JP6761342B2 - 低温プラズマの発生装置、及び、関連する化学物質を製造するため方法 - Google Patents
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- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 59
- 239000000126 substance Substances 0.000 title claims description 45
- 230000005495 cold plasma Effects 0.000 title description 11
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 169
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 106
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 64
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 62
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 29
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 claims description 29
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 23
- 230000000694 effects Effects 0.000 claims description 15
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 14
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 14
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 13
- 239000003517 fume Substances 0.000 claims description 11
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 claims description 9
- ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N calcium nitrate Chemical compound [Ca+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ZCCIPPOKBCJFDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 230000001939 inductive effect Effects 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 2-(3-bromo-2-fluorophenyl)acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=CC(Br)=C1F PAWQVTBBRAZDMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003595 mist Substances 0.000 claims description 4
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 claims description 2
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 claims 3
- 210000002381 plasma Anatomy 0.000 description 136
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 29
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 25
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 23
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 23
- 239000000047 product Substances 0.000 description 22
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 20
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 17
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 17
- 230000001960 triggered effect Effects 0.000 description 16
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 14
- MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N nitrogen oxide Inorganic materials O=[N] MWUXSHHQAYIFBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 8
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 8
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 8
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 7
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 6
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 5
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 5
- 230000003134 recirculating effect Effects 0.000 description 5
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N sulfur monoxide Chemical class S=O XTQHKBHJIVJGKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 3
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 229910052815 sulfur oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N Sulphur dioxide Chemical compound O=S=O RAHZWNYVWXNFOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 2
