JP2016524519A5

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Publication number: JP2016524519A5
Application number: JP2016507097A
Authority: JP
Filing date: 2014-04-10
Publication date: 2017-06-08
Anticipated expiration: 2034-04-10

Claims

化学物質、特に、酸、硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、ＮＯ、ＮＯ_２、ＮＯ_ｘ、Ｎ_ｘＯ_ｘ、又は、酸化された揮発性有機化合物のいずれかを、反応装置（２１１、…、２１４）において、低温プラズマという手段によって製造するための化学プロセスであって、
第一の電極（５１）、及び、第二の電極（５２２）を含み、一方に対して他方を配置することにより、それらの間にプラズマ発生領域（５２１）を規定している、上記反応装置（２１１、…、２１４）の発生装置（１１１、１１２、１１３）中において、上記低温プラズマを発生し、
その第一の電極（５１）及び／又は第二の電極（５２２）は、電源（１５、１６）によって供給されることで、電位差を、それらの間における、上記プラズマ発生領域（５２１）に定め、
気体に、上記プラズマ発生領域（５２１）を横断させることによって、プラズマガスを得、
上記第二の電極（５２２）は液体電極であり、
上記第一の電極（５１）は、回転可能であり、好ましくは、約２８００ｒｐｍの最大回転速度にて駆動する、化学プロセス。
上記プラズマ発生領域（５２１）を横断した上記プラズマガスが、上記プラズマ発生領域（５２１）に再循環され、上記プラズマガスのうちの再循環される一部は、上記発生装置を離れる上記プラズマガス、又は、プロセスのさらなる工程に向けて上記反応装置を離れる上記化学物質、特に、上記酸に対して、１：１０〜１０：１の範囲内に含まれる割合にある、請求項１に記載の化学プロセス。
化学物質、特に、酸、硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、ＮＯ、ＮＯ_２、ＮＯ_ｘ、Ｎ_ｘＯ_ｘ、又は、酸化された揮発性有機化合物のいずれかを、反応装置（２０１、２０２）において、低温プラズマという手段によって製造するための化学プロセスであって、
外部電極（２）、及び、内部電極（１）を含み、一方が他方を囲むように配置することで、それらの間にプラズマ発生領域（１２１）を規定する反応装置（２０１、２０２）の発生装置（１０１、１０２）中において、低温プラズマを発生し、
その内部電極（１）、及び／又は、外部電極（２）は、電源（１５、１６）によって供給されることで、電位差を、それらの間における上記プラズマ発生領域（１２１）に定め、
上記内部電極（１）及び外部電極（２）は、一方に対して他方を回転させ、
気体に、上記プラズマ発生領域（１２１）を横断させることによって、プラズマを得、
上記プラズマ発生領域（１２１）を横断したプラズマガスの一部を、上記プラズマ発生領域（１２１）に再循環させ、
上記外部電極（２）は、上記プラズマガスの流れに対して、少なくとも１つの再循環排出口（５）の下流に配置されている、プラズマガスの付加的な排出口（１０）を有している、化学プロセス。
上記プラズマガスのうちの再循環される一部は、上記発生装置を離れる上記プラズマガス、又は、プロセスのさらなる工程に向けて、反応装置を離れる、上記化学物質、特に、酸に対して、１：１０〜１０：１の範囲内に含まれる割合にある、請求項３に記載の化学プロセス。
少なくとも１つの発生装置（１０１、１０２）は、内部電極（１）の長手方向軸（Ｌ）が導電性液体の自由表面（１８）に対して、実質的に垂直であるように配置されている、前述の請求項に記載の化学プロセス。
導電性液体は、プラズマ発生領域（１２１）に入る気体を冷却するために使用され、上記プラズマ発生領域（１２１）に入る蒸気を好ましくは発生させ、反応装置において生成した酸、及び、気体／蒸気に対する凝縮工程を含む、請求項３〜５のいずれか１項に記載の化学プロセス。
