JP6776876B2 - 高分子材料のシミュレーション方法 - Google Patents

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Description

本発明は、高分子材料のシミュレーション方法に関し、詳しくは高分子材料の高分子鎖の切断を解析するのに役立つ方法に関する。
下記特許文献1には、ゴム等の高分子材料の開発のために、高分子材料の性質を、コンピュータを用いて評価するためのシミュレーション方法(数値計算)が種々提案されている。
この種のシミュレーション方法では、先ず、コンピュータ上に定義された空間に、複数の粒子モデルと、これをつなぐボンドモデルとを含む分子鎖モデルが配置された高分子材料モデルが定義される。次に、高分子材料モデルを用いて、分子動力学に基づく緩和計算が行われる。その後、高分子材料モデルの変形計算が実施される。変形計算の結果から、高分子材料の性能等が推測される。
特許第5913260号公報
高分子材料モデルの変形計算では、ボンドモデルに伸びの上限値が定義されていることが多く、通常、それ以上伸びないように設定されている。従って、上記シミュレーション方法は、高分子鎖の切断を解析することができない。例えば、高分子鎖の切断状況や、高分子鎖を構成する原子間の結合強度等を評価できないという問題があった。
本発明は、以上のような実状に鑑み案出されたもので、高分子鎖の切断を解析することができる高分子材料のシミュレーション方法を提供することを主たる目的としている。
本発明は、コンピュータを用いて、高分子材料を解析するための方法であって、前記高分子材料の高分子鎖に基づいて、複数の粒子モデルと、隣接する前記粒子モデル間を結合するボンドモデルとを含む分子鎖モデルを、前記コンピュータに入力する工程と、前記ボンドモデルを介して隣り合う前記粒子モデル間で切断するための第1距離を、前記コンピュータに定義する工程と、予め定められた空間内に複数の前記分子鎖モデルを配置して、高分子材料モデルを設定する配置工程と、前記コンピュータが、前記高分子材料モデルを変形させるシミュレーション工程とを含み、前記シミュレーション工程は、前記ボンドモデルを介して隣り合う前記粒子モデル間の距離が、前記第1距離以上の場合に、前記粒子モデル間の前記ボンドモデルを削除する工程を含むことを特徴とする。
本発明に係る前記高分子材料のシミュレーション方法において、前記分子鎖モデルは、前記高分子鎖を構成する複数の原子を、一つの前記粒子モデルに置換した粗視化モデルであるのが望ましい。
本発明に係る前記高分子材料のシミュレーション方法において、前記第1距離を定義する工程は、前記粒子モデルを構成する複数の前記原子間の解離エネルギーのうち、前記高分子鎖の主鎖を構成する原子間の解離エネルギーであり、かつ、最も小さい解離エネルギーに基づいて、前記第1距離を定義するのが望ましい。
本発明に係る前記高分子材料のシミュレーション方法において、前記第1距離を定義する工程は、前記粒子モデルを構成する複数の前記原子間の活性化エネルギーのうち、前記高分子鎖の主鎖を構成する原子間の活性化エネルギーであり、かつ、最も小さい活性化エネルギーに基づいて、前記第1距離を定義するのが望ましい。
本発明に係る前記高分子材料のシミュレーション方法において、前記ボンドモデルは、前記粒子モデル間の距離の上限値である伸びきり長が設定され、前記第1距離は、前記伸びきり長よりも小さいのが望ましい。
本発明に係る前記高分子材料のシミュレーション方法において、隣接する前記分子鎖モデルの前記粒子モデル間を結合する架橋モデルを設定する工程と、前記架橋モデルを介して隣り合う前記粒子モデル間で切断するための第2距離を定義する工程とをさらに含み、前記シミュレーション工程は、前記架橋モデルを介して隣り合う前記粒子モデル間の距離が、前記第2距離以上の場合に、前記粒子モデル間の前記架橋モデルを削除する工程を含むのが望ましい。
本発明に係る前記高分子材料のシミュレーション方法において、前記第2距離を定義する工程は、前記架橋モデルで定義される架橋結合の解離エネルギーに基づいて、前記第2距離を定義するのが望ましい。
本発明に係る前記高分子材料のシミュレーション方法において、前記架橋モデルは、前記粒子モデル間の距離の上限値である伸びきり長が設定され、前記第2距離は、前記伸びきり長よりも小さいのが望ましい。