- TXKMVPPZCYKFAC-UHFFFAOYSA-N disulfur monoxide Inorganic materials O=S=S TXKMVPPZCYKFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000006424 Flood reaction Methods 0.000 description 1
- 229910002651 NO3 Inorganic materials 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 1
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000012777 electrically insulating material Substances 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000001802 infusion Methods 0.000 description 1
- 239000013067 intermediate product Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 1
- 239000000779 smoke Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/087—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J19/088—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/47—Generating plasma using corona discharges
- H05H1/473—Cylindrical electrodes, e.g. rotary drums
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H1/00—Generating plasma; Handling plasma
- H05H1/24—Generating plasma
- H05H1/48—Generating plasma using an arc
- H05H1/488—Liquid electrodes
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0809—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes employing two or more electrodes
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J2219/0803—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy
- B01J2219/0805—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges
- B01J2219/0807—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electric or magnetic energy giving rise to electric discharges involving electrodes
- B01J2219/0837—Details relating to the material of the electrodes
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- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J2219/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
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- B01J2219/0873—Materials to be treated
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- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2219/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
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- B01J2219/0894—Processes carried out in the presence of a plasma
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Description
〔発明の分野〕
本発明は、特に、化学物質、とりわけ、例えば、硝酸、及び硫酸等の酸を製造するための化学工業プロセスにおいて使用される、低温プラズマを発生するための装置に関する。
化学物質を製造するための低温プラズマの使用は、従来の方法に対して、異なる利点を有している。特に、下記の反応:
そこで、本発明によって提起され、解決される技術的な課題は、低温プラズマを発生させるための、装置、及び、化学物質を製造するために関連する方法、又は、プロセスを提供することにあり、公知技術に関する上述の欠点を、未然に防ぐことを可能にする。
当該装置は、
外部電極及び内部電極であって、一方が他方を囲むように配置することで、それらの間にプラズマ発生領域を規定し、
内部電極、及び/又は、外部電極は、電源に接続されているか、又は、接続可能であることで、使用において、電位差を上記プラズマ発生領域に定め、
内部電極及び外部電極は、一方が、他方に対して回転可能であり、
外部電極は、上記プラズマ発生領域を横断すべき気体のための吸入口、及び、上記プラズマ発生領域を横断したプラズマガスの、少なくとも1つの再循環排出口を有している;と、
外部電極と内部電極との間に放電を引き起こすためのトリガー手段であって、上記トリガー手段は、二つの電極のうちの回転電極に接続され、好ましくは固定されている;と、
気体吸入手段であって、上記プラズマ発生領域を通じて気体を引き込むのに適しており、上記二つの電極のうちの回転電極に対して接続され、好ましくは固定されている気体吸入手段と、を含んでいる、低温プラズマ発生装置を提供する。
上述されているような、反応装置、又は、発生装置と、
反応装置、又は、発生装置に動作可能なように接続されていることで、そこから出された気体/蒸気を投入するように受け入れる凝縮装置と、を含んでいる、化学プラントも提供する。
添付された図面における形態が参照され、ここで、
・図1は、本発明の第一の実施形態に基づく低温プラズマ発生装置の縦断面における概略図を示しており、
・図2は、図1の装置の実施形態のうちの、変形例の縦断面における概略図を示しており、
・図3は、図1の装置を組み込んでいる反応装置の縦断面における概略図を示しており、
・図4は、図1の実施形態に基づいて実施される、一組の発生装置の夫々を組み込んでいる反応装置の縦断面における概略図を示しており、
・図5は、本発明の第二の実施形態に基づく低温プラズマ発生装置を組み込んでいる反応装置の縦断面における概略図を示しており、当該反応装置は、第一の操作モードで示されており、
・図6は、図5の反応装置の縦断面における概略図を示しており、第二の操作モードで示されており、
・図7は、第一の実施形態の変形例としての図5の装置を組み込んでいる反応装置の縦断面における概略図を示しており、
