形成されているが、直径、ピッチ、形状および数はプラズマ生成装置１００の仕様に応じて適宜設定されることは当然である。なお、図１〜図４においては、プラズマガス出力口１０６の大きさを誇張して示している。

このプラズマガス出力口１０６から噴出されるプラズマガスは、予備プラズマＰ_Ｐを発生させ易くするとともに生成された予備プラズマＰ_Ｐを主放電電極１２０側に導いて主プラズマＰ_Ｍを発生および維持させるための気体であり、窒素、アルゴンおよびヘリウムなどの空気よりも電離電圧の低い気体を単体でまたはこれらを混合して、さらには、これらに水蒸気またはアンモニアなどのガスを添加して構成されている。このプラズマガスは、ポンプまたはタンクからなるプラズマガス供給設備（図示せず）からプラズマガスジャケット１１０を介してプラズマガス出力口１０６に供給される。

プラズマガスジャケット１１０は、図４に示すように、プラズマガス出力口１０６から噴射させるプラズマガスを一時的に貯留するための部分であり、共通放電電極１０４の裏面側を凹状に切り欠いた空洞部で構成されている。本実施形態においては、プラズマガスジャケット１１０は、共通放電電極１０４の裏面側から見た平面視で略長方形状に形成されている。このプラズマガスジャケット１１０内には、多孔体１１１，１１２およびスペーサ１１３がそれぞれ設けられている。

この共通放電電極１０４は、ジャケット覆い体１１４を介して予備放電電源１５０に電気的に接続されているとともにこの予備放電電源１５０を介して主放電電源１５２に電気的に接続された状態で主放電電極１２０に対して所定の距離を介した位置に電極支持体１３０によって支持されている。

多孔体１１１，１１２は、前記したプラズマガス供給設備からプラズマガスジャケット１１０内に導入されたプラズマガスの流れを緩衝するための部品であり、金属製、樹脂製またはセラミック製の板状体でそれぞれ構成されている。これらの多孔体１１１，１１２は、板面の全体に多数の貫通孔１１１ａ，１１２ａが形成された所謂パンチングプレートである。

この場合、多孔体１１１の貫通孔１１１ａと多孔体１１２の貫通孔１１２ａとは、多孔体１１１と多孔体１１２とが図示上下方向に互いに対向配置された際に貫通孔１１１ａと貫通孔１１２ａとが互いに重ならないように互いにずれた位置に形成されている。これらの多孔体１１１，１１２は、互いの板面が隙間を介して対向するように重ねられてプラズマガスジャケット１１０内に配置されている。

スペーサ１１３は、多孔体１１１，１１２が互いに密着して重なること防止するとともに、多孔体１１１，１１２の各板面がプラズマガスジャケット１１０およびジャケット覆い体１１４にそれぞれ密着することを防止してこれらの各間に隙間を形成するための部品である。このスペーサ１１３は、金属材、樹脂材またはセラミック材を平板リング状に形成して構成されている。

本実施形態においては、スペーサ１１３は、プラズマガスジャケット１１０の天井部分と多孔体１１１との間、多孔体１１１と多孔体１１２との間、多孔体１１２とジャケット覆い体１１４の図示上面との間にそれぞれ配置されている。なお、図２においては、プラズマガスジャケット１１０を破線で示しているが多孔体１１１，１１２およびスペーサ１１３の図示を省略している。

ジャケット覆い体１１４は、図５に示すように、プラズマガスジャケット１１０の図示下方に向かって開口する開口部を覆ってプラズマガスジャケット１１０内を密閉するとともにプラズマガスジャケット１１０内にプラズマガスを導くための部品であり、導電性を有する金属材料を平面視で共通放電電極１０４と同じ大きさの方形の板状に形成して構成されている。

この場合、ジャケット覆い体１１４は、導電性を有する金属材料で構成されているが、共通放電電極１０４が直接予備放電電源１５０に電気的に接続される場合には必ずしも導電性を有する材料で構成する必要はなく樹脂材またはセラミック材で構成することもできる。このジャケット覆い体１１４には、導入路１１５、冷却器取付部１１６、第１取付孔１１７ａおよび第２取付孔１１７ｂがそれぞれ形成されている。

導入路１１５は、前記したプラズマガス供給設備から供給されるプラズマガスをプラズマガスジャケット１１０に導くための流路であり、ジャケット覆い体１１４の厚み方向に貫通する貫通孔で構成されている。この導入路１１５は、プラズマガスジャケット１１０に対向する複数（本実施形態においては６つ）の位置に略均等に配置されて形成されている。そして、各導入路１１５は、前記プラズマガス供給設備に対して図示しない配管を介して接続されている。なお、図５においては、プラズマガスジャケット１１０を二点鎖線で示している。

冷却器取付部１１６は、冷却器１１８を取り付ける部分であり、ジャケット覆い体１１４における図示下面に凹状に切り欠かれて形成されている。この場合、冷却器取付部１１６は、プラズマガスジャケット１１０に対向する部分に形成されているとともに、前記導入路１１５に隣接する位置に形成されている。本実施形態においては、冷却器取付部１１６は、２つの冷却器１１８に対応して２つ形成されている。

第１取付孔１１７ａは、ジャケット覆い体１１４を共通放電電極１０４に取り付けるためのボルト（図示せず）が貫通する貫通孔であり、本実施形態においては６つ形成されている。また、第２取付孔１１７ｂは、ジャケット覆い体１１４を電極支持体１３０に取り付けるためのボルト（図示せず）がネジ嵌合する貫通する有底の孔部であり、本実施形態においては４つ形成されている。

