JP6750202B2 - 樹脂組成物、接着フィルムおよびコアレス基板の製造方法 - Google Patents
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Description
(1)その上に回路前駆体が形成されたコア層と、支持体および該支持体と接合している樹脂組成物層を有する接着フィルムとを、回路前駆体と樹脂組成物層とが接触するようにラミネートし、接着フィルムの支持体を剥離した後に樹脂組成物層を熱硬化するか、または樹脂組成物層を熱硬化した後に接着フィルムの支持体を剥離して、硬化した樹脂組成物層である絶縁層を形成する工程、
(2)絶縁層の表面を研磨切削する工程、および
(3)コア層を除去した後、回路前駆体と接触する半田ボールを設置する工程。
180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物のビッカース硬度(HV1)が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たし、
HV1と、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物のビッカース硬度(HV2)との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たし、且つ
180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物のガラス転移温度が140℃以上である樹脂組成物。
[2] 180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物とその表面に形成された導体層との間のピール強度が0.3kgf/cm以上である前記[1]に記載の樹脂組成物。
[3] 成分(A)であるエポキシ樹脂が、ビフェニル型エポキシ樹脂を含む前記[1]または[2]に記載の樹脂組成物。
[4] 成分(A)であるエポキシ樹脂が、アミノフェノール型エポキシ樹脂を含む前記[1]〜[3]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[5] さらに(E)23℃における弾性率が5〜200MPaである高分子樹脂を含む前記[1]〜[4]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[6] 成分(E)である高分子樹脂のガラス転移温度が、30℃以下である前記[5]に記載の樹脂組成物。
[7] 成分(E)である高分子樹脂が、ポリブタジエン構造、ポリイソプレン構造、ポリカーボネート構造、(メタ)アクリレート構造およびポリシロキサン構造から選択される一つ以上の構造を有する樹脂である前記[5]または[6]に記載の樹脂組成物。
[8] 成分(E)である高分子樹脂が、ポリブタジエン構造、ポリイソプレン構造、ポリカーボネート構造、(メタ)アクリレート構造およびポリシロキサン構造から選択される一つ以上の構造を有するポリイミド樹脂である前記[5]〜[7]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[9] 成分(E)である高分子樹脂が、式(1−a)で表される構造および式(1−b)で表される構造:
を有するポリイミド樹脂である前記[5]〜[8]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[10] 成分(E)である高分子樹脂が、式(a−b−c)で表される構造:
を有するポリイミド樹脂である前記[5]〜[9]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[11] 成分(E)である高分子樹脂の数平均分子量が、5,000〜25,000である前記[5]〜[10]のいずれか一つに記載の樹脂組成物。
[12] 支持体および該支持体と接合している前記[1]〜[11]のいずれか一つに記載の樹脂組成物からなる樹脂組成物層を有する接着フィルム。
[13] (1)その上に回路前駆体が形成されたコア層と、支持体および該支持体と接合している樹脂組成物層を有する接着フィルムとを、回路前駆体と樹脂組成物層とが接触するようにラミネートし、接着フィルムの支持体を剥離した後に樹脂組成物層を熱硬化するか、または樹脂組成物層を熱硬化した後に接着フィルムの支持体を剥離して、硬化した樹脂組成物層である絶縁層を形成する工程、
(2)絶縁層の表面を研磨切削する工程、および
(3)コア層を除去した後、回路前駆体と接触する半田ボールを設置する工程
を含むコアレス基板の製造方法に用いられる接着フィルムであって、
樹脂組成物層が、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、および(C)無機充填材を含み、
180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV1)が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たし、
HV1と、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV2)との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たし、且つ
180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のガラス転移温度が140℃以上である接着フィルム。
[14] (1)その上に回路前駆体が形成されたコア層と、支持体および該支持体と接合している樹脂組成物層を有する接着フィルムとを、回路前駆体と樹脂組成物層とが接触するようにラミネートし、接着フィルムの支持体を剥離した後に樹脂組成物層を熱硬化するか、または樹脂組成物層を熱硬化した後に接着フィルムの支持体を剥離して、硬化した樹脂組成物層である絶縁層を形成する工程、
(2)絶縁層の表面を研磨切削する工程、および
(3)コア層を除去した後、回路前駆体と接触する半田ボールを設置する工程
を含むコアレス基板の製造方法であって、