凝縮工程の下流において、液体−気体の分離工程、及び、上記凝縮工程の下流において、少なくとも１回の冷却工程、好ましくは噴霧−冷却工程をさらに含む、前述の請求項に記載の化学プロセス。
酸の生成物を増やすのに適している付加的な反応工程を含み、当該付加的な反応工程が、上記凝縮工程、及び、好ましくは少なくとも１回の上記冷却工程の下流に設けられており、上記付加的な反応工程は、好ましくは噴霧、又は、スプレー手段を用いることによって、凝縮した酸と、気体／蒸気との間の接触面の増大をもたらし、凝縮した酸の再循環をもたらす、請求項７に記載の化学プロセス。
発生装置（１１１、１１２、１１３）の付加的な反応工程から気体／蒸気の再循環工程をさらに含む、請求項７に記載の化学プロセス。
酸は、Ｈ_２ＳＯ_４であり、プロセスは、硫黄の煙霧を生成する工程を含み、後者は、発生装置（１１１、１１２、１１３）のプラズマ発生領域（５２１）を横断する投入ガスである、前述の請求項に記載の化学プロセス。
プラズマ発生領域（５２１）への硫黄の煙霧の注入の前に、少なくとも１回の上記硫黄の煙霧の冷却工程を含み、酸は硝酸であり、発生装置（１１１、１１２、１１３）の上記プラズマ発生領域（５２１）を横断する投入ガスは空気である、前述の請求項のいずれか１項に記載の化学プロセス。
特に、酸、硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、ＮＯ、ＮＯ_２、ＮＯ_ｘ、Ｎ_ｘＯ_ｘ、又は、酸化された揮発性有機化合物のいずれかを製造するためのプロセスにおいて使用するのに適している、低温プラズマの発生装置（１１１、１１２、１１３）であって、
その装置（１１１、１１２、１１３）は、第一の電極（５１）、及び、第二の電極（５２、５２２）を含んでおり、それらの間にプラズマ発生領域（５２１）を規定するように配置されており、
その第一の電極（５１）及び／又は第二の電極（５２、５２２）は、電源（５１５、５１６）に接続されているか、又は、接続可能であることで、使用において、電位差を上記プラズマ発生領域（５２１）に定め、
その装置（１１１、１１２、１１３）は、上記プラズマ発生領域（５２１）を横断すべき気体のための吸入口（５８、５５）、及び、上記プラズマ発生領域（５２１）を横断しているプラズマガスのための少なくとも１つの再循環排出口（５５、５８）を有しており、
上記装置（１１１、１１２、１１３）は、上記第二の電極（５２、５２２）が、液体電極であるように構成されており、
上記第一の電極（５１）は、回転可能である、低温プラズマの発生装置（１１１、１１２、１１３）。
本体（５２）を含み、上記本体（５２）内に、上記第一の電極（５１）が、少なくとも部分的に受け入れられている、請求項１２に記載の発生装置（１１１）。
吸入口（５８、５５）及び／又は少なくとも１つの再循環排出口（５５、５８）が、本体（５２）に収められており、上記吸入口（５８、５５）、又は、少なくとも１つの上記再循環排出口（５５、５８）は、上記本体（５２）の端、好ましくは底に配置されており、少なくとも１つの上記再循環排出口（５５、５８）及び上記吸入口（５８、５５）は、上記本体（５２）の側壁又は縁に配置されている、前述の請求項に記載の発生装置（１１１）。
本体（５２）は、プラズマガスのための複数の再循環排出口（５５）を有しており、その排出口（５５）は、好ましくは、上記本体（５２）の側壁又は縁に配置されており、上記本体（５２）及び第一の電極（５１）は、夫々の長手方向軸（Ｌ）が実質的に平行又は一致しており、好ましくは、軸の共通の方向は、上記第一の電極（５１）の回転の軸（Ａ）のそれに対しても一致しているか、上記本体（５２）及び上記第一の電極（５１）は、同軸上に、又は偏心して配置されており、装置は、プラズマ発生領域（５２１）を通じて気体を引き込むのに適している気体吸入手段（５４）を含んでいる、請求項１２〜１４のいずれか１項に記載の発生装置（１１１）。
