JP6768622B2 - 検査方法および検査装置 - Google Patents
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パターンが設けられた試料に向けて光を出射する光源と、
光源の光路に交わるように光源と試料との間に配置され、不規則な深さを有する複数の凹部が設けられ、複数の凹部が光源の光路に交わるように回転しながら光源から出射された光を複数の凹部に通過させて、光の光量を略均一化する回転位相板と、
回転位相板を通して試料に照射された照射光による試料の光学画像を撮像するn列の撮像素子を有するセンサと、を備えた検査装置を用いてパターンの欠陥を検査する検査方法であって、
回転位相板を回転させ、光源の光路に交わる回転位相板の回転方向位置を検出する工程と、
撮像素子の列方向に試料を搬送し、試料に照射光を照射し、n列の撮像素子のうち照射光の光路上に位置するi列目(1≦i≦n)の撮像素子で試料の光学画像を撮像する工程と、
i列目の撮像素子で試料の光学画像が撮像されたときに検出された回転位相板の回転方向位置における予め取得された回転位相板の透過率と、予め取得されたi列目の撮像素子の感度と、に基づいて、i列目の撮像素子で撮像された試料の光学画像の光量を補正する工程と、を備える。
試料の光学画像の光量を補正する工程は、以下の数式(1)にしたがってもよい。
Ci=Csi/(Ti×Ki) (1)
但し、Ciは、i列目の撮像素子で撮像された試料の光学画像の補正後の光量であり、Csiは、i列目の撮像素子で撮像された試料の光学画像の補正前の光量であり、Tiは、i列目の撮像素子で試料の光学画像が撮像されたときに検出された回転位相板の回転方向位置における回転位相板の透過率であり、Kiは、i列目の撮像素子の感度に比例した係数である(以下、同様)。
試料の光学画像を撮像する工程は、撮像素子の列方向に試料を搬送しながらn列の撮像素子で順に試料の光学画像を撮像する工程であり、
試料の光学画像の光量を補正する工程は、n列の撮像素子で順に撮像された試料の光学画像のそれぞれの光量を補正する工程であり、
検査方法は、
n列の撮像素子で順に撮像された試料の光学画像のそれぞれの補正後の光量を加算することで、最終的な試料の光学画像の光量を取得する工程を更に備えてもよい。
パターンが設けられた試料に向けて光を出射する光源と、
光源の光路に交わるように光源と試料との間に配置され、不規則な深さを有する複数の凹部が設けられ、複数の凹部が光源の光路に交わるように回転しながら光源から出射された光を複数の凹部に通過させて、光の光量を略均一化する回転位相板と、
回転位相板を通して試料に照射された照射光による試料の光学画像を撮像するn列の撮像素子を有するセンサと、を備え、パターンの欠陥を検査する検査装置であって、
回転位相板の回転中に、光源の光路に交わる回転位相板の回転方向位置を検出する回転方向位置検出部と、
センサで撮像された試料の光学画像の光量を補正する光量補正部と、を備え、
センサは、撮像素子の列方向に試料が搬送され、回転位相板を通して試料に照射光が照射されたときに、n列の撮像素子のうち照射光の光路上に位置するi列目(1≦i≦n)の撮像素子で試料の光学画像を撮像し、
光量補正部は、i列目の撮像素子で試料の光学画像が撮像されたときに検出された回転位相板の回転方向位置における予め取得された回転位相板の透過率と、予め取得されたi列目の撮像素子の感度と、に基づいて、i列目の撮像素子で撮像された試料の光学画像の光量を補正する。
Ci=Csi/(Ti×Ki) (1)
但し、Ciは、i列目の撮像素子51で撮像されたマスク2の光学画像の補正後の光量である。Csiは、i列目の撮像素子51で撮像されたマスク2の光学画像の補正前の光量である。Tiは、i列目の撮像素子51でマスク2の光学画像が撮像されたときに検出された回転位相板43の回転方向位置における回転位相板43の透過率である。Kiは、i列目の撮像素子51の感度に比例した係数である(以下、同様)。Kiは、i列目の撮像素子51の感度そのものであってもよい。
次に、図1のパターン検査装置1を適用した本実施形態のパターン検査方法について説明する。図5は、本実施形態によるパターン検査方法を示すフローチャートである。図5のフローチャートは、必要に応じて繰り返される。図6は、本実施形態によるパターン検査方法を示す斜視図である。図6に示すように、マスク2上の検査領域201は、短冊状の複数のストライプ202に仮想的に分割されている。第1センサ5Aおよび第2センサ5Bは、XYθテーブル6の移動にともなって、マスク2をストライプ202毎に撮像する。このとき、図6の破線矢印に示す方向に各ストライプ202が連続的にスキャンされるように、テーブル制御回路17はXYθテーブル6の動作を制御する。XYθテーブル6を移動させながら、第1センサ5Aおよび第2センサ5Bで撮像された光学画像に基づいてストライプ202上のパターンの欠陥を検査する。
Ci=Csi/(Ti×Ki) (1)
2 マスク
3 光源
43 回転位相板
Claims (5)
- パターンが設けられた試料に向けて光を出射する光源と、
前記光源の光路に交わるように前記光源と前記試料との間に配置され、不規則な深さを有する複数の凹部が設けられ、該複数の凹部が前記光源の光路に交わるように回転しながら前記光源から出射された光を該複数の凹部に通過させて、前記光の光量を略均一化する回転位相板と、
前記回転位相板を通して前記試料に照射された照射光による前記試料の光学画像を撮像するn列の撮像素子を有するセンサと、を備えた検査装置を用いて前記パターンの欠陥を検査する検査方法であって、