本発明の高分子材料のシミュレーション方法は、ボンドモデルを介して隣り合う粒子モデル間で切断するための第1距離をコンピュータに定義する工程と、コンピュータが、高分子材料モデルを変形させるシミュレーション工程とを含んでいる。シミュレーション工程は、ボンドモデルを介して隣り合う粒子モデル間の距離が、第1距離以上の場合に、粒子モデル間のボンドモデルを削除する工程を含んでいる。
このように、本発明の高分子材料のシミュレーション方法は、粒子モデル間のボンドモデルを削除することによって、高分子材料に生じうる高分子鎖の切断を解析することができる。従って、本発明の高分子材料のシミュレーション方法は、例えば、高分子鎖の切断状況や、高分子鎖を構成する原子間の結合強度等を評価することができる。
高分子材料のシミュレーション方法を実行するコンピュータの一例を示す斜視図である。 ポリブタジエンの構造式である。 シミュレーション方法の処理手順の一例を示すフローチャートである。 分子鎖モデルの一例を示す斜視図である。 第1ポテンシャルのエネルギー曲線を求めるのに用いた分子モデルの一例を示す図である。 第1ポテンシャルのエネルギー曲線の一例を示すグラフである。 配置工程の一例を示すフローチャートである。 高分子材料モデルの一例を示す斜視図である。 シミュレーション工程の処理手順の一例を示すフローチャートである。 (a)は、引き伸ばされた分子鎖モデルの一部を示す図である。(b)は、切断された分子鎖モデルの一部を示す図である。 本発明の他の実施形態のシミュレーション方法の処理手順の一例を示すフローチャートである。 架橋モデルで結合された一対の分子鎖モデルの一例を示す図である。 本発明の他の実施形態のシミュレーション工程の一例を説明するフローチャートである。
以下、本発明の実施の一形態が図面に基づき説明される。
本実施形態の高分子材料のシミュレーション方法(以下、単に「シミュレーション方法」ということがある)は、コンピュータを用いて、高分子材料の高分子鎖の切断を解析するためのものである。
図1は、シミュレーション方法を実行するコンピュータの一例を示す斜視図である。コンピュータ1は、本体1a、キーボード1b、マウス1c及びディスプレイ装置1dを含んで構成されている。この本体1aには、例えば、演算処理装置(CPU)、ROM、作業用メモリ、磁気ディスクなどの記憶装置、及び、ディスクドライブ装置1a1、1a2が設けられている。また、記憶装置には、本実施形態のシミュレーション方法を実行するための処理手順(プログラム)が予め記憶されている。
本実施形態の高分子材料としては、cis-1,4ポリブタジエン(以下、単に「ポリブタジエン」ということがある。)が例示される。図2は、ポリブタジエンの構造式である。
ポリブタジエンを構成する高分子鎖2は、メチレン基(−CH−)とメチン基(−CH−)とからなるモノマー3{−[CH−CH=CH−CH]−}が、重合度nで連結されて構成されている。なお、高分子材料には、ポリブタジエン以外の高分子材料が用いられてもよい。
図3は、シミュレーション方法の処理手順の一例を示すフローチャートである。本実施形態のシミュレーション方法では、先ず、コンピュータ1に、分子鎖モデルを入力する(工程S1)。図4は、分子鎖モデル4の一例を示す斜視図である。
本実施形態の工程S1では、図2に示した高分子材料の高分子鎖2に基づいて、複数の粒子モデル5と、隣接する粒子モデル5、5間を結合するボンドモデル6とを含む分子鎖モデル4が設定される。分子鎖モデル4は、高分子鎖2を構成する複数の原子を、一つの粒子モデル5に置換した粗視化モデル(本実施形態では、Kremer-Grestモデル)である。
粒子モデル5は、図2に示した高分子鎖2のモノマー3又はモノマー3の一部分をなす構造単位を置換したものである。高分子鎖2がポリブタジエンである場合には、上記特許文献1と同様に、例えば1.55個分のモノマー3が、1個の粒子モデル5に置換される。これにより、分子鎖モデル4には、複数個(例えば、10〜5000個)の粒子モデル5が設定される。粒子モデル5は、分子動力学計算において、運動方程式の質点として取り扱われる。即ち、粒子モデル5には、例えば、質量、直径又は電荷などのパラメータが定義される。
