JP2001321633A - 異臭を除去する方法とその装置 - Google Patents
異臭を除去する方法とその装置Info
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- JP2001321633A JP2001321633A JP2000146273A JP2000146273A JP2001321633A JP 2001321633 A JP2001321633 A JP 2001321633A JP 2000146273 A JP2000146273 A JP 2000146273A JP 2000146273 A JP2000146273 A JP 2000146273A JP 2001321633 A JP2001321633 A JP 2001321633A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 硫黄系あるいは窒素系の異臭を有する空気の
臭気除去に関するもので、詳しくは含硫エピスルフィド
樹脂から発散する異臭を除去する方法とその装置を提供
することである。 【解決手段】 電極２と３の間隙に無声放電を行って生
起する低温の空気プラズマ又は酸素プラズマガス領域１
２中に、硫黄系又は窒素系の異臭を有する分子を含んだ
空気を直接混入し、プラズマガス中に生成したオゾン又
はヒドロキシラジカルを異臭を有する分子と化学反応を
起こさせ、異臭を有する分子を異なる分子に変えて異臭
を除去する。
臭気除去に関するもので、詳しくは含硫エピスルフィド
樹脂から発散する異臭を除去する方法とその装置を提供
することである。 【解決手段】 電極２と３の間隙に無声放電を行って生
起する低温の空気プラズマ又は酸素プラズマガス領域１
２中に、硫黄系又は窒素系の異臭を有する分子を含んだ
空気を直接混入し、プラズマガス中に生成したオゾン又
はヒドロキシラジカルを異臭を有する分子と化学反応を
起こさせ、異臭を有する分子を異なる分子に変えて異臭
を除去する。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、異臭を有する空気
の脱臭に関する。
の脱臭に関する。
【０００２】
【従来の技術】異臭を有する空気の臭気成分としては、
硫黄系化合物とアンモニアが生活環境の中で一般的なも
のであり、オゾンを用いた脱臭装置は、メチルメルカプ
タン、硫化メチル、硫化水素などの硫黄系化合物、アミ
ン類、アルデヒト類、低級脂肪酸類など多くの臭気成分
の除去に対して有効であることはよく知られている。ま
たオゾン発生装置としては一対の電極に高電圧を印加し
無声放電を行って空気中の酸素を励起するが、電極の構
造により平板型、管状型、回転型など種々の形状の装置
が存在する。オゾンを利用した脱臭装置は多数の先願が
あり、オゾン発生装置から吐出されたオゾンを異臭を有
する空気と混合して異臭成分を酸化するが酸化を促進す
るために触媒を使用することも行われている。本願発明
者はプラスチックレンズ作成に際し、高屈折率樹脂とし
て含硫エピスルフィド樹脂を使用する場合の極めて強い
異臭を除去しようとして種々試みた結果本発明に到達し
たものである。
硫黄系化合物とアンモニアが生活環境の中で一般的なも
のであり、オゾンを用いた脱臭装置は、メチルメルカプ
タン、硫化メチル、硫化水素などの硫黄系化合物、アミ
ン類、アルデヒト類、低級脂肪酸類など多くの臭気成分
の除去に対して有効であることはよく知られている。ま
たオゾン発生装置としては一対の電極に高電圧を印加し
無声放電を行って空気中の酸素を励起するが、電極の構
造により平板型、管状型、回転型など種々の形状の装置
が存在する。オゾンを利用した脱臭装置は多数の先願が
あり、オゾン発生装置から吐出されたオゾンを異臭を有
する空気と混合して異臭成分を酸化するが酸化を促進す
るために触媒を使用することも行われている。本願発明
者はプラスチックレンズ作成に際し、高屈折率樹脂とし
て含硫エピスルフィド樹脂を使用する場合の極めて強い
異臭を除去しようとして種々試みた結果本発明に到達し
たものである。
【０００３】プラスチックレンズ用の樹脂の屈折率を高
くする方法として、ハロゲン（フッ素を除く）原子の導
入、芳香環の導入、硫黄原子の導入などの方法が提案さ
れている。レンズ用樹脂として、屈折率が高く、アッベ
数が高いことが望ましいが、屈折率が上昇するとアッベ
数が低くなるという相反する物性であるために両物性を
同時に向上させることは困難であった。アッベ数の低下
を抑制しながらより高い屈折率を有する樹脂の検討がな
