JP6745152B2 - 合焦装置、合焦方法、及びパターン検査方法 - Google Patents
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Description
パターンが形成された基板に反射照明光を照明する反射照明光学系と、
基板のパターン像を結像させる結像光学系と、
基板のパターン像を受光するタイム・ディレイ・インテグレーションセンサ(TDIセンサ)と、
反射照明光学系の光路中における基板面に対するTDIセンサの共役位置に対して光軸方向手前側に配置され、反射照明光の照射を受ける、TDIセンサの時間積分方向に平行な端部を有する遮光パターンと遮光パターンよりも照明領域中の割合が大きい透過パターンとが形成された第1のレチクルと、
反射照明光学系の光路中における基板面に対するTDIセンサの共役位置に対して光軸方向後側であって、第1のレチクルと光軸方向に等配の位置に第1のレチクルとはパターンが互いに逆向きになるように配置され、第1のレチクルと同様の遮光パターンと透過パターンとが形成された第2のレチクルと、
第1と第2のレチクルを通過せずに反射照明光が基板に照明されることによって生成された基板のパターン像を受光したTDIセンサにより出力される階調値を用いて、階調値の均一化を行う均一化処理部と、
均一化が行われた状態で、第1と第2のレチクルを通過した反射照明光が基板に照明されることによって生成された基板のパターン像を受光したTDIセンサにより出力された階調値の一次微分値を用いて、基板のパターン像の焦点が合う基板とTDIセンサ共役位置との相対距離の移動量を演算する移動量演算部と、
移動量を用いて、基板とTDIセンサの共役位置との相対距離を移動させる駆動部と、
を備えたことを特徴とする。
反射照明光学系を用いて、パターンが形成された基板に反射照明光を照明する工程と、
基板のパターン像を結像させる結像光学系を介して、タイム・ディレイ・インテグレーションセンサ(TDIセンサ)により基板のパターン像を受光する工程と、
反射照明光が基板に照明されることによって生成された基板のパターン像を受光したTDIセンサにより出力される階調値を用いて、階調値の均一化を行う工程と、
反射照明光学系の光路中における基板面に対するTDIセンサの共役位置に対して光軸方向手前側に配置され、反射照明光の照射を受ける、TDIセンサの時間積分方向に平行な端部を有する遮光パターンと遮光パターンよりも照明領域中の割合が大きい透過パターンとが形成された第1のレチクルと、反射照明光学系の光路中における基板面に対するTDIセンサの共役位置に対して光軸方向後側であって、第1のレチクルと光軸方向に等配の位置に第1のレチクルとはパターンが互いに逆向きになるように配置され、第1のレチクルと同様の遮光パターンと透過パターンとが形成された第2のレチクルと、を用いて、均一化が行われた状態で、第1と第2のレチクルを通過した反射照明光が基板に照明されることによって生成された基板のパターン像をTDIセンサにより受光する工程と、
均一化が行われた状態で第1と第2のレチクルを通過した反射照明光が基板に照明されることによって生成された基板のパターン像を受光したTDIセンサにより出力された階調値の一次微分値を用いて、基板のパターン像の焦点が合うように基板とTDIセンサ共役位置との相対距離の移動量を演算する工程と、
移動量を用いて、基板とTDIセンサの共役位置との相対距離を移動させる工程と、
を備えたことを特徴とする。
反射照明光学系を用いて、アライメントパターンと回路パターンとが形成された基板に反射照明光を照明する工程と、
基板のパターン像を結像させる結像光学系を介して、タイム・ディレイ・インテグレーションセンサ(TDIセンサ)により前記基板のアライメントパターン像を受光する工程と、
反射照明光が基板に照明されることによって生成された基板のアライメントパターン像を受光したTDIセンサにより出力される階調値を用いて、ゲインとオフセットの調整によって階調値の均一化を行う工程と、