ボンドモデル6は、粒子モデル5、5を結合するためのものである。ボンドモデル6には、粒子モデル5、5間の距離rijの上限値である伸びきり長R0(図示省略)が設定された第1ポテンシャルP1が定義される。第1ポテンシャルP1は、上記特許文献1と同様に、LJポテンシャルULJ(rij)と、結合ポテンシャルUFENEとの和で設定される。LJポテンシャルULJ(rij)及び結合ポテンシャルUFENEの各定数及び各変数の値については、上記特許文献1に基づいて設定されうる。これにより、粒子モデル5が伸縮自在に拘束された直鎖状の分子鎖モデル4を定義することができる。
次に、本実施形態のシミュレーション方法は、ボンドモデル6を介して隣り合う粒子モデル5、5間で切断するための第1距離を、コンピュータ1に定義する(工程S2)。第1距離は、図2に示されるように、主鎖の隣接する一対の原子(以下、単に「原子対」ということがある。)7の解離エネルギー、又は、活性化エネルギーに基づいて設定することができる。
解離エネルギーとは、原子対7の結合が完全に切断された状態と、原子対7の結合が安定している状態とのエネルギーの差に相当するエネルギーである。活性化エネルギーとは、結合切断過程における基底状態から遷移状態に励起するのに必要なエネルギーである。従って、原子対7のエネルギーが、少なくとも解離エネルギーに達した場合、より厳密には活性化エネルギーに達した場合に、原子対7の結合が切断される。本実施形態では、比較的容易に用いることができる解離エネルギーに基づいて、第1距離が定義される。
解離エネルギー及び活性化エネルギーは、例えば、実験やシミュレーション等に基づいて、適宜取得することができる。本実施形態では、文献(Yu-Ran Luo著、「Handbook of Bond Dissociation Energies in Organic Compounds」、CRC Press、2002年12月23日)の記載に基づいて、解離エネルギーを取得している。
解離エネルギーは、図2に示した主鎖の高分子鎖2において、原子対7の種類によって異なる。本実施形態の高分子鎖2において、原子対7は、炭素原子−炭素原子の一重結合、及び、炭素原子−炭素原子の二重結合を含んでいる。これらの原子対7のうち、解離エネルギーが小さい原子対7において、高分子鎖2が切断されやすい。
図4に示されるように、本実施形態では、図2に示した高分子鎖2を構成する複数の原子(本実施形態では、1.55個分のモノマー3)を、一つの粒子モデル5に置換している。このため、各粒子モデル5、5間の第1距離は、粒子モデル5で置換された複数の原子対7(図2に示す)の解離エネルギーのうち、高分子鎖2の主鎖を構成する原子間の解離エネルギーであり、かつ、最も小さい解離エネルギーに基づいて定義されるのが望ましい。これにより、後述のシミュレーション工程S5において、最も切断されやすい原子対7で切断される状態を計算することができる。
本実施形態の第1距離は、解離エネルギーと、第1ポテンシャルP1のエネルギー曲線とを用いて定義される。図5は、第1ポテンシャルP1のエネルギー曲線を求めるのに用いた分子モデルの一例を示す図である。図6は、第1ポテンシャルP1のエネルギー曲線の一例を示すグラフである。
図6に示されるように、エネルギー曲線8は、ポテンシャルエネルギーと粒子モデル5、5間の距離との関係を示している。ポテンシャルエネルギーは、実際の分子と同一の単位(kcal/mol)が用いられている。他方、粒子モデル5、5間の距離は、粗視化モデルでの単位(σ)が用いられている。工程S2では、先ず、エネルギー曲線8において、前記最も小さい解離エネルギーに対応するポテンシャルエネルギーを特定する。そして、エネルギー曲線8において、そのポテンシャルエネルギーに対応する粒子モデル5、5間の距離を、第1距離として特定している。これにより、実際に原子間で切断される距離を、粗視化モデルでの切断距離(即ち、第1距離)に換算することができる。本実施形態の第1距離は、伸びきり長R0よりも小に設定されている。これにより、後述のシミュレーション工程S5において、図4に示した分子鎖モデル4の粒子モデル5、5間の距離が伸びきり長R0に至る前に、粒子モデル5、5間の切断(本実施形態では、ボンドモデル6の削除)を確実に計算することができる。
