JP6750284B2 - 金属ベース回路基板 - Google Patents
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Description
すなわち、本発明は、以下の構成からなる。
[1]少なくとも金属ベースと金属ベース上に積層された絶縁層と、絶縁層の上に積層された回路箔からなる金属ベース回路基板において、前記絶縁層に長さ方向の熱伝導率が50W/mK以上であり、繊維径が3μm以上50μm以下である有機繊維を、樹脂100質量部に対して、3質量部以上40質量部以下含むことを特徴とする金属ベース回路基板。
[2]前記絶縁層を構成する樹脂が、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、EPDM系樹脂、ポリカーボネート系樹脂から選択される少なくとも一種であることを特徴とする[1]に記載の金属ベース回路基板。
[3]前記有機繊維が、高強度ポリエチレン繊維、ポリベンザゾール繊維、芳香族ポリアミド繊維から選択される少なくとも1種以上であることを特徴とする[1]または[2]のいずれかに記載の金属ベース回路基板。
絶縁層に繊維を組み合わせて絶縁層のCTEを制御する手法はプリント配線板では広く行われている。しかしながら一般のプリント配線板に使用されるガラス繊維は弾性率が小さいために十分なCTE制御効果を得るためには、相当量を使用することが必要になる。一方でガラス繊維の熱伝導率は低く、CTE制御に十分な量を使用すると絶縁層の熱伝導率が低下してしまう。
しかしながら、本発明で用いる特定の有機繊維は、高い弾性率を有するため比較的少量で十分なCTE制御効果を得ることができる。さらに本発明の特定の有機繊維は繊維軸方向の熱伝導率が非常に高く、絶縁層内で有機繊維とは別に厚さ方向への熱伝導率改善を目的に配合される熱伝導フィラーとの接触ないし近接に存在することにより、絶縁層内での熱の授受を効率化し、繊維の主配向方向である面方向への放熱効果を促進させ、総合的に絶縁層の熱伝導効率を高める効果を発揮する。
本発明の無機フィラーの平均粒子径は0.3μm以上、20μm以下である事が好ましく、さらに0.5μm以上12μm以下が好ましく、0.9μm以上、6μm以下が好ましい。ここに平均粒子径は光散乱法で求められるD50である。本発明の有機フィラーの平均粒子径は有機繊維の繊維径と同サイズから繊維径の1/10の範囲である事が好ましい。両者のサイズの比がこの範囲に入る場合に特に好ましく熱の授受が行われる。
カップリング剤は、無機フィラー粒子の表面積を少なくても単分子層で覆る添加量として、カップリング剤の単位重量あたりの被覆面積と無機フィラー表面積から計算して求める。
有機繊維の繊維径は、別途配合される熱伝導性フィラーとの相互作用を得るために重要であり、繊維径が所定の範囲を上回ると、熱伝導フィラーとの熱の授受が速やかに行われなくなる。繊維径が所定の範囲を下回る場合には、本来的には熱の授受効果が高くなるのであるが、繊維の比表面積が増えるためにバインダー樹脂の吸液量が増し、絶縁層のフォーミュレーションが難しくなる。
繊維種としては電気絶縁性であり、所定の高い熱伝導性と繊維径を有する繊維であれば特に限定するものではなく、例えば、高強度ポリエチレン繊維、ポリベンザゾール繊維、芳香族ポリアミド繊維などが挙げられるが、特に耐熱性を兼ね備え、入手が容易であるポリベンザゾール繊維が好ましい。ポリベンザゾール繊維としてはポリベンゾオキサゾール繊維、ポリベンゾチアゾール繊維、ポリベンゾイミダゾール繊維を用いることができる。これら内、ポリベンザゾール繊維の一種である東洋紡株式会社製 Zylon を好ましく用いることができる。
本発明の有機繊維の配合量は、絶縁層の樹脂成分100質量部に対して、3質量部以上40質量部以下である。有機繊維の配合量はさらに好ましくは4質量部以上24質量部以下であり、なお好ましくは5質量部以上12質量部以下である。
本発明で好ましく用いられる金属ベースは金属の板材であれば、特に限定されないが、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金を好ましく用いることができる。
本発明における回路箔としては、銅箔、銅合金泊、ニッケル箔、アルミニウム箔、銀箔、銀合金箔を好ましく用いることができる
1.シートの線膨張係数(CTE)
作製した金属ベース回路基板の回路箔を塩化第二銅エッチング液で、金属ベースを関東化学株式会社性アルミエッチング液で全て除去して得られた絶縁層を下記条件にて伸縮率を測定し、15℃間隔(30〜45℃、45℃〜60℃、・・・)での伸縮率/温度を測定し、この測定を300℃まで行い、全測定値の平均値を線膨張係数(CTE)として算出した。
使用機器 : MACサイエンス社製「TMA4000S」
試料長さ : 20mm
試料幅 : 2mm
昇温開始温度 : 25℃
