JP6770165B1 - 研磨方法、機械装置の製造方法および機械装置 - Google Patents
研磨方法、機械装置の製造方法および機械装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6770165B1 JP6770165B1 JP2019230213A JP2019230213A JP6770165B1 JP 6770165 B1 JP6770165 B1 JP 6770165B1 JP 2019230213 A JP2019230213 A JP 2019230213A JP 2019230213 A JP2019230213 A JP 2019230213A JP 6770165 B1 JP6770165 B1 JP 6770165B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- fullerene
- sliding portion
- abrasive composition
- solvent
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005498 polishing Methods 0.000 title claims abstract description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 35
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 8
- XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N C60 fullerene Chemical compound C12=C3C(C4=C56)=C7C8=C5C5=C9C%10=C6C6=C4C1=C1C4=C6C6=C%10C%10=C9C9=C%11C5=C8C5=C8C7=C3C3=C7C2=C1C1=C2C4=C6C4=C%10C6=C9C9=C%11C5=C5C8=C3C3=C7C1=C1C2=C4C6=C2C9=C5C3=C12 XMWRBQBLMFGWIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 158
- 229910003472 fullerene Inorganic materials 0.000 claims abstract description 156
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 104
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 52
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 31
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 31
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 21
- 239000002480 mineral oil Substances 0.000 claims description 15
- 235000010446 mineral oil Nutrition 0.000 claims description 15
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 15
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 claims description 12
- 238000007865 diluting Methods 0.000 claims description 11
- 239000003921 oil Substances 0.000 claims description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 10
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 claims description 6
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 claims description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 abstract 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 16
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 12
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 11
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 10
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 10
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 7
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 6
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 6
- 239000002199 base oil Substances 0.000 description 5
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 polyoxyethylene Polymers 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- 239000012047 saturated solution Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 229920013639 polyalphaolefin Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000010696 ester oil Substances 0.000 description 2