・図8は、第二の実施形態の変形例としての図5の装置を組み込んでいる反応装置の縦断面における概略図を示しており、
・図8Aは、本発明の第三の実施形態に基づく低温プラズマ発生装置、又は、反応装置の縦断面における概略図を示しており、
・図8Bは、本発明の付加的な実施形態に基づく低温プラズマ発生装置、又は、反応装置の縦断面における概略図を示しており、
・図9は、図5の反応装置の正面の概略図を示しており、
・図10は、図5の実施形態に基づいて実施される、一組の発生装置の夫々を組み込んでいる反応装置の正面の概略図を示しており、
・図11は、前出の図面のいずれか1つに基づく、第一の実施形態としての化学プラント、又は、低温プラズマ発生装置を組み込んでいる装置、及び/又は、関連する反応装置の基本ブロック図を示しており、
・図12は、図4の反応装置を組み込んでいる変形例に属する、図11のプラントを示しており、
・図13は、図1〜10のいずれか1つに基づく、第二の実施形態としての、化学プラント、又は、低温プラズマ発生装置を組み込んでいる装置、及び/又は、関連する反応装置の基本ブロック図を示しており、
・図14は、図1〜10のいずれか1つに基づく、第三の実施形態としての化学プラント、又は、低温プラズマ発生装置を組み込んでいる装置、及び/又は、関連する反応装置の基本ブロック図を示しており、
・図15は、図1〜10のいずれか1つに基づく、第五の実施形態としての化学プラント、又は、低温プラズマ発生装置を組み込んでいる装置、及び/又は、関連する反応装置の基本ブロック図を示している。
本発明の発生装置、反応装置、プラント、及び、方法又はプロセスの様々な実施形態及び変形例は、本明細書の以下において、これを上述の図面を参照して記載されている。
櫛の歯の高さを、1mm〜約100mmまでの間で変化させることができ、
単一の歯の厚さを、1mm〜約5mmまでの間で変化させることができ、
歯の中間軸を、1mm〜約10mmまでの間で変化させることができ、及び/又は、
櫛の全体の長さを、10mm〜約数メートルまでの間で変化させることができる。
−化学的により反応しやすく、領域521内において連続的に再循環する蒸気の形成と、
−液体が蒸発する温度に等しい値において、反応装置211の内部の温度を維持することである。
Claims (23)
- 硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、NO、NO2、NOx、NxOx、又は、酸化された揮発性有機化合物のいずれかを、反応装置(211、…、214)において、低温プラズマという手段によって製造するためのプロセスであって、
第一の電極(51)、及び、第二の電極(522)を含み、一方に対して他方を配置することにより、それらの間にプラズマ発生領域(521)を規定している、上記反応装置(211、…、214)の発生装置(111、112、113)中において、上記低温プラズマを発生し、
その第一の電極(51)及び/又は第二の電極(522)は、電源(15、16)によって供給されることで、電位差を、それらの間における、上記プラズマ発生領域(521)に定め、
気体に、上記プラズマ発生領域(521)を横断させることによって、プラズマガスを得、
上記第二の電極(522)は液体電極であり、
上記第一の電極(51)は、回転可能であり、2800rpmの最大回転速度にて駆動する、プロセス。 - 上記プラズマ発生領域(521)を横断した上記プラズマガスが、上記プラズマ発生領域(521)に再循環され、上記プラズマガスのうちの再循環される一部は、プロセスのさらなる工程に向けて、上記発生装置、又は、上記反応装置を離れる上記プラズマガスに対して、1:10〜10:1の範囲内に含まれる割合にある、請求項1に記載のプロセス。
- 硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、NO、NO2、NOx、NxOx、又は、酸化された揮発性有機化合物のいずれかを製造するためのプロセスにおいて使用するのに適している、低温プラズマの発生装置(111、112、113)であって、
その装置(111、112、113)は、第一の電極(51)、及び、第二の電極(52、522)を含んでおり、それらの間にプラズマ発生領域(521)を規定するように配置されており、
その第一の電極(51)及び/又は第二の電極(52、522)は、電源(515、516)に接続されているか、又は、接続可能であることで、使用において、電位差を上記プラズマ発生領域(521)に定め、
その装置(111、112、113)は、上記プラズマ発生領域(521)を横断すべき気体のための吸入口(58、55)、及び、上記プラズマ発生領域(521)を横断しているプラズマガスのための少なくとも1つの再循環排出口(55、58)を有しており、
上記装置(111、112、113)は、上記第二の電極(52、522)が、液体電極であるように構成されており、
上記第一の電極(51)は、回転可能である、低温プラズマの発生装置(111、112、113)。 - 本体(52)を含み、上記本体(52)内に、上記第一の電極(51)が、少なくとも部分的に受け入れられている、請求項3に記載の発生装置(111)。
- 吸入口(58、55)及び/又は少なくとも1つの再循環排出口(55、58)が、本体(52)に収められており、上記吸入口(58、55)、又は、少なくとも1つの上記再循環排出口(55、58)は、上記本体(52)の端に配置されており、少なくとも1つの上記再循環排出口(55、58)及び上記吸入口(58、55)は、上記本体(52)の側壁又は縁に配置されている、請求項3に記載の発生装置(111)。
- 本体(52)は、プラズマガスのための複数の再循環排出口(55)を有しており、その排出口(55)は、上記本体(52)の側壁又は縁に配置されており、上記本体(52)及び第一の電極(51)は、夫々の長手方向軸(L)が実質的に平行又は一致しており、軸の共通の方向は、上記第一の電極(51)の回転の軸(A)のそれに対しても一致しているか、上記本体(52)及び上記第一の電極(51)は、同軸上に、又は偏心して配置されており、装置は、プラズマ発生領域(521)を通じて気体を引き込むのに適している気体吸入手段(54)を含んでいる、請求項4または5のいずれか1項に記載の発生装置(111)。
- 本体(52)の断面積は、第一の電極(51)の上記断面積よりも25〜100倍の大きさを有しており、上記本体(52)の直径は、上記第一の電極(51)の直径よりも5〜10倍の大きさを有しており、上記本体(52)は、それらの側壁又は縁に配置されている、少なくとも1つの液体吸入口(555)を有しており、当該配置にすることで、上記液体吸入口(555)が、上記本体(52)を液体電極(522)に部分的に浸漬することを可能にし、少なくとも1つの上記液体吸入口(555)及び少なくとも1つの上記再循環排出口(55、58)は、上記本体(52)の夫々の一部において、実質的に一方が他方に直交して配置されている、請求項4〜6のいずれか1項に記載の発生装置(111)。
- 気体吸入手段(54)は、回転翼又は羽根車を含んでおり、後者は、回転可能な第一の電極(51)に対し、接続されており、固定されており、上記回転翼又は羽根車は、少なくとも部分的に、プラスチック材料でできている、請求項6に記載の発生装置(111)。
- 気体吸入手段は、本体(52)の外側に配置されている、回転翼又は羽根車(64)を含んでいる、請求項6〜8のいずれか1項に記載の発生装置(112)。
- 気体吸入手段は、本体(52)の内径の70〜95%の範囲内に含まれる直径を有している回転翼又は羽根車(54)を含んでいる、請求項6に記載の発生装置(111)。