本体（５２）の断面積は、第一の電極（５１）の上記断面積よりも約２５〜１００倍の大きさを有しており、上記本体（５２）の直径は、上記第一の電極（５１）の直径よりも約５〜１０倍の大きさを有しており、上記本体（５２）は、好ましくはそれらの側壁又は縁に配置されている、少なくとも１つの液体吸入口（５５５）を有しており、当該配置にすることで、上記液体吸入口（５５５）が、上記本体（５２）を液体電極（５２２）に部分的に浸漬することを可能にし、少なくとも１つの上記液体吸入口（５５５）及び少なくとも１つの上記再循環排出口（５５、５８）は、上記本体（５２）の夫々の一部において、実質的に一方が他方に直交して配置されている、請求項１２〜１５のいずれか１項に記載の発生装置（１１１）。
気体吸入手段（５４）は、回転翼又は羽根車を含んでおり、後者は、回転可能な第一の電極（５１）に対し、好ましくは接続されており、より好ましくは固定されており、上記回転翼又は羽根車は、好ましくは、少なくとも部分的に、プラスチック材料でできている、前述の請求項に記載の発生装置（１１１）。
気体吸入手段は、本体（５２）の外側に配置されている、回転翼又は羽根車（６４）、好ましくは、遠心回転翼又は羽根車を含んでいる、請求項２に従属しているときの、請求項１２〜１７のいずれか１項に記載の発生装置（１１２）。
気体吸入手段は、本体（５２）の内径の約７０〜９５％、より好ましくは約６０〜９０％の範囲内に含まれる直径を有している回転翼又は羽根車（５４）を含んでいる、請求項２に従属しているときの、請求項１２に記載の発生装置（１１１）。
第一の電極（５１）と第二の電極（５１、５２２）との間に放電を引き起こすためのトリガー手段（５３）を含んでおり、上記トリガー手段（５３）は、尖端効果に基づいていて、上記第一の電極（５１）に接続されており、好ましくは固定されている、請求項１２〜１９のいずれか１項に記載の発生装置（１１１）。
前述の請求項のいずれか１項に記載の発生装置（１１１、１１２、１１３）と、
上記発生装置（１１１、１１２、１１３）における第一の電極（５１）、及び／又は、第二の電極（５２、５２２）に接続されているか、又は、接続可能である高い周波数又は高い電圧の発生装置と、上記発生装置（１１１、１１２、１１３）における上記電極（５１、５２、５２２）のうちの１つを、好ましくは約２８００ｒｐｍの最大回転速度で、回転するように駆動させるのに適しているモータと、を含んでいる、発生装置のアセンブリ。
特に、酸、硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、ＮＯ、ＮＯ_２、ＮＯ_ｘ、Ｎ_ｘＯ_ｘ、又は、酸化された揮発性有機化合物を製造するためのプロセスにおいて使用するのに適している、反応装置（２１１、…、２１４）であって、
その装置（２１１、…、２１４）は、少なくとも１つの発生装置（１１１、１１２、１１３）、又は、前述の請求項のいずれか１項に記載の発生装置のアセンブリを含み、上記装置（２１１、…、２１４）は、少なくとも１つの上記発生装置（１１１、１１２、１１３）において発生したプラズマガスが関与する反応によって上記反応装置において得られた気体／蒸気を出すための少なくとも１つの排出口（５１０）を有している、反応装置（２１１、…、２１４）。
その装置（２１１）は、少なくとも１つの発生装置（１１１、１１２、１１３）における液体電極（５２２）を受け入れるのに適している槽領域（５８０）を有している、前述の請求項に記載の反応装置（２１１）。
外部のケーシング（５１１）と、少なくとも部分的に上記ケーシング（５１１）の内部に配置されている、少なくとも１つの上記発生装置（１１１、１１２、１１３）と、液体電極（５２２）の水準を、制御及び／又は調整するための手段（５１８）と、を含んでおり、上記ケーシング（５１１）は、槽領域（５８０）を規定している、請求項２２又は２３に記載の反応装置（２１１）。
上記ケーシング（５１１）は、導電性液体吸入口（５１３）及び気体吸入口（５１２）を有しており、好ましくは、一方が他方に隣接して配置されており、上記ケーシング（５１１）は、その上端の一部に好ましくは配置されている、気体／蒸気の排出口（５１０）を有している、請求項２４に記載の反応装置（２１１）。