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- 241001422033 Thestylus Species 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 1
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 230000001050 lubricating effect Effects 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1409—Abrasive particles per se
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B37/00—Lapping machines or devices; Accessories
- B24B37/04—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces
- B24B37/042—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor
- B24B37/044—Lapping machines or devices; Accessories designed for working plane surfaces operating processes therefor characterised by the composition of the lapping agent
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B32/00—Carbon; Compounds thereof
- C01B32/15—Nano-sized carbon materials
- C01B32/152—Fullerenes
- C01B32/156—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09G—POLISHING COMPOSITIONS; SKI WAXES
- C09G1/00—Polishing compositions
- C09G1/02—Polishing compositions containing abrasives or grinding agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M125/00—Lubricating compositions characterised by the additive being an inorganic material
- C10M125/02—Carbon; Graphite
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
- C09K3/14—Anti-slip materials; Abrasives
- C09K3/1454—Abrasive powders, suspensions and pastes for polishing
- C09K3/1463—Aqueous liquid suspensions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2201/00—Inorganic compounds or elements as ingredients in lubricant compositions
- C10M2201/04—Elements
- C10M2201/041—Carbon; Graphite; Carbon black
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10M—LUBRICATING COMPOSITIONS; USE OF CHEMICAL SUBSTANCES EITHER ALONE OR AS LUBRICATING INGREDIENTS IN A LUBRICATING COMPOSITION
- C10M2207/00—Organic non-macromolecular hydrocarbon compounds containing hydrogen, carbon and oxygen as ingredients in lubricant compositions
- C10M2207/28—Esters
- C10M2207/283—Esters of polyhydroxy compounds
- C10M2207/2835—Esters of polyhydroxy compounds used as base material
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2020/00—Specified physical or chemical properties or characteristics, i.e. function, of component of lubricating compositions
- C10N2020/01—Physico-chemical properties
- C10N2020/055—Particles related characteristics
- C10N2020/06—Particles of special shape or size
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2030/00—Specified physical or chemical properties which is improved by the additive characterising the lubricating composition, e.g. multifunctional additives
- C10N2030/06—Oiliness; Film-strength; Anti-wear; Resistance to extreme pressure
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C10—PETROLEUM, GAS OR COKE INDUSTRIES; TECHNICAL GASES CONTAINING CARBON MONOXIDE; FUELS; LUBRICANTS; PEAT