- 第一の電極(51)と第二の電極(51、522)との間に放電を引き起こすためのトリガー手段(53)を含んでおり、上記トリガー手段(53)は、尖端効果に基づいていて、上記第一の電極(51)に接続されている、請求項3〜10のいずれか1項に記載の発生装置(111)。
- 請求項3〜11のいずれか1項に記載の発生装置(111、112、113)と、上記発生装置(111、112、113)における第一の電極(51)、及び/又は、第二の電極(52、522)に接続されているか、又は、接続可能である高い周波数又は高い電圧の発生装置と、
上記発生装置(111、112、113)における上記電極(51、52、522)のうちの1つを、2800rpmの最大回転速度で、回転するように駆動させるのに適しているモータと、を含んでいる、発生装置のアセンブリ。 - 硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、NO、NO2、NOx、NxOx、又は、酸化された揮発性有機化合物を製造するためのプロセスにおいて使用するのに適している、反応装置(211、…、214)であって、
その装置(211、…、214)は、少なくとも1つの請求項3〜11のいずれか一項に記載の発生装置(111、112、113)、又は、請求項12に記載の発生装置のアセンブリを含み、上記反応装置(211、…、214)は、少なくとも1つの上記発生装置(111、112、113)において発生したプラズマガスが関与する反応によって上記反応装置において得られた気体/蒸気を出すための少なくとも1つの排出口(510)を有している、反応装置(211、…、214)。 - その装置(211)は、少なくとも1つの発生装置(111、112、113)における液体電極(522)を受け入れるのに適している槽領域(580)を有している、請求項13に記載の反応装置(211)。
- 外部のケーシング(511)と、少なくとも部分的に上記ケーシング(511)の内部に配置されている、少なくとも1つの上記発生装置(111、112、113)と、液体電極(522)の水準を、制御及び/又は調整するための手段(518)と、を含んでおり、上記ケーシング(511)は、槽領域(580)を規定している、請求項13又は14に記載の反応装置(211)。
- 上記ケーシング(511)は、導電性液体吸入口(513)及び気体吸入口(512)を有しており、一方が他方に隣接して配置されており、上記ケーシング(511)は、その上端の一部に配置されている、気体/蒸気の排出口(510)を有している、請求項15に記載の反応装置(211)。
- 少なくとも1つの上記発生装置(111、112、113)は、第一の電極(51)の長手方向軸(L)が、実質的に水平なように配置されている、請求項13〜16のいずれか1項に記載の反応装置(211)。
- 請求項13〜17のいずれか1項に記載の反応装置(211、…、214)、又は、請求項3〜11のいずれか1項に記載の発生装置(111、112、113);と、
上記反応装置(211、…、214)、又は、上記発生装置(111、112、113)に動作可能なように接続されていることで、そこから出された気体/蒸気を投入するように受け入れる凝縮装置(70)と、を含んでいる、化学プラント(300、…、305)。 - 上記凝縮装置(70)の下流に配置されている、液体−気体分離装置(80)をさらに含む、請求項18に記載の化学プラント(302)。
- 上記凝縮装置(70)の下流に配置されている、少なくとも1つの冷却装置(90)をさらに含んでおり、当該冷却装置は、霧反応装置(90)、及び、上記凝縮装置(70)の下流及び少なくとも1つの冷却装置(90)の下流に配置されている、少なくとも1つの接触反応装置(40)を含んでいる、請求項18に記載の化学プラント(303、304)。
- 接触反応装置(40)は、凝縮した生成物の循環手段(42〜44)を含んでいる、請求項20に記載の化学プラント(303、304)。
- 反応装置(211、…、214)における上記接触反応装置(40)から気体を引き寄せるのに適している、上記接触反応装置(40)と上記反応装置(211、…、214)との間の連絡手段(47、48、124)をさらに含み、冷却装置(90)、及び/又は、上記接触反応装置(40)は、(複数の)装置内で受け取った、凝縮された生成物の霧状化手段(94、46)を含んでいる、請求項20又は21に記載の化学プラント(304)。
- 硫黄の煙霧を生成するのに適しており、上記反応装置(201、202)の上流に配置されている、少なくとも1つの硫黄のバーナー(30)をさらに含んでおり、バーナー(30)の下流、及び、上記反応装置(201、202)の上流に配置されている、少なくとも1つの冷却装置(35)を含んでおり、硝酸、又は硫酸を製造する、請求項18に記載の化学プラント(304)。
Applications Claiming Priority (11)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
IT000214A ITRM20130214A1 (it) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | Dispositivo generatore di plasma freddo e relativo metodo di produzione di acido nitrico e di acido solforico. |
IT000212A ITRM20130212A1 (it) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | Dispositivo generatore di plasma freddo e relativo metodo di produzione di acido nitrico e di acido solforico. |
IT000216A ITRM20130216A1 (it) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | Dispositivo generatore di plasma freddo e relativo metodo di produzione di acido nitrico e di acido solforico. |
ITRM2013A000212 | 2013-04-10 | ||
ITRM2013A000215 | 2013-04-10 | ||
ITRM2013A000216 | 2013-04-10 | ||
IT000215A ITRM20130215A1 (it) | 2013-04-10 | 2013-04-10 | Dispositivo generatore di plasma freddo e relativo metodo di produzione di acido nitrico e di acido solforico. |
ITRM2013A000214 | 2013-04-10 | ||
ITRM2013A000374 | 2013-06-27 | ||
IT000374A ITRM20130374A1 (it) | 2013-06-27 | 2013-06-27 | Dispositivo generatore di plasma freddo e relativo metodo di produzione di sostanze chimiche. |
PCT/IB2014/060609 WO2014167520A1 (en) | 2013-04-10 | 2014-04-10 | Generator device of cold plasma and related method for producing chemical substances |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016524519A JP2016524519A (ja) | 2016-08-18 |