TDIセンサの時間積分方向に平行な端部を有する遮光パターンと遮光パターンよりも照明領域中の割合が大きい透過パターンとが形成された第1のレチクルを、反射照明光学系の光路中における基板面に対するTDIセンサの共役位置に対して光軸方向手前側に配置すると共に、第1のレチクルと同様の遮光パターンと透過パターンとが形成された第2のレチクルを、反射照明光学系の光路中における基板面に対するTDIセンサの共役位置に対して光軸方向後側であって、第1のレチクルと光軸方向に等配の位置に第1のレチクルとはパターンが互いに逆向きになるように配置する工程と、
均一化が行われたゲインとオフセットの調整状態で第1と第2のレチクルを通過した反射照明光が基板に照明されることによって生成された基板のアライメントパターン像を受光したTDIセンサにより出力された階調値の一次微分値を用いて、基板の高さ位置を測定する工程と、
基板の高さ位置を用いて、基板の高さ位置分布を取得する工程と、
高さ位置分布に基づいて、基板の高さ位置を変えながら、基板に形成された回路パターンを検査する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図1において、マスク基板101(検査対象基板の一例)に形成されたパターンの欠陥を検査する検査装置100は、光学画像取得部150、及び制御系回路160(制御部)を備えている。
(1) f=(A−B)/(A+B)
(2) z’=k・f=k・(A−B)/(A+B)
16 受光素子
20 検査ストライプ
30 フレーム領域
40 微分演算部
42 高さ演算部
44,46,49 記憶装置
47 移動量演算部
48 高さ分布演算部
50,52,60 レンズ
62 コリメートレンズ
64 結像レンズ
70,71 遮光パターン
72,73 透過パターン
100 検査装置
101 マスク基板
102 XYθテーブル
103 光源
104 対物レンズ
105 TDIセンサ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
111 展開回路
112 参照回路
113 オートローダ制御回路
114 テーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 FD
117 CRT
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 ストライプパターンメモリ
140 ゲイン・オフセット調整回路
142 高さ分布作成回路
144 フォーカス回路
146 レチクル制御回路
150 光学画像取得部
160 制御系回路
170 透過照明光学系
172 反射照明光学系
174 ビームスプリッタ
176 結像光学系
182,184 レチクル
185 レチクル駆動機構
300 カセット
Claims (5)
- パターンが形成された基板に反射照明光を照明する反射照明光学系と、
前記基板のパターン像を結像させる結像光学系と、
前記基板のパターン像を受光するタイム・ディレイ・インテグレーションセンサ(TDIセンサ)と、
前記反射照明光学系の光路中における前記基板面に対する前記TDIセンサの共役位置に対して光軸方向手前側に配置され、前記反射照明光の照射を受ける、前記TDIセンサの時間積分方向に平行な端部を有する遮光パターンと前記遮光パターンよりも照明領域中の割合が大きい透過パターンとが形成された第1のレチクルと、
前記反射照明光学系の光路中における前記基板面に対する前記TDIセンサの共役位置に対して光軸方向後側であって、前記第1のレチクルと光軸方向に等配の位置に前記第1のレチクルとはパターンが互いに逆向きになるように配置され、前記第1のレチクルと同様の遮光パターンと透過パターンとが形成された第2のレチクルと、
前記第1と第2のレチクルを通過せずに前記反射照明光が前記基板に照明されることによって生成された前記基板のパターン像を受光した前記TDIセンサにより出力される階調値を用いて、前記階調値の均一化を行う均一化処理部と、
前記均一化が行われた状態で、前記第1と第2のレチクルを通過した前記反射照明光が前記基板に照明されることによって生成された前記基板のパターン像を受光した前記TDIセンサにより出力された階調値の一次微分値を用いて、前記基板のパターン像の焦点が合う前記基板と前記TDIセンサ共役位置との相対距離の移動量を演算する移動量演算部と、
前記移動量を用いて、前記基板と前記TDIセンサの共役位置との相対距離を移動させる駆動部と、