樹脂組成物層が、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、および(C)無機充填材を含み、
180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV1)が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たし、
HV1と、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV2)との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たし、且つ
180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のガラス転移温度が140℃以上である製造方法。
本発明の樹脂組成物は、180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物のビッカース硬度(HV1)が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たし、
HV1と、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物のビッカース硬度(HV2)との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たし、且つ
180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物のガラス転移温度が140℃以上であることを特徴とする。以下、(A)エポキシ樹脂等について順に説明する。
本発明の樹脂組成物は、成分(A)としてエポキシ樹脂を含む。エポキシ樹脂は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。エポキシ樹脂の数平均分子量は、好ましくは100〜5,000、より好ましくは200〜3,000である。
本発明の樹脂組成物は、成分(B)として硬化剤を含む。本発明において硬化剤は、エポキシ樹脂と反応する反応性基を有し、エポキシ樹脂を硬化する機能を有するものである限り、特に限定されない。反応性基は保護されていてもよい。硬化剤としては、例えば、アミン系硬化剤、グアニジン系硬化剤、イミダゾール系硬化剤、フェノール系硬化剤(例えば、フェノールノボラック樹脂)、ナフトール系硬化剤、ベンゾオキサジン系硬化剤、カルボジイミド系硬化剤、シアネートエステル系硬化剤、活性エステル系硬化剤、酸無水物系硬化剤、またはこれらのエポキシアダクトやマイクロカプセル化したもの等を挙げることができる。硬化剤は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物は、成分(C)として、無機充填材を含有する。無機充填材は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物は、成分(D)として、硬化促進剤を含有することができる。硬化促進剤とは、(A)エポキシ樹脂と(B)硬化剤の反応、または(A)エポキシ樹脂同士の反応を促進する機能を有する化合物である。硬化促進剤は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。硬化促進剤としては、特に限定されないが、例えば、イミダゾール系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤、ホスホニウム系硬化促進剤等が挙げられる。
本発明の樹脂組成物は、さらに、成分(E)として23℃における弾性率が5〜200MPaである高分子樹脂を含んでいてもよい。成分(E)である高分子樹脂は、1種のみを使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
を有するポリイミド樹脂(以下「ポリイミド樹脂(1−a)(1−b)」と略称することがある。)が挙げられる。
を有するポリイミド樹脂(以下「ポリイミド樹脂(a−b−c)」と略称することがある。)が好ましい。nは、例えば1〜100の整数、好ましくは1〜10の整数であり、mは、例えば1〜100の整数、好ましくは1〜10の整数である。なお以下では、上述のポリイミド樹脂(1−a)(1−b)およびポリイミド樹脂(a−b−c)を、まとめて「ポリイミド樹脂(E)」と略称することがある。
で表されるジイソシアネート反応物(以下「ジイソシアネート反応物(a−b)」と略称することがある。)を製造する。
で表すことができる。
本発明の樹脂組成物は、上述の成分(A)〜(E)に加えて、他の成分を含んでいてもよい。
本発明の樹脂組成物は、HV1が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たすことを特徴の一つとする。ビッカース硬度は、日本工業規格(JIS Z 2244)に準拠し、ビッカース硬度計(例えば、ミツトヨ(株)製)を使用して、測定することができる。
本発明の樹脂組成物は、HV1とHV2との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たすことを特徴の一つとする。
本発明の樹脂組成物は、上記ガラス転移温度が140℃以上であることを特徴の一つとする。上記ガラス転移温度が140℃以上であることによって、研磨切削工程で砥石の目詰まり等の不具合を防止して、研磨切削工程をスムーズに行うことができる。上記ガラス転移温度は、好ましくは150℃以上である。一方、上記ガラス転移温度の上限は特に制限されないが、ガラス転移温度は、例えば300℃以下、好ましくは200℃以下、より好ましくは180以下である。このガラス転移温度は、実施例に記載する方法によって測定することができる。
180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物とその表面に形成された導体層との間のピール強度は、下記実施例における「(7)硬化した樹脂組成物層とその表面に形成された導体層との間のピール強度」に記載の方法により測定することができる。該ピール強度は、0.3kgf/cm以上が好ましく、0.35kgf/cm以上がより好ましく、0.4kgf/cm以上がさらに好ましく、0.5kgf/cm以上が特に好ましい。該ピール強度の上限は、特に制限されないが、該ピール強度は、例えば2kgf/cm以下、好ましくは1.2kgf/cm以下である。