JP2016524519A5 JP2016524519A5 (ja) | 2017-06-08 |
JP6761342B2 true JP6761342B2 (ja) | 2020-09-23 |
Family
ID=50884958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016507097A Active JP6761342B2 (ja) | 2013-04-10 | 2014-04-10 | 低温プラズマの発生装置、及び、関連する化学物質を製造するため方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10610849B2 (ja) |
EP (1) | EP2984909B1 (ja) |
JP (1) | JP6761342B2 (ja) |
CN (1) | CN105532078A (ja) |
AU (1) | AU2014252206B2 (ja) |
BR (1) | BR112015025838A2 (ja) |
CA (1) | CA2909099A1 (ja) |
RU (1) | RU2015142633A (ja) |
WO (1) | WO2014167520A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CZ2015310A3 (cs) | 2015-05-06 | 2016-08-10 | Masarykova Univerzita | Způsob generování nízkoteplotního plazmatu, způsob plazmové úpravy tekutin, práškových materiálů i pevných látek tímto nízkoteplotním plazmatem a zařízení k provádění těchto způsobů |
FR3037209B1 (fr) * | 2015-06-04 | 2017-07-21 | Commissariat Energie Atomique | Reacteur a plasma froid tournant et a forcage de flux |
WO2017040704A1 (en) * | 2015-09-04 | 2017-03-09 | Plasmerica, Llc | Gas-to-liquid reactor and method of using |
KR101821865B1 (ko) * | 2015-12-23 | 2018-03-08 | 한국기초과학지원연구원 | 회전하는 전극을 이용하여 오염된 피처리물을 처리하는 플라즈마 처리장치 |
US10849215B2 (en) | 2016-03-22 | 2020-11-24 | Koninklijke Philips N.V. | Cold plasma device for treating a surface |
CN106028613A (zh) * | 2016-07-07 | 2016-10-12 | 常州大恒环保科技有限公司 | 通过旋转扫描式放电产生等离子体的装置 |
CN110064352A (zh) * | 2018-01-24 | 2019-07-30 | 黄华丽 | 一种气体放电反应器的电极绝缘结构和绝缘方法 |
EP3781301A4 (en) | 2018-04-16 | 2022-01-26 | Plasmerica, LLC | GAS-TO-GAS REACTOR AND METHOD OF USE |
CN110538612A (zh) * | 2019-10-08 | 2019-12-06 | 杭州欣茂科技有限公司 | 一种新型汽车玻璃用结合剂制作设备 |
CN113996259B (zh) * | 2021-11-19 | 2023-04-07 | 浙江海洋大学 | 一种石油化工反应釜 |
WO2024020521A1 (en) * | 2022-07-22 | 2024-01-25 | Academia Sinica | Plasma apparatus and methods for cracking a gas |
Family Cites Families (20)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1401692A (en) * | 1972-03-23 | 1975-07-30 | Electricity Council | Ozonisers |
US5387775A (en) * | 1993-03-31 | 1995-02-07 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Apparatus for the plasma destruction of hazardous gases |
US6540966B1 (en) * | 1998-06-29 | 2003-04-01 | Hadronic Press Inc. | Apparatus and method for recycling contaminated liquids |
US5969470A (en) * | 1996-11-08 | 1999-10-19 | Veeco Instruments, Inc. | Charged particle source |
FR2763778A1 (fr) * | 1997-05-21 | 1998-11-27 | Sunnen Technologies | Procede et dispositif de production d'un plasma hors d'equilibre |
FR2775864A1 (fr) * | 1998-03-06 | 1999-09-03 | Physiques Et Chimiques | Dispositif a decharges electriques froides et ses applications pour traiter des gaz, des vapeurs et/ou de la matiere solide ou liquide dispersee |
JP2001321633A (ja) * | 2000-05-18 | 2001-11-20 | Asahi Lite Optical Co Ltd | 異臭を除去する方法とその装置 |
DE60132089T2 (de) * | 2000-05-29 | 2008-12-11 | ADTEC Plasma Technology Co., Ltd., Fukuyama City | Vorrichtung zur behandlung von gasen miitels plasma |
CA2353752A1 (en) * | 2001-07-25 | 2003-01-25 | Precisionh2 Inc. | Production of hydrogen and carbon from natural gas or methane using barrier discharge non-thermal plasma |
JP2004089753A (ja) * | 2002-08-29 | 2004-03-25 | Aisin Seiki Co Ltd | ガス分解装置 |