されいくつかの提案がなされている。近年、高屈折率光
学用樹脂としてチオウレタン樹脂が代表的な樹脂として
用いられ屈折率も１．６０〜１．６７の高屈折率樹脂レ
ンズが実用化されている。しかしながら無機ガラスレン
ズの屈折率は更に高く、これに追従するために更なる光
学用樹脂の開発が進められ、エピスルフィド基を有する
化合物を重合硬化せしめた樹脂生成物が提案され、屈折
率が１．７０以上の優れた特性が得られ、更に屈折率が
１．７４なる高屈折率樹脂も上市されている。しかしな
がらこの屈折率１．７４の含硫エピスルフィド樹脂はレ
ンズ成形工程では異臭が強く嫌気性であるために未硬化
部分が周囲に付着するなど取扱いは簡単なものではな
い。しかし、１．７４という高屈折率樹脂は他に得難い
ものであるためにこれらの欠点を除去する研究が盛んに
行われているところである。
くする方法として、ハロゲン（フッ素を除く）原子の導
入、芳香環の導入、硫黄原子の導入などの方法が提案さ
れている。レンズ用樹脂として、屈折率が高く、アッベ
数が高いことが望ましいが、屈折率が上昇するとアッベ
数が低くなるという相反する物性であるために両物性を
同時に向上させることは困難であった。アッベ数の低下
を抑制しながらより高い屈折率を有する樹脂の検討がな
されいくつかの提案がなされている。近年、高屈折率光
学用樹脂としてチオウレタン樹脂が代表的な樹脂として
用いられ屈折率も１．６０〜１．６７の高屈折率樹脂レ
ンズが実用化されている。しかしながら無機ガラスレン
ズの屈折率は更に高く、これに追従するために更なる光
学用樹脂の開発が進められ、エピスルフィド基を有する
化合物を重合硬化せしめた樹脂生成物が提案され、屈折
率が１．７０以上の優れた特性が得られ、更に屈折率が
１．７４なる高屈折率樹脂も上市されている。しかしな
がらこの屈折率１．７４の含硫エピスルフィド樹脂はレ
ンズ成形工程では異臭が強く嫌気性であるために未硬化
部分が周囲に付着するなど取扱いは簡単なものではな
い。しかし、１．７４という高屈折率樹脂は他に得難い
ものであるためにこれらの欠点を除去する研究が盛んに
行われているところである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、硫黄系あるいは窒素系の異臭を有する空気
の臭気除去に関するもので、詳しくは含硫エピスルフィ
ド樹脂から発散する異臭を除去する方法とその装置を提
供することである。
する課題は、硫黄系あるいは窒素系の異臭を有する空気
の臭気除去に関するもので、詳しくは含硫エピスルフィ
ド樹脂から発散する異臭を除去する方法とその装置を提
供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の異臭除去方法
は、低温の空気プラズマ又は酸素プラズマ中に、硫黄系
又は窒素系の異臭を有する分子を含んだ空気を直接混入
し、プラズマガス中に生成したオゾン又はヒドロキシラ
ジカルを異臭を有する分子と化学反応を起こさせ、異臭
をもつ分子を異なる分子に変えて異臭を除去する。
は、低温の空気プラズマ又は酸素プラズマ中に、硫黄系
又は窒素系の異臭を有する分子を含んだ空気を直接混入
し、プラズマガス中に生成したオゾン又はヒドロキシラ
ジカルを異臭を有する分子と化学反応を起こさせ、異臭
をもつ分子を異なる分子に変えて異臭を除去する。
【０００６】気体に然るべき必要な高電圧をかけると、
僅かに存在する荷電粒子を加速して高エネルギー粒子と
なし、他の分子や原子と衝突して解離やイオン化をもた
らすことになる。生成した電子も、電場により又加速さ
れ、次の分子に衝突し、この繰り返しで次々にイオン化
を引き起こし、所詮電子雪崩を生じ、安定なプラズマ状
態を電極間につくり出す。このプラズマ中には、高速で
運動する電子の他に、イオン、ラジカル、励起分子、紫
外光が存在するので、電極間に異臭を有する分子を直接
混入し、化学反応を生起させて異臭を有する分子の構造
又は成分変化を起こさせることにより消臭する。異臭を
有する分子で化学反応を起こさないものがあるが、プラ
ズマガス中に生成されたオゾンやヒドロキシラジカルに
より化学反応を起こさせることにより、異臭を有する分
子の構造又は成分変化を起こし消臭する。
僅かに存在する荷電粒子を加速して高エネルギー粒子と
なし、他の分子や原子と衝突して解離やイオン化をもた
らすことになる。生成した電子も、電場により又加速さ
れ、次の分子に衝突し、この繰り返しで次々にイオン化
を引き起こし、所詮電子雪崩を生じ、安定なプラズマ状
態を電極間につくり出す。このプラズマ中には、高速で
運動する電子の他に、イオン、ラジカル、励起分子、紫