少なくとも１つの上記発生装置（１１１、１１２、１１３）は、第一の電極（５１）の長手方向軸（Ｌ）が、実質的に水平なように配置されている、請求項２２〜２５のいずれか１項に記載の反応装置（２１１）。
請求項２２〜２６のいずれか１項に記載の反応装置（２１１、…、２１４）、又は、請求項１２〜２０のいずれか１項に記載の発生装置（１１１、１１２、１１３）；と、
上記反応装置（２１１、…、２１４）、又は、上記発生装置（１１１、１１２、１１３）に動作可能なように接続されていることで、そこから出された気体／蒸気を投入するように受け入れる凝縮装置（７０）と、を含んでいる、化学プラント（３００、…、３０５）。
上記凝縮装置（７０）の下流に配置されている、液体−気体分離装置（８０）をさらに含む、請求項２７に記載の化学プラント（３０２）。
上記凝縮装置（７０）の下流に配置されている、少なくとも１つの冷却装置（９０）をさらに含んでおり、当該冷却装置は、好ましくは霧反応装置（９０）、及び、上記凝縮装置（７０）の下流及び好ましくは少なくとも１つの冷却装置（９０）の下流に配置されている、少なくとも１つの接触反応装置（４０）を含んでいる、請求項２７に記載の化学プラント（３０３、３０４）。
接触反応装置（４０）は、凝縮した生成物の循環手段（４２〜４４）を含んでいる、前述の請求項に記載の化学プラント（３０３、３０４）。
反応装置（２１１、…、２１４）における上記接触反応装置（４０）から気体を引き寄せるのに適している、上記接触反応装置（４０）と上記反応装置（２１１、…、２１４）との間の連絡手段（４７、４８、１２４）をさらに含み、冷却装置（９０）、及び／又は、上記接触反応装置（４０）は、（複数の）装置内で受け取った、凝縮された生成物の霧状化手段（９４、４６）を含んでいる、請求項２９又は３０に記載の化学プラント（３０４）。
硫黄の煙霧を生成するのに適しており、上記反応装置（２０１、２０２）の上流に配置されている、少なくとも１つの硫黄のバーナー（３０）をさらに含んでおり、（複数の）バーナー（３０）の下流、及び、上記反応装置（２０１、２０２）の上流に配置されている、少なくとも１つの冷却装置（３５）を含んでおり、硝酸、又は硫酸を製造する、請求項２７に記載の化学プラント（３０４）。
特に、酸、硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、ＮＯ、ＮＯ_２、ＮＯ_ｘ、Ｎ_ｘＯ_ｘ、又は、酸化された揮発性有機化合物のいずれかを製造するためのプロセスにおいて使用するのに適している低温プラズマの発生装置であって、
その装置（１０１、１０２）は、
一方が他方を囲むように配置することで、それらの間にプラズマ発生領域（１２１）を規定する、内部電極（１）及び／又は外部電極（２）、
ここで、上記内部電極（１）及び／又は外部電極（２）は、電源（１５、１６）に接続されているか、又は、接続可能であることで、使用において、電位差を上記プラズマ発生領域（１２１）に定め、
上記内部電極（１）及び外部電極（２）は、一方に対して他方が回転可能であり、
上記外部電極（２）は、上記プラズマ発生領域（１２１）を横断すべき気体のための吸入口（８）、及び、上記プラズマ発生領域（１２１）を横断した少なくとも１つのプラズマガスのための再循環排出口（５）を有している；と、
上記外部電極（１）と内部電極（２）との間に放電を引き起こすためのトリガー手段（３、３ａ）であって、二つの電極（１、２）のうちの回転電極（１）に接続され、好ましくは固定されている、トリガー手段（３、３ａ）；と、
上記プラズマ発生領域（１２１）を通じて気体を引き込むのに適している、気体吸入手段（４）であって、上記二つの電極（１、２）のうちの回転電極（１）に接続され、好ましくは固定されている気体吸入手段（４）；と、を含んでおり、
ここで、上記外部電極（２）は、上記プラズマガスの流れに対して、少なくとも１つの再循環排出口（５）の下流に配置されている、プラズマガスの付加的な排出口（１０）を有している、低温プラズマの発生装置。
上記外部電極（２）及び内部電極（１）の両方は、回転可能であり、上記外部電極（２）及び内部電極（１）は、夫々の長手方向軸（Ｌ）が、実質的に平行又は一致しており、軸の共通の方向は、好ましくは、関連している回転の軸（Ａ）のそれにも一致するように配置されている、請求項３３に記載の発生装置（１０１）。