冷却器１１８は、プラズマガスを冷却するための装置であり、熱伝導率の高い銅などの金属製の板状体内に冷却液が流通する配管１１８ａが埋め込まれて構成されている。この冷却器１１８は、ジャケット覆い体１１４における図示下面に形成された２つの冷却器取付部１１６内にそれぞれ嵌め込まれた状態で取り付けられている。これら２つの冷却器１１８は、互いの配管１１８ａが図示しないホースを介して直列的に連結されており、図示しないポンプなどからなる冷却液供給設備によって水などからなる冷却液が供給される。

主放電電極１２０は、共通放電電極１０４と対を構成して主プラズマＰ_Ｍを発生させるための部品であり、導電性を有する材料を長尺に延ばして形成されている。より具体的には、主放電電極１２０は、共通放電電極１０４の主電極対向面１０４ａに主放電用誘電体１４０を介して対向する共通電極対向面１２０ａを有した板状体で構成されており、共通放電電極１０４に対して予備放電電極１０１よりも離れた位置に配置されている。本実施形態においては、主放電電極１２０は、アルミニウム材を長さが２００ｍｍ、幅が６０ｍｍおよび厚さが１５ｍｍの板状体に形成して構成されている。この主放電電極１２０は、共通放電電極１０４に対して所定の距離を介した位置に電極支持体１３０によって支持された状態で主放電電源１５２に電気的に接続されている。

共通電極対向面１２０ａは、共通放電電極１０４に面して主プラズマＰ_Ｍを発生させるための部分であり、主電極対向面１０４ａと平行な平面に形成されている。この場合、共通電極対向面１２０ａは、主放電電極１２０の長手方向および同長手方向に直交する幅方向の各端部がそれぞれ丸みを帯びた曲面形状に形成されて局所的な放電が発生することを防止している。なお、主放電電極１２０は、導電性を有する材料であれば良く、例えば、銀、金、チタンまたは銅などアルミニウム材以外の材料で構成することもできる。

電極支持体１３０は、共通放電電極１０４と主放電電極１２０とを互いに所定の距離を介した離隔した位置にそれぞれ保持する部品であり、共通放電電極１０４および主放電電極１２０をこれら以外の物品から電気的に絶縁する不導体で構成されている。本実施形態においては、電極支持体１３０は、フッ素樹脂材で構成されている。この電極支持体１３０は、主として、共通電極支持体１３１、主電極支持体１３２および支柱１３３をそれぞれ備えて構成されている。

共通電極支持体１３１は、共通放電電極１０４をジャケット覆い体１１４を介して図示下方から支持する部品であり、平面視でジャケット覆い体１１４よりも大きな面積の方形の板状体で構成されている。この場合、共通電極支持体１３１には、ジャケット覆い体１１４の各導入路１１５にそれぞれ連結されるプラズマガスの配管（図示せず）が貫通する貫通孔１３１ａが形成されている。この共通電極支持体１３１は、図示しないボルトが第２取付孔１１７ｂにネジ嵌合することでジャケット覆い体１１４を図示下方から固定的に支持している。

主電極支持体１３２は、主放電電極１２０を共通放電電極１０４に対向した状態で図示上方から支持する部品であり、平面視で主放電電極１２０よりも大きな面積の方形の板状体で構成されている。この主電極支持体１３２は、図示しないボルトを介して主放電電極１２０を図示上方から固定的に支持している。

支柱１３３は、共通電極支持体１３１に対して所定の距離を介して対向した状態で主電極支持体１３２を支持することで主放電電極１２０を共通放電電極１０４に対して所定の空隙を介した位置に対向配置するための部品であり、丸棒状に形成されている。この支柱１３３は、共通電極支持体１３１および主電極支持体１３２の各四隅に設けられた図示しないボルトを介して共通電極支持体１３１および主電極支持体１３２にそれぞれ固定的に連結されている。なお、図１、図２、図６および図７においては、支柱１３３の中央部分の図示を省略している。

本実施形態においては、支柱１３３は、共通放電電極１０４の主電極対向面１０４ａに対して主放電電極１２０の共通電極対向面１２０ａを１０ｍｍだけ離隔した位置に対向配置する長さに形成されている。なお、この電極支持体１３０は、共通放電電極１０４と主放電電極１２０とを互いに所定の距離を介した位置で互いに電気的に絶縁した状態で支持することができれば本実施形態に限定されるものでないことは当然である。また、図１〜図３、図６および図７においては、電極支持体１３０を二点鎖線で示している。

主放電用誘電体１４０は、予備放電電極１０１および共通放電電極１０４と主放電電極１２０との間で両者を電気的に絶縁するとともに被処理物ＷＫを支持するための部品であり、主電極対向面１０４ａと共通電極対向面１２０ａとの間で両者を覆う大きさの不導体で構成されている。より具体的には、主放電用誘電体１４０は、主電極対向面１０４ａおよび共通電極対向面１２０ａの各長手方向および各幅方向の長さよりも長い長さのフッ素樹脂製のシート材を環状の無端ベルト状に形成して構成されている。本実施形態においては、主放電用誘電体１４０は、厚さが１ｍｍのフッ素樹脂製のシートを用いている。

この主放電用誘電体１４０は、図示しない駆動ローラと従動ローラとの間に水平方向に張られた状態で架設されて駆動ローラの回転駆動によって無限軌道状に送られる。すなわち、主放電用誘電体１４０は、ベルトコンベアにおける搬送ベルトを構成している。なお、本実施形態における主放電用誘電体１４０は、無端ベルトの周方向に沿って柔軟に屈曲する不導体で構成されていればよく、フッ素樹脂材以外の樹脂材（例えば、ポリアミド樹脂材など）からなるシート材であってもよい。