本発明の樹脂組成物は、上記成分を適宜混合し、また、必要に応じて三本ロール、ボールミル、ビーズミル、サンドミル等の混練手段、あるいはスーパーミキサー、プラネタリーミキサー等の撹拌手段により混練または混合することにより製造することができる。
本発明は、支持体、および該支持体と接合している本発明の樹脂組成物からなる樹脂組成物層を有する接着フィルムを提供する。樹脂組成物の説明は、上述した通りである。
樹脂組成物層が、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、および(C)無機充填材を含み、
180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV1)が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たし、
HV1と、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV2)との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たし、且つ
180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のガラス転移温度が140℃以上である接着フィルムも提供する。
接着フィルムに使用する支持体としては、例えば、プラスチックフィルム、離型紙、銅箔、アルミニウム箔などの金属箔等が挙げられ、これらの中でプラスチックフィルムが好ましい。プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリオレフィン(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル等)、ポリエステル(例えば、ポリエチレンテレフタレート)、ポリエチレンナフタレート等)、ポリカーボネート、ポリイミド等のフィルムが挙げられ、これらの中で、ポリエステルフィルムが好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。
樹脂組成物層は、当業者に公知の方法で形成すればよく、例えば、有機溶剤に本発明の樹脂組成物を溶解したワニスを調製し、支持体上に、ワニスを塗布および乾燥することで形成することができる。有機溶剤の乾燥は、例えば、熱風吹きつけ等によって行うことができる。
本発明は、
(1)その上に回路前駆体が形成されたコア層と、支持体および該支持体と接合している樹脂組成物層を有する接着フィルムとを、回路前駆体と樹脂組成物層とが接触するようにラミネートし、接着フィルムの支持体を剥離した後に樹脂組成物層を熱硬化するか、または樹脂組成物層を熱硬化した後に接着フィルムの支持体を剥離して、硬化した樹脂組成物層である絶縁層を形成する工程、
(2)絶縁層の表面を研磨切削する工程、および
(3)コア層を除去した後、回路前駆体と接触する半田ボールを設置する工程
を含むコアレス基板の製造方法であって、
樹脂組成物層が、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、および((C)無機充填材を含み、
180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV1)が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たし、
HV1と、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV2)との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たし、且つ
180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のガラス転移温度が140℃以上である製造方法も提供する。
工程(1)では、ラミネートはコア層の片面または両面に実施することができる。コア層としては、例えば、金属板、ガラス板、樹脂(例えば、エンジニアリングプラスチック)層、プリプレグ層(例えば、ガラスクロスを含む樹脂層)、またはガラス板、樹脂層若しくはプリプレグ層の片面または両面に金属層が形成されたもの(例えば、ピーラブル銅箔を有する銅張積層板(CCL))等が用いられる。コア層の厚さは、例えば30〜800μmである。
工程(2)では、工程(1)で形成した絶縁層(硬化した樹脂組成物層)に対し、研磨切削を実施する。研磨切削は、例えばベルト研磨、バフ研磨、平面研削盤などを使用する研磨で実施することができる。目標とする研磨切削後の絶縁層表面の状態に応じて、様々な番手の砥粒を用いることができる。
工程(3)におけるコア層の除去は、化学エッチングまたは機械的に実施することができる。コア層の除去後の半田ボールの設置は、一般的な方法で実施することができる。
(1)高分子樹脂Eワニスの製造
反応容器に2官能性ヒドロキシ基末端ポリブタジエン(数平均分子量:5,047(GPC法)、水酸基当量:1798g/eq、固形分100%、日本曹達(株)製「G−3000」)50gと、芳香族炭化水素系混合溶媒(出光石油化学(株)製「イプゾール150」)23.5g、およびジブチル錫ラウレート0.005gを混合した。混合物が均一になったところで50℃に昇温し、更に撹拌しながら、トルエン−2,4−ジイソシアネート(イソシアネート基当量:87.08g/eq)4.8gを添加し、約3時間反応を行った。次いで、この反応物を室温まで冷却してから、これにベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(酸無水物当量:161.1g/eq)8.96g、トリエチレンジアミン0.07g、およびジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(ダイセル化学工業(株)社製「エチルジグリコールアセテート」)40.4gを添加し、攪拌しながら130℃まで昇温し、約4時間反応を行った。FT−IRより2250cm−1のNCOピークの消失の確認を行った。NCOピーク消失の確認をもって反応の終点とみなし、反応物を室温まで降温してから目開きが100μmである濾布で濾過して、イミド骨格、ウレタン骨格およびポリブタジエン骨格を有する高分子樹脂Eのワニスを得た。
