JP4309751B2 - フォトマスク修復方法 - Google Patents
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このような構成によれば、レーザ光の可干渉性に影響されないフォトマスク像を得ることができ、これに基づいて高精度の検査を行なえる。そして、高精度な欠陥情報に基づいてフォトマスクの欠陥修復を行なうことができる。
(第1の実施形態)
図1はマスクパターン検査装置及びこのマスクパターン検査装置の検査結果に基づいてマスクを修復するマスク修復装置20を示したものである。
次に、この発明の第2の実施形態を図7を参照して説明する。この実施形態は、図1に示した装置の均一化光学系7の他の実施形態を示すものである。したがって、その他の部分は図示を省略すると共に、第1の実施例形態と同様の構成要件については同一符号を付してその説明は省略する。
次に、この発明の第3の実施形態を図8以下を参照して説明する。
Claims (12)
- 複数の厚さを有するとともに、これらの厚さが、レーザ光の波長の4分の1の整数倍になるよう設定された透光性板において、レーザ光を透過させて、その位相を連続的に変化させ、かつその明るさ分布を均一化した状態で、フォトマスクに照射する照明ステップと、
前記レーザ光と前記フォトマスクとを相対的に移動させながら前記フォトマスクの像を蓄積型センサで検知すると共に、この蓄積型センサから出力信号を前記移動に連動させて取り出し、前記フォトマスクの画像を形成する画像取得ステップと、
前記フォトマスクの画像に基づいてマスクパターンの欠陥を検出する欠陥検出ステップと、
この欠陥検出ステップによるパターン欠陥検出結果に基づいてマスクパターンの欠陥位置を特定し、マスクパターンの欠陥を修復する欠陥修復ステップと
を有することを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記蓄積型センサの信号蓄積時間は、前記照明ステップでレーザ光の明るさ分布を均一化できる最小時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記照明ステップは、
前記レーザ光の光軸を前記フォトマスクに対して連続的もしくは断続的に変化させることでレーザ光の干渉縞を変化させ、前記レーザ光の明るさ分布を均一化するステップを含む
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項3記載のフォトマスク修復方法において、
前記レーザ光の光軸を前記フォトマスクに対して変化させる周期は、前記蓄積型センサの信号蓄積時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記透光性板の回転数は、前記蓄積型センサの信号蓄積時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記照明ステップは、
前記レーザ光を、回転する複数の前記透光性板に順次透過させるステップを含む
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項6記載のフォトマスク修復方法において、
前記複数の透光性板の合計回転数は、前記蓄積型センサの信号蓄積時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記照明ステップは、
レ−ザ光束の一部の光束のみを迂回する第1の迂回ステップと、
前記第1の迂回ステップの迂回方向とは異なる方向に、前記第1の迂回ステップを経たレ−ザ光の一部の光束を迂回する第2の迂回ステップとを有し、
前記レ−ザ光源の光束を分割することで、
前記レーザ光の干渉縞を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項8記載のフォトマスク修復方法において、
前記照明ステップは、
前記第1の迂回ステップは、前記レ−ザ光束の半分の光束のみを迂回させ、
前記第2の迂回ステップは、前記第1の迂回ステップの迂回方向とは90度異なる方向に、前記第1の迂回ステップを経たレ−ザ光の半分の光束を迂回させ、前記レ−ザ光源の光束を互いに干渉性のない4つの光束に分割することで、前記レーザ光の干渉縞を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項8記載のフォトマスク修復方法において、
前記第1の迂回ステップ及び第2の迂回ステップの各迂回路と迂回しない光路との光路差を前記レ−ザ光源の可干渉距離以上とすることで、前記レ−ザ光源の光束を互いに干渉性のない4つの光束に分割する
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項8記載のフォトマスク修復方法において、
さらに、前記第2の迂回ステップを経たレーザ光束のうち光束の中心を含んだ一部分の光束の偏向方向を90度回転させる1/2λ板を有する
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項11記載のフォトマスク修復方法において、
前記1/2λ板の前方あるいは後方にくさび型プリズムを設けた
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。
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