上記内部電極（１）の中間支持材（７）を含み、当該中間支持材（７）は、上記二つの電極（１、２）の間において電気絶縁性を確保するのに適しており、
上記外部電極（２）の断面積は、上記内部電極（１）の断面積よりも約２５〜１００倍の大きさを有している、請求項３３又は３４に記載の発生装置（１０１）。
上記外部電極（２）及び内部電極（１）は、両方、実質的に円形の断面を有しており、上記外部電極（２）の直径は、上記内部電極（１）の直径よりも約５〜１０倍の大きさを有しており、上記内部電極（１）は、好ましくは、約２０〜２００ｍｍの範囲内に含まれる直径で、実質的に円形の断面を有しており、上記外部電極（２）、及び／又は、上記内部電極（１）は、約２００ｍｍと同じか、より大きな長さを有している、請求項３３〜３５のいずれか１項に記載の発生装置（１０１）。
上記外部電極（２）、及び／又は、上記内部電極（１）は、約２００ｍｍと同じか、より大きな長さを有しており、気体吸入口（８）は、上記外部電極（２）の端に、好ましくは底に配置されており、少なくとも１つの上記再循環排出口（５）は、上記外部電極（２）の側壁又は縁に配置されている、請求項３３〜３６のいずれか１項に記載の発生装置（１０１）。
少なくとも１つの上記再循環排出口（５）は、上記外部電極（２）の断面積と実質的に同じか、より大きな出口面積を規定している、請求項３３〜３７のいずれか１項に記載の発生装置（１０１）。
上記外部電極（２）は、上記プラズマガスのための複数の再循環排出口（５）を有しており、当該排出口（５）は、好ましくは、上記外部電極（２）の側壁又は縁に配置されており、上記外部電極（２）は、上記プラズマガスの流れに対して、少なくとも１つの再循環排出口（５）の下流に配置されている、プラズマガスの付加的な排出口（１０）を有している、請求項３３〜３８のいずれか１項に記載の発生装置（１０１）。
上記トリガー手段（３）は、上記電極（１、２）の回転電極（１）に固定されており、上記トリガー手段（３）は、尖端効果に基づいており、実施的に櫛形である、請求項３３〜３９のいずれか１項に記載の発生装置（１０１）。
上記気体吸入手段は、上記内部電極（１）及び外部電極（２）のうちの回転電極（１）に固定されている回転翼又は羽根車（４）を含んでおり、当該回転翼又は羽根車（４）は、好ましくは、少なくとも部分的にプラスチック材料でできている、請求項３３〜４０のいずれか１項に記載の発生装置（１０１）。
請求項３３〜４１のいずれか１項に記載の発生装置（１０１、１０２）と、
上記発生装置（１０１、１０２）における内部電極（１）及び／又は外部電極（２）に接続されているか、又は、接続可能である高い周波数又は高い電圧の発生装置と、を含んでいる、発生装置のアセンブリ。
特に、酸、硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、ＮＯ、ＮＯ_２、ＮＯ_ｘ、Ｎ_ｘＯ_ｘ、又は、酸化された揮発性有機化合物を製造するためのプロセスにおいて使用するのに適している反応装置（２０１、２０２）であって、
その装置（２０１、２０２）は、
少なくとも１つの発生装置（１０１、１０２）であって、
一方が他方を囲むように配置することで、それらの間にプラズマ発生領域（１２１）を規定する、外部電極（１）及び内部電極（２）、
ここで、上記内部電極（１）及び／又は外部電極（２）は、電源（１５、１６）に接続されているか、又は、接続可能であることで、使用において、電位差を上記プラズマ発生領域（１２１）に定め、
上記内部電極（１）及び外部電極（２）は、一方が、他方に対して回転可能であり、
上記外部電極（２）は、上記プラズマ発生領域（１２１）を横断すべき気体のための吸入口（８）、及び、上記プラズマ発生領域（１２１）を横断したプラズマガスのための少なくとも１つの再循環排出口（５）を有している；と、
上記外部電極（１）と内部電極（２）との間に放電を引き起こすためのトリガー手段（３、３ａ）であって、二つの電極（１、２）のうちの回転電極（１）に接続され、好ましくは固定されているトリガー手段（３、３ａ）；と、