外光が存在するので、電極間に異臭を有する分子を直接
混入し、化学反応を生起させて異臭を有する分子の構造
又は成分変化を起こさせることにより消臭する。異臭を
有する分子で化学反応を起こさないものがあるが、プラ
ズマガス中に生成されたオゾンやヒドロキシラジカルに
より化学反応を起こさせることにより、異臭を有する分
子の構造又は成分変化を起こし消臭する。
【０００７】また、前出の硫黄系又は窒素系の異臭を有
する分子を含んだ空気に水分を含ませることを特徴とし
ており、水分子が解離してオゾンやヒドロキシラジカル
の供給が活発になる。水分の供給は湿度調整により行わ
れる。
する分子を含んだ空気に水分を含ませることを特徴とし
ており、水分子が解離してオゾンやヒドロキシラジカル
の供給が活発になる。水分の供給は湿度調整により行わ
れる。
【０００８】装置としては、低温の空気プラズマ又は酸
素プラズマを発生させる電極間に、硫黄系又は窒素系の
異臭を有する分子を含んだ空気を直接混入する吸気口を
有し、前記電極間に発生するプラズマガス中に生成した
オゾン又はヒドロキシラジカルを前記異臭を有する分子
と化学反応を起こさせ、化学反応後の異臭のない空気を
排出する排出口を設ける。電極の構造としては互いに絶
縁された２重の金属製円筒構造として外側の円筒を固定
し、内側の円筒を回転させ２個の円筒の作る間隙に流入
する異臭分子を含む空気の乱流により生ずるプラズマの
乱れを防止して均一なプラズマを維持するようにしてい
る。２個の円筒は相対的に異なる周速を有すればよいか
ら、いずれの円筒を回転もしくは固定しても差し支えな
い。２個の円筒の作る間隙内の空気の移動は吸気口及び
／又は排気口側にファンとダンパを設けて流量を調節す
る。
素プラズマを発生させる電極間に、硫黄系又は窒素系の
異臭を有する分子を含んだ空気を直接混入する吸気口を
有し、前記電極間に発生するプラズマガス中に生成した
オゾン又はヒドロキシラジカルを前記異臭を有する分子
と化学反応を起こさせ、化学反応後の異臭のない空気を
排出する排出口を設ける。電極の構造としては互いに絶
縁された２重の金属製円筒構造として外側の円筒を固定
し、内側の円筒を回転させ２個の円筒の作る間隙に流入
する異臭分子を含む空気の乱流により生ずるプラズマの
乱れを防止して均一なプラズマを維持するようにしてい
る。２個の円筒は相対的に異なる周速を有すればよいか
ら、いずれの円筒を回転もしくは固定しても差し支えな
い。２個の円筒の作る間隙内の空気の移動は吸気口及び
／又は排気口側にファンとダンパを設けて流量を調節す
る。
【０００９】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図を用いて
説明する。図１は本発明の臭気除去装置１の模式断面図
である。導電体からなる電極２は円筒状であり、これと
同心上で回転可能に軸支された導電体からなる電極３が
配置されている。電極２にはフランジ４，５が嵌設さ
れ、これらに取り付けられた軸受け６，７に回転軸８を
挿通し、この軸に絶縁円板１３ａ，１３ｂを介して電極
３が固定され、電極２と３の間隙を一定に保ちながら回
転軸８をモータ（図示せず）で駆動する。回転する電極
３には摺動して通電するための円環板９が取着されてお
り、絶縁体１０の内部に挿設された端子１１から高電圧
が印加される。フランジ４，５には十分な開口面積を有
する吸気口５ａと排気口４ａが設けられており、電極２
内の空気を図の左から右側へ移動させると空気は矢印
Ａ，Ｂで示されるように電極２と３の間隙を通じて流れ
る。空気の移動は軸流ファン、クロスファン、シロッコ
ファンなどを用いて行い、空気の流路にダンパーを用い
るかファンの回転数を調節して流量を調節する。本実施
例では、含硫エピスルフィド樹脂から発散する異臭空気
を流通し、電極２と３の間隙を６ｍｍにして６０００Ｖ
の高周波電圧を印加し無声放電を生じさせ異臭空気中の
酸素に電荷を供給してコロナ状放電を生起させプラズマ
ガス領域１２を形成した。排気側の空気には異臭が感じ
られなかった。生起した直後の酸化力の強いオゾンが臭
気を有する分子に作用し異なった性質の分子に変えたも
のと推定される。オゾンの酸化作用と高速で移動する荷
電粒子が分子結合を分解したことによるが、従来法のオ
ゾンを別に発生させて異臭空気と混合する場合と異な
り、異臭分子が高エネルギーのコロナ状放電のプラズマ
ガス領域を通過するので変質させる機能が高められる。
電極３を回転させる利点としては、放電が特定箇所に集
中することなく満遍に行われることと流通する空気に乱
流が生じて放電の条件が変動しても放電を維持しやすい
ことなどが挙げられる。
