JP6760479B2 - ノッチフィルタ - Google Patents

ノッチフィルタ Download PDF

Info

Publication number
JP6760479B2
JP6760479B2 JP2019505846A JP2019505846A JP6760479B2 JP 6760479 B2 JP6760479 B2 JP 6760479B2 JP 2019505846 A JP2019505846 A JP 2019505846A JP 2019505846 A JP2019505846 A JP 2019505846A JP 6760479 B2 JP6760479 B2 JP 6760479B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
gap
reflector
sound velocity
wavelength
electrode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019505846A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2018168439A1 (ja
Inventor
幸治 宮本
幸治 宮本
克也 大門
克也 大門
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Murata Manufacturing Co Ltd filed Critical Murata Manufacturing Co Ltd
Publication of JPWO2018168439A1 publication Critical patent/JPWO2018168439A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6760479B2 publication Critical patent/JP6760479B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezo-electric or electrostrictive material
    • H03H9/547Notch filters, e.g. notch BAW or thin film resonator filters
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/02535Details of surface acoustic wave devices
    • H03H9/02543Characteristics of substrate, e.g. cutting angles
    • H03H9/02574Characteristics of substrate, e.g. cutting angles of combined substrates, multilayered substrates, piezoelectrical layers on not-piezoelectrical substrate
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/02Details
    • H03H9/125Driving means, e.g. electrodes, coils
    • H03H9/13Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials
    • H03H9/132Driving means, e.g. electrodes, coils for networks consisting of piezoelectric or electrostrictive materials characterized by a particular shape
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/15Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/17Constructional features of resonators consisting of piezoelectric or electrostrictive material having a single resonator
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/64Filters using surface acoustic waves
    • H03H9/6406Filters characterised by a particular frequency characteristic
    • H03H9/6409SAW notch filters
    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/64Filters using surface acoustic waves
    • H03H9/6423Means for obtaining a particular transfer characteristic
    • H03H9/6433Coupled resonator filters
    • H03H9/6483Ladder SAW filters