予備放電電源１５０は、予備放電電極１０１と共通放電電極１０４とに対して交流電圧を印加するための電気機器である。本実施形態においては、予備放電電源１５０は、一般家庭用電源（１００Ｖ）から電力供給を受けて予備放電電極１０１および共通放電電極１０４に対して電圧が±１ｋＶ〜±２０ｋＶの範囲でかつ周波数が１００Ｈｚ〜３０ｋＨｚの範囲で所望の電圧および周波数の交流電圧を印加することができる。この場合、予備放電電源１５０は、出力電圧の位相を変化させる図示しない移相器を備えている。また、予備放電電源１５０は、矩形波、正弦波、台形波および三角波のうちのいずれの交流電圧を連続的または間欠的に出力するものであってもよい。

アース１５１は、予備放電電極１０１と共通放電電極１０４との間に交流電圧を印加する電気回路である予備放電回路および主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間で交流電圧を印加する電気回路である主放電電気回路についてそれぞれ接地するための電気回路である。本実施形態においては、予備放電電源１５０および主放電電源１５２にそれぞれ電気的に接続された予備放電電極１０１に設けられている。

なお、アース１５１は、予備放電電源１５０および主放電電源１５２にそれぞれ電気的に接続された共通放電電極１０４に設けられていてもよい。また、アース１５１は、予備放電電気回路および主放電電気回路に対して共通に設けてもよいし、予備放電電気回路および主放電電気回路に対してそれぞれ別々に設けてもよい。さらに、アース１５１は、省略してもよい。

主放電電源１５２は、主放電電極１２０と共通放電電極１０４とに対して交流電圧を印加するための電気機器である。本実施形態においては、主放電電源１５２は、一般家庭用電源（１００Ｖ）から電力供給を受けて主放電電極１２０および共通放電電極１０４に対して電圧が±１ｋＶ〜±２０ｋＶの範囲でかつ周波数が１００Ｈｚ〜３０ｋＨｚの範囲で所望の電圧および周波数の交流電圧を印加することができる。この場合、主放電電源１５２は、出力電圧の位相を変化させる図示しない移相器を備えている。また、主放電電源１５２は、矩形波、正弦波、台形波および三角波のうちのいずれの交流電圧を連続的にまたは間欠的に出力するものであってもよいが、予備放電電源１５０と同じ波形を逆位相で出力することが好ましい。

なお、これらの予備放電電源１５０および主放電電源１５２の出力電圧および周波数は、生成する予備プラズマＰ_Ｐおよび主プラズマＰ_Ｍに応じて適宜設定されるものであって本実施形態に限定されるものでないことは当然である。また、このプラズマ生成装置１００は、被処理物ＷＫにプラズマを照射する作業を行う屋内または屋外の作業台上に直接載置または取り付けて設けられるほか、被処理物ＷＫにプラズマを照射する作業を含む被処理物ＷＫの加工装置や搬送装置の一部に組み込んで設けられる。

（プラズマ生成装置１００の作動）
次に、上記のように構成したプラズマ生成装置１００の作動について説明する。本実施形態においては、プラズマ生成装置１００は、豆、小麦、ゴマ、胡椒または茶葉（碾茶や抹茶を含む）などの粉状または粒状の食品の製造加工ラインに組み込まれてこれらを被処理物ＷＫとして殺菌消毒処理を行う場合について説明する。この場合、プラズマ生成装置１００は、標準大気圧の大気中に直接露出した状態で設置される。

プラズマ生成装置１００を使用して被処理物ＷＫにプラズマ照射を行う作業者は、まず、プラズマ生成装置１００における予備放電電極１０１と共通放電電極１０４との間に予備プラズマＰ_Ｐを発生させる。具体的には、作業者は、プラズマ生成装置１００における予備放電電源１５０を操作して予備放電電極１０１と共通放電電極１０４との間に交流電圧を印加する。この場合、作業者は、予備放電電源１５０を操作して主プラズマＰ_Ｍを発生させるために必要な予備プラズマＰ_Ｐを発生させるための電圧および周波数の交流電圧を出力する。

本実施形態においては、予備放電電源１５０は、電圧が±５ｋＶ、電流が２０ｍＡおよび周波数が１０ｋＨｚの交流電圧を出力する。この場合、予備放電電源１５０が出力する交流電圧および周波数は、発生させる主プラズマＰ_Ｍに応じて予め実験的に求めることができる。これにより、プラズマ生成装置１００における予備放電電極１０１と共通放電電極１０４との間では、図６に示すように、両者間に存在する大気の一部が電離するとともに活性化されて予備プラズマＰ_Ｐが発生する。

この場合、予備プラズマＰ_Ｐは、４つの予備放電電極１０１にそれぞれ沿って４つの線状に生成される。すなわち、予備プラズマＰ_Ｐは、大気圧下における誘電体バリア放電によって生成される。なお、図６においては、予備プラズマＰ_Ｐを薄いハッチングで示している。

