JP6774643B2 - カーボンナイトライドナノシート複合体の製造方法 - Google Patents
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- 239000002135 nanosheet Substances 0.000 title claims description 692
- 239000002131 composite material Substances 0.000 title claims description 144
- JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N oxalonitrile Chemical compound N#CC#N JMANVNJQNLATNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 58
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 46
- 238000000034 method Methods 0.000 title description 66
- 239000003930 superacid Substances 0.000 claims description 247
- 239000002608 ionic liquid Substances 0.000 claims description 241
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 90
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 62
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 claims description 42
- 230000032798 delamination Effects 0.000 claims description 39
- 238000009210 therapy by ultrasound Methods 0.000 claims description 33
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 23
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 claims description 16
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 11
- 238000000527 sonication Methods 0.000 claims description 11
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 150
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 108
- -1 2H-pyrrolinium cation Chemical class 0.000 description 83
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 77
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 54
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 49
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 49
- 239000000463 material Substances 0.000 description 43
- 239000000805 composite resin Substances 0.000 description 38
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 36
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 35
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 29
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 28
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 26
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 26
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 23
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 22
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 21
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N chlorosulfonic acid Substances OS(Cl)(=O)=O XTHPWXDJESJLNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 16
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 15
- KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 1,3-dichloro-5,5-dimethylimidazolidine-2,4-dione Chemical compound CC1(C)N(Cl)C(=O)N(Cl)C1=O KEQGZUUPPQEDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 14
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 13
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 13
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 12
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 11
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 11
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 11
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 11
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 11
- 239000006228 supernatant Substances 0.000 description 11
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 description 10
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 10
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 10
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 10
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 10
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 10
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 10
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 8
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 8
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N hydrofluoric acid Substances F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 8
- ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trifluoro-n-(trifluoromethylsulfonyl)methanesulfonamide Chemical compound FC(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)F ZXMGHDIOOHOAAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 7
- 229910021389 graphene Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 7
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 7
- 150000003839 salts Chemical group 0.000 description 7
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000006378 damage Effects 0.000 description 6
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 239000004570 mortar (masonry) Substances 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000011231 conductive filler Substances 0.000 description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Chemical group CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 5
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 5
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O Imidazolium Chemical compound C1=C[NH+]=CN1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005411 Van der Waals force Methods 0.000 description 4
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 4
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910002804 graphite Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010439 graphite Substances 0.000 description 4
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 150000003949 imides Chemical class 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 4
- 239000002074 nanoribbon Substances 0.000 description 4
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 4
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 4
- 125000001889 triflyl group Chemical group FC(F)(F)S(*)(=O)=O 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropan-2-ol Chemical compound FC(F)(F)C(O)C(F)(F)F BYEAHWXPCBROCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AMKUSFIBHAUBIJ-UHFFFAOYSA-N 1-hexylpyridin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 AMKUSFIBHAUBIJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 3
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 3
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- INDFXCHYORWHLQ-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-butyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CCCCN1C=C[N+](C)=C1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F INDFXCHYORWHLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 150000004770 chalcogenides Chemical class 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 3
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 3
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 3
- UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N fluorosulfonic acid Chemical compound OS(F)(=O)=O UQSQSQZYBQSBJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N n-(2,4-dichloro-5-propan-2-yloxyphenyl)acetamide Chemical compound CC(C)OC1=CC(NC(C)=O)=C(Cl)C=C1Cl QPJSUIGXIBEQAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N pentyl acetate Chemical compound CCCCCOC(C)=O PGMYKACGEOXYJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 3
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 3
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000001226 reprecipitation Methods 0.000 description 3
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000010008 shearing Methods 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 3
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 3
- FILVIKOEJGORQS-UHFFFAOYSA-N 1,5-dimethylpyrrolidin-2-one Chemical compound CC1CCC(=O)N1C FILVIKOEJGORQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- INEGVOIHTZOPIW-UHFFFAOYSA-N 1-(1-methoxyethyl)-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound COC(C)[N+]1(C)CCCC1 INEGVOIHTZOPIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IQQRAVYLUAZUGX-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCCCN1C=C[N+](C)=C1 IQQRAVYLUAZUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DADKKHHMGSWSPH-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-methylpyridin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1=CC=CC(C)=C1 DADKKHHMGSWSPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- REACWASHYHDPSQ-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyridin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1=CC=CC=C1 REACWASHYHDPSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OIDIRWZVUWCCCO-UHFFFAOYSA-N 1-ethylpyridin-1-ium Chemical compound CC[N+]1=CC=CC=C1 OIDIRWZVUWCCCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZYGPUMRLXMRDPE-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-propan-2-ylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CC(C)[N+]1(C)CCCC1 ZYGPUMRLXMRDPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WVDDUSFOSWWJJH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-propylimidazol-1-ium Chemical compound CCCN1C=C[N+](C)=C1 WVDDUSFOSWWJJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DWRVKCFZZJZSJX-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylpyridin-1-ium Chemical compound CC(C)[N+]1=CC=CC=C1 DWRVKCFZZJZSJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXMVWUBWIHZLMQ-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-octylimidazolium Chemical compound CCCCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 WXMVWUBWIHZLMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 2