Description

本発明は、ノッチフィルタに関する。
下記の特許文献1には、弾性表面波を用いるノッチフィルタの一例が開示されている。このノッチフィルタは、圧電基板に構成された複数の弾性波共振子を有する。
特開2012−257050号公報
例えば、LiTaOからなる圧電基板を用いた従来のノッチフィルタにおいては、ストップバンド上端に起因するレスポンスであるストップバンドレスポンスは、通過帯域内に発生し難い。なお、ストップバンドとは、弾性波がグレーティングに閉じ込められることにより、弾性波の波長が一定となる領域をいう。他方、圧電薄膜、低音速膜及び高音速部材が積層された積層体を用いたノッチフィルタの場合は、Q値が高く、素子の特性が良好であるが、ストップバンドレスポンスまでもが大きくなる傾向がある。そのため、通過帯域内におけるリップルが大きくなる傾向がある。
本発明の目的は、通過帯域におけるストップバンドレスポンスを抑制することができ、リップルを抑制することができる、ノッチフィルタを提供することにある。
本発明に係るノッチフィルタは、高音速部材と、前記高音速部材上に設けられた低音速膜と、前記低音速膜上に設けられた圧電薄膜と、で構成されており、前記低音速膜を伝搬するバルク波の音速は、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波の音速よりも低く、前記高音速部材を伝搬するバルク波の音速は、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波の音速よりも高い、圧電性を有する基板と、前記圧電性を有する基板の前記圧電薄膜上に設けられているIDT電極と、前記圧電性を有する基板の前記圧電薄膜上において、前記IDT電極の弾性波伝搬方向両側に設けられている反射器とを備え、前記IDT電極及び前記反射器がそれぞれ電極指を有し、前記IDT電極の電極指ピッチにより規定される波長をλとしたときに、前記IDT電極の前記電極指のうち最も前記反射器側に位置する電極指と、前記反射器の前記電極指のうち最も前記IDT電極側に位置する電極指との電極指中心間距離をIRギャップGIRとしたときに、前記IRギャップGIRが0.1λ≦GIR<0.5λ及び0.5λ<GIR≦0.9λのうち一方の範囲内である。
本発明に係るノッチフィルタのある特定の局面では、前記IRギャップGIRが、0.4λ≦GIR<0.5λ及び0.5λ<GIR≦0.6λのうち一方の範囲内である。この場合には、IDT電極及び反射器を容易に形成することができ、生産性を高めることができる。
本発明に係るノッチフィルタの他の特定の局面では、前記IRギャップGIRが、0.2λ≦GIR≦0.4λ及び0.6λ≦GIR≦0.8λのうち一方の範囲内である。この場合には、通過帯域においてリップルをより一層抑制することができる。
本発明に係るノッチフィルタのさらに他の特定の局面では、前記反射器の前記電極指の本数が21本以下である。この場合には、通過帯域においてリップルをより一層抑制することができる。
本発明に係るノッチフィルタの別の特定の局面では、前記反射器の電極指ピッチにより規定される波長をλとしたときに、0.91λ≦λ≦5λである。この場合には、通過帯域においてリップルをより一層抑制することができる。
本発明に係るノッチフィルタのさらに別の特定の局面では、前記高音速部材は、支持基板と、前記支持基板上に形成されており、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波の音速より伝搬するバルク波の音速が高い高音速膜とで構成される。
本発明によれば、通過帯域におけるストップバンドレスポンスを抑制することができ、リップルを抑制することができる、ノッチフィルタを提供することができる。
図1は、本発明の第1の実施形態に係るノッチフィルタの正面断面図である。 図2は、本発明の第1の実施形態に係るノッチフィルタの回路図である。 図3は、本発明の第1の実施形態における第1の端子側に配置された弾性波共振子の電極構成を示す模式的平面図である。 図4は、IRギャップGIRが0.1λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図5は、IRギャップGIRが0.2λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図6は、IRギャップGIRが0.3λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図7は、IRギャップGIRが0.4λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図8は、IRギャップGIRが0.45λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図9は、IRギャップGIRが0.55λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図10は、IRギャップGIRが0.6λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図11は、IRギャップGIRが0.7λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図12は、IRギャップGIRが0.8λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図13は、IRギャップGIRが0.9λである本発明の第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図14は、IRギャップGIRが0.01λである第2の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図15は、IRギャップGIRが1λである第3の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。 図16は、本発明の第1の実施形態及び第1の参考例において、IRギャップGIRが0.45λであり、反射器の電極指の本数が21本、11本、0本である場合の減衰量周波数特性を示す図である。 図17は、本発明の第1の実施形態及び第1の参考例において、IRギャップGIRが0.55λであり、反射器の電極指の本数が21本、11本、0本である場合の減衰量周波数特性を示す図である。 図18は、第2の参考例において、反射器の電極指の本数が21本、11本、0本である場合の減衰量周波数特性を示す図である。 図19は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが1.1λである場合及び波長λが1λである場合の、減衰量周波数特性を示す図である。 図20は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが1.1λである場合及び波長λが1λである場合の、減衰量周波数特性を示す図である。 