また、この予備プラズマＰ_Ｐの生成に際して作業者は、プラズマガス出力口１０６からプラズマガスを出力させることができる。具体的には、作業者は、プラズマガス供給設備（図示せず）を操作してプラズマガスジャケット１１０にプラズマガスの供給を開始させる。プラズマガスジャケット１１０内に導入されたプラズマガスは、２つの多孔体１１１，１１２に遮られながら通過して蛇行しながらプラズマガス出力口１０６に達した後、このプラズマガス出力口１０６によって主電極対向面１０４ａ上に噴射される。この場合、プラズマガス出力口１０６から噴射されたプラズマガスは、その一部が予備放電電極１０１側に直接または主放電用誘電体１４０などを介して間接的に導かれる。

これにより、予備プラズマＰ_Ｐの発生および成長が促進される。この場合、主電極対向面１０４ａ上においては、複数のプラズマガス出力口１０６間でプラズマガスの噴出量のムラが抑えられることで噴出されたプラズマガスの雰囲気内におけるプラズマガスの濃度のムラが抑えられるため、予備放電電極１０１の長さ方向に沿って均一な予備プラズマＰ_Ｐの発生および成長が促進される。なお、均一な予備プラズマＰ_Ｐとは、少なくとも人が目視で均一と確認できるレベルである。また、図１および図６においては、プラズマガスの流れを破線矢印で示している。

また、プラズマガス出力口１０６からプラズマガスを噴出させる場合には、作業者は、プラズマガスを冷却することができる。具体的には、作業者は、冷却水供給設備（図示せず）を操作して２つの冷却器１１８に対してそれぞれ冷却水の供給を開始させる。これにより、プラズマガスジャケット１１０内のプラズマガスは冷却器１１８によって冷却されてプラズマガス出力口１０６から主電極対向面１０４ａ上に噴出される。この場合、プラズマガスジャケット１１０内に供給されたプラズマガスは、多孔体１１２および多孔体１１１によって流動が妨げられているため効果的に冷却される。これにより、プラズマガスは、予備放電電極１０１および共通放電電極１０４の加熱を防止する。

次に、作業者は、主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間に主プラズマＰ_Ｍを発生させる。具体的には、作業者は、プラズマ生成装置１００における主放電電源１５２を操作して主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間に交流電圧を印加する。この場合、作業者は、主放電電源１５２を操作して主プラズマＰ_Ｍを発生させるために必要な電圧および周波数の交流電圧を出力する。

本実施形態においては、主放電電源１５２は、電圧が±９ｋＶ、電流が２０ｍＡおよび周波数が１０ｋＨｚで予備放電電源１５０の出力電圧とは逆位相の交流電圧を出力する。この場合、主放電電源１５２が出力する交流電圧および周波数は、被処理物ＷＫに必要なプラズマ処理内容に応じて予め実験的に求めることができる。これにより、プラズマ生成装置１００における主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間では、図７に示すように、両者間に存在する大気の一部が前記予備プラズマＰ_Ｐによって発生した電子または活性種をトリガとして電離するとともに活性化されて主プラズマＰ_Ｍが発生する。

この場合、主電極対向面１０４ａ上においては、前記したように、プラズマガスの雰囲気内におけるプラズマガスの濃度のムラが抑えられる。これにより、主プラズマＰ_Ｍは、４つの線状に形成された予備プラズマＰ_Ｐのうちの外側に形成された２つの予備プラズマＰ_Ｐ間における方形の面状の領域内で放電が一様で柱状に延びて形成される。すなわち、本発明に係るプラズマ生成装置１００は、主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間で均一な放電が面状に広がって柱状に立ち上る主プラズマＰ_Ｍを形成することができる。また、この場合、作業者は、プラズマガス供給設備（図示せず）を操作してプラズマガスの供給量を増加させて主プラズマＰ_Ｍの生成を促進させて主プラズマＰ_Ｍが生成される領域を広げることができる。なお、図７においては、プラズマガスの流れを破線矢印で示している。

また、この場合、主電極対向面１０４ａ上においては、前記したように、冷却器１１８によって冷却されたプラズマガスが供給される。これにより、プラズマガスは、予備放電電極１０１および共通放電電極１０４に加えて主放電電極１２０および主放電用誘電体１４０上の被処理物ＷＫの加熱を防止する。また、この場合、作業者は、冷却水供給設備（図示せず）を操作して冷却器１１８に対する冷却水の供給量を増加させることで予備放電電極１０１、共通放電電極１０４および主放電電極１２０に対する冷却能力を向上させることで主プラズマＰ_Ｍが生成される領域を広げることができる。

なお、図７においては、主プラズマＰ_Ｍを予備プラズマＰ_Ｐよりも濃いハッチングで示している。また、主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間で均一な放電が面状に広がって柱状に立ち上る主プラズマＰ_Ｍとは、少なくとも人が目視で均一と確認できるレベルである。

次に、作業者は、主放電用誘電体１４０を回転駆動させる。具体的には、作業者は、図示しないベルトコンベアの制御装置を操作することで主放電用誘電体１４０を回転駆動させる（図７における破線矢印参照）。

次に、作業者は、被処理物ＷＫへのプラズマ照射処理を行う。具体的には、作業者は、主放電用誘電体１４０上に被処理物ＷＫを連続的に供給する供給装置（図示せず）の作動を開始させることによって主放電用誘電体１４０上に被処理物ＷＫを連続的に供給する。これにより、主放電用誘電体１４０上に載置された被処理物ＷＫは、主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間に形成された主プラズマＰ_Ｍ中を通過することでプラズマ照射されて殺菌処理が行なわれる。そして、主プラズマＰ_Ｍが照射された被処理物ＷＫは、図示しない被処理物ＷＫの回収装置によって回収される。この場合においても、主放電用誘電体１４０上の被処理物ＷＫは、プラズマガス出力口１０６から出力されるプラズマガスによって予備放電電極１０１、共通放電電極１０４および主放電電極１２０による加熱が防止される。