前記回転位相板を回転させ、前記光源の光路に交わる前記回転位相板の回転方向位置を検出する工程と、
前記撮像素子の列方向に前記試料を搬送し、前記試料に前記照射光を照射し、前記n列の撮像素子のうち前記照射光の光路上に位置するi列目(1≦i≦n)の撮像素子で前記試料の光学画像を撮像する工程と、
前記i列目の撮像素子で前記試料の光学画像が撮像されたときに検出された前記回転位相板の回転方向位置における予め取得された前記回転位相板の透過率と、予め取得された前記i列目の撮像素子の感度と、に基づいて、前記i列目の撮像素子で撮像された前記試料の光学画像の光量を補正する工程と、を備える検査方法。 - 前記試料の光学画像の光量を補正する工程は、以下の数式(1)にしたがう、請求項1に記載の検査方法。
Ci=Csi/(Ti×Ki) (1)
但し、Ciは、i列目の撮像素子で撮像された試料の光学画像の補正後の光量であり、Csiは、i列目の撮像素子で撮像された試料の光学画像の補正前の光量であり、Tiは、i列目の撮像素子で試料の光学画像が撮像されたときに検出された回転位相板の回転方向位置における回転位相板の透過率であり、Kiは、i列目の撮像素子の感度に比例した係数である(以下、同様)。 - 前記試料の光学画像を撮像する工程は、前記撮像素子の列方向に前記試料を搬送しながら前記n列の撮像素子で順に前記試料の光学画像を撮像する工程であり、
前記試料の光学画像の光量を補正する工程は、前記n列の撮像素子で順に撮像された前記試料の光学画像のそれぞれの光量を補正する工程であり、
前記検査方法は、
前記n列の撮像素子で順に撮像された前記試料の光学画像のそれぞれの補正後の光量を加算することで、最終的な前記試料の光学画像の光量を取得する工程を更に備える、請求項1または2に記載の検査方法。 - パターンが設けられた試料に向けて光を出射する光源と、
前記光源の光路に交わるように前記光源と前記試料との間に配置され、不規則な深さを有する複数の凹部が設けられ、該複数の凹部が前記光源の光路に交わるように回転しながら前記光源から出射された光を該複数の凹部に通過させて、前記光の光量を略均一化する回転位相板と、
前記回転位相板を通して前記試料に照射された照射光による前記試料の光学画像を撮像するn列の撮像素子を有するセンサと、を備え、前記パターンの欠陥を検査する検査装置であって、
前記回転位相板の回転中に、前記光源の光路に交わる前記回転位相板の回転方向位置を検出する回転方向位置検出部と、
前記センサで撮像された前記試料の光学画像の光量を補正する光量補正部と、を備え、
前記センサは、前記撮像素子の列方向に前記試料が搬送され、前記回転位相板を通して前記試料に前記照射光が照射されたときに、前記n列の撮像素子のうち前記照射光の光路上に位置するi列目(1≦i≦n)の撮像素子で前記試料の光学画像を撮像し、
前記光量補正部は、前記i列目の撮像素子で前記試料の光学画像が撮像されたときに検出された前記回転位相板の回転方向位置における予め取得された前記回転位相板の透過率と、予め取得された前記i列目の撮像素子の感度と、に基づいて、前記i列目の撮像素子で撮像された前記試料の光学画像の光量を補正する、検査装置。
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JP2017188995A JP6768622B2 (ja) | 2017-09-28 | 2017-09-28 | 検査方法および検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2017188995A JP6768622B2 (ja) | 2017-09-28 | 2017-09-28 | 検査方法および検査装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2019066207A JP2019066207A (ja) | 2019-04-25 |
JP6768622B2 true JP6768622B2 (ja) | 2020-10-14 |
Family
ID=66340602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2017188995A Active JP6768622B2 (ja) | 2017-09-28 | 2017-09-28 | 検査方法および検査装置 |
Country Status (1)
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JP4260587B2 (ja) * | 2003-09-18 | 2009-04-30 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | パターン欠陥検査装置 |
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JP5350121B2 (ja) * | 2008-09-11 | 2013-11-27 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パターン検査装置及びパターン検査方法 |
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2017
- 2017-09-28 JP JP2017188995A patent/JP6768622B2/ja active Active
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