- C10N—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASS C10M RELATING TO LUBRICATING COMPOSITIONS
- C10N2040/00—Specified use or application for which the lubricating composition is intended
- C10N2040/20—Metal working
- C10N2040/22—Metal working with essential removal of material, e.g. cutting, grinding or drilling
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Lubricants (AREA)
Abstract
Description
[1]フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、前記溶媒は、鉱油または化学合成油である研磨方法。
[2]フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、前記研磨剤組成物は、前記研磨を開始する前に前記フラーレン凝集粒を含まない研磨方法。
[3]フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、前記研磨剤組成物は、前記研磨中に、前記摺動部の面粗さが、目標値より大きい場合に前記フラーレンの凝集粒が生成し、目標値以下である場合に前記フラーレンの凝集粒が生成しないように、前記フラーレンの濃度が調整されている研磨方法。
[4]フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、前記研磨を開始した後、前記研磨剤組成物中に前記フラーレン凝集粒が生成しなくなるまで前記研磨を行う研磨方法。
[5]フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、前記摺動部に付加した研磨剤組成物を、希釈溶媒で希釈し、前記フラーレンの濃度を下げることにより前記研磨を終了する研磨方法。
[6]前記希釈溶媒は、前記研磨剤組成物に含まれる溶媒と同一である前項[5]に記載の研磨方法。
[7]前記研磨剤組成物中の前記フラーレンの濃度は、飽和溶解度の1/50〜1倍である前項[1]〜[6]のいずれかに記載の研磨方法。
[8]前記摺動部の材質が樹脂を含む前項[1]〜[7]のいずれかに記載の研磨方法。
[9]前記摺動部の材質が金属を含む前項[1]〜[8]のいずれかに記載の研磨方法。
[10]前項[1]〜[9]のいずれかに記載の研磨方法で研磨する工程を含む機械装置の製造方法。
[11]摺動部を有し、前記摺動部にフラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物が付加されており、前記摺動部が摺動すると、前項[3]または[4]に記載の研磨方法による研磨が行われ、前記研磨が終了した後、前記研磨剤組成物が前記摺動部の潤滑油として使用される、状態になっている機械装置。
本実施形態の研磨方法は、フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する。
摺動させることにより、前記研磨剤組成物中に研磨剤粒子になりうるフラーレン凝集粒が生じる。これは、前記摺動部の対向する2つの面間に圧力がかかると前記研磨剤組成物中のフラーレンが圧力晶析するためフラーレン凝集粒が生成したと考えられる。前記研磨剤組成物中のフラーレン濃度が飽和溶解度未満であれば、生成した凝集粒はやがて再溶解し消滅する。これらのことは、後述する参考例でも確認された。
前記研磨剤組成物は、フラーレン及びその溶媒を含む。前記研磨剤組成物中のフラーレン濃度は、前記圧力晶析でフラーレン凝集粒が得られる濃度であればよく、好ましくは所望する研磨が可能な量のフラーレン凝集粒が得られる濃度である。
前記研磨剤組成物中のフラーレンは、種々のものを用いることができる。フラーレンとしては、例えば、比較的入手しやすいC60やC70、さらに高次のフラーレン、あるいはそれらの混合物が挙げられる。フラーレンの中でも、基油への溶解性や入手性の観点からC60及びC70が好ましく、基油への着色が少なく得られる研磨剤組成物の劣化を色で判断しやすい観点からC60がより好ましい。混合物の場合は、C60が50質量%以上に含まれることが好ましい。
前記溶媒は、フラーレンの溶媒であり、すなわち、フラーレンを溶解可能なものであればよい。前記溶媒は、機械装置の摺動部に用いる観点から、潤滑油またはその基油が好ましく、例えば、鉱油や化学合成油が挙げられる。より具体的には、鉱油としては、パラフィン系油、ナフテン系油等が挙げられ、合成油としては、合成炭化水素油、エーテル油、エステル油等が挙げられ、より好ましくは、フラーレンの溶解性の観点から、ナフテン系油、エーテル油、エステル油が好ましい。これら溶媒は、1種を単独で用いてもよく、これらの中から選ばれる2種以上を任意の割合で混合して用いてもよい。
前述の通りフラーレン凝集粒の生成は種々の条件で制御できる。例えば、研磨中はフラーレン凝集粒を生成させ、研磨終了後はフラーレン凝集粒を生成させないようにする。この場合、研磨終了後にフラーレン凝集粒が生成しないので、研磨剤組成物をそのまま、あるいは溶媒(以下「希釈溶媒」ということがある。)で希釈した状態で、潤滑剤として使用することもできる。なお、希釈溶媒としては、前述した研磨剤組成物に用いる溶媒と同種のものが好ましい。前記潤滑剤として使用する場合、研磨組成物中の溶媒及び希釈溶媒は、良好な潤滑特性を得る観点から、前述の潤滑油またはその基油であることが好ましい。より詳細な例示を以下に挙る。
摺動面の面粗さが荒いほど、摺動中に高い圧力のかかる部分が多くなるので、圧力晶析でフラーレン凝集粒が生じやすく、研磨速度は速くなる。一方、滑らかな摺動面であると、前記と逆の理由からフラーレン凝集粒を生じさせることなく、前記研磨剤組成物を潤滑油として使用することもできる。
前記摺動部に付加した研磨剤組成物を、希釈溶媒で希釈し、得られる希釈物中のフラーレン濃度をフラーレン凝集粒が生じない程度まで下げ(例えば、飽和溶解度の1/50未満)とし、研磨を終了させる。なお、フラーレン濃度を飽和溶解度を基準に表す場合、前記研磨剤組成物中の濃度であれば該研磨剤組成物における飽和溶解度を1とし、前記希釈物中の濃度であれば該希釈物における飽和溶解度を1とする。