なお、本発明者らは、プラズマ生成装置１００を用いて豆に大腸菌を付着させた被処理物ＷＫに対して主プラズマＰ_Ｍを照射する実験を行ったところ、主放電用誘電体１４０の載置場所に因らず均一な殺菌効果が発揮されたことを確認した。また、本発明者らは、セルロースの繊維でできた短冊に芽胞菌（例えば、Geobacillus Stearothermophilus）を浸み込ませたものをグラシン紙で包装したバイオロジカルインディケータに対してプラズマ生成装置１００を用いて約３０秒〜約１２０秒の範囲のプラズマ照射したところ、この芽胞菌を死滅させることができることを確認した。

次に、作業者は、被処理物ＷＫへのプラズマ照射処理を終了する場合には、予備放電電源１５０および主放電電源１５２の作動を停止させて予備放電電極１０１、共通放電電極１０４および主放電電極１２０への交流電圧の印加を停止させる。これにより、プラズマ生成装置１００は、予備プラズマＰ_Ｐおよび主プラズマＰ_Ｍが消滅するため、被処理物ＷＫへのプラズマ照射処理を終了することができる。

なお、この場合、プラズマ生成装置１００は、主放電電源１５２の作動を停止させることで主プラズマＰ_Ｍを消滅させて被処理物ＷＫへのプラズマ照射処理を終了することができるが、予備放電電源１５０の作動を停止させることでも主プラズマＰ_Ｍを消滅させて被処理物ＷＫへのプラズマ照射処理を終了させることができる。すなわち、作業者は、予備放電電源１５０および主放電電源１５２のうちの一方の作動を停止させることで主プラズマＰ_Ｍを消滅させて被処理物ＷＫへのプラズマ照射処理を終了することができる。この場合、作業者は、予備放電電源１５０および主放電電源１５２のうちの一方の作動を停止させた後、他方の作動を停止させることになる。

また、作業者は、プラズマガス供給設備（図示せず）を操作してプラズマガスの供給を停止させることによっても予備プラズマＰ_Ｐおよび主プラズマＰ_Ｍを消滅させることができる。これの場合、作業者は、予備プラズマＰ_Ｐおよび主プラズマＰ_Ｍの消滅とともに、主放電用誘電体１４０への被処理物ＷＫの供給、主放電用誘電体１４０の回転駆動および冷却器１１８への冷却水の供給もそれぞれ停止させる。

上記作動説明からも理解できるように、上記実施形態によれば、プラズマ生成装置１００は、プラズマガスを出力させるプラズマガス出力口１０６が予備放電電極１０１に隣接する共通放電電極１０４に同予備放電電極１０１に沿って形成されているため予備放電電極１０１と共通放電電極１０４との間の予備プラズマＰ_Ｐを生じさせる領域の設計の自由度を広げることができる。このことは、予備プラズマＰ_Ｐの発生のし易さのみに着目して予備放電電極１０１と共通放電電極１０４との間の予備プラズマＰ_Ｐを生じさせる領域を設定できることを意味して予備プラズマＰ_Ｐを効果的に発生させることができることを意味している。また、本発明に係るプラズマ生成装置１００は、予備放電電極１０１と共通放電電極１０４との間の予備プラズマＰ_Ｐを生じさせる領域の幅を狭く形成してもプラズマガスの流量を自由に設定することができ主プラズマＰ_Ｍによる処理空間を広げることもできる。

さらに、本発明の実施にあたっては、上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。なお、下記変形例の説明においては、参照する各図における上記実施形態と同様の構成部分に同じ符号または対応する符号を付すとともに直接関わらない部分については一部の構成を適宜省略して示して、それらの説明も省略する。

例えば、上記実施形態においては、プラズマガス出力口１０６は、予備放電電極１０１の両側にそれぞれ一列ずつ設けて構成した。しかし、プラズマガス出力口１０６は、予備放電電極１０１に隣接して設けられていればよい。したがって、プラズマガス出力口１０６は、予備放電電極１０１の片側に一列または２列以上設けて構成することもできる。また、プラズマガス出力口１０６は、予備放電電極１０１の両側にそれぞれ２列以上ずつ設けて構成することもできる。

また、上記実施形態においては、プラズマガス出力口１０６は、共通放電電極１０４の幅方向に互いに隣接するプラズマガス出力口１０６を構成する各貫通孔が幅方向において互いに隣接し合わないように予備放電用誘電体１０３の長手方向にずれて配置されている。これにより、プラズマ生成装置１００は、噴出されたプラズマガスのムラを抑制して均一な予備プラズマＰ_Ｐおよび主プラズマＰ_Ｍを生成することができる。しかし、プラズマガス出力口１０６は、共通放電電極１０４の幅方向に互いに隣接する一列のプラズマガス出力口１０６を構成する各貫通孔が幅方向において互いに隣接し合うように配置することもできる。

また、上記実施形態においては、プラズマガス出力口１０６は、予備放電電極１０１の長手方向に沿って一列に並ぶ複数の円筒形の貫通孔で構成した。これにより、プラズマ生成装置１００は、共通放電電極１０４の剛性を確保し易いとともにプラズマガス出力口１０６への異物の侵入を防止することができる。しかし、プラズマガス出力口１０６は、図８に示すように、予備放電用誘電体１０３の長手方向に沿って延びる１つまたは複数の長孔状のスリットで構成することもできる。