説明する。図１は本発明の臭気除去装置１の模式断面図
である。導電体からなる電極２は円筒状であり、これと
同心上で回転可能に軸支された導電体からなる電極３が
配置されている。電極２にはフランジ４，５が嵌設さ
れ、これらに取り付けられた軸受け６，７に回転軸８を
挿通し、この軸に絶縁円板１３ａ，１３ｂを介して電極
３が固定され、電極２と３の間隙を一定に保ちながら回
転軸８をモータ（図示せず）で駆動する。回転する電極
３には摺動して通電するための円環板９が取着されてお
り、絶縁体１０の内部に挿設された端子１１から高電圧
が印加される。フランジ４，５には十分な開口面積を有
する吸気口５ａと排気口４ａが設けられており、電極２
内の空気を図の左から右側へ移動させると空気は矢印
Ａ，Ｂで示されるように電極２と３の間隙を通じて流れ
る。空気の移動は軸流ファン、クロスファン、シロッコ
ファンなどを用いて行い、空気の流路にダンパーを用い
るかファンの回転数を調節して流量を調節する。本実施
例では、含硫エピスルフィド樹脂から発散する異臭空気
を流通し、電極２と３の間隙を６ｍｍにして６０００Ｖ
の高周波電圧を印加し無声放電を生じさせ異臭空気中の
酸素に電荷を供給してコロナ状放電を生起させプラズマ
ガス領域１２を形成した。排気側の空気には異臭が感じ
られなかった。生起した直後の酸化力の強いオゾンが臭
気を有する分子に作用し異なった性質の分子に変えたも
のと推定される。オゾンの酸化作用と高速で移動する荷
電粒子が分子結合を分解したことによるが、従来法のオ
ゾンを別に発生させて異臭空気と混合する場合と異な
り、異臭分子が高エネルギーのコロナ状放電のプラズマ
ガス領域を通過するので変質させる機能が高められる。
電極３を回転させる利点としては、放電が特定箇所に集
中することなく満遍に行われることと流通する空気に乱
流が生じて放電の条件が変動しても放電を維持しやすい
ことなどが挙げられる。
【００１０】異臭が除去された空気に含まれる余剰のオ
ゾンは人体に有害であり濃度の規制もあるので０．１ｐ
ｐｍ以下に調整する必要があるが、流通する空気の量を
調整するか活性炭などの触媒に吸着させて調整する。ま
た、流通する異臭を有する空気の湿度を高くすると、高
エネルギーの荷電粒子が水分子に作用して更に反応性の
高いヒドロキシラジカルを生成することも可能であり消
臭作用の応用範囲が拡大する。本実施例では含硫エピス
ルフィド樹脂から発散する異臭空気について述べている
が、メチルメルカプタン、硫化メチル、硫化水素などの
硫黄系化合物、窒素系のアミン類のほかアルデヒト類、
低級脂肪酸類など多くの臭気成分の除去についても、従
来法のオゾンを別に発生させて混合する方法より効率の
よい臭気除去を行うことが出来る。
ゾンは人体に有害であり濃度の規制もあるので０．１ｐ
ｐｍ以下に調整する必要があるが、流通する空気の量を
調整するか活性炭などの触媒に吸着させて調整する。ま
た、流通する異臭を有する空気の湿度を高くすると、高
エネルギーの荷電粒子が水分子に作用して更に反応性の
高いヒドロキシラジカルを生成することも可能であり消
臭作用の応用範囲が拡大する。本実施例では含硫エピス
ルフィド樹脂から発散する異臭空気について述べている
が、メチルメルカプタン、硫化メチル、硫化水素などの
硫黄系化合物、窒素系のアミン類のほかアルデヒト類、
低級脂肪酸類など多くの臭気成分の除去についても、従
来法のオゾンを別に発生させて混合する方法より効率の
よい臭気除去を行うことが出来る。
【００１１】
【発明の効果】以上述べたように、本発明の方法によれ
ば異臭を有する空気を直接コロナ放電領域に流通させる
ので異臭分子にオゾンや高エネルギーの荷電粒子が作用
する確率が高く種々の異臭分子を分解することが出来
る。
ば異臭を有する空気を直接コロナ放電領域に流通させる
ので異臭分子にオゾンや高エネルギーの荷電粒子が作用
する確率が高く種々の異臭分子を分解することが出来
る。
【図１】本発明の異臭除去装置の模式断面図である。
１ 異臭除去装置 2,3 電極 4,5 フランジ 4a 排気口 5a 吸気口 6,7 軸受け ８ 回転軸 ９ 円環板 10 絶縁体 11 端子 12 プラズマ領域 13 絶縁円板
Claims (3)
- 【請求項１】 低温の空気プラズマ又は酸素プラズマ中
に、硫黄系又は窒素系の異臭を有する分子を含んだ空気
を直接混入し、プラズマガス中に生成したオゾン又はヒ
ドロキシラジカルを異臭を有する分子と化学反応を起こ
させ、異臭を有する分子を異なる分子に変えて異臭を除
去する方法。 - 【請求項２】 硫黄系又は窒素系の異臭を有する分子を
含んだ空気に水分を含ませることを特徴とする請求項１