図21は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが0.91λ、0.92λ、0.93λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図22は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが0.94λ、0.95λ、0.96λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図23は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが0.97λ、0.98λ、0.99λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図24は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが1.01λ、1.02λ、1.03λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図25は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが1.04λ、1.05λ、1.06λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図26は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが1.07λ、1.08λ、1.09λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図27は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが2λ、3λ、5λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図28は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが0.91λ、0.92λ、0.93λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図29は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが0.94λ、0.95λ、0.96λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図30は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが0.97λ、0.98λ、0.99λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図31は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが1.01λ、1.02λ、1.03λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図32は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが1.04λ、1.05λ、1.06λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図33は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが1.07λ、1.08λ、1.09λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図34は、本発明の第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが2λ、3λ、5λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。 図35は、第3の参考例において、反射器における波長λが0.95λ、1.1λである場合及び波長λが1λである場合の減衰量周波数特性を示す図である。
以下、図面を参照しつつ、本発明の具体的な実施形態を説明することにより、本発明を明らかにする。
なお、本明細書に記載の各実施形態は、例示的なものであり、異なる実施形態間において、構成の部分的な置換または組み合わせが可能であることを指摘しておく。
図1は、本発明の第1の実施形態に係るノッチフィルタの正面断面図である。
ノッチフィルタ1は、圧電性を有する基板12を有する。圧電性を有する基板12は、高音速部材4、高音速部材4上に設けられた低音速膜3、及び低音速膜3上に設けられた圧電薄膜2で構成される積層体である。本実施形態では、圧電薄膜2はLiTaOからなる。なお、圧電薄膜2は、LiNbOなどの、LiTaO以外の圧電単結晶からなっていてもよい。
低音速膜3は、圧電薄膜2を伝搬する弾性波の音速よりも伝搬するバルク波の音速が低い膜である。本実施形態では、低音速膜3はSiOからなる。なお、低音速膜3は、例えば、ガラス、酸窒化ケイ素、酸化タンタルまたは酸化ケイ素にフッ素、炭素やホウ素を加えた化合物を主成分とする材料などからなる。低音速膜3の材料は、相対的に低音速な材料であればよい。
他方、高音速部材4は、圧電薄膜2を伝搬する弾性波の音速よりも伝搬するバルク波の音速が高い部材である。本実施形態では、高音速部材4は、Siからなる高音速基板である。なお、高音速部材4は、支持基板と、支持基板上に形成されている高音速膜とで構成されていてもよい。なお、高音速膜は、圧電薄膜2を伝搬する弾性波の音速より伝搬するバルク波の音速が高い膜である。
なお、高音速部材4は、例えば、窒化アルミニウム、酸化アルミニウム、炭化ケイ素、酸窒化ケイ素、DLC膜またはダイヤモンドを主成分とする材料などからなっていてもよい。高音速部材4の材料は、相対的に高音速な材料であればよい。
圧電薄膜2上には、IDT電極5が設けられている。IDT電極5に交流電圧を印加すると、弾性波が励振される。圧電薄膜2上において、IDT電極5の弾性波伝搬方向両側には反射器16及び反射器17が設けられている。
上記のように、ノッチフィルタ1は圧電薄膜2、低音速膜3及び高音速部材4の積層体を有するため、弾性波のエネルギーを効果的に閉じ込めることができる。これにより、ノッチフィルタ1の特性を高めることができる。より具体的には、例えば、阻止帯域における減衰量を大きくしつつ、通過帯域において挿入損失を小さくすることができる。
図2は、第1の実施形態に係るノッチフィルタの回路図である。
ノッチフィルタ1は、第1の端子8及び第2の端子9を有する。第1の端子8と第2の端子9との間には、弾性波共振子S1及び弾性波共振子S2が互いに直列に接続されている。弾性波共振子S1と弾性波共振子S2との間の接続点とグラウンド電位との間には、弾性波共振子P1及びインダクタLが互いに並列に接続されている。なお、ノッチフィルタ1の回路構成は上記に限定されない。
弾性波共振子S1は、図1に示したIDT電極5、反射器16及び反射器17を有する1ポート型の弾性波共振子である。以下において、弾性波共振子S1の構成をより具体的に説明する。
図3は、第1の実施形態における第1の端子側に配置された弾性波共振子の電極構成を示す模式的平面図である。なお、図3において、IDT電極に接続された配線などは省略している。
上述したように、弾性波共振子S1はIDT電極5と、反射器16及び反射器17とを有する。IDT電極5は、対向し合っている第1のバスバー6a及び第2のバスバー7aを有する。IDT電極5は、第1のバスバー6aに一端が接続されている、複数の第1の電極指6bを有する。さらに、IDT電極5は、第2のバスバー7aに一端が接続されている、複数の第2の電極指7bを有する。複数の第1の電極指6bと複数の第2の電極指7bとは、互いに間挿し合っている。反射器16も複数の電極指16bを有する。同様に、反射器17も複数の電極指17bを有する。
IDT電極5、反射器16及び反射器17は、複数の金属層が積層された積層金属膜からなっていてもよく、あるいは、単層の金属膜からなっていてもよい。図2に示した弾性波共振子S2及び弾性波共振子P1も同様に、それぞれIDT電極及び反射器を有する。
弾性波共振子S1、弾性波共振子S2及び弾性波共振子P1の設計パラメータを下記の表1により示す。他方、図2に示すインダクタLのインダクタンスは2nHである。なお、インダクタLのインダクタンスは上記に限定されない。弾性波共振子S1、弾性波共振子S2及び弾性波共振子P1の設計パラメータも表1の値には限定されない。