また、上記実施形態においては、プラズマ生成装置１００は、プラズマガス出力口１０６に供給されるプラズマガスを一時的に貯留するプラズマガスジャケット１１０を有して構成した。これにより、プラズマ生成装置１００は、プラズマガス出力口１０６を構成する一つの孔内または複数の孔間でムラのないプラズマガスを出力させることができる。しかし、プラズマ生成装置１００は、プラズマガス出力口１０６に導入路１１５またはプラズマガス供給設備（図示せず）を直結してプラズマガスジャケット１１０を省略して構成することもできる。この場合、プラズマ生成装置１００は、ジャケット覆い体１１４を省略して構成することができる。

また、上記実施形態においては、プラズマ生成装置１００は、プラズマガスジャケット１１０内に多孔体１１１，１１２を備えて構成した。これにより、プラズマ生成装置１００は、プラズマガス出力口１０６を構成する一つの孔内または複数の孔間でムラのないプラズマガスを出力させることができる。しかし、プラズマ生成装置１００は、プラズマガスジャケット１１０内に多孔体１１１，１１２を省略して構成することもできる。

また、上記実施形態においては、多孔体１１１，１１２は、２つのパンチングプレートで構成した。しかし、多孔体１１１，１１２は、１つまたは３つ以上のパンチングプレートで構成することができる。この場合、多孔体を２つ以上で構成する場合には、各多孔体における孔部同士が重ならないように位置をずらして形成するとよい。また、多孔体は、ブロック体内に無数の空洞を有したスポンジまたは繊維の集合体などの多孔質体で構成することもできる。

また、上記実施形態においては、プラズマ生成装置１００は、水冷方式の冷却器１１８を備えて構成した。これにより、プラズマ生成装置１００は、プラズマガスを介して予備放電電極１０１、共通放電電極１０４および主放電電極１２０を冷却することができるとともに被処理物ＷＫの加熱も防止することができる。しかし、プラズマ生成装置１００は、水冷方式以外の冷却器１１８を備えて構成することもできる。例えば、プラズマ生成装置１００は、ジャケット覆い体１１４における冷却器取付部１１６に対してファン（図示せず）によって冷却風を送るように構成してもよいし、冷却器取付部１１６に代えてヒダ状のヒートシンクを形成して構成することもできる。また、プラズマ生成装置１００は、冷却器１１８を省略して構成することもできる。

また、上記実施形態においては、プラズマ生成装置１００は、共通放電電極１０４にのみプラズマガス出力口１０６を設けて構成した。しかし、プラズマ生成装置１００は、図９に示すように、共通放電電極１０４に対向する主放電電極１２０にプラズマガス出力口１０６と同様の第２プラズマガス出力口１２１を設けて構成することができる。

この場合、第２プラズマガス出力口１２１は、プラズマガス出力口１０６と対向する位置またはプラズマガス出力口１０６に対してずれた位置に形成することができるほか、主放電電極１２０における共通電極対向面１２０ａの前面に均等配置して形成することもできる。また、主放電電極１２０には、プラズマガスジャケット１１０と同様の第２プラズマガスジャケット１２２を設けるとともに、この第２プラズマガスジャケット１２２内に多孔体１１１，１１２と同様に多数の貫通孔１２３ａ，１２４ａを有した第２多孔体１２３，１２４がスペーサ１１３と同様のスペーサ１２５を介してそれぞれ設けることができる。また、この場合、主放電電極１２０は、第２プラズマガスジャケット１２２に連通する導入路１２７を備えた板状の第２ジャケット覆い体１２６によって第２プラズマガスジャケット１２２内が気密的に塞がれている。

このように構成したプラズマ生成装置１００は、主電極支持体１３２に設けられた貫通孔１３２ａを介してプラズマガス供給設備（図示せず）から供給されるプラズマガスが第２プラズマガスジャケット１２２および第２プラズマガス出力口１２１を介して主放電用誘電体１４０に向けて噴射される（破線矢印参照）。これにより、プラズマ生成装置１００は、主放電用誘電体１４０に対して主放電電極１２０側にプラズマガスを供給することができ主プラズマＰ_Ｍを早期にかつ広範な範囲で発生および維持させることができる。なお、プラズマ生成装置１００は、第２プラズマガスジャケット１２２および第２ジャケット覆い体１２６をそれぞれ省略して構成することができることは当然である。

また、上記実施形態においては、作業者は、予備放電電源１５０は電圧が±５ｋＶで周波数が１０ｋＨｚの交流電圧を出力するとともに、主放電電源１５２は電圧が±９ｋＶで周波数が１０ｋＨｚの交流電圧を出力するように調整した。しかし、予備放電電源１５０および主放電電源１５２の各出力の仕様は、被処理物ＷＫに対して必要な主プラズマＰ_Ｍの量および強さに応じて適宜設定されるものであり、上記実施形態に限定されるものではない。したがって、予備放電電源１５０から出力される交流電圧が主放電電源１５２から出力される交流電圧よりも高電圧、高周波数、低電圧、低周波、同電圧および同周波数のうちのいずれかであることは当然に生じ得ることである。なお、プラズマ生成装置１００は、予備放電電源１５０および主放電電源１５２を１つの電源設備で構成することもできる。

また、予備放電電極１０１、共通放電電極１０４および主放電電極１２０にそれぞれ印加する交流電圧の電圧および周波数についても被処理物ＷＫに対して必要な主プラズマＰ_Ｍの量および強さに応じて適宜設定されるものであり、上記実施形態に限定されるものではない。したがって、予備放電電極１０１、共通放電電極１０４および主放電電極１２０にそれぞれ印加する交流電圧の電圧値および周波数は、±１ｋＶ以下または±２０ｋＶ以上の電圧値であってもよいし、１００Ｈｚ以下または１０ｋＨｚ以上の周波数であってもよい。