前記希釈溶媒は、前記研磨組成物中の溶媒と同成分であると、希釈倍率に比例して飽和溶解度に対するフラーレン濃度を下げられるので好ましい。前記希釈溶媒として、前記研磨組成物中の溶媒と異なるものを用いる場合は、前記希釈溶媒の溶解性が、前記研磨剤組成物中の溶媒の溶解性と同じまたはそれ以上であれば、希釈倍率に相当する比率以上に飽和溶解度に対するフラーレン濃度を下げられるので好ましい。
摺動部を有する機械装置の製造工程において、上述の研磨方法は前記摺動部の研磨に好ましく適用できる。
本実施形態の機械装置は、摺動部を有し、フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物が前記摺動部に付加されている。前記機械装置は、前記摺動部が摺動すると研磨が行われる。この研磨は、前述の「面粗さによる研磨終了」で述べたように、研磨を続けると自動的に研磨が終了し、研磨終了後は前記研磨剤組成物が前記摺動部の潤滑剤として使用される状態としてもよい。例えば、研磨前の前記状態で出荷し、ユーザーが使用開始後、前記摺動部の研磨が完了し、本来の性能の機械装置として完成するようにしてもよい。
(フラーレンの濃度の測定)
高速液体クロマトグラフ(アジレント・テクノロジー株式会社製 1200シリーズ)を用い、以下の条件で、研磨剤組成物等の試料中のフラーレンの量を定量した。
カラム:株式会社ワイエムシィ製 YMC−Pack ODS−AM(150mm×4.6mm)
展開溶媒:トルエンとメタノールの1:1(体積比)混合物
検出:吸光度(波長309nm)
なお、試料中に固形分が含まれる場合は、あらかじめ孔径0.1μmのメンブランフィルターでろ過し固形分を除去した。また、検量線は、試料作製に用いたフラーレンにより作成した。
飽和溶解度を測定するフラーレン及び液体試料を用意し、前記液体試料10gに、前記フラーレンを混合し、室温にて、マグネチックスターラーを用いて36時間撹拌した。続いて、この混合液を孔径0.1μmのメンブレンフィルターで濾過し、濾液を得た。この濾液中のフラーレン濃度を測定した。この測定を、異なるフラーレンの混合量で数点実施した。
触針式表面荒さ計Alpha−Step D−500を用いて、測定長さ1mmでのRz(最大高さ粗さ)を、測定面内の任意の5個所で計測し、合計5回の測定値の算術平均値を表面平滑度とした。
試料10gを孔径0.1μmメンブランフィルターで濾過し、該メンブランフィルター上に残るフラーレン凝集粒の個数を数えた。
なお、試料中のフラーレン濃度が飽和溶解度以下の場合、経時的にフラーレン凝集粒は減少するので、可能な限り前記濾過までの操作を素早く行った。そのようにしても、得られる数値の精度は高くないので各表中には桁数を示した。
溶媒として鉱油(出光興産社製、ダイアナフレシアP−46)100gに、フラーレン(C60、フロンティアカーボン社製、nanom purple ST)1gを混合し、室温にて、スターラーを用いて36時間撹拌した。続いて、孔径0.1μmのメンブレンフィルターでろ過し、飽和溶液を調製した。飽和溶液中のフラーレン濃度は、0.3%であった。
試料として前記飽和溶液を充填した圧力セルをシンテック製アンビルに設置した。圧力を加える前は、顕微鏡画像には、固形物は確認できなかった。次にわずかに圧力(<0.01GPa)を加えると、固形物が確認された。次に、圧力を下げ、常圧にまで戻すと、固形物は徐々に消失し10分後には無くなった。
試料として前記飽和溶液の1質量部と前記鉱油の49質量部との混合物を得た。この試料中のフラーレン濃度は飽和溶解度の1/50である。前記試料を充填した圧力セルをシンテック製アンビルに設置した。圧力を加える前は、顕微鏡画像には、固形物は確認できなかった。次に圧力徐々に加えたところ、約1GPaで固形物が確認された。次に、圧力を下げ、常圧にまで戻すと、固形物は直ちに消失した。
(研磨剤組成物の作製)
溶媒として鉱油(出光興産社製、ダイアナフレシアP−46)100gに、フラーレン(C60、フロンティアカーボン社製、NP−ST)0.07gを混合し、室温にて、マグネチックスターラーを用いて24時間撹拌した。続いて、この混合物を孔径0.1μmのメンブレンフィルターで濾過し、濾液を得た。
前記濾液中のフラーレン濃度は、0.06質量%であった。また、前記鉱油に対する前記フラーレンの飽和溶解度は0.3%であったので、前記濾液中のフラーレン濃度は、飽和溶解度の1/5に相当する。
実施例1では、得られた前記濾液を研磨剤組成物とし、次の研磨工程で使用した。
また、実施例2〜5では、前記濾液を前記鉱油で希釈し、表1に示すフラーレン濃度としたものを研磨剤組成物とし、次の研磨工程で使用した。
得られた研磨剤組成物中のフラーレン凝集粒を確認したところ、実施例1〜5のいずれでも0個であった。この結果を表1に示した。
次に、図1に示すように、摩擦摩耗試験機1(Anton Paar社製、製品名:ボールオンディスクトライボメーター)を用いて、円筒形の金属ピン2(材質SUJ、直径2mm、長さ20mm)の端面を、金属基板4(材質SUJ2、直径25mm、厚さ5mm)に押し当て、両者の接触面を摺動面3とした。摩擦試験装置1に取り付けられたシャーレ5の中に金属基板4が取り付けられている。
あらかじめ、金属基板4の接触面となる部分の研磨前の表面平滑度を測定した。結果を表1に示した。
次に、シャーレ5に研磨剤組成物6を50g入れた。この状態では、金属基板4は研磨剤組成物6中に沈んでいる。これは、機械装置の摺動部分に研磨剤組成物を付加した状態に相当する。
また、摩擦摩耗試験機装置1から取り出した金属基板4の前記摺動面の研磨後の表面平滑度を測定した。結果を表1に示した。
次に、シャーレ5内の研磨剤組成物6を、5g残してスポイトを用いて取り除いた。次に、金属基板4を、摩擦摩耗試験機1のシャーレ5内に再度取り付けた。
フラーレン濃度0の研磨剤組成物、すなわち鉱油(出光興産社製、ダイアナフレシアP−46)を研磨剤組成物として用いたことを除き、実施例1と同様に操作及び測定を行った。結果を表1に示した。
実施例1では、希釈後もフラーレン凝集粒が残っていたために、実施例2よりも平均振幅が若干大きくなったものと考えられる。ただし、希釈倍率以上にフラーレン凝集粒は減少した。また、このように残存するフラーレン凝集粒であっても、後述する実施例11で示したように消失させることもできる。
研磨剤組成物または希釈物は、フラーレン凝集粒を含まなくなれば、潤滑剤として作用することになる。
(研磨剤組成物の作製)