Figure 0006760479
ここで、IDT電極5の第1の電極指6b及び第2の電極指7bのうち最も反射器16側の電極指と、反射器16の電極指16bのうち最もIDT電極5側の電極指との電極指中心間距離を、IRギャップGIRとする。同様に、IDT電極5の第1の電極指6b及び第2の電極指7bのうち最も反射器17側の電極指と、反射器17の電極指17bのうち最もIDT電極5側の電極指との電極指中心間距離もIRギャップGIRとする。IDT電極5の電極指ピッチにより規定される波長をλとする。本実施形態では、反射器16側及び反射器17側のIRギャップGIRは同じである。なお、反射器16側及び反射器17側のIRギャップGIRは必ずしも同じではなくともよい。
本実施形態の特徴は、図1に示す圧電性を有する基板12を有し、かつIRギャップGIRが0.1λ≦GIR<0.5λ及び0.5λ<GIR≦0.9λのうち一方の範囲内とされていることにある。それによって、通過帯域におけるストップバンドレスポンスを抑制することができ、リップルを抑制することができる。これを、以下において、本実施形態と第1の比較例、第2の比較例及び第3の比較例とを比較することにより説明する。
なお、第1の比較例、第2の比較例及び第3の比較例は、IRギャップGIRが本実施形態と異なる。より具体的には、第1の比較例のIRギャップGIRは0.5λであり、第2の比較例のIRギャップGIRは0.01λであり、第3の比較例のIRギャップGIRは1λである。
図4は、IRギャップGIRが0.1λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図4において、実線は第1の実施形態の結果を示し、破線は第1の比較例の結果を示す。
図4に示すように、第1の比較例では、阻止帯域よりも高域側の通過帯域において、大きなリップルが生じていることがわかる。IDT電極から弾性波伝搬方向に漏洩した弾性波は、反射器によりIDT電極側に反射されるが、このときにスプリアスが生じる。第1の比較例のノッチフィルタは、第1の実施形態と同様に、圧電薄膜、低音速膜及び高音速部材からなる積層体を有するため、Q値が高い。これにより、エネルギー効率が高いが、上記スプリアスも大きくなる。そのため、第1の比較例においては、通過帯域において大きなリップルが生じている。
これに対して、図4に示すように、第1の実施形態においては、阻止帯域よりも高域側の通過帯域において、リップルが抑制されていることがわかる。第1の実施形態においては、IRギャップGIRは0.1λ≦GIR<0.5λ及び0.5λ<GIR≦0.9λのうち一方の範囲内である。より具体的には、図4に示す場合においては、IRギャップGIRは0.1λである。それによって、反射器において弾性波が反射するに際し、スプリアスの発生が抑制され、ストップバンドレスポンスが抑制される。従って、通過帯域においてリップルを抑制することができる。
以下において、第1の実施形態において、IRギャップGIRが0.1λ以外の場合であっても、通過帯域においてリップルを抑制できることを示す。なお、IRギャップGIRが0.1λより小さい第2の比較例及びIRギャップGIRが0.9λより大きい第3の比較例も併せて示す。
図5は、IRギャップGIRが0.2λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図6は、IRギャップGIRが0.3λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図7は、IRギャップGIRが0.4λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図8は、IRギャップGIRが0.45λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図9は、IRギャップGIRが0.55λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図10は、IRギャップGIRが0.6λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図11は、IRギャップGIRが0.7λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図12は、IRギャップGIRが0.8λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図13は、IRギャップGIRが0.9λである第1の実施形態及び第1の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図14は、IRギャップGIRが0.01λである第2の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。図15は、IRギャップGIRが1λである第3の比較例の減衰量周波数特性を示す図である。
図4に示した場合と同様に、図5〜図13に示すように、IRギャップGIRが0.1λ≦GIR<0.5λ及び0.5λ<GIR≦0.9λのうち一方の範囲内である場合には、通過帯域においてリップルを抑制できることがわかる。
なお、IRギャップGIRが0.1λより小さい第2の比較例では、図14に示すように、通過帯域において大きなリップルが生じる。IRギャップGIRが0.9λより大きい第3の比較例においても、図15に示すように、通過帯域において大きなリップルが生じる。
IRギャップGIRは、0.4λ≦GIR<0.5λ及び0.5λ<GIR≦0.6λのうち一方の範囲内であることが好ましい。この場合には、IDT電極及び反射器を容易に形成することができ、生産性を高めることができる。
IRギャップGIRは、0.2λ≦GIR≦0.4λ及び0.6λ≦GIR≦0.8λのうち一方の範囲内であることが好ましい。この場合には、図5〜図7及び図10〜図12に示すように、通過帯域においてリップルをより一層抑制することができる。
反射器の電極指の本数は、21本以下であることが好ましい。これを、下記の図16及び図17を用いて説明する。
反射器の電極指の本数が21本である場合と、反射器の本数が11本である場合とを比較した。さらに、反射器を有しない第1の参考例も併せて比較した。なお、以下において、反射器を有しない場合、反射器の電極指の本数が0本であると表記することがある。IRギャップGIRを0.45λとした場合を下記の図16に示す。IRギャップGIRを0.55λとした場合を下記の図17に示す。
図16は、第1の実施形態及び第1の参考例において、IRギャップGIRが0.45λであり、反射器の電極指の本数が21本、11本、0本である場合の減衰量周波数特性を示す図である。図17は、第1の実施形態及び第1の参考例において、IRギャップGIRが0.55λであり、反射器の電極指の本数が21本、11本、0本である場合の減衰量周波数特性を示す図である。図16及び図17において、実線は反射器の電極指の本数が0本の結果を示し、一点鎖線は電極指の本数が11本の結果を示し、破線は電極指の本数が21本の結果を示す。
図16及び図17に示すように、反射器の電極指の本数が21本以下である場合において、通過帯域におけるリップルを効果的に抑制することできている。さらに、本数が少ないほど、リップルをより一層抑制できていることがわかる。反射器の電極指の本数を少なくすることによって、IDT電極から漏洩する弾性波を反射器により反射する際にスプリアスが生じることを抑制することができる。従って、通過帯域におけるストップバンドレスポンスをより一層抑制することができ、リップルをより一層抑制することができる。
下記の図18において、IRギャップGIRが0.5λであり、かつ反射器の電極指の本数が21本以下である第2の参考例を示す。