また、上記実施形態においては、主放電電源１５２は、共通放電電極１０４に対して予備放電電源１５０を介して接続した。しかし、主放電電源１５２は、主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間に交流電圧を印加できるように接続されていれば、必ずしも上記実施形態に限定されるものではない。したがって、主放電電源１５２は、例えば、共通放電電極１０４に対して予備放電電源１５０を介することなく直接接続することもできる。なお、予備放電電源１５０についても同様に、予備放電電極１０１と共通放電電極１０４との間に交流電圧を印加できるように接続されていれば、必ずしも上記実施形態に限定されるものではない。

また、上記実施形態においては、プラズマ生成装置１００は、４つの予備放電電極１０１を備えて構成した。この場合、４つの予備放電電極１０１は、主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間で主プラズマＰ_Ｍが面状に形成される間隔で配置した。これにより、プラズマ生成装置１００は、予備放電電極１０１の長手方向に直交する幅方向にも幅広な面状の主プラズマＰ_Ｍを生成することができる。なお、この場合、予備放電電極１０１の配置間隔は、印加電圧や電極間距離に応じて予め実験的に求められる。しかし、プラズマ生成装置１００は、少なくとも１つの予備放電電極１０１を備えて構成することができるものであり、必ずしも上記実施形態に限定されるものではない。したがって、プラズマ生成装置１００は、５つ以上の予備放電電極１０１を備えて構成することもできる。

また、複数の予備放電電極１０１を設ける場合、予備放電電極１０１の配置間隔を主放電電極１２０と共通放電電極１０４との間で主プラズマＰ_Ｍが幅広な面状に形成されない間隔、すなわち、各予備放電電極１０１が単独で線状または帯状の主プラズマＰ_Ｍを形成する間隔で配置することもできる。

また、上記実施形態においては、予備放電電極１０１は、導体１０２の外周面と予備放電用誘電体１０３の内周面との間に空気を介した僅かな空隙を設けて構成されている。しかし、予備放電電極１０１は、導体１０２の外周面と予備放電用誘電体１０３の内周面とを密着、または両者の間の空間を真空または不導体（例えば、セラミック接着剤）で塞いで構成することもできる。これによれば、導体１０２の外周面と予備放電用誘電体１０３の内周面との間の空間内で放電が生じることを防止することができる。

また、上記実施形態においては、プラズマ生成装置１００は、導体１０２をガラス管製の予備放電用誘電体１０３内に配置した予備放電電極１０１を共通放電電極１０４に形成した電極収容部１０５内に配置して構成した。しかし、予備放電電極１０１は、長尺に延びる導体１０２を誘電体で覆って構成されていればよい。この場合、予備放電電極１０１は、棒状または板状に形成することができる。また、共通放電電極１０４は、予備放電電極１０１に隣接配置されて同予備放電電極１０１に沿って延びて形成されていればよい。

また、上記実施形態においては、予備放電電極１０１は、共通放電電極１０４の主電極対向面１０４ａに溝状に形成した電極収容部１０５内に主放電電極１２０側を露出させた状態で配置した。これにより、予備放電電極１０１は、開口した電極収容部１０５に容易に嵌め込んで取り付けることができるとともに向きも正確に配置することができる。また、予備放電電極１０１は、電極収容部１０５の溝自身や溝内に塗布した接着剤によって安定的に保持されるとともに、予備放電電極１０１の周囲に存在する主放電用誘電体１４０や被処理物ＷＫなどとの物理的接触による破損および予備放電電極１０１の破損時における飛散を防止することができる。さらに、予備放電電極１０１は、共通放電電極１０４で囲まれることで予備プラズマＰ_Ｐを発生させ易くできるとともに発生させた予備プラズマＰ_Ｐを安定的に持続させることができる。

この場合、電極収容部１０５は、予備放電電極１０１の径方向の半分以上、より好ましくは２／３以上を覆う深さに形成するとともに、深さ方向に直交する溝幅を対向する予備放電電極１０１の両側面に対して僅かな空隙を介して収容する溝幅に形成するとよい。しかし、電極収容部１０５は、予備放電電極１０１の径方向の半分以下を覆う深さに形成すること、および溝幅を予備放電電極１０１の両側面に接触する溝幅、すなわち、予備放電電極１０１の外径と同じ溝幅に形成することを排除するものではない。また、電極収容部１０５は、予備放電電極１０１を完全に覆う筒状、例えば、共通放電電極１０４の側面に貫通孔状または止り穴状に形成した横孔状または横穴状に形成することもできる。

一方で、予備放電電極１０１は、共通放電電極１０４との間で予備プラズマＰ_Ｐを生成することができるように配置されていればよい。したがって、予備放電電極１０１は、例えば、電極収容部１０５が形成されていない平面状の主電極対向面１０４ａ上に直接配置することもできる。

また、上記実施形態においては、主放電用誘電体１４０は、無端ベルト状に形成した。しかし、主放電用誘電体１４０は、主放電電極１２０と予備放電電極１０１および共通放電電極１０４との間に配置されて予備放電電極１０１、共通放電電極１０４および主放電電極１２０に沿って延びる誘電体で構成されていればよい。したがって、主放電用誘電体１４０は、例えば、図９に示すように、ガラスを含むセラミック材、樹脂材またはゴム材などの不導体を環状に形成されていない単なる平面状のシート状または板状に形成して構成することができる。この場合、主放電用誘電体１４０は、支柱１３３で支持することができる。