上記プラズマ発生領域（１２１）を通じて気体を引き込むのに適している、気体吸入手段（４）であって、上記二つの電極（１、２）のうちの回転電極（１）に接続され、好ましくは固定されている気体吸入手段（４）；と、を含んでいる、発生装置（１０１、１０２）、
又は、少なくとも１つの上記発生装置（１０１、１０２）、及び、上記発生装置（１０１、１０２）の上記内部電極（１）及び／又は外部電極（２）に接続されているか、又は、接続可能な高い周波数又は高い電圧の発生装置を含んでいる、発生装置のアセンブリ、
を含んでおり、
上記装置（２０１、２０２）は、導電性液体を受け入れるのに適している槽領域（１８０）を有しており、上記配置は、上記発生装置（１０１、１０２）の上記内部電極（１）及び外部電極（２）のうちの１つが、上記槽領域（１８０）に部分的に受け入れられ、使用において、上記導電性液体に少なくとも部分的に浸漬されるようになっており、
上記装置（２０１、２０２）は、少なくとも１つの上記発生装置において発生した上記プラズマガスが関与する反応によって、上記反応装置において得られた気体／蒸気を出すための排出口（５１０）を有している、反応装置（２０１、２０２）。
ケーシング（１１）は、槽領域（１８０）を規定し、後者は、好ましくは実質的に球形又は鉢形であり、上記ケーシング（１１）は、好ましくは対向して配置されている、導電性液体吸入口（１３）及び気体吸入口（１２）を有している、前述の請求項に記載の反応装置（２０１）。
内部電極（１）は、使用において、上記槽領域（１８０）に受け入れられている導電性液体に、少なくとも部分的に浸漬されるように配置されており、少なくとも１つの発生装置（１０１、１０２）は、その長手方向軸（Ｌ）、好ましくは、上記内部電極（１）の長手方向軸が、上記導電性液体の自由表面（１８）に対して、実質的に垂直であるように配置されている、請求項４３又は４４のいずれか１項に記載の反応装置（２０１）。
上記槽領域（１８０）の内部における上記導電性液体の水準を、制御及び／又は調整するための手段（１８）を含んでおり、少なくとも１つの発生装置（１０１、１０２）は、内部電極（１）の長手方向軸（Ｌ）が、実質的に鉛直であるように配置されている、請求項４３〜４５のいずれか１項に記載の反応装置（２０１）。
請求項３３〜４１のいずれか１項に記載の、複数の発生装置（１０１、１０２）及び／又は発生装置のアセンブリの夫々、好ましくは、ケーシング（１１）の下部に配置されている液体排出口（１７、２１７）と、上記ケーシング（１１）の内部に規定されている反応環境を、冷却又は加熱するための手段と、を含んでおり、第二の電極は、格子形（２２２）である、請求項４３〜４６のいずれか１項に記載の反応装置（２０１）。
窒素及び酸素を投与するための手段、及び／又は、圧力下において上記気体の生成物を保管するための圧縮手段と、ファン及び／又は熱交換器と、をさらに含んでいる、請求項４３〜４７のいずれか１項に記載の装置（２０１、２０２、１１４）。
請求項４３〜４８のいずれか１項に記載の反応装置（２０１、２０２）、又は、請求項３３〜４２のいずれか１項に記載の発生装置（１０１、１０２）と、
上記反応装置（２０１、２０２）、又は、上記発生装置（１０１、１０２）に動作可能に接続されていることで、そこから出された気体／蒸気を投入するように受け入れる、凝縮装置（７０）と、
硫黄の煙霧を生成するのに適しており、上記反応装置（２０１、２０２）の上流に配置されている、少なくとも１つの硫黄のバーナー（３０）と、を含んでおり、上記バーナー（３０）の下流、及び、上記反応装置（２０１、２０２）の上流に配置されている、少なくとも１つの冷却装置（３５）を含んでいる、化学プラント（３００、…、３０４）。
化学物質、特に、酸、硝酸、硫酸、硝酸アンモニウム、硫酸アンモニウム、硝酸カルシウム、ＮＯ、ＮＯ_２、ＮＯ_ｘ、Ｎ_ｘＯ_ｘ、又は、酸化された揮発性有機化合物のいずれかを製造するための化学プロセスであって、前述の請求項のいずれか１項に記載の発生装置（１０１、１０２）、発生装置のアセンブリ、反応装置（２０１、２０２）又はプラント（３００、…、３０４）を使用する、化学プロセス。