図18は、第2の参考例において、反射器の電極指の本数が21本、11本、0本である場合の減衰量周波数特性を示す図である。
図18に示すように、IRギャップGIRが0.5λである場合も、反射器の電極指の本数を21本以下とすることにより、リップルを抑制する効果を得られることがわかる。
ここで、反射器の電極指ピッチにより規定される波長をλとしたときに、本実施形態では、λは1λである。以下において、反射器における波長λがIDT電極における波長λと異なる第2の実施形態に係るノッチフィルタについて説明する。
第2の実施形態においては、波長λは、0.91λ≦λ<λ及びλ<λ≦5λのうち一方の範囲内である。上記の点以外においては、第2の実施形態のノッチフィルタは、図1に示す第1の実施形態のノッチフィルタ1と同様の構成を有する。なお、λと1λとは同一の値である。
図19は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが1.1λである場合及び波長λが1λである場合の、減衰量周波数特性を示す図である。図20は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが1.1λである場合及び波長λが1λである場合の、減衰量周波数特性を示す図である。図19及び図20において、実線は波長λが1.1λである場合の結果を示し、破線は波長λが1λである場合の結果を示す。
図19及び図20に示すように、実線で示す第2の実施形態において、通過帯域におけるリップルをより一層抑制することができている。第2の実施形態では、反射器における波長λがIDT電極における波長λと異なる。それによって、IDT電極から漏洩した弾性波を反射器により反射する際に生じるスプリアスの強度が大きくなることを抑制することができる。従って、通過帯域におけるストップバンドレスポンスをより一層抑制することができ、リップルをより一層抑制することができる。
以下において、反射器における波長λを異ならせて減衰量周波数特性を比較した。下記の図21〜図27には、IRギャップGIRが0.45である場合の各結果を示す。下記の図28〜図34には、IRギャップGIRが0.55λである場合の各結果を示す。
図21は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが0.91λ、0.92λ、0.93λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図22は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが0.94λ、0.95λ、0.96λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図23は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが0.97λ、0.98λ、0.99λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図24は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが1.01λ、1.02λ、1.03λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図25は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが1.04λ、1.05λ、1.06λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図26は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが1.07λ、1.08λ、1.09λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図27は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.45λであり、かつ反射器における波長λが2λ、3λ、5λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図21〜図27において、実線、一点鎖線及び二点鎖線は第2の実施形態の結果を示し、破線は波長λが1λである場合の結果を示す。
図28は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが0.91λ、0.92λ、0.93λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図29は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが0.94λ、0.95λ、0.96λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図30は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが0.97λ、0.98λ、0.99λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図31は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが1.01λ、1.02λ、1.03λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図32は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが1.04λ、1.05λ、1.06λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図33は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが1.07λ、1.08λ、1.09λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図34は、第2の実施形態において、IRギャップGIRが0.55λであり、かつ反射器における波長λが2λ、3λ、5λである場合及び波長λが1λである場合の、通過帯域付近の減衰量周波数特性を示す図である。図28〜図34において、実線、一点鎖線及び二点鎖線は第2の実施形態の結果を示し、破線は波長λが1λである場合の結果を示す。
図21〜図34にそれぞれ示すように、第2の実施形態において、通過帯域におけるリップルがより一層抑制されていることがわかる。
下記の図35において、IRギャップGIRが0.5λであり、かつ反射器における波長λが、0.91λ≦λ<λ及びλ<λ≦5λのうち一方の範囲内である第3の参考例を示す。
図35は、第3の参考例において、反射器における波長λが0.95λ、1.1λである場合及び波長λが1λである場合の減衰量周波数特性を示す図である。図35においては、実線は波長λが0.95λの場合の結果を示し、一点鎖線は波長λが1.1λの場合の結果を示し、破線は波長λが1λである場合の結果を示す。
図35に示すように、IRギャップGIRが0.5λである場合も、反射器における波長λが、0.91λ≦λ<λ及びλ<λ≦5λのうち一方の範囲内とすることにより、通過帯域におけるリップルを抑制する効果を得られることがわかる。
1…ノッチフィルタ
2…圧電薄膜
3…低音速膜
4…高音速部材
5…IDT電極
6a,7a…第1,第2のバスバー
6b,7b…第1,第2の電極指
8,9…第1,第2の端子
12…圧電性を有する基板
16,17…反射器
16b,17b…電極指
L…インダクタ
P1,S1,S2…弾性波共振子