また、上記実施形態においては、主放電用誘電体１４０は、被処理物ＷＫを支持するように構成した。しかし、主放電用誘電体１４０は、他の支持部材で被処理物ＷＫを支持するように構成すれば、必ずしも被処理物ＷＫを支持するように構成する必要はない。

また、上記実施形態においては、プラズマ生成装置１００は、食品からなる被処理物ＷＫに対して主プラズマＰ_Ｍを照射して殺菌消毒するように構成した。しかし、プラズマ生成装置１００は、食品以外の被処理物ＷＫ（例えば、医療器具など）に対して主プラズマＰ_Ｍを照射して殺菌消毒するように構成してもよいし、殺菌挿毒以外の目的で被処理物ＷＫに対して主プラズマＰ_Ｍを照射してもよい。プラズマ生成装置１００は、例えば、アッシング、エッチングまたは被膜形成などの表面処理、接着性や濡れ性の改善または表面硬化などの表面改質に用いることができる。

ＷＫ…被処理物、Ｐ_Ｐ…予備プラズマ、Ｐ_Ｍ…主プラズマ、
１００…プラズマ生成装置、
１０１…予備放電電極、１０２…導体、１０３…予備放電用誘電体、１０４…共通放電電極、１０４ａ…主電極対向面、１０５…電極収容部、１０５ａ…セラミック接着剤、１０６…プラズマガス出力口、
１１０…プラズマガスジャケット、１１１，１１２…多孔体、１１１ａ，１１２ａ…貫通孔、１１３…スペーサ、１１４…ジャケット覆い体、１１５…導入路、１１６…冷却器取付部、１１７ａ…第１取付孔、１１７ｂ…第２取付孔、１１８…冷却器、１１８ａ…配管、
１２０…主放電電極、１２０ａ…共通電極対向面、１２１…第２プラズマガス出力口、１２２…第２プラズマガスジャケット、１２３，１２４…第２多孔体、１２３ａ，１２４ａ…貫通孔、１２５…スペーサ、１２６…第２ジャケット覆い体、１２７…導入路、
１３０…電極支持体、１３１…共通電極支持体、１３１ａ…貫通孔、１３２…主電極支持体、１３２ａ…貫通孔、１３３…支柱、
１４０…主放電用誘電体、
１５０…予備放電電源、１５１…アース、１５２…主放電電源。

Claims (8)

1. 長尺に延びる導体を誘電体で覆った予備放電電極と、
   前記予備放電電極に隣接配置されて同予備放電電極に沿って延びる共通放電電極と、
   前記予備放電電極と前記共通放電電極との間に交流電圧を印加して予備プラズマを発生させるための予備放電電源と、
   前記共通放電電極に対して前記予備放電電極よりも離れた位置に前記共通放電電極および前記予備放電電極にそれぞれ対向した状態で延びる主放電電極と、
   前記主放電電極と前記予備放電電極および前記共通放電電極との間に配置されて前記予備放電電極、前記共通放電電極および前記主放電電極に沿って延びる誘電体からなる主放電用誘電体と、
   前記主放電電極と前記共通放電電極との間に交流電圧を印加して主プラズマを発生させるための主放電電源とを備え、
   前記共通放電電極は、
   前記予備放電電極に隣接する位置に同予備放電電極の延びる方向に沿ってプラズマガスを出力させるプラズマガス出力口を備えることを特徴とするプラズマ生成装置。
2. 請求項１に記載したプラズマ生成装置において、
   前記プラズマガス出力口は、
   前記予備放電電極の両側にそれぞれ形成されていることを特徴とするプラズマ生成装置。
3. 請求項１または請求項２に記載したプラズマ生成装置において、
   前記プラズマガス出力口は、
   前記予備放電電極の延びる方向に沿って形成された複数の孔で構成されていることを特徴とするプラズマ生成装置。
4. 請求項３に記載したプラズマ生成装置において、
   前記プラズマガス出力口は、
   前記予備放電電極の両側にそれぞれ形成されているとともに、前記両側のうちの一方側の前記プラズマガス出力口を構成する各孔は他方側の前記プラズマガス出力口を構成する各孔に対してずれた位置にそれぞれ形成されていることを特徴とするプラズマ生成装置。
5. 請求項１ないし請求項４のうちのいずれか１つに記載したプラズマ生成装置において、さらに、
   前記プラズマガス出力口に面した状態で同プラズマガス出力口に供給される前記プラズマガスを一時的に貯留するプラズマガスジャケットを備えることを特徴とするプラズマ生成装置。
6. 請求項５に記載したプラズマ生成装置において、さらに、
   前記プラズマガスジャケットは、
   多数の貫通孔を有した多孔体を有しており、前記プラズマガスを前記多孔体を介して前記プラズマガス出力口に導くことを特徴とするプラズマ生成装置。
7. 請求項５または請求項６に記載したプラズマ生成装置において、さらに、
   前記プラズマガスジャケットに隣接して設けられて同プラズマガスジャケット内の前記プラズマガスを冷却する冷却器を備えることを特徴とするプラズマ生成装置。
8. 請求項１ないし請求項７のうちのいずれか１つに記載したプラズマ生成装置において、
   前記主放電電極は、
   前記主放電用誘電体に向けて前記プラズマガスを出力させる第２プラズマガス出力口を備えることを特徴とするプラズマ生成装置。

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