溶媒としてポリオキシエチレン(日油株式会社製、ポリオールエステル型、ユニスターH−334R)100gに、フラーレン(C60,C70及びより高次のフラーレンを含む混合物、フロンティアカーボン社製、nanom mix ST)0.3gを混合し、室温にて、マグネチックスターラーを用いて24時間撹拌した。続いて、この混合物を孔径0.1μmのメンブレンフィルターで濾過し、濾液を得た。
前記濾液中のフラーレン濃度は、0.1質量%であった。また、前記ポリオキシエチレン(以下、「POE」ということがある。)に対する前記フラーレンの飽和溶解度は0.1質量%であった。
得られた研磨剤組成物中のフラーレン凝集粒を確認したところ、いずれの実施例でも0個であった。この結果を表2に示した。
次に、実施例1と同様の操作及び測定で研磨工程を行った。結果を表2に示した。
次に、希釈溶媒として鉱油に代えてポリ−α−オレフィン(以下「PAO」ということがある。)(JX日鋼日石株式会社製)を用いたことを除き、実施例1と同様の操作及び測定で振動試験を行った。また、POE1質量部及びPAO9質量部の混合物に対する前記フラーレンの飽和溶解度は0.2質量%であった。結果を表2に示した。
フラーレン濃度0の研磨剤組成物、すなわちポリオキシエチレン(日油株式会社製、ポリオールエステル型、ユニスターH−334R)を研磨剤組成物として用いたことを除き、実施例6と同様に操作及び測定を行った。結果を表2に示した。
実施例2で、円筒形の金属ピン2の材質をSUJ2に代えてアルミニウムAC8としたことを除き、実施例2と同様に操作及び測定を行った。結果を表3に示した。
フラーレン濃度0の研磨剤組成物、すなわち前記鉱油を研磨剤組成物として用いたことを除き、実施例9と同様に操作及び測定を行った。結果を表3に示した。
実施例2で、円筒形の金属ピン2の材質をSUJ2に代えてテフロン(登録商標)としたこと、及び、金属基板4の材質をSUJ2に代えてチタンとしたこと、を除き実施例2と同様に操作及び測定を行った。結果を表4に示した。
フラーレン濃度0の研磨剤組成物、すなわち前記溶媒を研磨剤組成物として用いたことを除き、実施例10と同様に操作及び測定を行った。結果を表4に示した。
振動試験で測定する摺動距離の範囲を表5に示した範囲としたことを除き、実施例1と同様に振動試験を行った。結果を表5に示した。
研磨工程から振動試験に移る際に、研磨剤組成物を希釈せずにそのまま振動試験を行ったこと、及び、振動試験で測定する摺動距離の範囲を表6に示した範囲としたこと、を除き実施例4と同様に振動試験を行った。すなわち、実施例12の振動試験では、実質的に研磨工程が継続されたことになる。結果を表6に示した。
逆に、目標とする面粗さとなっていない限り、フラーレン凝集粒は生成し続けるので、その間、安定に研磨ができる。なお、研磨終了後の研磨剤組成物は、前述の通り潤滑剤として作用することになる。
2 金属ピン
3 摺動面
4 金属基板
5 シャーレ
6 研磨剤組成物または希釈物
7 アコースティックエミッション装置の検出部
Claims (11)
- フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、
前記溶媒は、鉱油または化学合成油である研磨方法。 - フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、
前記研磨剤組成物は、前記研磨を開始する前に前記フラーレン凝集粒を含まない研磨方法。 - フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、
前記研磨剤組成物は、前記研磨中に、前記摺動部の面粗さが、目標値より大きい場合に前記フラーレンの凝集粒が生成し、目標値以下である場合に前記フラーレンの凝集粒が生成しないように、前記フラーレンの濃度が調整されている研磨方法。 - フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、
前記研磨を開始した後、前記研磨剤組成物中に前記フラーレン凝集粒が生成しなくなるまで前記研磨を行う研磨方法。 - フラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物を、摺動部を有する機械装置の前記摺動部に付加した状態で、前記摺動部を摺動させることによりフラーレン凝集粒を生成させ、前記摺動部を研磨する方法であって、
前記摺動部に付加した研磨剤組成物を、希釈溶媒で希釈し、前記フラーレンの濃度を下げることにより、前記研磨を終了する研磨方法。 - 前記希釈溶媒は、前記研磨剤組成物に含まれる溶媒と同一である請求項5に記載の研磨方法。
- 前記研磨剤組成物中の前記フラーレンの濃度は、飽和溶解度の1/50〜1倍である請求項1〜6のいずれかに記載の研磨方法。
- 前記摺動部の材質が樹脂を含む請求項1〜7のいずれかに記載の研磨方法。
- 前記摺動部の材質が金属を含む請求項1〜8のいずれかに記載の研磨方法。
- 請求項1〜9のいずれかに記載の研磨方法で研磨する工程を含む機械装置の製造方法。
- 摺動部を有し、
前記摺動部にフラーレン及びその溶媒を含む研磨剤組成物が付加されており、
前記摺動部が摺動すると、請求項3または4に記載の研磨方法による研磨が行われ、
前記研磨が終了した後、前記研磨剤組成物が前記摺動部の潤滑油として使用される、状態になっている機械装置。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019230213A JP6770165B1 (ja) | 2019-12-20 | 2019-12-20 | 研磨方法、機械装置の製造方法および機械装置 |
EP20902230.0A EP4079450A4 (en) | 2019-12-20 | 2020-04-27 | POLISHING METHOD, MECHANICAL DEVICE MANUFACTURING METHOD AND MECHANICAL DEVICE |
CN202080087906.5A CN114829066B (zh) | 2019-12-20 | 2020-04-27 | 研磨方法、机械装置的制造方法及机械装置 |
PCT/JP2020/017953 WO2021124597A1 (ja) | 2019-12-20 | 2020-04-27 | 研磨方法、機械装置の製造方法及び機械装置 |
US17/757,384 US20230033337A1 (en) | 2019-12-20 | 2020-04-27 | Polishing method, machine device manufacturing method, and machine device |