Claims (6)

  1. 高音速部材と、前記高音速部材上に設けられた低音速膜と、前記低音速膜上に設けられた圧電薄膜と、で構成されており、前記低音速膜を伝搬するバルク波の音速は、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波の音速よりも低く、前記高音速部材を伝搬するバルク波の音速は、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波の音速よりも高い、圧電性を有する基板と、
    前記圧電性を有する基板の前記圧電薄膜上に設けられているIDT電極と、
    前記圧電性を有する基板の前記圧電薄膜上において、前記IDT電極の弾性波伝搬方向両側に設けられている反射器と、
    を備え、
    前記IDT電極及び前記反射器がそれぞれ電極指を有し、
    前記IDT電極の電極指ピッチにより規定される波長をλとしたときに、前記IDT電極の前記電極指のうち最も前記反射器側に位置する電極指と、前記反射器の前記電極指のうち最も前記IDT電極側に位置する電極指との電極指中心間距離をIRギャップGIRとしたときに、前記IRギャップGIRが0.1λ≦GIR<0.5λ及び0.5λ<GIR≦0.9λのうち一方の範囲内である、ノッチフィルタ。
  2. 前記IRギャップGIRが、0.4λ≦GIR<0.5λ及び0.5λ<GIR≦0.6λのうち一方の範囲内である、請求項1に記載のノッチフィルタ。
  3. 前記IRギャップGIRが、0.2λ≦GIR≦0.4λ及び0.6λ≦GIR≦0.8λのうち一方の範囲内である、請求項1に記載のノッチフィルタ。
  4. 前記反射器の前記電極指の本数が21本以下である、請求項1〜3のいずれか1項に記載のノッチフィルタ。
  5. 前記反射器の電極指ピッチにより規定される波長をλとしたときに、0.91λ≦λ≦5λである、請求項1〜4のいずれか1項に記載のノッチフィルタ。
  6. 前記高音速部材は、支持基板と、前記支持基板上に形成されており、前記圧電薄膜を伝搬する弾性波の音速より伝搬するバルク波の音速が高い高音速膜と、で構成される、請求項1〜5のいずれか1項に記載のノッチフィルタ。
JP2019505846A 2017-03-13 2018-02-27 ノッチフィルタ Active JP6760479B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017047417 2017-03-13
JP2017047417 2017-03-13
PCT/JP2018/007180 WO2018168439A1 (ja) 2017-03-13 2018-02-27 ノッチフィルタ