次に、本実施形態のシミュレーション方法は、予め定められた空間内に複数の分子鎖モデル4を配置して、高分子材料モデルを設定する(配置工程S3)。図7は、配置工程S3の一例を示すフローチャートである。図8は、高分子材料モデル10の一例を示す斜視図である。
本実施形態の配置工程S3では、先ず、分子鎖モデル4、4の粒子モデル5、5間に、第2ポテンシャルP2が定義される(工程S31)。第2ポテンシャルP2は、上記特許文献1の手順に従い、LJポテンシャルULJ(rij)を用いて定義することができる。本実施形態では、第2ポテンシャルP2のカットオフ距離rcとして21/2σよりも大きな値を設定している。これにより、粒子モデル5、5間には、粒子間の距離rijが21/2σよりも大かつカットオフ距離rc未満の引力を定義することができる。
本実施形態の配置工程S3では、次に、複数の分子鎖モデル4を配置するための空間11を定義する(工程S32)。空間(セル)11は、互いに向き合う三対の平面12a、12bを有する直方体として定義されている。各平面12a、12bには、周期境界条件が定義されている。これにより、空間11では、例えば、一方の平面12aから出て行った分子鎖モデル4の一部が、反対側の平面12bから入ってくるように計算することができる。従って、一方の平面12aと、反対側の平面12bとが連続している(繋がっている)ものとして取り扱うことができる。
空間11の一辺の長さL1は、適宜設定することができる。本実施形態の長さL1は、分子鎖モデル4の慣性半径(図示省略)の3倍以上が望ましい。慣性半径は、分子鎖モデル4の拡がりを示す量である。このような空間11では、分子動力学計算において、周期境界条件による自己のイメージとの衝突が起こりにくいため、分子鎖モデル4の空間的拡がりを適切に計算することができる。さらに、空間11の大きさは、例えば1気圧で安定な体積に設定される。このような空間11は、高分子材料の少なくとも一部の体積を定義することができる。
次に、本実施形態の配置工程S3は、複数の分子鎖モデル4が、空間11内に配置される(工程S33)。工程S33では、空間11内に複数の分子鎖モデル4が配置されることにより、高分子材料モデル10が定義される。本実施形態の分子鎖モデル4は、例えば、モンテカルロ法に基づいて、空間11内に配置される。高分子材料モデル10は、コンピュータ1に入力される。
空間11内での粒子モデル5の数密度(以下、単に「数密度」ということがある。)については、適宜設定することができる。本実施形態では、粒子モデル5、5間に引力が定義されているため、通常の数密度(例えば、0.85σ-3)に設定されると、空間11内に空孔(図示省略)が形成されるおそれがある。このため、粒子モデル5の数密度は、通常の数密度よりも大きい数密度(好ましくは、0.90σ-3以上)に設定されるのが望ましい。
次に、本実施形態のシミュレーション方法は、コンピュータ1が、分子動力学計算に基づいて、高分子材料モデル10の構造緩和を計算する(工程S4)。本実施形態の分子動力学計算では、例えば、空間11について所定の時間、分子鎖モデル4が古典力学に従うものとして、ニュートンの運動方程式が適用される。そして、各時刻での分子鎖モデル4の動きが、単位時間毎に追跡される。
構造緩和の計算は、空間11において、圧力及び温度が一定、又は、体積及び温度が一定に保たれる。これにより、工程S4では、実際の高分子材料の分子運動に近似させて、分子鎖モデル4の初期配置を精度よく緩和することができる。このような構造緩和の計算は、例えば(株)JSOL社製のソフトマテリアル総合シミュレーター(J−OCTA)に含まれるCOGNAC、又は、VSOPを用いて処理することができる。構造緩和された高分子材料モデル10は、コンピュータ1に記憶される。
次に、本実施形態のシミュレーション方法は、コンピュータ1が、高分子材料モデル10を変形させる(シミュレーション工程S5)。シミュレーション工程S5では、例えば、一般的に行われている単軸引張り試験に基づいて、高分子材料モデル10を一方向に(例えば、Z軸方向に0%〜300%)伸長させている。図9は、シミュレーション工程S5の処理手順の一例を示すフローチャートである。