JP2020159267A JP7456343B2 (ja) | 2019-12-20 | 2020-09-24 | レシプロエンジンまたはトランスミッション |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019230213A JP6770165B1 (ja) | 2019-12-20 | 2019-12-20 | 研磨方法、機械装置の製造方法および機械装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020159267A Division JP7456343B2 (ja) | 2019-12-20 | 2020-09-24 | レシプロエンジンまたはトランスミッション |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP6770165B1 true JP6770165B1 (ja) | 2020-10-14 |
JP2021098240A JP2021098240A (ja) | 2021-07-01 |
Family
ID=72745123
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019230213A Active JP6770165B1 (ja) | 2019-12-20 | 2019-12-20 | 研磨方法、機械装置の製造方法および機械装置 |
JP2020159267A Active JP7456343B2 (ja) | 2019-12-20 | 2020-09-24 | レシプロエンジンまたはトランスミッション |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020159267A Active JP7456343B2 (ja) | 2019-12-20 | 2020-09-24 | レシプロエンジンまたはトランスミッション |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20230033337A1 (ja) |
EP (1) | EP4079450A4 (ja) |
JP (2) | JP6770165B1 (ja) |
CN (1) | CN114829066B (ja) |
WO (1) | WO2021124597A1 (ja) |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4126186B2 (ja) * | 2001-11-20 | 2008-07-30 | 株式会社日立製作所 | 研磨用組成物、砥粒、それらの製造方法、研磨方法及び半導体装置の製造方法 |
US9278424B2 (en) * | 2003-03-25 | 2016-03-08 | Nexplanar Corporation | Customized polishing pads for CMP and methods of fabrication and use thereof |
JP2005146036A (ja) * | 2003-11-12 | 2005-06-09 | Sanwa Kenma Kogyo Kk | 精密研磨剤 |
JP2005223278A (ja) * | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Rohm Co Ltd | 研磨剤及び研磨剤の製造方法 |
JP2005320475A (ja) * | 2004-05-11 | 2005-11-17 | Hitachi Maxell Ltd | 研磨組成物 |
CN1789365A (zh) * | 2004-12-16 | 2006-06-21 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 抛光磨料及其制造方法 |
JPWO2007020939A1 (ja) * | 2005-08-16 | 2009-02-26 | ビタミンC60バイオリサーチ株式会社 | 研磨スラリー |
JP2008266501A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Sumikou Junkatsuzai Kk | エンジンオイル用添加剤組成物 |
CN105368397B (zh) * | 2008-04-23 | 2017-11-03 | 日立化成株式会社 | 研磨剂、研磨剂组件及使用该研磨剂的基板研磨方法 |
JP5244891B2 (ja) * | 2010-11-10 | 2013-07-24 | Ntn株式会社 | 潤滑油組成物およびその製造方法、グリース組成物およびその製造方法、転がり軸受、および酸化防止剤 |
JP2012248594A (ja) * | 2011-05-26 | 2012-12-13 | Kyushu Institute Of Technology | 研磨剤 |
KR20140019372A (ko) * | 2011-06-03 | 2014-02-14 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 연마제 및 연마 방법 |
JP5442892B1 (ja) * | 2013-07-03 | 2014-03-12 | 三島光産株式会社 | 精密研磨方法 |
WO2017141825A1 (ja) * | 2016-02-19 | 2017-08-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 冷媒圧縮機およびそれを用いた冷凍装置 |
JP6819280B2 (ja) * | 2016-12-27 | 2021-01-27 | Jsr株式会社 | 化学機械研磨用組成物および化学機械研磨方法 |
JP2018168356A (ja) | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 昭和電工株式会社 | 潤滑油組成物及びその製造方法 |
KR20190142930A (ko) * | 2018-06-19 | 2019-12-30 | 삼성전자주식회사 | 수산화 플러렌 분산액 및 그 제조 방법과 수산화 플러렌 분산액을 포함한 연마 슬러리 및 반도체 소자의 제조 방법 |
-
2019
- 2019-12-20 JP JP2019230213A patent/JP6770165B1/ja active Active