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2018168439A1 JPWO2018168439A1 (ja) 2019-07-25
JP6760479B2 true JP6760479B2 (ja) 2020-09-23

Family

ID=63522168

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019505846A Active JP6760479B2 (ja) 2017-03-13 2018-02-27 ノッチフィルタ

Country Status (4)

Country Link
US (1) US11043933B2 (ja)
JP (1) JP6760479B2 (ja)
CN (1) CN110383688B (ja)
WO (1) WO2018168439A1 (ja)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20220116015A1 (en) 2018-06-15 2022-04-14 Resonant Inc. Transversely-excited film bulk acoustic resonator with optimized electrode thickness, mark, and pitch
US11323096B2 (en) 2018-06-15 2022-05-03 Resonant Inc. Transversely-excited film bulk acoustic resonator with periodic etched holes
US20210328574A1 (en) * 2020-04-20 2021-10-21 Resonant Inc. Small transversely-excited film bulk acoustic resonators with enhanced q-factor
US11929731B2 (en) 2018-02-18 2024-03-12 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transversely-excited film bulk acoustic resonator with optimized electrode mark, and pitch
US11349452B2 (en) 2018-06-15 2022-05-31 Resonant Inc. Transversely-excited film bulk acoustic filters with symmetric layout
US11264966B2 (en) 2018-06-15 2022-03-01 Resonant Inc. Solidly-mounted transversely-excited film bulk acoustic resonator with diamond layers in Bragg reflector stack
US11811391B2 (en) 2020-05-04 2023-11-07 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transversely-excited film bulk acoustic resonator with etched conductor patterns
WO2022009692A1 (ja) * 2020-07-08 2022-01-13 株式会社村田製作所 マルチプレクサ
US11264969B1 (en) 2020-08-06 2022-03-01 Resonant Inc. Transversely-excited film bulk acoustic resonator comprising small cells
US11271539B1 (en) 2020-08-19 2022-03-08 Resonant Inc. Transversely-excited film bulk acoustic resonator with tether-supported diaphragm
US11658639B2 (en) 2020-10-05 2023-05-23 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with noncontiguous passband
US11405017B2 (en) 2020-10-05 2022-08-02 Resonant Inc. Acoustic matrix filters and radios using acoustic matrix filters
US11476834B2 (en) 2020-10-05 2022-10-18 Resonant Inc. Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with switches in parallel with sub-filter shunt capacitors
US11728784B2 (en) 2020-10-05 2023-08-15 Murata Manufacturing Co., Ltd. Transversely-excited film bulk acoustic resonator matrix filters with split die sub-filters
US11239816B1 (en) 2021-01-15 2022-02-01 Resonant Inc. Decoupled transversely-excited film bulk acoustic resonators