高分子樹脂Eワニスの粘度:7.5Pa・s(25℃、E型粘度計)
高分子樹脂Eワニスの固形分:50%
高分子樹脂Eの酸価:16.9mgKOH/g
高分子樹脂Eの数平均分子量:13,723
高分子樹脂Eのガラス転移温度:−10℃
高分子樹脂Eのポリブタジエン構造部分の含有率:50/(50+4.8+8.96)×100=78.4%
高分子樹脂Eの23℃における弾性率:20MPa
得られた高分子樹脂Eの23℃における弾性率は以下のようにして測定した。得られた高分子樹脂Eワニスの固形分が40%となるように、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートで希釈した。続いて、希釈した高分子樹脂Eワニスをポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが40μmとなるようにダイコーターにて塗布し、オーブンで乾燥して、有機溶剤を除去し、高分子樹脂フィルムを得た。日本工業規格(JIS K7127)に準拠し、テンシロン万能試験機((株)エー・アンド・デイ製)を用いて該フィルムの引っ張り試験を行い、その23℃における弾性率を測定した。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)30部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)5部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、アクリル酸エステル共重合体(ナガセケムテックス(株)製「テイサンレジンSG−P3」、固形分15%のメチルエチルケトン溶液、アクリル酸エステル共重合体の重量平均分子量:850,000)1,000部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C2」、平均粒径:0.5μm)}950部、およびメチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥し、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)30部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)5部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、高分子樹脂Eワニス300部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C2」、平均粒径:0.5μm)}950部、およびメチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)30部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)5部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、高分子樹脂Eワニス300部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理されたアルミナ(デンカ(株)製「DAW−3」、平均粒径:3μm)}950部、およびメチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)42部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「EXA−7311−G4S」、エポキシ当量:186g/eq)10部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)2部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、フェノキシ樹脂溶液(三菱化学(株)製「YX−6954」、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの混合溶液、固形分:30%、フェノキシ樹脂の重量平均分子量:38,000)20部、ナフトール系硬化剤(新日鉄住金化学(株)製「SN−485」、水酸基当量:215g/eq)のメチルエチルケトン溶液(固形分:50%)30部、メチルエチルケトン30部、および無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ((株)アドマテックス製「SO−C2」、平均粒径:0.5μm)}500部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)30部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)5部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、高分子樹脂Eワニス300部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C5」、平均粒径:1.5μm)}950部、およびメチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)42部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「EXA−7311−G4S」、エポキシ当量:186g/eq)10部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)2部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、フェノキシ樹脂溶液(三菱化学(株)製「YX−6954」、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの混合溶液、固形分:30%、フェノキシ樹脂の重量平均分子量:38,000)20部、ナフトール系硬化剤(新日鉄住金化学(株)製「SN−485」、水酸基当量:215g/eq)のメチルエチルケトン溶液(固形分:50%)30部、メチルエチルケトン30部、および無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理されたアルミナ(デンカ(株)製「DAW−3」、平均粒径:3μm)}500部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)30部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)5部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、高分子樹脂Eワニス300部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C5」、平均粒径:1.5μm)}780部、メチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)42部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「EXA−7311−G4S」、エポキシ当量:186g/eq)12部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、フェノキシ樹脂溶液(三菱化学(株)製「YX−6954」、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの混合溶液、固形分:30%、重量平均分子量:38,000)20部、ナフトール系硬化剤(新日鉄住金化学(株)製「SN−485」、水酸基当量:215g/eq)のメチルエチルケトン溶液(固形分:50%)30部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C2」、平均粒径:0.5μm)}500部、およびメチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)35部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「EXA−7311−G4S」、エポキシ当量:186g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)5部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、高分子樹脂Eワニス300部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C2」、平均粒径:0.5μm)}950部、およびメチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)30部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)5部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、高分子樹脂Eワニス300部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C2」、平均粒径:0.5μm)}650部、メチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)42部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「EXA−7311−G4S」、エポキシ当量:186g/eq)10部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)2部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、フェノキシ樹脂溶液(三菱化学(株)製「YX−6954」、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの混合溶液、固形分:30%、重量平均分子量:38,000)20部、ナフトール系硬化剤(新日鉄住金化学(株)製「SN−485」、水酸基当量:215g/eq)のメチルエチルケトン溶液(固形分:50%)30部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C2」、平均粒径:0.5μm)}1030部、およびメチルエチルケトン35部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)30部、ビフェニル型エポキシ樹脂(日本化薬(株)製「NC−3000H」、エポキシ当量:288g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)5部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)0.2部、高分子樹脂Eワニス300部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C5」、平均粒径:1.5μm)}780部、メチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)33部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「EXA−7311−G4S」、エポキシ当量:186g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)2部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、高分子樹脂Eワニス300部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C2」、平均粒径:0.5μm)}950部、およびメチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