を備えたことを特徴とする合焦装置。 - 前記均一化処理部は、前記TDIセンサの時間積分方向に平均化された階調データを用いて、前記TDIセンサにより出力される階調値のゲインとオフセットの調整を行うことにより前記階調値の均一化を行うことを特徴とする請求項1記載の合焦装置。
- 前記階調データは、前記基板を停止させた状態で前記TDIセンサにより前記基板のパターン像を受光させることによって生成されることを特徴とする請求項2記載の合焦装置。
- 反射照明光学系を用いて、パターンが形成された基板に反射照明光を照明する工程と、
前記基板のパターン像を結像させる結像光学系を介して、タイム・ディレイ・インテグレーションセンサ(TDIセンサ)により前記基板のパターン像を受光する工程と、
前記反射照明光が前記基板に照明されることによって生成された前記基板のパターン像を受光した前記TDIセンサにより出力される階調値を用いて、前記階調値の均一化を行う工程と、
前記反射照明光学系の光路中における前記基板面に対する前記TDIセンサの共役位置に対して光軸方向手前側に配置され、前記反射照明光の照射を受ける、前記TDIセンサの時間積分方向に平行な端部を有する遮光パターンと前記遮光パターンよりも照明領域中の割合が大きい透過パターンとが形成された第1のレチクルと、前記反射照明光学系の光路中における前記基板面に対する前記TDIセンサの共役位置に対して光軸方向後側であって、前記第1のレチクルと光軸方向に等配の位置に前記第1のレチクルとはパターンが互いに逆向きになるように配置され、前記第1のレチクルと同様の遮光パターンと透過パターンとが形成された第2のレチクルと、を用いて、前記均一化が行われた状態で、前記第1と第2のレチクルを通過した前記反射照明光が前記基板に照明されることによって生成された前記基板のパターン像を前記TDIセンサにより受光する工程と、
前記均一化が行われた状態で前記第1と第2のレチクルを通過した前記反射照明光が前記基板に照明されることによって生成された前記基板のパターン像を受光した前記TDIセンサにより出力された階調値の一次微分値を用いて、前記基板のパターン像の焦点が合うように前記基板と前記TDIセンサ共役位置との相対距離の移動量を演算する工程と、
前記移動量を用いて、前記基板と前記TDIセンサの共役位置との相対距離を移動させる工程と、
を備えたことを特徴とする合焦方法。 - 反射照明光学系を用いて、アライメントパターンと回路パターンとが形成された基板に反射照明光を照明する工程と、
前記基板のパターン像を結像させる結像光学系を介して、タイム・ディレイ・インテグレーションセンサ(TDIセンサ)により前記基板のアライメントパターン像を受光する工程と、
前記反射照明光が前記基板に照明されることによって生成された前記基板のアライメントパターン像を受光した前記TDIセンサにより出力される階調値を用いて、ゲインとオフセットの調整によって前記階調値の均一化を行う工程と、
前記TDIセンサの時間積分方向に平行な端部を有する遮光パターンと前記遮光パターンよりも照明領域中の割合が大きい透過パターンとが形成された第1のレチクルを、前記反射照明光学系の光路中における前記基板面に対する前記TDIセンサの共役位置に対して光軸方向手前側に配置すると共に、前記第1のレチクルと同様の遮光パターンと透過パターンとが形成された第2のレチクルを、前記反射照明光学系の光路中における前記基板面に対する前記TDIセンサの共役位置に対して光軸方向後側であって、前記第1のレチクルと光軸方向に等配の位置に前記第1のレチクルとはパターンが互いに逆向きになるように配置する工程と、
前記均一化が行われた前記ゲインと前記オフセットの調整状態で前記第1と第2のレチクルを通過した前記反射照明光が前記基板に照明されることによって生成された前記基板のアライメントパターン像を受光した前記TDIセンサにより出力された階調値の一次微分値を用いて、前記基板の高さ位置を測定する工程と、
前記基板の高さ位置を用いて、前記基板の高さ位置分布を取得する工程と、
前記高さ位置分布に基づいて、前記基板の高さ位置を変えながら、前記基板に形成された前記回路パターンを検査する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。
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