本実施形態のシミュレーション工程S5では、先ず、高分子材料モデル10の変形条件が入力される(工程S51)。変形条件は、適宜設定することができる。本実施形態では、変形条件として、例えば、高分子材料モデル10の変形速度、摩擦係数、又は、ポアソン比が設定される。これらの変形条件の範囲については、適宜設定することができる。変形速度(単位時間(例えば、0.006τの場合)あたりの歪)は、1.0×10−3〜5.0×10−3が望ましい。摩擦係数は、例えば、2〜8程度が望ましい。ポアソン比は、0〜0.5が望ましい。これらの変形条件は、コンピュータ1に記憶される。
次に、本実施形態のシミュレーション工程S5は、高分子材料モデル10を変形させる(工程S52)。工程S52では、工程S51で設定された変形条件に基づいて、一軸方向に伸長した高分子材料モデル10が、単位時間毎に計算される。この高分子材料モデル10の変形により、各分子鎖モデル4も引き伸ばされる。図10(a)は、引き伸ばされた分子鎖モデル4の一部を示す図である。ボンドモデル6を介して隣り合う粒子モデル5、5の距離rijが大きくなる。単位時間毎に変形された高分子材料モデル10は、コンピュータ1に記憶される。
次に、本実施形態のシミュレーション工程S5は、ボンドモデル6を介して隣り合う粒子モデル5、5間の距離rijが、第1距離以上か否かが判断される(工程S53)。工程S53では、空間11に配置された全ての分子鎖モデル4について、隣り合う粒子モデル5、5間の距離が、第1距離以上か否かが判断される。
本実施形態の第1距離は、解離エネルギーに基づいて定義されている。このため、第1距離以上に距離が離れた粒子モデル5、5間において、高分子鎖が切断されるとみなしうる。従って、工程S53において、粒子モデル5、5間の距離rijが、第1距離以上である場合(工程S53で、「Y」)、粒子モデル5、5間のボンドモデル6を削除する(工程S54)。図10(b)は、切断された分子鎖モデル4の一部を示す図である。これにより、ボンドモデル6が削除された粒子モデル5、5間において、分子鎖モデル4を切断することができる。
他方、第1距離未満の粒子モデル5、5間では、高分子鎖2が未だ切断されないとみなしうる。従って、工程S53において、粒子モデル5、5間の距離rijが、第1距離未満である場合(工程S53で、「N」)、粒子モデル5、5間のボンドモデル6を削除することなく、次の工程S55が実施される。
次に、本実施形態のシミュレーション工程S5では、高分子材料モデル10が予め定められた大きさまで伸長されたか否かが判断される(工程S55)。工程S55において、高分子材料モデル10が予め定められた大きさまで伸長されたと判断された場合(工程S55で、「Y」)、シミュレーション工程S5の一連の処理が終了し、次の工程S6が実施される。他方、高分子材料モデル10が予め定められた大きさまで伸長していないと判断された場合(工程S55で、「N」)、単位時間を一つ進めて(工程S56)、工程S52〜工程S55が再度実施される。これにより、シミュレーション工程S5では、高分子材料モデル10が予め定められた大きさまで伸長されるまでの間、分子鎖モデル4の切断を計算することができる。
このように、本実施形態のシミュレーション方法は、粒子モデル5、5間のボンドモデル6を削除することによって、高分子材料に生じうる高分子鎖2の切断を解析することができる。従って、本実施形態のシミュレーション方法は、例えば、高分子材料の変形等に伴う高分子鎖2の切断状況を評価することができる。
本実施形態のシミュレーション方法では、一種類の分子鎖モデル4が入力されたが、異なる種類の分子鎖モデル4が複数入力されてもよい。各分子鎖モデル4に異なる第1距離が設定されることにより、図2に示した高分子鎖2を構成する原子間の結合強度等を評価することができる。また、高分子材料に配合される充填剤をモデル化した充填剤モデルが複数入力されてもよい。
次に、本実施形態のシミュレーション方法は、コンピュータ1が、高分子材料モデル10の変形計算の結果が、良好か否かを判断する(工程S6)。工程S6では、例えば、分子鎖モデル4の切断数や、分子鎖モデル4の切断箇所等に基づいて、変形計算の良否が判断される。
工程S6において、高分子材料モデル10の変形計算が良好と判断された場合(工程S6で、「Y」)、高分子材料モデル10に基づいて、高分子材料が製造される(工程S7)。他方、工程S6において、高分子材料モデル10の変形計算が良好でないと判断された場合(工程S6で、「N」)、高分子鎖2の構造や条件等を変更して(工程S8)、工程S1〜S6が再度実施される。このように、本実施形態のシミュレーション方法は、高分子材料の改良や、所望の性能を有する未知の高分子材料(図示省略)の開発に役立つ。