- 229910021630 Antimony pentafluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004812 Fluorinated ethylene propylene Substances 0.000 description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-O Piperidinium(1+) Chemical compound C1CC[NH2+]CC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 2
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 2
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 2
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 2
- 229920002614 Polyether block amide Polymers 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O Pyrrolidinium ion Chemical compound C1CC[NH2+]C1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N Sulphide Chemical compound [S-2] UCKMPCXJQFINFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 2
- XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N acrylonitrile butadiene styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 XECAHXYUAAWDEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000122 acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000004676 acrylonitrile butadiene styrene Substances 0.000 description 2
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 2
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 2
- VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I antimony pentafluoride Chemical compound F[Sb](F)(F)(F)F VBVBHWZYQGJZLR-UHFFFAOYSA-I 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC1=CC=CC=C1.C=CC1=CC=CC=C1 FACXGONDLDSNOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 239000002134 carbon nanofiber Substances 0.000 description 2
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 2
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N chlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC=C1 MVPPADPHJFYWMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 2
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 2
- 239000012065 filter cake Substances 0.000 description 2
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000011167 hydrochloric acid Nutrition 0.000 description 2
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N hydron Chemical compound [H+] GPRLSGONYQIRFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N isoamyl acetate Chemical compound CC(C)CCOC(C)=O MLFHJEHSLIIPHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- GVXHSMAJJFVLGD-UHFFFAOYSA-N methyl 5-chloro-7-(trifluoromethyl)thieno[3,2-b]pyridine-3-carboxylate Chemical compound C1=C(Cl)N=C2C(C(=O)OC)=CSC2=C1C(F)(F)F GVXHSMAJJFVLGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920012128 methyl methacrylate acrylonitrile butadiene styrene Polymers 0.000 description 2
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 2
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 2
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000002110 nanocone Substances 0.000 description 2
- CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N neopentane Chemical compound CC(C)(C)C CRSOQBOWXPBRES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 229920009441 perflouroethylene propylene Polymers 0.000 description 2
- XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O phosphonium Chemical compound [PH4+] XYFCBTPGUUZFHI-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920002493 poly(chlorotrifluoroethylene) Polymers 0.000 description 2
- 229920001652 poly(etherketoneketone) Polymers 0.000 description 2
- 229920000747 poly(lactic acid) Polymers 0.000 description 2
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 2
- 229920001707 polybutylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005023 polychlorotrifluoroethylene (PCTFE) polymer Substances 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001195 polyisoprene Polymers 0.000 description 2
- 239000004626 polylactic acid Substances 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 229920006324 polyoxymethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 2
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O pyridinium Chemical compound C1=CC=[NH+]C=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 2
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 229920000468 styrene butadiene styrene block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 2
- VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N tetrachloromethane Chemical compound ClC(Cl)(Cl)Cl VZGDMQKNWNREIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N tetraethylammonium Chemical compound CC[N+](CC)(CC)CC CBXCPBUEXACCNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 2
- NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N (2s)-2-[[4-[2-(2,4-diaminoquinazolin-6-yl)ethyl]benzoyl]amino]-4-methylidenepentanedioic acid Chemical compound C1=CC2=NC(N)=NC(N)=C2C=C1CCC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CC(=C)C(O)=O)C(O)=O)C=C1 NAWXUBYGYWOOIX-SFHVURJKSA-N 0.000 description 1
- GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,2-pentafluoroethanesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)F GKNWQHIXXANPTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZJUHXVCAHXJLR-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluoro-n-(1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutylsulfonyl)butane-1-sulfonamide Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(=O)(=O)NS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KZJUHXVCAHXJLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-M 1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane-1-sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F JGTNAGYHADQMCM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YTCBGWPJFWWLPI-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3-hexafluoropropane-1,3-disulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)S(O)(=O)=O YTCBGWPJFWWLPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRVXQXKXYMZZNA-UHFFFAOYSA-N 1,1,3,3,4,4-hexafluorobutane-1,2,2,4-tetrasulfonic acid Chemical compound FC(C(C(C(S(=O)(=O)O)(F)F)(S(=O)(=O)O)S(=O)(=O)O)(F)F)(S(=O)(=O)O)F BRVXQXKXYMZZNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPOLQQDCYYGAQX-UHFFFAOYSA-N 1,1-diethyl-2,3-dihydropyrrol-1-ium Chemical compound CC[N+]1(CC)CCC=C1 PPOLQQDCYYGAQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IIPZFKPTBXDQSG-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethyl-2,3-dihydropyrrol-1-ium Chemical compound C[N+]1(C)CCC=C1 IIPZFKPTBXDQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVEVKEPHEUJOCW-UHFFFAOYSA-N 1,2,2-trifluoroethane-1,1,2-trisulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)C(F)(S(O)(=O)=O)S(O)(=O)=O AVEVKEPHEUJOCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-trichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=CC(Cl)=C1Cl RELMFMZEBKVZJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMUSNOZEJRLWKH-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylpyrimidin-1-ium Chemical compound CC1=NC=CC=[N+]1C GMUSNOZEJRLWKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXHHIBMOFPCBJQ-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethylpyrrolidine Chemical compound CC1CCCN1C PXHHIBMOFPCBJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-Dimethyl-2-imidazolidinon Chemical compound CN1CCN(C)C1=O CYSGHNMQYZDMIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLJSMWDFUFADIA-UHFFFAOYSA-N 1,3-diethylimidazol-1-ium Chemical compound CCN1C=C[N+](CC)=C1 XLJSMWDFUFADIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVVRUQBMAZRKPJ-UHFFFAOYSA-N 1,3-dimethylimidazolium Chemical compound CN1C=C[N+](C)=C1 HVVRUQBMAZRKPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 1,4-dichlorobenzene Chemical compound ClC1=CC=C(Cl)C=C1 OCJBOOLMMGQPQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UZDLMXYACBVNCQ-UHFFFAOYSA-N 1-(1-methoxyethyl)-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound COC(C)[N+]=1C=CN(C)C=1 UZDLMXYACBVNCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PVNUSFZSJFQLAM-UHFFFAOYSA-N 1-(1-methoxyethyl)pyridin-1-ium Chemical compound COC(C)[N+]1=CC=CC=C1 PVNUSFZSJFQLAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOPCHXHUZUVFEV-UHFFFAOYSA-N 1-(2-methoxyethyl)pyridin-1-ium Chemical compound COCC[N+]1=CC=CC=C1 LOPCHXHUZUVFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XAKVXORGVYVQFC-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)-1-methylpiperidin-1-ium Chemical compound COC[N+]1(C)CCCCC1 XAKVXORGVYVQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOCWJEWXPJKXHS-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound COC[N+]1(C)CCCC1 KOCWJEWXPJKXHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZJGQIYEQUJUBQ-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)-2-methylpyrrolidine Chemical compound CC1N(CCC1)COC FZJGQIYEQUJUBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KILROSMPEZCOSD-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound COCN1C=C[N+](C)=C1 KILROSMPEZCOSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SURYDVMMOODCOF-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)pyrazin-1-ium Chemical compound COC[N+]1=CC=NC=C1 SURYDVMMOODCOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CQGFBXOHOMUJJS-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)pyridazin-1-ium Chemical compound COC[N+]1=CC=CC=N1 CQGFBXOHOMUJJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBIDVGIXPZDUPD-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)pyridin-1-ium Chemical compound COC[N+]1=CC=CC=C1 NBIDVGIXPZDUPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NMBLNMXFIFSRDD-UHFFFAOYSA-N 1-(methoxymethyl)pyrimidin-1-ium Chemical compound COC[N+]1=CC=CN=C1 NMBLNMXFIFSRDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PMBXCGGQNSVESQ-UHFFFAOYSA-N 1-Hexanethiol Chemical compound CCCCCCS PMBXCGGQNSVESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COSSPXYCRNRXRX-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound C1=[N+](C)C=CN1CC1=CC=CC=C1 COSSPXYCRNRXRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNTHCCKWMAYYPX-UHFFFAOYSA-N 1-butan-2-yl-2-methylpyrrolidine Chemical compound CCC(C)N1CCCC1C BNTHCCKWMAYYPX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSXXGINQZBSOMD-UHFFFAOYSA-N 1-butan-2-yl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CCC(C)[N+]=1C=CN(C)C=1 WSXXGINQZBSOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BABQSNUBGKYZPQ-UHFFFAOYSA-N 1-butan-2-ylpyridin-1-ium Chemical compound CCC(C)[N+]1=CC=CC=C1 BABQSNUBGKYZPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXJSMCZTRWECJF-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-ethylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(CC)CCCC1 YXJSMCZTRWECJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RSGCJYHYEPMSAN-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-methyl-2,3-dihydropyrrol-1-ium Chemical compound C(CCC)[N+]1(C=CCC1)C RSGCJYHYEPMSAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVCPHBWNKAXVPC-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-methylpiperidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(C)CCCCC1 UVCPHBWNKAXVPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HODMCOIBCPNLAO-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1(CCC)CCCC1 HODMCOIBCPNLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BHIGPVGNEXDQBL-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2-methylpyridin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1=CC=CC=C1C BHIGPVGNEXDQBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MISVVRDOUNLNJJ-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-2-methylpyrrolidine Chemical compound CCCCN1CCCC1C MISVVRDOUNLNJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PQOPTKHODJNNPC-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-3-ethenylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCN1C=C[N+](C=C)=C1 PQOPTKHODJNNPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRZPYEHDSAQGAS-UHFFFAOYSA-M 1-butyl-3-methylimidazol-3-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F.CCCC[N+]=1C=CN(C)C=1 FRZPYEHDSAQGAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NNLHWTTWXYBJBQ-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-4-methylpyridin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1=CC=C(C)C=C1 NNLHWTTWXYBJBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MGASSKTWAZLFTD-UHFFFAOYSA-N 1-butylpyridazin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1=CC=CC=N1 MGASSKTWAZLFTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFDXQGNDWIPXQL-UHFFFAOYSA-N 1-cyclooctyldiazocane Chemical compound C1CCCCCCC1N1NCCCCCC1 NFDXQGNDWIPXQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDVVBLGHGCHZBJ-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCCCCCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 LDVVBLGHGCHZBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILQHIGIKULUQFQ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCCCCCCCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 ILQHIGIKULUQFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MAXSYFSJUKUMRE-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-ethylimidazol-3-ium Chemical compound CCN1C=C[N+](C=C)=C1 MAXSYFSJUKUMRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QNRFSMQQGKQJOH-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-methyl-2,3-dihydropyrrol-1-ium Chemical compound CC[N+]1(C)CCC=C1 QNRFSMQQGKQJOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WACRAFUNNYGNEQ-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-methylpiperidin-1-ium Chemical compound CC[N+]1(C)CCCCC1 WACRAFUNNYGNEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIHOUJYFWMURBG-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-1-methylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CC[N+]1(C)CCCC1 NIHOUJYFWMURBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MLYBVSISIUUHHY-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-methylpyrazin-1-ium Chemical compound CC[N+]1=CC=NC=C1C MLYBVSISIUUHHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JKNXMPSMAZUQMJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-2-methylpyrrolidine Chemical compound CCN1CCCC1C JKNXMPSMAZUQMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALNWCYLRUYXLCD-UHFFFAOYSA-O 1-ethyl-2H-triazol-1-ium Chemical compound CC[NH+]1C=CN=N1 ALNWCYLRUYXLCD-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZPTRYWVRCNOTAS-UHFFFAOYSA-M 1-ethyl-3-methylimidazol-3-ium;trifluoromethanesulfonate Chemical compound CC[N+]=1C=CN(C)C=1.[O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ZPTRYWVRCNOTAS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NJMWOUFKYKNWDW-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCN1C=C[N+](C)=C1 NJMWOUFKYKNWDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REITYCXGQIGALX-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3-methylpyridin-1-ium Chemical compound CC[N+]1=CC=CC(C)=C1 REITYCXGQIGALX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AAPAEJHNLLHUMB-UHFFFAOYSA-N 1-ethylpyrazin-1-ium Chemical compound CC[N+]1=CC=NC=C1 AAPAEJHNLLHUMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIMXYNKWKCFOE-UHFFFAOYSA-N 1-ethylpyridazin-1-ium Chemical compound CC[N+]1=CC=CC=N1 OEIMXYNKWKCFOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GJEFIJUABOAQHX-UHFFFAOYSA-N 1-ethylpyrimidin-1-ium Chemical compound CC[N+]1=CC=CN=C1 GJEFIJUABOAQHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCLKMMFVIGOXQN-UHFFFAOYSA-N 1-hexadecyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 DCLKMMFVIGOXQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OBAWSHQIAMVMGT-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-2-methylpyrrolidine Chemical compound CCCCCCN1CCCC1C OBAWSHQIAMVMGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVEJOWGVUQQIIZ-UHFFFAOYSA-N 1-hexyl-3-methylimidazolium Chemical compound CCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 RVEJOWGVUQQIIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPGHUDANSDJFGX-UHFFFAOYSA-N 1-hexylpyridazin-1-ium Chemical compound CCCCCC[N+]1=CC=CC=N1 QPGHUDANSDJFGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KIIGNXWGCXYLMJ-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-propan-2-ylpiperidin-1-ium Chemical compound CC(C)[N+]1(C)CCCCC1 KIIGNXWGCXYLMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OGLIVJFAKNJZRE-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-propylpiperidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1(C)CCCCC1 OGLIVJFAKNJZRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YQFWGCSKGJMGHE-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1(C)CCCC1 YQFWGCSKGJMGHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWAWEQBUZOGIBZ-UHFFFAOYSA-O 1-methyl-2h-triazol-1-ium Chemical compound C[N+]1=CC=NN1 JWAWEQBUZOGIBZ-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- FRDMOHWOUFAYLD-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-nonylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 FRDMOHWOUFAYLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WWVMHGUBIOZASN-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-prop-2-enylimidazol-1-ium Chemical compound CN1C=C[N+](CC=C)=C1 WWVMHGUBIOZASN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UYVTYBDVUSLCJA-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-propan-2-ylimidazol-1-ium Chemical compound CC(C)[N+]=1C=CN(C)C=1 UYVTYBDVUSLCJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTGKCDNVVMKVRH-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-propyl-2h-pyrimidin-1-ium Chemical compound CCCN1C[N+](C)=CC=C1 MTGKCDNVVMKVRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMKLRPQTYXVGNK-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-tetradecylimidazol-1-ium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCN1C=C[N+](C)=C1 BMKLRPQTYXVGNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-O 1-methylimidazole Chemical compound CN1C=C[NH+]=C1 MCTWTZJPVLRJOU-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- BSNHVVCFZSILST-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrazin-1-ium Chemical compound C[N+]1=CC=NC=C1 BSNHVVCFZSILST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLKPEAFVZSNDOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyridazin-1-ium Chemical compound C[N+]1=CC=CC=N1 XLKPEAFVZSNDOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDERXUQXOMOJPT-UHFFFAOYSA-N 1-methylpyrimidin-1-ium Chemical compound C[N+]1=CC=CN=C1 MDERXUQXOMOJPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGBIQWAAHIGGBS-UHFFFAOYSA-N 1-pentylpyridazin-1-ium Chemical compound CCCCC[N+]1=CC=CC=N1 AGBIQWAAHIGGBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDLZFINTMJACIP-UHFFFAOYSA-N 1-propan-2-ylpyridazin-1-ium Chemical compound CC(C)[N+]1=CC=CC=N1 GDLZFINTMJACIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAUFFDKLUVJZTG-UHFFFAOYSA-O 1-propyl-2h-triazol-1-ium Chemical compound CCC[N+]1=CC=NN1 VAUFFDKLUVJZTG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ROCMNZYXXWTHKJ-UHFFFAOYSA-N 1-propylpyrazin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1=CC=NC=C1 ROCMNZYXXWTHKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZZUBADFFZKAPJC-UHFFFAOYSA-N 1-propylpyridazin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1=CC=CC=N1 ZZUBADFFZKAPJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CRTKBIFIDSNKCN-UHFFFAOYSA-N 1-propylpyridin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1=CC=CC=C1 CRTKBIFIDSNKCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVGPFMLHKUFUCM-UHFFFAOYSA-N 1-propylpyrimidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1=CC=CN=C1 QVGPFMLHKUFUCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-O 2,3-dimethylimidazolium ion Chemical compound CC1=[NH+]C=CN1C GIWQSPITLQVMSG-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZGZLRWJZGFRHHQ-UHFFFAOYSA-N 2-(3-methylimidazol-3-ium-1-yl)ethanol Chemical compound CN1C=C[N+](CCO)=C1 ZGZLRWJZGFRHHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BANDIOAXKWLWTC-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethyl)-5-methyl-1,2-oxazol-2-ium Chemical compound COC[N+]=1OC(=CC=1)C BANDIOAXKWLWTC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 2-Methyl-4-heptanone Chemical compound CC(C)CC(=O)CC(C)C PTTPXKJBFFKCEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 2-chlorophenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1Cl ISPYQTSUDJAMAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLNKZYWIDNANHM-UHFFFAOYSA-N 2-ethyl-5-methyl-1,2-oxazol-2-ium Chemical compound C(C)[N+]=1OC(=CC1)C QLNKZYWIDNANHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BYOPLOVSJVANDH-UHFFFAOYSA-N 2-hexyl-5-methyl-1,2-oxazol-2-ium Chemical compound C(CCCCC)[N+]=1OC(=CC=1)C BYOPLOVSJVANDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 1
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- JNAIHHUVZSIDKB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-octylpyrrolidine Chemical compound CC1N(CCC1)CCCCCCCC JNAIHHUVZSIDKB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HTUUNUBTALKZIP-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-propan-2-ylpyrrolidine Chemical compound CC(C)N1CCCC1C HTUUNUBTALKZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLDXKKLJACLTIN-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-propylpyridin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1=CC=CC=C1C ZLDXKKLJACLTIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOSLFXXHUGEHDC-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-propylpyrrolidine Chemical compound CCCN1CCCC1C BOSLFXXHUGEHDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 2-pyrroline Chemical compound C1CC=CN1 RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IWDFHWZHHOSSGR-UHFFFAOYSA-O 3-ethyl-1h-imidazol-3-ium Chemical compound CCN1C=C[NH+]=C1 IWDFHWZHHOSSGR-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- OBBLBTCBHPSIMJ-UHFFFAOYSA-N 3-methyl-1-propylpyridin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1=CC=CC(C)=C1 OBBLBTCBHPSIMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MWTPWZNBIZUXBT-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methylimidazol-3-ium-1-yl)butane-1-sulfonate Chemical compound C[N+]=1C=CN(CCCCS([O-])(=O)=O)C=1 MWTPWZNBIZUXBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBCJWJVPFPANIA-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-propylpyridin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1=CC=C(C)C=C1 CBCJWJVPFPANIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BURUIGIDVQEKFK-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-2-propyl-1,2-oxazol-2-ium Chemical compound C(CC)[N+]=1OC(=CC=1)C BURUIGIDVQEKFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910016467 AlCl 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910017008 AsF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSBDHWDJOJHQMT-UHFFFAOYSA-N CC([N+]1(CCC=C1)C)OC Chemical compound CC([N+]1(CCC=C1)C)OC YSBDHWDJOJHQMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDXAXNGKRFVWRO-UHFFFAOYSA-N CC1CCCN1C(C)OC Chemical compound CC1CCCN1C(C)OC HDXAXNGKRFVWRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGSSJDPUQVEJIL-UHFFFAOYSA-N CCC[N+]1=C(C)[S+](C)C=C1 Chemical compound CCC[N+]1=C(C)[S+](C)C=C1 RGSSJDPUQVEJIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLQOIQHGVZIUPZ-UHFFFAOYSA-N C[N+]1(C=CCC1)CCC Chemical compound C[N+]1(C=CCC1)CCC VLQOIQHGVZIUPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRYVDAQQDUKUJR-UHFFFAOYSA-N C[N+]1(CCC=C1)COC Chemical compound C[N+]1(CCC=C1)COC NRYVDAQQDUKUJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AEGJIDJYXSUSMM-UHFFFAOYSA-N C[S+]1C=CN=C1C Chemical compound C[S+]1C=CN=C1C AEGJIDJYXSUSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHLIRKSWPNKLP-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C)C=1C(=[N+](C=CC=1)C)[Si](C)(C)C Chemical compound C[Si](C)(C)C=1C(=[N+](C=CC=1)C)[Si](C)(C)C NLHLIRKSWPNKLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910016523 CuKa Inorganic materials 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009007 Diagnostic Kit Methods 0.000 description 1
- 229920002943 EPDM rubber Polymers 0.000 description 1
- 229920000181 Ethylene propylene rubber Polymers 0.000 description 1
- UQOPCPJUWHGDPF-UHFFFAOYSA-N FC(C(C(C(S(=O)(=O)O)(F)F)(S(=O)(=O)O)F)(F)F)(S(=O)(=O)O)F Chemical compound FC(C(C(C(S(=O)(=O)O)(F)F)(S(=O)(=O)O)F)(F)F)(S(=O)(=O)O)F UQOPCPJUWHGDPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSGBESHEQKLEKY-UHFFFAOYSA-N FC(C(C(S(=O)(=O)O)(F)F)(S(=O)(=O)O)F)(S(=O)(=O)O)F Chemical compound FC(C(C(S(=O)(=O)O)(F)F)(S(=O)(=O)O)F)(S(=O)(=O)O)F OSGBESHEQKLEKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 244000043261 Hevea brasiliensis Species 0.000 description 1
- NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N Isooctane Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C NHTMVDHEPJAVLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-O Methylammonium ion Chemical compound [NH3+]C BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- PQBAWAQIRZIWIV-UHFFFAOYSA-N N-methylpyridinium Chemical compound C[N+]1=CC=CC=C1 PQBAWAQIRZIWIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002033 PVDF binder Substances 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 1
- 229920000265 Polyparaphenylene Polymers 0.000 description 1
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018286 SbF 6 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 229920000180 alkyd Polymers 0.000 description 1
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940072049 amyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 150000001449 anionic compounds Chemical class 0.000 description 1
- AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K antimonic acid Chemical compound O[Sb](O)(O)=O AQTIRDJOWSATJB-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 238000000498 ball milling Methods 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- ANFWGAAJBJPAHX-UHFFFAOYSA-N bis(fluorosulfonyl)azanide;1-ethyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CC[N+]=1C=CN(C)C=1.FS(=O)(=O)[N-]S(F)(=O)=O ANFWGAAJBJPAHX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SAYMDKMGIAANGQ-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1,3-dimethylimidazol-1-ium Chemical compound CN1C=C[N+](C)=C1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F SAYMDKMGIAANGQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHIHMDHAPXMAQK-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-butylpyridin-1-ium Chemical compound CCCC[N+]1=CC=CC=C1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F XHIHMDHAPXMAQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LRESCJAINPKJTO-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-ethyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CCN1C=C[N+](C)=C1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F LRESCJAINPKJTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCNFOZUBFOFJKZ-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-hexyl-3-methylimidazol-3-ium Chemical compound CCCCCC[N+]=1C=CN(C)C=1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F RCNFOZUBFOFJKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKNRELLLVOYIIB-UHFFFAOYSA-N bis(trifluoromethylsulfonyl)azanide;1-methyl-1-propylpyrrolidin-1-ium Chemical compound CCC[N+]1(C)CCCC1.FC(F)(F)S(=O)(=O)[N-]S(=O)(=O)C(F)(F)F DKNRELLLVOYIIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000071 blow moulding Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940006460 bromide ion Drugs 0.000 description 1
- 125000005998 bromoethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005997 bromomethyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004799 bromophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- BZDKYAZTCWRUDZ-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC=C.C=CC#N.COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 BZDKYAZTCWRUDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N buta-1,3-diene;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC=C.C=CC#N NTXGQCSETZTARF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- IUNCEDRRUNZACO-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethyl)azanium Chemical compound CCCC[N+](C)(C)C IUNCEDRRUNZACO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930188620 butyrolactone Natural products 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical group 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 125000002603 chloroethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])Cl 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N choline Chemical compound C[N+](C)(C)CCO OEYIOHPDSNJKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002734 clay mineral Substances 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 1
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 1
- 229920001940 conductive polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 239000003484 crystal nucleating agent Substances 0.000 description 1
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000596 cyclohexenyl group Chemical group C1(=CCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- HCKMSHYCAFVSGW-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl(trimethyl)azanium Chemical compound C[N+](C)(C)C1CCCCC1 HCKMSHYCAFVSGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000522 cyclooctenyl group Chemical group C1(=CCCCCCC1)* 0.000 description 1
- 125000000640 cyclooctyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002433 cyclopentenyl group Chemical group C1(=CCCC1)* 0.000 description 1
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 1
- 235000013365 dairy product Nutrition 0.000 description 1
- YBPJNJSKPUAMKZ-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCC[CH2-] YBPJNJSKPUAMKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003493 decenyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940117389 dichlorobenzene Drugs 0.000 description 1
- 125000004188 dichlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- MHLOWQQBDOYPNP-UHFFFAOYSA-N diethyl(2-methoxyethyl)sulfanium Chemical compound CC[S+](CC)CCOC MHLOWQQBDOYPNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-O diethyl(methyl)azanium Chemical compound CC[NH+](C)CC GNVRJGIVDSQCOP-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- PASFIQXJEUGATN-UHFFFAOYSA-N diethyl(methyl)sulfanium Chemical compound CC[S+](C)CC PASFIQXJEUGATN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BXHHZLMBMOBPEH-UHFFFAOYSA-N diethyl-(2-methoxyethyl)-methylazanium Chemical compound CC[N+](C)(CC)CCOC BXHHZLMBMOBPEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FISIIUFDCAMIGR-UHFFFAOYSA-N difluoromethanedisulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)S(O)(=O)=O FISIIUFDCAMIGR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N dimethyl-hexane Natural products CCCCCC(C)C JVSWJIKNEAIKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- VFNGKCDDZUSWLR-UHFFFAOYSA-L disulfate(2-) Chemical compound [O-]S(=O)(=O)OS([O-])(=O)=O VFNGKCDDZUSWLR-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000005066 dodecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000806 elastomer Substances 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000004146 energy storage Methods 0.000 description 1
- HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N ethene;prop-1-ene Chemical group C=C.CC=C HQQADJVZYDDRJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- SRYUVPBJVKBYRG-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethyl-(2-phenylethyl)azanium Chemical compound CC[N+](C)(C)CCC1=CC=CC=C1 SRYUVPBJVKBYRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOZZQPFBMNNPPO-UHFFFAOYSA-N ethyl-dimethyl-propylazanium Chemical compound CCC[N+](C)(C)CC ZOZZQPFBMNNPPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-O ethylaminium Chemical compound CC[NH3+] QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000004299 exfoliation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L fluoridophosphate Chemical compound [O-]P([O-])(F)=O DWYMPOCYEZONEA-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 229920001973 fluoroelastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004108 freeze drying Methods 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 229920006015 heat resistant resin Polymers 0.000 description 1
- 125000000755 henicosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M heptanoate Chemical compound CCCCCCC([O-])=O MNWFXJYAOYHMED-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000003187 heptyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- XTPRURKTXNFVQT-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethyl)azanium Chemical compound CCCCCC[N+](C)(C)C XTPRURKTXNFVQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROWSLFDRJXLLJP-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethyl)phosphanium Chemical compound CCCCCC[P+](C)(C)C ROWSLFDRJXLLJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005669 high impact polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000004797 high-impact polystyrene Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 1
- LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N hydrogen cyanide Chemical compound N#C LELOWRISYMNNSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-O hydron;1,3-oxazole Chemical compound C1=COC=[NH+]1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-O hydron;pyrimidine Chemical compound C1=CN=C[NH+]=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- 229910001412 inorganic anion Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940006461 iodide ion Drugs 0.000 description 1
- GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N iso-butyl acetate Natural products CC(C)COC(C)=O GJRQTCIYDGXPES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M isocaproate Chemical compound CC(C)CCC([O-])=O FGKJLKRYENPLQH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N isopropanol acetate Natural products CC(C)OC(C)=O JMMWKPVZQRWMSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940011051 isopropyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M isovalerate Chemical compound CC(C)CC([O-])=O GWYFCOCPABKNJV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N isovaleric acid methyl ester Natural products COC(=O)CC(C)C OQAGVSWESNCJJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N isoxazole Chemical compound C=1C=NOC=1 CTAPFRYPJLPFDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920005610 lignin Polymers 0.000 description 1