昇温終了温度 : 400℃
昇温速度 : 5℃/分
雰囲気 : アルゴン
初荷重 : 34.5g/mm2
2.金属ベース回路基板の耐電圧
測定用試料として、作製した金属ベース回路基板の原板をエッチング処理し、所望の回路を作製したものを試料とし、
・初期
・マイグレーション試験後:85℃、湿度85%RH、DC1000V、1000時間の条件(マイグレーション試験)下に暴露した後
・PCT試験後:121℃、湿度100%RH、2atm、96時間の条件(PCT処理)下に暴露した後、
についてJIS C 2110に基づき平行平板、直流印可時の絶縁破壊電圧を測定し、絶縁破壊電圧を絶縁層の厚さで除して絶縁破壊強度を求めた。測定器には、菊水電子工業社製TOS−8700を用いた。
3.金属ベース回路基板の熱抵抗
銅箔上にTO−220型トランジスターを半田付けし、水冷した放熱フィン上に放熱グリースを介して固定した。トランジスターに通電し、トランジスターを発熱させ、トランジスター表面と金属基裏面の温度差を測定し、熱抵抗値を測定し、放熱グリースの熱抵抗値を補正することにより求める試験片の熱抵抗値を測定した。
以下に具体的な実施例を述べる。
(実施例1)
有機繊維として、ZylonHM(東洋紡製:繊維径12μm、繊維軸方向の熱伝導率は、60W/mK、有機繊維A)のパイル織り布に、
樹脂溶液として、東洋紡製 飽和共重合ポリエステルウレタン樹脂 UR3600/80.9重量部、東洋紡製飽和共重合ポリエステルウレタン樹脂BX−10SS/12.0重量部、東洋紡製 エポキシ樹脂 AH−120/7.1重量部、メチルエチルケトン200重量部を混合した溶液(樹脂溶液X)に含浸させた。
有機繊維をDyneemaSK71(東洋紡製;繊維径11μm、繊維軸方向の熱伝導率は50W/mK、有機繊維B)の平織り布に替え、乾燥温度を60℃、真空プレスでの加圧過熱時の温度を80℃に加熱時間を4時間に下以外は実施例1と同様に操作し、金属ベース回路基板原板を作製した。
以下同様にパターンを形成し評価した、結果を表1.に示す。なお表1の実施例2を参考例2に読み替える。
(実施例3)
有機繊維をケブラー(東レデュポン製、アラミド繊維、繊維径11μm、繊維軸方向の熱伝導率は、60W/mK、有機繊維C)のパイル織り布に変更したこと以外は、実施例1と同様にして金属ベース回路基板を得た。同様に評価した結果を表1に示す。
樹脂をモメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 液状シリコーンゴム主剤TSE3431−A/100質量部、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製 液状シリコーンゴム硬化剤 TSE3431−C/30質量部を混合した樹脂溶液(樹脂溶液Y)に替えた以外は、実施例1と同様にして金属ベース回路基板を得た。以下同様に評価した結果を表1.に示す
樹脂に無機フィラーとして、二酸化ケイ素(無機フィラーα)平均粒子径0.15μmを添加したこと以外は、実施例1と同様にして金属ベース回路基板を得た。
(実施例6)
樹脂に無機フィラーとして、酸化アルミニウム(無機フィラーβ)平均粒子径3.6μmを添加したこと以外は、実施例1と同様にして金属ベース回路基板を得た。
有機繊維を用いず、絶縁層の厚さが80μmになるように塗布乾燥した以外は、実施例1と同様にして金属ベース回路基板を得た。以下同様に評価した結果を表1.に示す
有機繊維を絶縁層の厚さが80μmになるように塗布乾燥した以外は、実施例5と同様にして金属ベース回路基板を得た。以下同様に評価した結果を表1.に示す
Claims (4)
- 少なくとも金属ベースと金属ベース上に積層された絶縁層と、絶縁層の上に積層された回路箔からなる金属ベース回路基板において、前記絶縁層に長さ方向の熱伝導率が25W/mK以上であり、繊維径が3μm以上50μm以下である有機繊維を、パイル織の形で樹脂100質量部に対して、29質量部以上33質量部以下含むことを特徴とする金属ベース回路基板。
- 前記絶縁層を構成する樹脂が、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、エポキシ樹脂から選択される少なくとも一種であることを特徴とする請求項1に記載の金属ベース回路基板。
- 前記有機繊維が、高強度ポリエチレン繊維、ポリベンザゾール繊維、芳香族ポリアミド繊維から選択される少なくとも1種以上であることを特徴とする請求項1または2のいずれかに記載の金属ベース回路基板。
- 絶縁層の線膨張係数が20〜22ppm/Kであることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の金属ベース回路基板。
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