本実施形態の第1距離を定義する工程S2では、粒子モデル5で置換された複数の原子対7(図2に示す)の解離エネルギーのうち、高分子鎖2の主鎖を構成する原子間の解離エネルギーであり、かつ、最も小さい解離エネルギーに基づいて、第1距離が定義されたが、このような態様に限定されない。例えば、粒子モデル5で置換された複数の原子対7(図2に示す)の活性化エネルギーのうち、高分子鎖2の主鎖を構成する原子間の活性化エネルギーであり、かつ、最も小さい活性化エネルギーに基づいて、第1距離が定義されてもよい。
このような活性化エネルギーに基づいて設定する方法では、解離エネルギーに基づいて設定する方法に比べて、第1距離をより厳密に求めることができる。なお、この実施形態では、活性化エネルギーと、第1ポテンシャルP1のエネルギー曲線とを用いて、第1距離を定義することができる。より詳しくは、図6に示したエネルギー曲線8において、最も小さい活性化エネルギーに対応するポテンシャルエネルギーを特定し、そのポテンシャルエネルギーに対応する粒子モデル5、5間の距離を、第1距離として特定することができる。
本実施形態のシミュレーション方法は、分子鎖モデル4(高分子鎖2)のみの切断が計算されたが、このような態様に限定されない。一般に、ゴム等の高分子材料には、弾性力を高めるために、硫黄等の架橋剤(図示省略)が配合されている。このような架橋剤は、高分子材料の分子鎖を架橋結合することで、高分子材料の弾性力を高めている。この実施形態の架橋結合の構造としては、モノスルフィド架橋、ジスルフィド架橋、及び、ポリスルフィド架橋が例示される。
この実施形態のシミュレーション方法では、図2に示した分子鎖モデル4(高分子鎖2)の切断だけでなく、架橋結合の切断も解析する。なお、この実施形態において、前実施形態と同一の構成については、同一の符号を付し、説明を省略することがある。図11は、本発明の他の実施形態のシミュレーション方法の処理手順の一例を示すフローチャートである。
この実施形態のシミュレーション方法は、配置工程S3後に、隣接する分子鎖モデル4の粒子モデル5、5間を結合する架橋モデル16を設定する(工程S9)。図12は、架橋モデル16で結合された一対の分子鎖モデル4の一例を示す図である。
架橋モデル16は、粒子モデル5、5を結合するためのものである。架橋モデル16は、予め定められた架橋点に基づいて設定される。架橋モデル16には、粒子モデル5、5間の距離rijの上限値である伸びきり長R0が設定された第3ポテンシャルP3が定義される。第3ポテンシャルP3は、上記特許文献1と同様に、LJポテンシャルULJ(rij)と、結合ポテンシャルUFENEとの和で設定される。架橋モデル16は、コンピュータ1に入力される。
架橋モデル16は、架橋結合の構造(例えば、モノスルフィド架橋、ジスルフィド架橋、及び、ポリスルフィド架橋)を考慮して設定されるのが望ましい。また、架橋モデル16は、架橋結合の構造に応じて、異なる第3ポテンシャルP3が定義されるのが望ましい。これにより、シミュレーション工程S5において、架橋結合を精度よく考慮することができる。
次に、この実施形態のシミュレーション方法では、架橋モデル16を介して隣り合う粒子モデル5、5間で切断するための第2距離を、コンピュータ1に定義する(工程S10)。第2距離は、第1距離と同様に、架橋モデル16で定義される架橋結合の解離エネルギー、又は、活性化エネルギーに基づいて設定することができる。本実施形態の第2距離は、解離エネルギーに基づいて定義される。
解離エネルギーは、架橋結合の構造(例えば、モノスルフィド架橋、ジスルフィド架橋、及び、ポリスルフィド架橋)によってそれぞれ異なる。解離エネルギーが小さい架橋結合ほど切断されやすい。本実施形態では、架橋結合の構造毎に、異なる第2距離が定義される。
第2距離は、第1距離と同様に、解離エネルギーと、第3ポテンシャルP3のエネルギー曲線とを用いて定義される。さらに、第2距離は、伸びきり長R0よりも小に設定されている。これにより、シミュレーション工程S5において、架橋モデル16を介して隣り合う粒子モデル5、5間の距離rijが、伸びきり長R0に至る前に、粒子モデル5、5間の切断(本実施形態では、架橋モデル16の削除)を確実に計算することができる。