液状エポキシ樹脂(新日鉄住金化学(株)製「ZX1059」、ビスフェノールA型エポキシ樹脂とビスフェノールF型エポキシ樹脂との1:1混合品(質量比)、エポキシ当量:169g/eq)33部、ナフタレン型エポキシ樹脂(DIC(株)製「EXA−7311−G4S」、エポキシ当量:186g/eq)8部、アミノフェノール型エポキシ樹脂(三菱化学(株)製「630LSD」、エポキシ当量:90〜105g/eq)2部、硬化促進剤(四国化成(株)製「2P4MZ」、イミダゾール誘導体)1部、高分子樹脂Eワニス300部、クレゾールノボラック樹脂(DIC(株)製「KA−1163」、フェノール性水酸基当量:118g/eq)12部、無機充填材{フェニルアミノシラン系カップリング剤(信越化学工業(株)製「KBM573」)で表面処理された球形溶融シリカ(アドマテックス(株)製「SO−C2」、平均粒径:0.5μm)}1020部、およびメチルエチルケトン20部を混合し、高速回転ミキサーで均一に分散して、樹脂組成物ワニスを作製した。次に、ポリエチレンテレフタレートフィルム(厚さ38μm)上に、乾燥後の樹脂組成物層の厚さが100μmとなるように、得られた樹脂組成物ワニスをダイコーターにて塗布し、80〜120℃(平均100℃)で10分間乾燥して、接着フィルムを得た。
オーブンを使用して、接着フィルムを180℃で90分加熱することによって樹脂組成物層を硬化させた。次いで硬化した樹脂組成物層を、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥がした後、幅5mmおよび長さ15mmに切断して、試験片を作製した。動的粘弾性測定装置(SIIナノテクノロジー(株)製「EXSTAR6000」)を使用して、引張加重法で、得られた試験片の熱機械分析を行った。詳しくは、試験片を前記装置に装着後、荷重200mN、昇温速度2℃/分および測定温度範囲25〜270℃の条件にて、連続して2回、熱機械分析を行った。1回目の測定が終了した後、空冷して温度を測定初期温度まで低下させてから、2回目の測定を行った。2回目の熱機械分析における寸法変化シグナルの傾きが変化する点から、試験片のガラス転移温度(℃)を算出した。結果を下記表1の「ガラス転移温度(℃)」の欄に記載する。
オーブンを使用して、接着フィルムを180℃で30分または90分加熱することによって硬化した樹脂組成物を硬化させた。次いで硬化した樹脂組成物層を、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥がした後、幅30mmおよび長さ30mmに切断して試験片を作製した。ビッカース硬度計(ミツトヨ(株)製)を使用して、得られた試験片のビッカース硬度を測定した。180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV1)の結果を下記表1の「ビッカース硬度(HV1)」の欄に、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV2)の結果を「ビッカース硬度(HV2)」の欄に記載する。また、「HV2/HV1」の結果も下記表1に記載する。
オーブンを使用して、接着フィルムを180℃で90分加熱することによって樹脂組成物層を硬化させた後、硬化した樹脂組成物層を、ポリエチレンテレフタレートフィルムから剥がした。日本工業規格(JIS K7127)に準拠し、テンシロン万能試験機((株)エー・アンド・デイ製)を用いて、硬化した樹脂組成物層の引っ張り試験を行い、その23℃における弾性率を測定した。結果を下記表1の「弾性率(GPa)」の欄に記載する。
大きさ500mm×300mmのガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板厚さ0.3mm、パナソニック(株)製「R5715ES」)を金属表面処理液(メック(株)製「CZ8100」)に浸漬して、積層板両面にある銅表面の粗化処理を行った。
上記接着フィルム(乾燥後の樹脂組成物層の厚さ:100μm)を、バッチ式真空加圧ラミネーター((株)名機製作所製「MVLP−500」)を用いて、積層板の片面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後30秒間、100℃、圧力0.74MPaで圧着することにより行った。
その後180℃30分の熱硬化を実施し、平面研削盤にて、硬化した樹脂組成物層を研磨切削して(研磨切削の条件:砥石周速500m/min、テーブルスピード13m/min、1回の切り込み量3μm、全切削厚さ50μm、砥石番手#1000)、砥石の目詰まり等を下記基準で評価した。結果を下記表1の「砥石の目詰まり等」の欄に記載する。
○:砥石の目詰まりがなく、研磨切削後の樹脂組成物面の外観が均一。
△:砥石の目詰まりが起こり、研削研磨切削後の樹脂組成物面に一部斑が生じた。
×:砥石の目詰まりが起こり、研磨切削後の樹脂組成物の全面に斑が生じた。
大きさ500mm×300mmのガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板厚さ0.3mm、パナソニック(株)製「R5715ES」)を金属表面処理液(メック(株)製「CZ8100」)に浸漬して、積層板両面にある銅表面の粗化処理を行った。
上記接着フィルム(乾燥後の樹脂組成物層の厚さ:100μm)を、バッチ式真空加圧ラミネーター((株)名機製作所製「MVLP−500」)を用いて、積層板の片面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後30秒間、100℃、圧力0.74MPaで圧着することにより行った。
その後180℃30分の熱硬化を実施し、平面研削盤にて、硬化した樹脂組成物層を研磨切削して(研磨切削の条件:砥石周速500m/min、テーブルスピード13m/min、1回の切り込み量3μm、砥石番手#1000)、砥石の摩耗等を下記基準で評価した。結果を下記表1の「砥石の摩耗等」の欄に記載する。
○:砥石の摩耗が少なく、研磨切削の効率にほとんど変化が見られない。
△:砥石の摩耗が起こり、研磨切削の効率がやや悪化する。
×:砥石の摩耗が起こり、研磨切削の効率が急速に悪化する。