に記載の異臭を除去する方法。 - 【請求項３】 低温の空気プラズマ又は酸素プラズマを
発生させる電極間に、硫黄系又は窒素系の異臭を有する
分子を含んだ空気を直接混入するための吸気口と、前記
電極間に発生するプラズマガス中に生成したオゾン又は
ヒドロキシラジカルを前記異臭を有する分子と化学反応
を起こさせる空隙と、化学反応後の空気を排出する排出
口を有する異臭除去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000146273A JP2001321633A (ja) | 2000-05-18 | 2000-05-18 | 異臭を除去する方法とその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000146273A JP2001321633A (ja) | 2000-05-18 | 2000-05-18 | 異臭を除去する方法とその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001321633A true JP2001321633A (ja) | 2001-11-20 |
Family
ID=18652657
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000146273A Pending JP2001321633A (ja) | 2000-05-18 | 2000-05-18 | 異臭を除去する方法とその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001321633A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008192618A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Se Plasma Inc | 突出したプラズマ排出口の周囲に吸入口が形成されたプラズマ発生装置 |
| CN104206026A (zh) * | 2011-12-08 | 2014-12-10 | 三星电子株式会社 | 等离子体发生装置 |
| JP2016524519A (ja) * | 2013-04-10 | 2016-08-18 | アムリカ メルサンタイル プライベート リミテッド | 低温プラズマの発生装置、及び、関連する化学物質を製造するため方法 |
| JP2019534531A (ja) * | 2016-09-02 | 2019-11-28 | ソムニオ グローバル ホールディングス，エルエルシー | フリーラジカル発生の装置と方法 |
-
2000
- 2000-05-18 JP JP2000146273A patent/JP2001321633A/ja active Pending
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008192618A (ja) * | 2007-02-06 | 2008-08-21 | Se Plasma Inc | 突出したプラズマ排出口の周囲に吸入口が形成されたプラズマ発生装置 |
| CN104206026A (zh) * | 2011-12-08 | 2014-12-10 | 三星电子株式会社 | 等离子体发生装置 |
| US9452236B2 (en) | 2011-12-08 | 2016-09-27 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Plasma generating apparatus |
| JP2016524519A (ja) * | 2013-04-10 | 2016-08-18 | アムリカ メルサンタイル プライベート リミテッド | 低温プラズマの発生装置、及び、関連する化学物質を製造するため方法 |
| JP2019534531A (ja) * | 2016-09-02 | 2019-11-28 | ソムニオ グローバル ホールディングス，エルエルシー | フリーラジカル発生の装置と方法 |
| US12040164B2 (en) | 2016-09-02 | 2024-07-16 | Somnio Global Holdings, Llc | Free radical generation device and methods thereof |
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