図13は、本発明の他の実施形態のシミュレーション工程S5の一例を説明するフローチャートである。シミュレーション工程S5では、高分子材料モデル10の変形により、各架橋モデル16も引き伸ばされる。この実施形態のシミュレーション工程S5は、図12に示されるように、架橋モデル16を介して隣り合う粒子モデル5、5間の距離rijが、第2距離以上か否かが判断される工程S57を含んでいる。工程S57では、空間11に配置された全ての分子鎖モデル4について、架橋モデル16を介して隣り合う粒子モデル5、5間の距離rijが、第2距離以上か否かが判断される。
第2距離は、架橋結合の解離エネルギーに基づいて定義されている。このため、第2距離以上に離間した粒子モデル5、5間において、架橋結合が切断されるとみなしうる。従って、工程S57において、架橋モデル16を介して隣り合う粒子モデル5、5間の距離rijが、第2距離以上である場合(工程S57で、「Y」)、粒子モデル5、5間の架橋モデル16を削除する(工程S58)。これにより、分子鎖モデル4、4間の架橋結合を切断することができる。
他方、第2距離未満の粒子モデル5、5間では、架橋結合が未だ切断されないとみなしうる。従って、工程S57において、架橋モデル16を介して隣り合う粒子モデル5、5間の距離rijが、第2距離未満である場合(工程S57で、「N」)、架橋モデル16を削除することなく、次の工程S55が実施される。
このように、この実施形態のシミュレーション方法では、架橋モデル16を削除することによって、高分子材料に生じうる架橋結合の切断を解析することができる。従って、この実施形態のシミュレーション方法は、例えば、高分子材料の変形等に伴う高分子鎖2の切断状況、及び、架橋結合の切断状況を評価することができる。
また、架橋結合の構造(例えば、モノスルフィド架橋、ジスルフィド架橋、及び、ポリスルフィド架橋)に応じて、異なる架橋モデル16が定義される場合、各架橋結合の構造毎に、結合強度等を評価することができる。
この実施形態の第2距離を定義する工程S10では、架橋結合の解離エネルギーに基づいて、第2距離が定義されたが、このような態様に限定されない。例えば、架橋結合の活性化エネルギーに基づいて、第2距離が定義されてもよい。このような活性化エネルギーに基づいて設定する方法では、解離エネルギーに基づいて設定する方法に比べて、第2距離をより厳密に求めることができる。なお、この実施形態では、第1距離を設定する工程と同様に、活性化エネルギーと、第3ポテンシャルP3のエネルギー曲線とを用いて、第2距離を定義することができる。
以上、本発明の特に好ましい実施形態について詳述したが、本発明は図示の実施形態に限定されることなく、例えば、充填剤モデルを複数入力するなど、種々の態様に変形して実施しうる。
図11に示した処理手順に基づいて、高分子材料モデルの切断が解析された(実施例1、実施例2)。実施例1及び実施例2では、図2に示した高分子材料の高分子鎖に基づいて、複数の粒子モデルと、隣接する粒子モデル間を結合するボンドモデルとを含む分子鎖モデルがコンピュータに入力された。そして、ボンドモデルを介して隣り合う粒子モデル間で切断するための第1距離が定義された。
実施例1及び実施例2では、下記架橋点に基づいて、隣接する分子鎖モデルの前記粒子モデル間を結合する架橋モデルが設定された。そして、架橋モデルを介して隣り合う粒子モデル間で切断するための第2距離が定義された。
実施例1の架橋モデルは、モノスルフィド架橋として設定され、下記第2距離が定義された。実施例2の架橋モデルは、実施例1のモノスルフィド架橋よりも切断しやすいポリスルフィド架橋として設定され、下記第2距離が定義された。そして、図13に示した処理手順に基づいて、実施例1及び実施例2は、高分子材料モデルを変形させ、ボンドモデル及び架橋モデルの切断が計算された。実施例1及び実施例2の共通仕様は、次のとおりである。
高分子鎖:ポリブタジエン
分子鎖モデル:
空間に配置される分子鎖モデルの合計本数:100本
1本の分子鎖モデルを構成する粒子モデルの個数:1000個
空間に配置される粒子モデルの数密度:0.9σ-3