大きさ500mm×300mmのガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板厚さ0.3mm、パナソニック(株)製「R5715ES」)を金属表面処理液(メック(株)製「CZ8100」)に浸漬して、積層板両面にある銅表面の粗化処理を行った。
上記接着フィルム(乾燥後の樹脂組成物層の厚さ:100μm)を、バッチ式真空加圧ラミネーター((株)名機製作所製「MVLP−500」)を用いて、積層板の片面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後30秒間、100℃、圧力0.74MPaで圧着することにより行った。
その後180℃30分の熱硬化を実施し、平面研削盤にて、硬化した樹脂組成物層を研磨切削して(研磨切削の条件:砥石周速500m/min、テーブルスピード13m/min、1回の切り込み量3μm。全切削厚さ50μm、砥石番手#1000)して、研磨切削工程時における密着信頼性を下記基準で評価した。結果を下記表1の「密着信頼性」の欄に記載する。
○:絶縁層とコア層との剥がれ、絶縁層表面のヒビが見られない。
△:絶縁層とコア層との剥がれはないが、絶縁層表面のヒビが見られる。
×:絶縁層とコア層との剥がれが見られる。
大きさ500mm×300mmのガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板(銅箔の厚さ18μm、基板厚さ0.3mm、パナソニック(株)製「R5715ES」)を金属表面処理液(メック(株)製「CZ8100」)に浸漬して、積層板両面にある銅表面の粗化処理を行った。
上記接着フィルム(乾燥後の樹脂組成物層の厚さ:100μm)を、バッチ式真空加圧ラミネーター((株)名機製作所製「MVLP−500」)を用いて、積層板の片面にラミネートした。ラミネートは、30秒間減圧して気圧を13hPa以下とし、その後30秒間、100℃、圧力0.74MPaで圧着することにより行った。
その後180℃30分の熱硬化を実施し、硬化した樹脂組成物層を平面研削盤にて研磨切削した(研磨切削の条件:砥石周速500m/min、テーブルスピード13m/min、1回の切り込み量3μm、全切削厚さ50um、砥石番手#1000)。
研磨切削後、絶縁層(硬化した樹脂組成物層)付き積層板を膨潤液である、アトテックジャパン(株)のジエチレングリコールモノブチルエーテルを含有するスエリングディップ・セキュリガンドPに60℃で5分間浸漬し、次に粗化液として、アトテックジャパン(株)のコンセントレート・コンパクトP(KMnO4:60g/L、NaOH:40g/Lの水溶液)に80℃で20分間浸漬し、最後に中和液として、アトテックジャパン(株)のリダクションショリューシン・セキュリガントPに40℃で5分間浸漬した。この粗化処理後の積層板を評価基板Aとした。
絶縁層表面に回路を形成するために、評価基板Aを、PdCl2を含む無電解メッキ用溶液に浸漬し、次に無電解銅メッキ液に浸漬した。次いで、硫酸銅電解メッキを行い、30μmの厚さで導体層を形成した。次に、アニール処理を180℃にて60分間行った。このメッキ後の積層板を評価基板Bとした。
評価基板Bの導体層に、幅10mmおよび長さ100mmの部分の切込みを入れ、この一端を剥がしてつかみ具(株式会社ティー・エス・イー、オートコム型試験機 AC−50C−SL)で掴み、室温中にて、50mm/分の速度で垂直方向に35mmを引き剥がした時の荷重を、ピール強度(kgf/cm)として測定した。結果を下記表1の「ピール強度(kgf/cm)」の欄に記載する。
2 回路前駆体
3 絶縁層
4 半田ボール
5 コアレス基板
6 樹脂層(またはプリプレグ層)
7 銅箔
8 離形層
Claims (23)
- (A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、および(C)無機充填材を含む樹脂組成物であって、
180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物のビッカース硬度(HV1)が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たし、
HV1と、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物のビッカース硬度(HV2)との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たし、且つ
180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物のガラス転移温度が140℃以上である樹脂組成物。 - 180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物とその表面に形成された導体層との間のピール強度が0.3kgf/cm以上である請求項1に記載の樹脂組成物。
- 成分(A)であるエポキシ樹脂が、ビフェニル型エポキシ樹脂を含む請求項1または2に記載の樹脂組成物。
- 成分(A)であるエポキシ樹脂が、アミノフェノール型エポキシ樹脂を含む請求項1〜3のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- さらに(E)23℃における弾性率が5〜200MPaである高分子樹脂を含む請求項1〜4のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 成分(E)である高分子樹脂のガラス転移温度が、30℃以下である請求項5に記載の樹脂組成物。
- 成分(E)である高分子樹脂が、ポリブタジエン構造、ポリイソプレン構造、ポリカーボネート構造、(メタ)アクリレート構造およびポリシロキサン構造から選択される一つ以上の構造を有する樹脂である請求項5または6に記載の樹脂組成物。
- 成分(E)である高分子樹脂が、ポリブタジエン構造、ポリイソプレン構造、ポリカーボネート構造、(メタ)アクリレート構造およびポリシロキサン構造から選択される一つ以上の構造を有するポリイミド樹脂である請求項5〜7のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 成分(E)である高分子樹脂が、式(1−a)で表される構造および式(1−b)で表される構造:
[式中、R1は、ポリブタジエン構造を有する2価の有機基、ポリイソプレン構造を有する2価の有機基、またはポリカーボネート構造を有する2価の有機基を示し、R2は、4価の有機基を示し、R3は2価の有機基を示す。]
を有するポリイミド樹脂である請求項5〜8のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 - 成分(E)である高分子樹脂が、式(a−b−c)で表される構造:
[式中、R1は、ポリブタジエン構造を有する2価の有機基、ポリイソプレン構造を有する2価の有機基、またはポリカーボネート構造を有する2価の有機基を示し、R2は、4価の有機基を示し、R3は、2価の有機基を示し、nおよびmは整数を示す。]
を有するポリイミド樹脂である請求項5〜9のいずれか一項に記載の樹脂組成物。 - 成分(E)である高分子樹脂の数平均分子量が、5,000〜25,000である請求項5〜10のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- さらにイミダゾール系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤およびホスホニウム系硬化促進剤からなる群から選ばれる少なくとも一つである(D)硬化促進剤を含む請求項1〜11のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 成分(D)である硬化促進剤の含有量が、成分(A)であるエポキシ樹脂100質量部に対して、1.6〜5質量部である請求項12に記載の樹脂組成物。
- 成分(C)である無機充填材の含有量が、樹脂組成物の固形分100質量%中、79〜90質量%である請求項1〜13のいずれか一項に記載の樹脂組成物。
- 支持体および該支持体と接合している請求項1〜14のいずれか一項に記載の樹脂組成物からなる樹脂組成物層を有する接着フィルム。
- (1)その上に回路前駆体が形成されたコア層と、支持体および該支持体と接合している樹脂組成物層を有する接着フィルムとを、回路前駆体と樹脂組成物層とが接触するようにラミネートし、接着フィルムの支持体を剥離した後に樹脂組成物層を熱硬化するか、または樹脂組成物層を熱硬化した後に接着フィルムの支持体を剥離して、硬化した樹脂組成物層である絶縁層を形成する工程、
(2)絶縁層の表面を研磨切削する工程、および
(3)コア層を除去した後、回路前駆体と接触する半田ボールを設置する工程
を含むコアレス基板の製造方法に用いられる接着フィルムであって、
樹脂組成物層が、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、および(C)無機充填材を含み、
180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV1)が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たし、
HV1と、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV2)との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たし、且つ
180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のガラス転移温度が140℃以上である接着フィルム。 - 樹脂組成物層が、さらにイミダゾール系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤およびホスホニウム系硬化促進剤からなる群から選ばれる少なくとも一つである(D)硬化促進剤を含む請求項16に記載の接着フィルム。
- 成分(D)である硬化促進剤の含有量が、成分(A)であるエポキシ樹脂100質量部に対して、1.6〜5質量部である請求項17に記載の接着フィルム。
- 成分(C)である無機充填材の含有量が、樹脂組成物の固形分100質量%中、79〜90質量%である請求項17〜18のいずれか一項に記載の接着フィルム。
- (1)その上に回路前駆体が形成されたコア層と、支持体および該支持体と接合している樹脂組成物層を有する接着フィルムとを、回路前駆体と樹脂組成物層とが接触するようにラミネートし、接着フィルムの支持体を剥離した後に樹脂組成物層を熱硬化するか、または樹脂組成物層を熱硬化した後に接着フィルムの支持体を剥離して、硬化した樹脂組成物層である絶縁層を形成する工程、
(2)絶縁層の表面を研磨切削する工程、および
(3)コア層を除去した後、回路前駆体と接触する半田ボールを設置する工程
を含むコアレス基板の製造方法であって、
樹脂組成物層が、(A)エポキシ樹脂、(B)硬化剤、および(C)無機充填材を含み、
180℃で30分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV1)が、式(i):
40<HV1<220 ・・・ (i)
を満たし、
HV1と、180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のビッカース硬度(HV2)との関係が、式(ii):
1<HV2/HV1<1.5 ・・・ (ii)
を満たし、且つ
180℃で90分加熱することによって硬化した樹脂組成物層のガラス転移温度が140℃以上である製造方法。 - 樹脂組成物層が、さらにイミダゾール系硬化促進剤、アミン系硬化促進剤、グアニジン系硬化促進剤およびホスホニウム系硬化促進剤からなる群から選ばれる少なくとも一つである(D)硬化促進剤を含む請求項20に記載の製造方法。
- 成分(D)である硬化促進剤の含有量が、成分(A)であるエポキシ樹脂100質量部に対して、1.6〜5質量部である請求項21に記載の製造方法。
- 成分(C)である無機充填材の含有量が、樹脂組成物の固形分100質量%中、79〜90質量%である請求項20〜22のいずれか一項に記載の製造方法。
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