US6802981B2 (en) * | 2002-11-05 | 2004-10-12 | Aquapure Technologies Ltd. | Method for purification and disinfection of water |
JP2005093361A (ja) * | 2003-09-19 | 2005-04-07 | Aisin Seiki Co Ltd | 回転式プラズマ反応器 |
JP4182213B2 (ja) * | 2003-11-10 | 2008-11-19 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 液面プラズマ反応による気相−液相混合装置および気相−液相反応方法並びにアンモニアおよび水素の生成と、有機溶媒への窒素固定方法および装置 |
JP4161056B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2008-10-08 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | 有機あるいは無機化合物合成装置および方法 |
US20070267289A1 (en) * | 2006-04-06 | 2007-11-22 | Harry Jabs | Hydrogen production using plasma- based reformation |
CN1900042A (zh) * | 2006-07-18 | 2007-01-24 | 大连海事大学 | 丙烯和分子氧直接氧化制备丙醛的装置 |
CN101164865B (zh) * | 2007-09-28 | 2010-05-19 | 中国科学院广州能源研究所 | 一种利用等离子体衍射制氢的反应器 |
CN101434428B (zh) * | 2008-12-03 | 2011-06-15 | 大连理工大学 | 用于水处理的液体电极沿面放电等离子体反应器 |
JP5782591B2 (ja) * | 2009-09-17 | 2015-09-24 | イマジニアリング株式会社 | ガス処理装置、及び内燃機関 |
DE102009048397A1 (de) | 2009-10-06 | 2011-04-07 | Plasmatreat Gmbh | Atmosphärendruckplasmaverfahren zur Herstellung oberflächenmodifizierter Partikel und von Beschichtungen |
-
2014
- 2014-04-10 JP JP2016507097A patent/JP6761342B2/ja active Active
- 2014-04-10 EP EP14728292.5A patent/EP2984909B1/en active Active
- 2014-04-10 CA CA2909099A patent/CA2909099A1/en not_active Abandoned
- 2014-04-10 US US14/782,734 patent/US10610849B2/en active Active
- 2014-04-10 AU AU2014252206A patent/AU2014252206B2/en not_active Ceased
- 2014-04-10 CN CN201480033118.2A patent/CN105532078A/zh active Pending
- 2014-04-10 BR BR112015025838A patent/BR112015025838A2/pt not_active IP Right Cessation
- 2014-04-10 RU RU2015142633A patent/RU2015142633A/ru not_active Application Discontinuation
- 2014-04-10 WO PCT/IB2014/060609 patent/WO2014167520A1/en active Application Filing
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2014167520A1 (en) | 2014-10-16 |
US20160030912A1 (en) | 2016-02-04 |
EP2984909B1 (en) | 2017-03-08 |
JP2016524519A (ja) | 2016-08-18 |
RU2015142633A (ru) | 2017-05-16 |
AU2014252206A1 (en) | 2015-10-29 |
CA2909099A1 (en) | 2014-10-16 |
BR112015025838A2 (pt) | 2017-07-25 |
EP2984909A1 (en) | 2016-02-17 |
CN105532078A (zh) | 2016-04-27 |
AU2014252206B2 (en) | 2017-09-14 |
US10610849B2 (en) | 2020-04-07 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
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|
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A977 | Report on retrieval |
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|
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|
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|
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|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
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|
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|
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|
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|
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|
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|
A601 | Written request for extension of time |
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|
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|
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|
A521 | Request for written amendment filed |
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|
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D04 |