カットオフ距離:2.5σ
第1距離:1.49σ
架橋モデル:
架橋点:805箇所
第2距離(実施例1):1.485σ
第2距離(実施例2):1.42σ
変形シミュレーション:
単位時間(微小時間):0.006τ
変形速度(単位時間あたりの歪):2.2×10-3
変形シミュレーションの合計時間:6τ
摩擦係数Γ:250(Kremer-Grestモデルの500倍)
ポアソン比:0
テストの結果、実施例1及び実施例2において、ボンドモデルの切断個数、及び、架橋モデルの切断個数は、次のとおりであった。
実施例1:
ボンドモデルの切断個数:9個
架橋モデルの切断個数:0個
実施例2:
ボンドモデルの切断個数:6個
架橋モデルの切断個数:5個
実施例1及び実施例2は、高分子材料モデルの変形計算により、分子鎖モデル又は架橋モデルの切断を計算することができた。従って、実施例1及び実施例2は、高分子鎖の切断を解析することができた。また、実施例2は、実施例1に比べて、架橋モデルの切断のし易さを表現することができた。従って、実施例1及び実施例2は、高分子鎖の切断状況や、高分子鎖を構成する原子間の結合強度等を評価することができた。
S1 分子鎖モデルを定義する工程
S2 第1距離を定義する工程
S5 高分子材料モデルを変形させる工程

Claims (7)

  1. コンピュータを用いて、高分子材料を解析するための方法であって、
    前記高分子材料の高分子鎖に基づいて、複数の粒子モデルと、隣接する前記粒子モデル間を結合するボンドモデルとを含む分子鎖モデルを、前記コンピュータに入力する工程と、
    前記高分子鎖の主鎖の隣接する一対の原子の解離エネルギー、又は、活性化エネルギーに基づいて、前記ボンドモデルを介して隣り合う前記粒子モデル間で切断するための第1距離を、前記コンピュータに定義する工程と、
    予め定められた空間内に複数の前記分子鎖モデルを配置して、高分子材料モデルを設定する配置工程と、
    前記コンピュータが、前記高分子材料モデルを変形させるシミュレーション工程とを含み、
    前記シミュレーション工程は、前記ボンドモデルを介して隣り合う前記粒子モデル間の距離が、前記第1距離以上の場合に、前記粒子モデル間の前記ボンドモデルを削除する工程を含む高分子材料のシミュレーション方法。
  2. 前記分子鎖モデルは、前記高分子鎖を構成する複数の原子を、一つの前記粒子モデルに置換した粗視化モデルである請求項1記載の高分子材料のシミュレーション方法。
  3. 前記第1距離を定義する工程は、前記粒子モデルを構成する複数の前記原子間の解離エネルギーのうち、前記高分子鎖の主鎖を構成する原子間の解離エネルギーであり、かつ、最も小さい解離エネルギーに基づいて、前記第1距離を定義する請求項2記載の高分子材料のシミュレーション方法。
  4. 前記第1距離を定義する工程は、前記粒子モデルを構成する複数の前記原子間の活性化エネルギーのうち、前記高分子鎖の主鎖を構成する原子間の活性化エネルギーであり、かつ、最も小さい活性化エネルギーに基づいて、前記第1距離を定義する請求項2記載の高分子材料のシミュレーション方法。
  5. 前記ボンドモデルは、前記粒子モデル間の距離の上限値である伸びきり長が設定され、
    前記第1距離は、前記伸びきり長よりも小さい請求項1乃至4のいずれかに記載の高分子材料のシミュレーション方法。
  6. 隣接する前記分子鎖モデルの前記粒子モデル間を結合する架橋モデルを設定する工程と、
    前記架橋モデルで定義される架橋結合の解離エネルギー又は活性化エネルギーに基づいて、前記架橋モデルを介して隣り合う前記粒子モデル間で切断するための第2距離を定義する工程とをさらに含み、
    前記シミュレーション工程は、前記架橋モデルを介して隣り合う前記粒子モデル間の距離が、前記第2距離以上の場合に、前記粒子モデル間の前記架橋モデルを削除する工程を含む請求項1乃至5のいずれかに記載の高分子材料のシミュレーション方法。
  7. 前記架橋モデルは、前記粒子モデル間の距離の上限値である伸びきり長が設定され、
    前記第2距離は、前記伸びきり長よりも小さい請求項に記載の高分子材料のシミュレーション方法。
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