- 125000002463 lignoceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002082 metal nanoparticle Substances 0.000 description 1
- DEAKWVKQKRNPHF-UHFFFAOYSA-N methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.COC(=O)C(C)=C.C=CC1=CC=CC=C1 DEAKWVKQKRNPHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006178 methyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- JFHJOMSTWVDDHW-UHFFFAOYSA-N methyl prop-2-enoate;prop-2-enenitrile Chemical compound C=CC#N.COC(=O)C=C JFHJOMSTWVDDHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N methyltrioctylammonium Chemical compound CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC ZUZLIXGTXQBUDC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006082 mold release agent Substances 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001421 myristyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HVAAHUDGWQAAOJ-UHFFFAOYSA-N n-benzylethanamine Chemical compound CCNCC1=CC=CC=C1 HVAAHUDGWQAAOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N n-butylhexane Natural products CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N n-fluorosulfonylsulfamoyl fluoride Chemical compound FS(=O)(=O)NS(F)(=O)=O KTQDYGVEEFGIIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000002116 nanohorn Substances 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 239000002055 nanoplate Substances 0.000 description 1
- 239000002064 nanoplatelet Substances 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004923 naphthylmethyl group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)C* 0.000 description 1
- 229920003052 natural elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229920001194 natural rubber Polymers 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- SXQMONVCMHFPDA-UHFFFAOYSA-N nonane Chemical compound CCCCCCCC[CH2-] SXQMONVCMHFPDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N normal nonane Natural products CCCCCCCCC BKIMMITUMNQMOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005064 octadecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- OXUCOTSGWGNWGC-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCC[CH2-] OXUCOTSGWGNWGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002891 organic anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000002892 organic cations Chemical class 0.000 description 1
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 1
- 238000006053 organic reaction Methods 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000000913 palmityl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004437 phosphorous atom Chemical group 0.000 description 1
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003495 polar organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920000553 poly(phenylenevinylene) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920001197 polyacetylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 description 1
- 229920000123 polythiophene Polymers 0.000 description 1
- 229920002620 polyvinyl fluoride Polymers 0.000 description 1
- 229920002981 polyvinylidene fluoride Polymers 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000008213 purified water Substances 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 1
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 125000005353 silylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 241000894007 species Species 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical compound O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O sulfonium Chemical compound [SH3+] RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N tetrabutylphosphanium Chemical compound CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC BJQWBACJIAKDTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005063 tetradecenyl group Chemical group C(=CCCCCCCCCCCCC)* 0.000 description 1
- SZWHXXNVLACKBV-UHFFFAOYSA-N tetraethylphosphanium Chemical compound CC[P+](CC)(CC)CC SZWHXXNVLACKBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N tetramethylammonium Chemical compound C[N+](C)(C)C QEMXHQIAXOOASZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFIYFFUAOQKJJS-UHFFFAOYSA-N tetraoctylphosphanium Chemical compound CCCCCCCC[P+](CCCCCCCC)(CCCCCCCC)CCCCCCCC WFIYFFUAOQKJJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
- 125000001425 triazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- HOMONHWYLOPSLL-UHFFFAOYSA-N tributyl(ethyl)phosphanium Chemical compound CCCC[P+](CC)(CCCC)CCCC HOMONHWYLOPSLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HJHUXWBTVVFLQI-UHFFFAOYSA-N tributyl(methyl)azanium Chemical compound CCCC[N+](C)(CCCC)CCCC HJHUXWBTVVFLQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKFPGUWSSPXXMF-UHFFFAOYSA-N tributyl(methyl)phosphanium Chemical compound CCCC[P+](C)(CCCC)CCCC XKFPGUWSSPXXMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCBRTSYWJMECAH-UHFFFAOYSA-N tributyl(tetradecyl)phosphanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC YCBRTSYWJMECAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDQXIEKWEFUDFK-UHFFFAOYSA-N tributylsulfanium Chemical compound CCCC[S+](CCCC)CCCC XDQXIEKWEFUDFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N trichloroborane Chemical compound ClB(Cl)Cl FAQYAMRNWDIXMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002469 tricosyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- VKELPWHFJYECTE-UHFFFAOYSA-N triethoxy(2-methoxyethyl)azanium Chemical compound C(C)O[N+](CCOC)(OCC)OCC VKELPWHFJYECTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZEXVNKGDKTRPC-UHFFFAOYSA-N triethyl(2-methoxyethyl)phosphanium Chemical compound CC[P+](CC)(CC)CCOC KZEXVNKGDKTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVAJXJBNBBWMHL-UHFFFAOYSA-N triethyl(methoxymethyl)phosphanium Chemical compound CC[P+](CC)(CC)COC NVAJXJBNBBWMHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SEACXNRNJAXIBM-UHFFFAOYSA-N triethyl(methyl)azanium Chemical compound CC[N+](C)(CC)CC SEACXNRNJAXIBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TZWFFXFQARPFJN-UHFFFAOYSA-N triethyl(methyl)phosphanium Chemical compound CC[P+](C)(CC)CC TZWFFXFQARPFJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCLVFLIIJODTJU-UHFFFAOYSA-N triethyl(octyl)phosphanium Chemical compound CCCCCCCC[P+](CC)(CC)CC QCLVFLIIJODTJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RGXJWHBYXNYHML-UHFFFAOYSA-N triethyl(pentyl)phosphanium Chemical compound CCCCC[P+](CC)(CC)CC RGXJWHBYXNYHML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O triethylammonium ion Chemical compound CC[NH+](CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- WCZKTXKOKMXREO-UHFFFAOYSA-N triethylsulfanium Chemical compound CC[S+](CC)CC WCZKTXKOKMXREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- PYVOHVLEZJMINC-UHFFFAOYSA-N trihexyl(tetradecyl)phosphanium Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC[P+](CCCCCC)(CCCCCC)CCCCCC PYVOHVLEZJMINC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGDBTMJEJNVHPZ-UHFFFAOYSA-N trimethyl(propyl)phosphanium Chemical compound CCC[P+](C)(C)C YGDBTMJEJNVHPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CLZZXSVTPXPIGC-UHFFFAOYSA-N trimethyl(pyridin-1-ium-1-ylmethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C[N+]1=CC=CC=C1 CLZZXSVTPXPIGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTNALOGYGCLIGB-UHFFFAOYSA-N trimethyl(pyridin-4-ylmethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)CC1=CC=NC=C1 VTNALOGYGCLIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSSDVYJKDPAQGK-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[(2-methylpyrrolidin-1-yl)methyl]silane Chemical compound CC1CCCN1C[Si](C)(C)C LSSDVYJKDPAQGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUGOIPYLJVRATH-UHFFFAOYSA-N trimethyl-[(3-methylimidazol-3-ium-1-yl)methyl]silane Chemical compound C[N+]=1C=CN(C[Si](C)(C)C)C=1 XUGOIPYLJVRATH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N trimethylsulfonium Chemical compound C[S+](C)C NRZWQKGABZFFKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OOLZXLYYPCOPQZ-UHFFFAOYSA-N tripropylsulfanium Chemical compound CCC[S+](CCC)CCC OOLZXLYYPCOPQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 229920006305 unsaturated polyester Polymers 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004034 viscosity adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
先ず、本発明のカーボンナイトライドナノシート含有分散液(C3N4ナノシート含有分散液)、本発明のカーボンナイトライドナノシート複合体(C3N4ナノシート複合体)、及び本発明のカーボンナイトライドナノシート複合体含有分散液(C3N4ナノシート複合体含有分散液)について説明する。
本発明にかかるカーボンナイトライドナノシート(C3N4ナノシート)は、多層構造を有するカーボンナイトライド(C3N4)を層間剥離して得られる構造に相当する形態のシートである。このようなC3N4ナノシートとしては、特に制限されないが、例えば、C3N4ナノシート、カーボンナイトライドナノリボン(C3N4ナノリボン:リボン状のC3N4ナノシート)、カーボンナイトライドナノスクロール(C3N4スクロール:スクロール状のC3N4ナノシート)が挙げられる。これらの中でも、得られるC3N4ナノシート複合体及びそれを含む樹脂複合材料等における触媒活性や熱伝導性等の特性の向上の観点から、C3N4ナノシートが好ましい。
本発明に用いられるイオン液体は、特に制限されないが、200℃未満の温度、好ましくは150℃未満の温度、より好ましくは100℃未満の温度、更に好ましくは室温又は周囲の温度付近において液体である塩(イオン性液体)である。常温溶融塩又は単に溶融塩(塩溶融物)等とも称されるものであり、常温(室温)を含む幅広い温度域で液体状態を呈する塩である。このような液体の塩は、典型的には有機カチオン及び有機又は無機アニオンを含む。なお、室温で液体のイオン性液体であることが好ましい。
(Zp+)k(Xq−)m ・・・(1)
で表わされるイオン液体であることが好ましい。式(1)中、Zp+はカチオン、Xq−はアニオンを示し、p、q、k、mは、それぞれ1〜3の整数を示す。
Z+X− ・・・(2)
で表わされる化合物からなるイオン液体であることが特に好ましい。式(2)中、Z+はカチオン、X−はアニオンを示す。
このような本発明のイオン液体にかかる前記一般式(2)で示されるZ+X−化合物の中のZ+カチオンとしては、特に制限されないが、好ましくは、下記一般式(3)〜(18):
このような本発明で用いられるイオン液体にかかる前記一般式(2)で示されるZ+X−化合物の中のX−アニオンとしては、特に制限されないが、例えば、[CnF(2n+1−a)Ha)SO2]2N−、(FSO2)2N−、(CN)2N−、CnH(2n+1)OSO3 −、(CnF(2n+1−a)Ha)SO3 −、CH3SO3 −、HSO3 −、C6H5SO3 −、CH3(C6H4)SO3 −、[CnF(2n+1−a)Ha)SO2]3C−、(CnF(2n+1−a)Ha)COO−、NO3 −、BF4−b(CnF2n−1)b −、(CN)4−bBb −、(CN)4−bBFb −、F(HF)b −、AlCl4 −、FeCl4 −、PF6 −、AsF6 −、SbF6 −、BiF6 −、NbF6 −、TaF6 −、WF7 −、SiF6 −、PF6−c(CnF2n−1)c −、(CN)2N−、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン及びこれらアニオンの類縁体(変性物等)等を挙げることができる。なお、nは1〜8の整数、aは0〜17の整数、bは0〜4の整数、cは1〜6の整数である。また、このようなX−アニオンのうち、C3N4ナノシート含有分散液中でのC3N4ナノシートの分散性(分散安定性)と濃度が向上する観点、得られるC3N4ナノシート複合体の溶媒中への再分散性が向上し比較的高濃度でかつ高品質のC3N4ナノシート含有分散液が得られるという観点から、[CnF(2n+1−a)Ha)SO2]2N−、CnH(2n+1)OSO3 −、(CnF(2n+1−a)Ha)SO3 −、BF4−b(CnF2n−1)b −、(CN)4−bBb −、(CN)4−bBFb −がより好ましく、(CF3SO2)2N−(ビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド)、(C4F9SO2)2N−(ビス(ノナフルオロブタンスルホニル)イミド)、CF3SO3 −(トリフルオロメタンスルホナート)、C4F9SO3 −(ノナフルオロブタンスルホナート)、BF4 −(テトラフルオロボレート)、PF6 −(ヘキサフルオロホスファート)が更に好ましく、(CF3SO2)2N−、CF3SO3 −、BF4 −、PF6 −が特に好ましく、中でもC3N4ナノシート含有分散液中でのC3N4ナノシート濃度と、イオン液体のC3N4ナノシートへの吸着量を大きく向上させる観点から、PF6 −が最も好ましい。
本発明に用いられる超酸は、25℃におけるハメットの酸度関数(H0)が−12未満(すなわち、より負)の酸度関数(H0)を有する酸である。ここで、ハメットの酸度関数(H0)は、酸性度の指標として一般的に使用され、超酸や酸の種類と組成及び濃度に固有の値であり、温度によって変化する(LOUIS P.HAMMETTら、J.Am.Chem.Soc.、1932年、第54巻、2721頁を参照)。なお、25℃での各種超酸のH0については、例えば、化学便覧基礎編(改訂5版、日本化学会編)等に詳述されている(同便覧IIの表11.47、表11.51、表11.52、表11.53等が参照される)。
本発明のC3N4ナノシート含有分散液は、前記イオン液体又は前記超酸と、前記イオン液体又は前記超酸に分散している前記C3N4ナノシートと、を備えており、前記C3N4ナノシートが層数40以下のC3N4ナノシートを数基準で80%以上含むものである。
本発明のC3N4ナノシート複合体は、前記C3N4ナノシートと、前記C3N4ナノシートに吸着している前記イオン液体又は前記超酸と、を備えており、前記C3N4ナノシートが層数40以下のC3N4ナノシートを数基準で80%以上含むものである。
本発明のC3N4ナノシート複合体含有分散液は、前記C3N4ナノシート複合体と、イオン液体及び超酸以外の溶媒と、を含有するものである。前記C3N4ナノシート複合体は、前記イオン液体中又は前記超酸中で調製してそのまま分散液として使用することもできるが、イオン液体及び超酸以外の溶媒中での分散性に優れているため、前記イオン液体中又は前記超酸中に添加して、前記イオン液体又は前記超酸を分散媒とする分散液として使用することができる。
本発明のC3N4ナノシート複合体含有分散液において、イオン液体及び超酸以外の溶媒としては、特に制限されないが、例えば、有機溶媒及び水が挙げられる。これらは単独で用いても混合して用いてもよい。前記有機溶媒としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸ペンチル、酢酸イソペンチル、酢酸アミル、テトラヒドロフラン、N−メチル−2−ピロリドン、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、ヘキサノール、オクタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、テトラエチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ジエチレングリコール、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリクロロベンゼン、クロロフェノール、フェノール、テトラヒドロフラン、スルホラン、1,3−ジメチル−2−イミダゾリジノン、γ−ブチロラクトン、1,5−ジメチル−2−ピロリドン、ペンタン、ヘキサン、ネオペンタン、シクロヘキサン、ヘプタン、オクタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ジエチルエーテル等が挙げられる。これらの有機溶媒も1種を単独で用いても2種以上を混合して用いてもよい。
次に、本発明のC3N4ナノシート含有分散液の製造方法、本発明のC3N4ナノシート複合体の製造方法、及び本発明のC3N4ナノシート複合体含有分散液の製造方法について説明する。
本発明において原料として用いられるカーボンナイトライド(C3N4)は、X線回折スペクトルにおける(100)面のピーク強度(I100)に対する(002)面のピーク強度(I002)の比(I002/I100)が6以上のものである。通常のC3N4は、平面性に劣り、三次元的に非共有結合及び/又は共有結合により連結した構造を有しているため、窒化ホウ素やグラファイトと比べて剥離が困難であり、イオン液体中又は超酸中でそのまま弱い超音波処理や撹拌処理等の混合処理を施してもC3N4の層間剥離が十分に進行しない。一方、前記I002/I100の値が6以上のC3N4は、C3N4は層間の非共有結合及び/又は共有結合の少なくとも一部が破壊されており、層間の結合力が弱くなっている。このような層間の結合力が弱くなったC3N4は、前記イオン液体中又は前記超酸中で弱い超音波処理や撹拌処理等の混合処理を施すだけで、層間剥離が飛躍的に進行し、層数が少なく、分散性に優れたC3N4ナノシートを形成する。更に、このようにして得られるC3N4ナノシートは、マイルドな条件で混合処理が施されているため、C3N4層の面内方向の構造破壊が起こりにくく、一辺のサイズが比較的大きくなる。また、原料として用いるC3N4としては、前記イオン液体中又は前記超酸中での弱い超音波処理や撹拌処理等の混合処理による層間剥離が起こりやすいという観点から、前記I002/I100の値が7以上のC3N4が好ましく、8以上のC3N4がより好ましく、9以上のC3N4が更に好ましく、9.5以上のC3N4が特に好ましく、10以上のC3N4が最も好ましい。
本発明のC3N4ナノシート含有分散液は、このような所定のI002/I100値を有するC3N4とイオン液体又は超酸とを混合(混合処理)して、前記C3N4の層間を剥離して前記C3N4ナノシートを得ると共に、前記イオン液体又は前記超酸に前記C3N4ナノシートを分散させることによって製造することができる。ここで、イオン液体又は超酸としては、前記C3N4ナノシート含有分散液等に関して説明した前記イオン液体又は前記超酸を用いることができる。また、前述した各種フィラーと前記カーボンナイトライド(C3N4)と前記イオン液体又は前記超酸とを混合(混合処理)することによって、各種フィラーを含有する本発明のC3N4ナノシート含有分散液を製造することができる。
本発明のC3N4ナノシート複合体の製造方法は、前記所定のI002/I100値を有するC3N4とイオン液体又は超酸とを混合し、前記C3N4の層間を剥離せしめて前記C3N4ナノシートを得ると共に該C3N4ナノシートに前記イオン液体又は前記超酸を吸着させる剥離吸着工程を含む特徴とする方法である。このC3N4ナノシート複合体の製造方法において、イオン液体又は超酸としては、前記C3N4ナノシート複合体等に関して説明した前記イオン液体又は前記超酸を用いることができる。
(i)前記所定のI002/I100値を有するC3N4と前記イオン液体又は前記超酸とを溶媒を使用せずに混合して層間剥離処理を施す方法。
(ii)前記所定のI002/I100値を有するC3N4と前記イオン液体又は前記超酸とを溶媒中で混合して層間剥離処理を施す方法。
(iii)前記所定のI002/I100値を有するC3N4と前記イオン液体又は前記超酸とを溶媒を使用せずに混合する方法。
(iV)前記所定のI002/I100値を有するC3N4と前記イオン液体又は前記超酸とを溶媒中で混合する方法。
これらの製造方法は単独で実施しても2つ以上を組み合わせて実施してもよい。
本発明のC3N4ナノシート複合体の製造方法においては、前記所定のI002/I100値を有するC3N4と前記イオン液体又は前記超酸とを混合し、前記C3N4の層間を剥離せしめて前記C3N4ナノシートを得ると共に前記C3N4ナノシートに前記イオン液体又は前記超酸を吸着させる工程(剥離吸着工程)を含むことが必要である。
本発明のC3N4ナノシート複合体含有分散液は、前記本発明のC3N4ナノシート複合体をイオン液体及び超酸以外の溶媒に添加して超音波処理等を施して混合(混合処理)することによって製造することができる。また、前記所定のI002/I100値を有するC3N4、前記イオン液体又は前記超酸、イオン液体及び超酸以外の溶媒を一括又は分割して混合し、弱い超音波処理や撹拌処理等の混合処理を施すことによって、本発明のC3N4ナノシート複合体含有分散液を製造することもできる。この場合、イオン液体及び超酸以外の溶媒中で、前記イオン液体又は前記超酸が前記所定のI002/I100値を有するC3N4に吸着してC3N4が層間剥離され、C3N4ナノシート複合体が形成されることによって、本発明のC3N4ナノシート複合体含有分散液を得ることができる。ここで、イオン液体又は超酸としては、前記C3N4ナノシート複合体含有分散液等に関して説明した前記イオン液体又は前記超酸を用いることができる。また、イオン液体及び超酸以外の溶媒としては、前記C3N4ナノシート複合体含有分散液等に関して説明した前記イオン液体及び超酸以外の溶媒を用いることができる。更に、前述した各種フィラーを添加して混合することによって、各種フィラーを含有する本発明のC3N4ナノシート複合体含有分散液を製造することができる。
次に、本発明のC3N4ナノシート複合体を用いて得られるカーボンナイトライドナノシート薄層体(C3N4ナノシート薄層体)について説明する。前記本発明のC3N4ナノシート複合体から、吸着している前記イオン液体又は前記超酸を除去することによって、C3N4ナノシート薄層体が得られる。このC3N4ナノシート薄層体は、C3N4ナノシートが薄層化された、前記イオン液体及び前記超酸を含まないC3N4ナノシート(すなわち、C3N4ナノシート薄層体)である。このようなC3N4ナノシート薄層体は、前記本発明のC3N4ナノシート複合体におけるC3N4ナノシートの特徴である少ない層数と大きな一辺の長さを維持されているため、触媒活性、電気特性、熱伝導性、力学物性に優れている。また、前記イオン液体及び前記超酸が除去されているため、例えば、200℃以上の温度で、例えば、10年以上といった長時間使用する際に有用となる長期耐熱性に優れている。なお、前記C3N4ナノシート薄層体及びその製造方法におけるC3N4ナノシート及びイオン液体又は超酸は、前記C3N4ナノシート複合体等に関して説明した前記C3N4ナノシート及び前記イオン液体又は前記超酸である。
次に、本発明のC3N4ナノシート複合体を用いて得られる複合材料について説明する。前記複合材料は、前記本発明のC3N4ナノシート複合体と、樹脂、金属、セラミックス等と含有するものである。本発明のC3N4ナノシート複合体は、樹脂、金属、セラミックス中での分散性に優れているため、これらの中での均一分散が可能である。中でも、本発明のC3N4ナノシート複合体と樹脂とを含有する樹脂複合材料においては、本発明のC3N4ナノシート複合体が通常のC3N4と比較して層数が少ないため、その比表面積が大きく、かつ表面に吸着した前記イオン液体又は前記超酸により、有機溶媒や樹脂との親和性に優れていることから、本発明のC3N4ナノシート複合体を少量配合しただけで、樹脂複合材料の特性を向上する。
原料C3N4のX線回折(XRD)スペクトル(X線源:CuKα)における(100)面のピーク強度(I100)に対する(002)面のピーク強度(I002)の比(I002/I100)をベースラインからのピーク高さに基づいて求めた。I002/I100の値が大きいほど、原料C3N4の一次粒子の三次元的な連結構造が少ないことを示す。なお、C3N4の(100)面のX線回折ピークは2θ=約13.0°に、(002)面のX線回折ピークは2θ=約27.7°に確認される。
イオン液体を用いた実施例及びイオン液体又はイオン液体以外の溶媒を用いた比較例それぞれにおいて、得られたC3N4ナノシート含有分散液を用いてC3N4ナノシート複合体を作製する過程で、先ず、洗浄ろ過に用いた桐山漏斗(フィルター:テフロン(登録商標)製フィルター、孔径0.1μm)の質量を予め測定した。次に、前記C3N4ナノシート含有分散液を前記フィルターを用いてアセトン(C3N4ナノシート含有分散液に対して3倍量を複数回に分けて用いた)で洗浄しながら吸引ろ過し、C3N4ナノシート表面に未吸着のイオン液体を完全に除去した。次いで、洗浄ろ過後の濾滓の付いた前記フィルターについて、80℃で12時間真空乾燥を行った後の質量を測定した。この質量から前記フィルターの質量を減じ、C3N4ナノシート複合体の質量を算出した。次に、熱重量分析装置(理学電機(株)製「Thermo plus TG8120」)を用いて窒素雰囲気下、室温から100℃まで昇温し、100℃で30分間保持した後、昇温速度10℃/分で100℃から800℃まで加熱して行った熱重量分析(TGA)により、C3N4ナノシート複合体中から吸着したイオン液体を除いたC3N4ナノシートの割合を算出し、C3N4ナノシート含有分散液(イオン液体分散液)中でのC3N4ナノシートの濃度(mg/ml)及びC3N4ナノシートの収率(%)を求めた。なお、C3N4ナノシートの収率(%)は、次のように算出した。
収率(%)=100×(C3N4ナノシート複合体中から吸着したイオン液体を除いたC3N4ナノシートの質量(mg))/(原料として用いたC3N4の質量(mg))。
超酸を用いた実施例及び超酸又は超酸以外の酸を用いた比較例それぞれにおいて得られたC3N4ナノシート複合体の質量を測定し、更に熱重量分析装置(理学電機(株)製「Thermo plus TG8120」)を用いて窒素雰囲気下、室温から100℃まで昇温し、100℃で30分間保持した後、昇温速度10℃/分で100℃から800℃まで加熱して行った熱重量分析(TGA)により、C3N4ナノシート複合体中から吸着した超酸を除いたC3N4ナノシートの割合を算出してC3N4ナノシート複合体中のC3N4ナノシートの質量を求め、C3N4ナノシートの収率(%)を求めた。なお、C3N4ナノシートの収率(%)は、次のように算出した。
収率(%)=100×(得られたC3N4ナノシート複合体中のC3N4ナノシートの質量(mg))/(原料として用いたC3N4の質量(mg))。
実施例及び比較例それぞれにおいて得られたC3N4ナノシート複合体を80℃で真空乾燥を施して残留溶媒等の揮発分を除去した後、熱重量分析装置(理学電機(株)製「Thermo plus TG8120」)を用いて窒素雰囲気下、室温から100℃まで昇温し、100℃で30分間保持した後、昇温速度10℃/分で100℃から600℃まで加熱して熱重量分析(TGA)を実施した。ここで、C3N4は600℃まで重量減少を示さず、一方、イオン液体は約200℃から約600℃の範囲で重量減少を示し、また、超酸は、例えば、塩化スルホン酸は約150℃から約220℃の範囲で重量減少を示し、塩化スルホン酸と水との反応で生成し、C3N4ナノシートに吸着した硫酸は約290℃から約370℃の範囲で重量減少を示し、トリフルオロメタンスルホン酸は約160℃から約220℃の範囲で重量減少を示す。すなわち、100℃から600℃の昇温過程で観察された重量減少は、C3N4ナノシートに吸着したイオン液体又は超酸に由来するものとみなすことができる。したがって、この重量減少をC3N4ナノシート複合体におけるイオン液体又は超酸の吸着量として、C3N4ナノシート100質量部に対する量(質量部)で表した。なお、例えば、塩化スルホン酸と水との反応で生成し、そのままC3N4ナノシートに吸着した硫酸等の超酸由来化合物に由来する重量減少も超酸に由来するものとみなし、この重量減少もC3N4ナノシート複合体における超酸の吸着量として、C3N4ナノシート100質量部に対する量(質量部)で表した。
微粉砕処理を施していないC3N4のXRDスペクトル(X線源:CuKα)における(002)面のピーク強度(Ism、sm:starting material)に対するC3N4ナノシートのXRDスペクトル(X線源:CuKα)における(002)面のピーク強度(Ins、ns:nanosheet)の比(Ins/Ism)をベースラインからのピーク高さに基づいて求めた。Ins/Ismの値が小さいほど、剥離度に優れることを示す。なお、C3N4の(002)面のX線回折ピークは2θ=約27.7°に確認される。
実施例及び比較例それぞれにおいて得られたC3N4ナノシート複合体について走査型電子顕微鏡(SEM)観察を行い、得られたSEM写真において、エッジ部を観察できるC3N4ナノシート複合体を無作為に20個抽出してC3N4ナノシート部分の厚みを測定し、それらの平均値を求めた。次に、それぞれのC3N4ナノシートの厚みをC3N4ナノシート1層分の厚み(0.32nm)で除してC3N4ナノシート複合体を構成するC3N4ナノシートの層数を求めた。また、C3N4ナノシートの層数が40層以下及び20層以下であるC3N4ナノシート複合体の割合を求めた。なお、原料C3N4についても前記方法と同様にしてC3N4ナノシートの層数を求めた。
実施例及び比較例それぞれにおいて得られたC3N4ナノシート複合体について走査型電子顕微鏡(SEM)観察を行い、得られたSEM写真において、C3N4ナノシート複合体の一次粒子を無作為に20個抽出してC3N4ナノシートの一辺のサイズ(長辺の長さ)を測定し、それらの平均値を求めた。なお、原料C3N4についても前記方法と同様にしてC3N4ナノシートの一辺のサイズ(長辺の長さ)を測定し、それらの平均値を求めた。
実施例及び比較例それぞれにおいて得られたC3N4ナノシート複合体のそれぞれ4mgをイソプロパノール(IPA)4mlに添加し、これに超音波処理を30分間施してC3N4ナノシート複合体を再分散させた。得られた分散液を5時間静置することにより分散性の低いC3N4ナノシート複合体を沈殿させて取り除き、上澄み液を得た。得られた上澄み液について過剰のアセトンで洗浄しながら吸引ろ過によりIPAを完全に取り除き、更に80℃で12時間真空乾燥を施してC3N4ナノシート複合体を得た。得られたC3N4ナノシート複合体の質量(mg)を測定し、上澄み液の容量(ml)で除して、C3N4ナノシート複合体の濃度(mg/ml)を求め、C3N4ナノシート複合体の再分散性を評価した。
実施例及び比較例においては、以下に示すカーボンナイトライド(C3N4)を原料C3N4として使用した。
グラファイト状カーボンナイトライド(g−C3N4(a−1)):
Carbodeon社製「Nicanite」、純度≧99.7質量%、前記測定方法1により求めたI002/I100は5.4、前記測定方法5により求めたC3N4ナノシートの層数は約540層、前記測定方法6により求めたC3N4ナノシートの一辺のサイズは6.4μmであった。
グラファイト状カーボンナイトライド(g−C3N4(a−2)):
乳鉢に前記g−C3N4(a−1)を入れ、10分間磨り潰すことにより三次元的な連結構造を減少させたグラファイト状カーボンナイトライド(g−C3N4(a−2))を得た。このg−C3N4(a−2)について、前記測定方法1により求めたI002/I100は7.8、前記測定方法5により求めたC3N4ナノシートの層数は約500層、前記測定方法6により求めたC3N4ナノシートの一辺のサイズは5.5μmであった。
グラファイト状カーボンナイトライド(g−C3N4(a−3)):
乳鉢に前記g−C3N4(a−1)を入れ、20分間磨り潰すことにより三次元的な連結構造を減少させたグラファイト状カーボンナイトライド(g−C3N4(a−3))を得た。このg−C3N4(a−3)について、前記測定方法1により求めたI002/I100は10.0、前記測定方法5により求めたC3N4ナノシートの層数は約450層、前記測定方法6により求めたC3N4ナノシートの一辺のサイズは5.0μmであった。
実施例及び比較例においては、以下に示すイオン液体を使用した。
イオン液体(b−1):
1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスファート。
イオン液体(b−2):
1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド。
実施例及び比較例においては、以下に示す超酸を使用した。
超酸(c−1):
クロロスルホン酸(ハメットの酸度関数(H0):−13.8(25℃))。
比較例においては、イオン液体以外の溶媒として以下に示す溶媒を使用した。
イオン液体以外の溶媒:
イソプロピルアルコール。
比較例においては、超酸以外の酸として以下に示す酸を使用した。
超酸以外の酸:
98%濃硫酸(ハメットの酸度関数(H0):−10.4(25℃)。
g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体の作製:
80℃で12時間真空乾燥を施したg−C3N4(a−3:I002/I100=10.0)150mgとイオン液体(b−1:1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスファート)30mlとを混合し、得られた混合物に超音波処理(BRANSON社製卓上型超音波洗浄機「BRANSONIC B−220」を使用、発振周波数45kHz)を8時間施して分散液を得た。この分散液に遠心分離(3000rpm、相対遠心加速度1220G、20分間)を施し、得られた上澄み液を回収し、g−C3N4ナノシートがイオン液体に分散したg−C3N4ナノシート含有分散液を得た。
g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体の作製:
g−C3N4(a−3:I002/I100=10.0)の代わりにg−C3N4(a−2:I002/I100=7.8)を用いた以外は実施例1と同様にして、g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体を得た。得られたg−C3N4ナノシート含有分散液について、前記測定方法2−1に従ってg−C3N4ナノシートの濃度及びg−C3N4ナノシートの収率を求めた。また、得られたg−C3N4ナノシート複合体について、前記測定方法3に従ってイオン液体の吸着量を測定し、前記測定方法4〜6に従ってg−C3N4(a−1)に対するg−C3N4ナノシートの剥離度、層数、一辺の長さを測定し、前記測定方法7に従ってg−C3N4ナノシート複合体の再分散性を評価した。それらの結果を表1に示す。
g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体の作製:
イオン液体(b−1:1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスファート)の代わりにイオン液体(b−2:1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミド)を用いた以外は実施例1と同様にして、g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体を得た。得られたg−C3N4ナノシート含有分散液について、前記測定方法2−1に従ってg−C3N4ナノシートの濃度及びg−C3N4ナノシートの収率を求めた。また、得られたg−C3N4ナノシート複合体について、前記測定方法3に従ってイオン液体の吸着量を測定し、前記測定方法4〜6に従ってg−C3N4(a−1)に対するg−C3N4ナノシートの剥離度、層数、一辺の長さを測定し、前記測定方法7に従ってg−C3N4ナノシート複合体の再分散性を評価した。それらの結果を表1に示す。
g−C3N4ナノシート複合体含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体の作製:
80℃で12時間真空乾燥を施したg−C3N4(a−3:I002/I100=10.0)100mgを100mlの二口フラスコに入れ、500℃で1時間フレームドライを施して水分を除去した後、窒素雰囲気下で超酸(c−1:クロロスルホン酸)20mlを滴下し、これに窒素雰囲気下で超音波処理(BRANSON社製卓上型超音波洗浄機「BRANSONIC B−220」を使用、発振周波数45kHz)を8時間施してg−C3N4ナノシートが超酸に分散したg−C3N4ナノシート含有分散液を得た。
g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体の作製:
g−C3N4(a−3:I002/I100=10.0)の代わりにg−C3N4(a−1:I002/I100=5.4)を用いた以外は実施例1と同様にして、g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体を得た。得られたg−C3N4ナノシート含有分散液について、前記測定方法2−1に従ってg−C3N4ナノシートの濃度及びg−C3N4ナノシートの収率を求めた。また、得られたg−C3N4ナノシート複合体について、前記測定方法3に従ってイオン液体の吸着量を測定し、前記測定方法4〜6に従ってg−C3N4(a−1)に対するg−C3N4ナノシートの剥離度、層数、一辺の長さを測定し、前記測定方法7に従ってg−C3N4ナノシート複合体の再分散性を評価した。それらの結果を表1に示す。
g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体の作製:
g−C3N4(a−3:I002/I100=10.0)の代わりにg−C3N4(a−1:I002/I100=5.4)を用いた以外は実施例3と同様にして、g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体を得た。得られたg−C3N4ナノシート含有分散液について、前記測定方法2−1に従ってg−C3N4ナノシートの濃度及びg−C3N4ナノシートの収率を求めた。また、得られたg−C3N4ナノシート複合体について、前記測定方法3に従ってイオン液体の吸着量を測定し、前記測定方法4〜6に従ってg−C3N4(a−1)に対するg−C3N4ナノシートの剥離度、層数、一辺の長さを測定し、前記測定方法7に従ってg−C3N4ナノシート複合体の再分散性を評価した。それらの結果を表1に示す。
g−C3N4ナノシート複合体含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体の作製:
g−C3N4(a−3:I002/I100=10.0)の代わりにg−C3N4(a−1:I002/I100=5.4)を用いた以外は実施例4と同様にして、g−C3N4ナノシート複合体含有分散液及びg−C3N4ナノシート複合体を得た。得られたg−C3N4ナノシート複合体について、前記測定方法2−2に従ってg−C3N4ナノシートの収率を求め、前記測定方法3に従って超酸及び超酸由来化合物の吸着量を測定し、前記測定方法4〜6に従ってg−C3N4(a−1)に対するg−C3N4ナノシートの剥離度、層数、一辺の長さを測定し、前記測定方法7に従ってg−C3N4ナノシート複合体の再分散性を評価した。それらの結果を表1に示す。
g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシートの作製:
イオン液体(b−1:1−ブチル−3−メチルイミダゾリウムヘキサフルオロホスファート)の代わりにイソプロピルアルコール(IPA)を用いた以外は実施例1と同様にして、g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシートを得た。得られたg−C3N4ナノシートについて熱重量分析を行なったところ、g−C3N4ナノシートへのIPAの吸着は確認されなかった。得られたg−C3N4ナノシート含有分散液について、前記測定方法2−1に従ってg−C3N4ナノシートの濃度及びg−C3N4ナノシートの収率を求めた。また、得られたg−C3N4ナノシートについて、前記測定方法4〜6に従ってg−C3N4(a−1)に対するg−C3N4ナノシートの剥離度、層数、一辺の長さを測定し、前記測定方法7に従ってg−C3N4ナノシートの再分散性を評価した。それらの結果を表1に示す。
g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシートの作製:
g−C3N4(a−3:I002/I100=10.0)の代わりにg−C3N4(a−1:I002/I100=5.4)を用いた以外は比較例4と同様にして、g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシートを得た。得られたg−C3N4ナノシートについて熱重量分析を行なったところ、g−C3N4ナノシートへのIPAの吸着は確認されなかった。得られたg−C3N4ナノシート含有分散液について、前記測定方法2−1に従ってg−C3N4ナノシートの濃度及びg−C3N4ナノシートの収率を求めた。また、得られたg−C3N4ナノシートについて、前記測定方法4〜6に従ってg−C3N4(a−1)に対するg−C3N4ナノシートの剥離度、層数、一辺の長さを測定し、前記測定方法7に従ってg−C3N4ナノシート複合体の再分散性を評価した。それらの結果を表1に示す。
g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシートの作製:
80℃で12時間真空乾燥を施したg−C3N4(a−3:I002/I100=10.0)100mgを100mlの二口フラスコに入れ、窒素雰囲気下で98%濃硫酸20mlを滴下し、これに窒素雰囲気下で超音波処理(BRANSON社製卓上型超音波洗浄機「BRANSONIC B−220」を使用、発振周波数45kHz)を8時間施してg−C3N4ナノシートが濃硫酸に分散したg−C3N4ナノシート含有分散液を得た。
g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシートの作製:
g−C3N4(a−3:I002/I100=10.0)の代わりにg−C3N4(a−1:I002/I100=5.4)を用いた以外は比較例6と同様にして、g−C3N4ナノシート含有分散液及びg−C3N4ナノシートを得た。得られたg−C3N4ナノシートについて熱重量分析を行なったところ、g−C3N4ナノシートへの濃硫酸の吸着は確認されなかった。得られたg−C3N4ナノシートについて、前記測定方法2−2に従ってg−C3N4ナノシートの収率を求め、前記測定方法4〜6に従ってg−C3N4(a−1)に対するg−C3N4ナノシートの剥離度、層数、一辺の長さを測定し、前記測定方法7に従ってg−C3N4ナノシート複合体の再分散性を評価した。それらの結果を表1に示す。
表1に示した実施例1〜3と比較例1〜2の結果から明らかなように、原料C3N4として、XRDスペクトルにおける(100)面のピーク強度(I100)に対する(002)面のピーク強度(I002)の比(I002/I100)が6.0以上のC3N4を用いることによって、I002/I100が6.0未満のC3N4を用いた場合に比べて、イオン液体中での超音波処理においてC3N4ナノシートへのイオン液体の吸着とそれに続く層間剥離とが効率的に進行し、C3N4ナノシートが比較的高濃度でイオン液体中に分散したC3N4ナノシート含有分散液が得られることがわかった。また、このC3N4ナノシート含有分散液から未吸着のイオン液体を除去して得られるC3N4ナノシート複合体は、収率が高く、C3N4ナノシートの剥離度に優れており、層数が少なく、一辺の長さが大きく、IPAへの再分散性に優れたものであることもわかった。
Claims (4)
- X線回折スペクトルにおける(100)面のピーク強度(I100)に対する(002)面のピーク強度(I002)の比(I002/I100)が6以上であるカーボンナイトライドとイオン液体とを混合し、前記カーボンナイトライドの層間を剥離せしめてカーボンナイトライドナノシートを得ると共に該カーボンナイトライドナノシートにイオン液体を吸着させる剥離吸着工程を含むことを特徴とするカーボンナイトライドナノシート複合体の製造方法。
- 前記カーボンナイトライドとイオン液体とを混合する際に、前記イオン液体の存在下で前記カーボンナイトライドに超音波処理、撹拌処理及び粉砕処理からなる群から選択される少なくとも一種の層間剥離処理を施すことを特徴とする請求項1に記載のカーボンナイトライドナノシート複合体の製造方法。
- X線回折スペクトルにおける(100)面のピーク強度(I100)に対する(002)面のピーク強度(I002)の比(I002/I100)が6以上であるカーボンナイトライドと超酸とを混合し、前記カーボンナイトライドの層間を剥離せしめてカーボンナイトライドナノシートを得ると共に該カーボンナイトライドナノシートに超酸を吸着させる剥離吸着工程を含むことを特徴とするカーボンナイトライドナノシート複合体の製造方法。
- 前記カーボンナイトライドと超酸とを混合する際に、前記超酸の存在下で前記カーボンナイトライドに超音波処理、撹拌処理及び粉砕処理からなる群から選択される少なくとも一種の層間剥離処理を施すことを特徴とする請求項3に記載のカーボンナイトライドナノシート複合体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016117781A JP6774643B2 (ja) | 2016-06-14 | 2016-06-14 | カーボンナイトライドナノシート複合体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017222530A JP2017222530A (ja) | 2017-12-21 |
JP6774643B2 true JP6774643B2 (ja) | 2020-10-28 |
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ID=60687602
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6774643B2 (ja) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109012727B (zh) * | 2018-08-08 | 2021-03-23 | 南京晓庄学院 | 一种半金属性c4n3纳米板及其制备方法和应用 |
CN109205580A (zh) * | 2018-11-12 | 2019-01-15 | 青岛科技大学 | 一种球磨剥离石墨相氮化碳的方法 |
CN111450861B (zh) * | 2019-01-22 | 2023-04-11 | 阜阳师范学院 | 包含g-C3N4B和金属氧化物的复合光催化剂及其在燃油脱氮中应用 |
CN109761207B (zh) * | 2019-01-30 | 2022-06-21 | 江苏大学 | 一种3d石墨相氮化碳材料及其制备方法 |
CN111659453B (zh) * | 2020-07-17 | 2023-06-06 | 煤炭科学技术研究院有限公司 | 一种可见光-臭氧协同催化的催化剂及其制备方法 |
CN112047311A (zh) * | 2020-09-09 | 2020-12-08 | 天津工业大学 | 一种石墨相氮化碳的剥离方法 |
CN112409840A (zh) * | 2020-10-12 | 2021-02-26 | 南昌航空大学 | 一种碳化硅/氮化碳复合增强导热防水薄膜及其制备方法 |
CN112897484B (zh) * | 2021-01-14 | 2023-10-31 | 华南理工大学 | 一种无缺陷的g-C3N4纳米片、二维g-C3N4纳米片膜及制备方法与应用 |
CN113460979B (zh) * | 2021-06-16 | 2022-09-13 | 嘉兴学院 | 一种石墨相氮化碳的溶解方法 |
CN113354868A (zh) * | 2021-06-17 | 2021-09-07 | 中山大学 | 一种负载磷掺杂聚吡咯的氮化碳纳米复合材料及其制备方法与应用 |
CN113897645B (zh) * | 2021-11-18 | 2023-05-19 | 中国兵器工业第五九研究所 | 一种耐腐蚀除污镀层的制备方法 |
CN115819825B (zh) * | 2022-12-06 | 2023-07-14 | 湖北大学 | 一种导电多孔聚合物水凝胶的制备方法、电极、电化学传感器及应用 |
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JP2017222530A (ja) | 2017-12-21 |
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