-
2020
- 2020-04-27 CN CN202080087906.5A patent/CN114829066B/zh active Active
- 2020-04-27 US US17/757,384 patent/US20230033337A1/en active Pending
- 2020-04-27 EP EP20902230.0A patent/EP4079450A4/en active Pending
- 2020-04-27 WO PCT/JP2020/017953 patent/WO2021124597A1/ja unknown
- 2020-09-24 JP JP2020159267A patent/JP7456343B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP4079450A4 (en) | 2023-02-15 |
WO2021124597A1 (ja) | 2021-06-24 |
CN114829066A (zh) | 2022-07-29 |
US20230033337A1 (en) | 2023-02-02 |
JP7456343B2 (ja) | 2024-03-27 |
JP2021098240A (ja) | 2021-07-01 |
EP4079450A1 (en) | 2022-10-26 |
CN114829066B (zh) | 2024-05-31 |
JP2021098265A (ja) | 2021-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6273281B2 (ja) | サファイア表面を研磨する方法 | |
Xu et al. | Nanoscratching of copper surface by CeO2 | |
Kao et al. | Synthesis and characterization of SiO2 nanoparticles and their efficacy in chemical mechanical polishing steel substrate | |
JP2008273780A (ja) | 改質シリカ系ゾルおよびその製造方法 | |
JP2009263534A (ja) | 砥粒分散媒、スラリー組成物、脆性材料の研磨方法およびサファイア基板の製造方法 | |
CN105368324A (zh) | 油性金刚石研磨液 | |
Liu et al. | Novel green chemical mechanical polishing of fused silica through designing synergistic CeO2/h-BN abrasives with lubricity | |
JP2019520989A (ja) | 分散媒中の不活性粒子および研磨粒子を分離および懸濁させることを目的とした粘性粒子の水性、半水性、非水性スラリーサスペンションのin−situ生成 | |
JP6770165B1 (ja) | 研磨方法、機械装置の製造方法および機械装置 | |
Peng | Chemical mechanical polishing of steel substrate using aluminum nanoparticles abrasive slurry | |
CN1680509B (zh) | 研磨液组合物 | |
JP5377117B2 (ja) | 粒子分散液中の非球状粒子を検出する方法 | |
JP2014234489A (ja) | 研磨スラリーの製造方法 | |
TW201619347A (zh) | 鎳磷化學機械拋光(cmp)組合物及方法 | |
JP2003155471A (ja) | 研磨液組成物 | |
CN107663422A (zh) | 一种陶瓷抛光研磨液 | |
JP6436018B2 (ja) | 酸化物単結晶基板の研磨スラリー及びその製造方法 | |
JP6960328B2 (ja) | 研磨用組成物 | |
JP2004027042A (ja) | 微粒子分散ゲル化体及びそれから得られた微粒子分散液 | |
JP2000144113A (ja) | 遊離砥粒スラリー組成物 | |
JP2008307676A (ja) | ハードディスク基板用研磨液組成物 | |
CN103275620B (zh) | 镁铝合金专用抛光液及其制备方法 | |
JP2009227893A (ja) | セリウム系研摩材スラリー | |
Pang et al. | Effect of ethylenediamine on the surface glazed phenomenon of fixed abrasive pad under deionized water condition | |
JP5887773B2 (ja) | ダイヤモンド微粒子を含む分散体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20200422 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200430 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20200430 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20200430 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20200630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200707 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20200812 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20200825 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20200924 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6770165 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313115 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |