JP2004157548A - フォトマスク修復方法、検査方法、検査装置及びフォトマスク製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】レーザ光の位相を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化した状態で、このレーザ光をフォトマスク2に照射する照明光学系5と、前記レーザ光とこのフォトマスク2とを相対的に移動させながらこのフォトマスクの像を蓄積型センサ17で検知すると共に、この蓄積型センサ17から出力信号を前記移動に連動させて取り出し、前記マスクの画像を形成すると共に、このマスクの画像に基づいてマスクパターンの欠陥を検出する欠陥検出装置(中央演算装置2)とを有する。
【選択図】 図1
Description
(第1の実施形態)
図1はマスクパターン検査装置及びこのマスクパターン検査装置の検査結果に基づいてマスクを修復するマスク修復装置20を示したものである。
次に、この発明の第2の実施形態を図7を参照して説明する。この実施形態は、図1に示した装置の均一化光学系7の他の実施形態を示すものである。したがって、その他の部分は図示を省略すると共に、第1の実施例形態と同様の構成要件については同一符号を付してその説明は省略する。
次に、この発明の第3の実施形態を図8以下を参照して説明する。
Claims (36)
- レーザ光の位相を連続的に変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化した状態で、このレーザ光をフォトマスクに照射する照明工程と、
前記レーザ光とこのフォトマスクとを相対的に移動させながらこのフォトマスクの像を蓄積型センサで検知すると共に、この蓄積型センサから出力信号を前記移動に連動させて取り出し、前記マスクの画像を形成する画像取得工程と、
このマスクの画像に基づいてマスクパターンの欠陥を検出する欠陥検出工程と、
このパターン欠陥検出結果に基づいてパターンの欠陥位置を特定し、マスクパターンの欠陥を修復する欠陥修復工程と
を有することを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記蓄積型センサの信号蓄積時間は、前記照明工程でレーザ光の明るさ分布を均一化できる最小時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記照明工程に用いるレーザ光のレーザー光源は連続発振のレーザーであることを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記照明工程は、
レーザ光の光軸をフォトマスクに対して連続的もしくは断続的に変化させることでレーザ光の干渉縞を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する工程を含む
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項4記載のフォトマスク修復方法において、
前記レーザ光の光軸をフォトマスクに対して変化させる周期は、前記蓄積型センサの信号蓄積時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記照明工程は、
レーザ光を、場所により厚さの異なる透光性板を回転させがら透過させることで、レーザー光の位相を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する工程を含む
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項6記載のフォトマスク修復方法において、
前記透光性の回転数は、前記蓄積型センサの信号蓄積時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項6記載のフォトマスク修復方法にいて、
前記照明工程は、
前記レーザ光を、回転する複数の透光性板に順次透過させる工程を含む
ことを特徴とするフォトマスク修復方法 - 請求項6記載のフォトマスク修復方法において、
前記複数の透光性板の合計回転数は、前記蓄積型センサの信号蓄積時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記照明工程は、
このレ−ザ光束の一部の光束のみを迂回する第1の迂回工程と、
上記第1の迂回工程の迂回方向とは異なる方向に、前記第1の迂回工程を経たレ−ザ光の一部の光束を迂回する第2の迂回工程とを有し、
上記レ−ザ光源の光束を分割することで、
レーザー光の干渉縞を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項1記載のフォトマスク修復方法において、
前記照明工程は、
前記第1の迂回工程は、レ−ザ光束の半分の光束のみを迂回させ、
前記第2の迂回工程は、上記第1の迂回工程の迂回方向とは90度異なる方向に、前記第1の迂回工程を経たレ−ザ光の半分の光束を迂回させ、上記レ−ザ光源の光束を互いに干渉性のない4つの光束に分割することで、レーザー光の干渉縞を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する
ことを特徴とするフォトマスク修復方法。 - 請求項10記載のフォトマスク修復方法において、
上記第1の迂回工程及び第2の迂回工程の各迂回路と迂回しない光路との光路差を上記レ−ザ光源の可干渉距離以上とすることで、上記レ−ザ光源の光束を互いに干渉性のない4つの光束に分割する
ことを特徴とするフォトマスクの修復方法。 - 請求項10記載のフォトマスク修復方法において、
さらに、前記第2の迂回工程を経たレーザ光束のうち光束の中心を含んだ一部分の光束の偏向方向を90度回転させる1/2λ板を有する
ことを特徴とするフォトマスクの修復方法。 - 請求項12記載のフォトマスク修復方法において、
前記1/2λ板の前方あるいは後方にくさび型プリズムを設けた
ことを特徴とするフォトマスクの修復方法。 - レーザ光の位相を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化した状態で、このレーザ光をフォトマスクに照射する照明工程と、
前記レーザ光とこのフォトマスクとを相対的に移動させながらこのフォトマスクの像を蓄積型センサで検知すると共に、この蓄積型センサから出力信号を前記移動に連動させて取り出し、前記マスクの画像を形成する画像取得工程と、
このマスクの画像に基づいてマスクパターンの欠陥を検出する欠陥検出工程と
を有することを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項15記載のフォトマスク検査方法において、
前記蓄積型センサの信号蓄積時間は、前記照明工程でレーザ光の明るさ分布を均一化できる最小時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項15記載のフォトマスク検査方法において、
前記照明工程に用いるレーザ光のレーザー光源は連続発振のレーザーであることを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項15記載のフォトマスク検査方法において、
前記照明工程は、
レーザ光の光軸をフォトマスクに対して連続的もしくは断続的に変化させることでレーザ光の干渉縞を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する工程を含む
ことを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項18記載のフォトマスク検査方法において、
前記レーザ光の光軸をフォトマスクに対して変化させる周期は、前記蓄積型センサの信号蓄積時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項15記載のフォトマスク検査方法において、
前記照明工程は、
レーザ光を、場所により厚さの異なる透光性板を回転させがら透過させることで、レーザー光の位相を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する工程を含む
ことを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項20記載のフォトマスク検査方法において、
前記透光性の回転数は、前記蓄積型センサの信号蓄積時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項20記載のフォトマスク検査方法にいて、
前記照明工程は、
前記レーザ光を、回転する複数の透光性板に順次透過させる工程を含む
ことを特徴とするフォトマスク検査方法 - 請求項20記載のフォトマスク検査方法において、
前記複数の透光性板の合計回転数は、前記蓄積型センサの信号蓄積時間に応じて決定されている
ことを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項15記載のフォトマスク検査方法において、
前記照明工程は、
このレ−ザ光束の一部の光束のみを迂回する第1の迂回工程と、
上記第1の迂回工程の迂回方向とは異なる方向に、前記第1の迂回工程を経たレ−ザ光の一部の光束を迂回する第2の迂回工程とを有し、
上記レ−ザ光源の光束を分割することで、
レーザー光の干渉縞を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する
ことを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項15記載のフォトマスク検査方法において、
前記照明工程は、
前記第1の迂回工程は、レ−ザ光束の半分の光束のみを迂回させ、
前記第2の迂回工程は、上記第1の迂回工程の迂回方向とは90度異なる方向に、前記第1の迂回工程を経たレ−ザ光の半分の光束を迂回させ、上記レ−ザ光源の光束を互いに干渉性のない4つの光束に分割することで、レーザー光の干渉縞を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化する
ことを特徴とするフォトマスク検査方法。 - 請求項24記載のフォトマスク検査方法において、
上記第1の迂回工程及び第2の迂回工程の各迂回路と迂回しない光路との光路差を上記レ−ザ光源の可干渉距離以上とすることで、上記レ−ザ光源の光束を互いに干渉性のない4つの光束に分割する
ことを特徴とするフォトマスクの修復方法。 - 請求項24記載のフォトマスク検査方法において、
さらに、前記第2の迂回工程を経たレーザ光束のうち光束の中心を含んだ一部分の光束の偏向方向を90度回転させる1/2λ板を有する
ことを特徴とするフォトマスクの修復方法。 - 請求項26記載のフォトマスク検査方法において、
前記1/2λ板の前方あるいは後方にくさび型プリズムを設けた
ことを特徴とするフォトマスクの修復方法。 - 請求項15の検査方法を含む工程を経て製造されたフォトマスク。
- レーザ光の位相を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化した状態で、このレーザ光をフォトマスクに照射する照明光学系と、
前記レーザ光とこのフォトマスクとを相対的に移動させながらこのフォトマスクの像をセンサで検知すると共に、この蓄積型センサから出力信号を前記移動に連動させて取り出し、前記マスクの画像を形成する画像取得部と、
このマスクの画像に基づいてマスクパターンの欠陥を検出する欠陥検出装置と
を有することを特徴とするフォトマスク検査装置。 - 請求項30記載のフォトマスク検査装置において、前記センサは、蓄積型(TDI)センサであることを特徴とするフォトマスク検査方法。
- 請求項30記載のフォトマスク検査装置において、前記照明光学系は、回転位相変化板を有することを特徴とするフォトマスク検査装置。
- 請求項30記載のフォトマスク検査装置において、前記照明光学系は、フライアレイレンズを有することを特徴とするフォトマスク検査装置。
- 請求項30記載のフォトマスク検査装置において、前記照明光学系は、振動ミラーを有することを特徴とするフォトマスク検査装置。
- 請求項30記載のフォトマスク検査装置において、
前記照明光学系は、第1の光路と第2の光路とを有し、これら第1の光路と第2の光路は異なる長さを有する。 - フォトマスクにパターンを形成する工程と、
レーザ光の位相を変化させ、このレーザ光の明るさ分布を均一化した状態で、このレーザ光をフォトマスクに照射する照明工程と、
前記レーザ光とこのフォトマスクとを相対的に移動させながらこのフォトマスクの像を蓄積型センサで検知すると共に、この蓄積型センサから出力信号を前記移動に連動させて取り出し、前記マスクの画像を形成する画像取得工程と、
このマスクの画像に基づいてマスクパターンの欠陥を検出する欠陥検出工程と、
マスクパターンの欠陥が検出された場合、このパターン欠陥検出結果に基づいてパターンの欠陥位置を特定し、マスクパターンの欠陥を修復する欠陥修復工程と
を有することを特徴とするフォトマスク検査装置。
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