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3614234B2 (ja) 1996-03-14 2005-01-26 沖電気工業株式会社 共振器型弾性表面波フィルタ
JPH11220354A (ja) * 1997-11-25 1999-08-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd 弾性表面波ノッチフィルタ
JP3419339B2 (ja) * 1999-03-11 2003-06-23 株式会社村田製作所 弾性表面波フィルタ、デュプレクサ、通信機装置
JP3971604B2 (ja) * 2000-12-21 2007-09-05 京セラ株式会社 弾性表面波フィルタ
JP2012257050A (ja) 2011-06-08 2012-12-27 Nippon Dempa Kogyo Co Ltd ハイパス型のノッチフィルタ及びこのフィルタを備えた電子機器
WO2015080278A1 (ja) * 2013-11-29 2015-06-04 京セラ株式会社 弾性波素子、分波器および通信装置
CN107710614B (zh) * 2015-06-24 2021-05-28 株式会社村田制作所 弹性波滤波器、多工器、双工器、高频前端电路以及通信装置

Also Published As

Publication number Publication date
US11043933B2 (en) 2021-06-22
JPWO2018168439A1 (ja) 2019-07-25
CN110383688A (zh) 2019-10-25
CN110383688B (zh) 2023-01-24
US20190379351A1 (en) 2019-12-12
WO2018168439A1 (ja) 2018-09-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6760479B2 (ja) ノッチフィルタ
US10447240B2 (en) Elastic wave device and filter device
US10355668B2 (en) Acoustic wave device
JP4337816B2 (ja) 弾性境界波装置
US9882547B2 (en) Tunable filter
US20110068655A1 (en) Piston mode acoustic wave device and method providing a high coupling factor
WO2005060094A1 (ja) 弾性境界波装置
KR102345524B1 (ko) 탄성파 장치
JPWO2007108269A1 (ja) 弾性波共振子
KR101793055B1 (ko) 래더형 필터
US10270425B2 (en) Acoustic wave resonator, filter, and multiplexer
WO2018003282A1 (ja) 弾性波装置
JP7268747B2 (ja) 弾性波装置
US11063202B2 (en) Elastic wave device
JP7264229B2 (ja) 弾性波装置
US20020033650A1 (en) Surface acoustic wave device
JP2023036845A (ja) 弾性波装置
JP7237556B2 (ja) 弾性波共振器、フィルタおよびマルチプレクサ
JP2020182137A (ja) 弾性波装置
WO2010125934A1 (ja) 弾性波装置
JP2020123855A (ja) 弾性波共振器、フィルタおよびマルチプレクサ
JP7464062B2 (ja) 弾性波装置
US7102269B2 (en) Surface acoustic wave device
JP2020123854A (ja) フィルタおよびマルチプレクサ
US6781282B1 (en) Longitudinally coupled resonator-type surface acoustic wave device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190410

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20200421

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200804

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200817

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6760479

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150