JP6743819B2 - 投射装置、投射方法および投射プログラム - Google Patents
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Description
〔構成〕
まず、本発明の第1の実施形態に係る投射装置10の構成について、図面を参照しながら説明する。
ここで、位相分布生成手段20の詳細について図面を用いて説明する。図4は、位相分布生成手段20の詳細な構成である。
続いて、本実施形態に係る投射装置10の動作について説明する。
次に、本発明の第2の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る投射装置は、基本画像を選択して合成する処理を第1処理として実行し、反復フーリエ変換処理を第2処理として実行する。
続いて、位相分布切替手段24が第1処理で生成された位相分布から第2処理で生成された位相分布へと切り替える判定基準について説明する。図8は、判定基準の一例について説明するためのグラフである。なお、図8の例では、第2処理において特定の処理を反復させるものとして説明する。
ここで、本実施形態に係る第1処理手段22−2の構成について図面を参照しながら説明する。図9は、本実施形態に係る第1処理手段22−2の構成を示すブロック図である。
次に、本実施形態に係る第2処理手段23−2の構成について図面を参照しながら説明する。図12は、本実施形態に係る第2処理手段23−2の構成を示すブロック図である。
ここで、第2演算部232が実行する反復フーリエ変換処理について説明する。図13は、反復フーリエ変換処理について説明するための概念図である。ただし、図13に示す各位相分布はダミーパターンであり、それらのダミーパターンを空間変調素子13の表示面に表示させ、その表示面に光を照射したとしたからといって何らかの目標画像が得られるとは限らない。また、図13において、FTはフーリエ変換(Fourier Transform)、IFTは逆フーリエ変換(Inverse Fourier Transform)を示す。
次に、図16および図17を用いて、本実施形態に係る投射装置の変形例を示す。
次に、本発明の第3の実施形態に本実施形態にについて図面を参照しながら説明する。本実施形態においては、第1処理で既に生成されていた目標画像に別の基本パターンを追加する点が第2の実施形態とは異なる。なお、本実施形態に係る投射装置の構成は、第2の実施形態に係る投射装置と同様の構成であるために図面は省略する。
ここで、図20および図21を用いて、図18および図19の変形例について説明する。
次に、本発明の第4の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態においては、第1処理および第2処理の両方の処理で同じ処理を実行するが、第1処理では低解像度の目標画像の位相分布を生成し、第2処理では高解像度の目標画像の位相分布を生成する点が第2の実施形態とは異なる。なお、本実施形態に係る投射装置の構成は、第2の実施形態に係る投射装置と同様の構成であるために図面は省略する。ただし、本実施形態に係る投射装置の構成要素は、第2の実施形態に係る投射装置の構成要素とは一部異なる機能を有する。
続いて、本実施形態において位相分布を切り替える際の判定基準について説明する。図25は、本実施形態における判定基準について説明するためのグラフである。
次に、本発明の第5の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態は、空間変調素子の表示面を複数の表示領域に分割したうえで少なくとも二つの表示領域群(以下、領域群)にまとめ、それらの領域群に表示させる位相分布の演算を領域群ごとに異なるプロセッサに分担させる点が第4の実施形態とは異なる。なお、本実施形態に係る投射装置の構成は、第2の実施形態に係る投射装置と同様の構成であるために図面は省略する。ただし、本実施形態に係る投射装置の構成要素は、第2の実施形態に係る投射装置の構成要素とは一部異なる機能を有する。
次に、本発明の第6の実施形態に係るインターフェース装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態に係るインターフェース装置は、第1〜第5の実施形態に係る投射装置を備える。
次に、本発明の第7の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る投射装置は、第1〜第5の実施形態に係る投射装置を備える。本実施形態に係る投射装置は、投射する目標画像(以下、表示情報)の構成要素を更新頻度に応じて分割して処理する。本実施形態に係る投射装置は、第6の実施形態に係るインターフェース装置に好適である。なお、本実施形態に係る投射装置の構成は、第2の実施形態に係る投射装置と同様の構成であるために図面は省略する。
次に、各実施形態に係る投射装置およびインターフェース装置を可能とするためのハードウェア構成について、図33のコンピュータ90を一例として挙げて説明する。なお、図33のコンピュータ90は、各実施形態に係る投射装置を可能とするための一構成例であって、本発明の範囲を限定するものではない。また、第6の実施形態に係るインターフェース装置100をウエアラブルな構成とする場合、図33のコンピュータ90の機能をマイクロコンピュータによって実現することが好ましい。
11 光源
12 変調素子制御手段
13 空間変調素子
15 投射手段
20 位相分布生成手段
21 目標画像受信手段
22 第1処理手段
23 第2処理手段
24 位相分布切替手段
30 位相制御手段
221 第1画像取得部
222 基本パターン抽出部
223 基本画像記憶部
224 基本画像抽出部
225 第1演算部
226 第1出力部
231 第2画像取得部
232 第2演算部
233 第2出力部
Claims (20)
- 光源と、
目標画像の位相分布を表示させる表示手段で前記光源からの光を反射する空間変調素子と、
前記目標画像の位相分布を生成する第1処理と、前記第1処理よりも計算コストの高い処理によって前記目標画像の位相分布を生成する第2処理とを異なる演算手段によって並行して実行し、前記第1処理によって生成された位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示させた後に、前記第2処理によって生成された位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示させる変調素子制御手段と、
前記空間変調素子の反射光を投射する投射手段とを備える投射装置。 - 前記変調素子制御手段は、
前記第1処理と前記第2処理とを並行して実行し、前記第1処理によって生成された第1位相分布を出力した後に、前記第2処理によって生成された第2位相分布を前記第1位相分布から切り替えて出力する位相分布生成手段と、
前記位相分布生成手段によって出力された前記第1位相分布を前記空間変調素子の表示面に一次表示させる制御をし、前記位相分布生成手段によって出力された前記第2位相分布を前記空間変調素子の表示面にニ次表示させる制御をする位相制御手段とを有する請求項1に記載の投射装置。 - 前記位相分布生成手段は、
上位システムから前記目標画像を受信する目標画像受信手段と、
前記目標画像を用いて前記第1処理によって前記第1位相分布を生成する第1処理手段と、
前記目標画像を用いて前記第2処理によって前記第2位相分布を生成する第2処理手段と、
前記第1位相分布が生成された段階で前記第1位相分布を出力し、前記第2位相分布が生成された段階で所定の判定基準に基づいて前記第1位相分布から前記第2位相分布へと切り替えて出力する位相分布切替手段とを有する請求項2に記載の投射装置。 - 前記位相分布切替手段は、
前記所定の判定基準として目標画像の雑音レベルを用いる請求項3に記載の投射装置。 - 前記位相分布切替手段は、
前記所定の判定基準として、前記第1位相分布を用いて投射された目標画像の雑音レベルよりも、前記第2位相分布を用いて投射された目標画像の雑音レベルの方が小さくなった時点以降において前記第1位相分布から前記第2位相分布へと切り替えるという基準を用いる請求項4に記載の投射装置。 - 前記第1処理手段は、
基本パターンを含む基本画像の位相分布を記憶する記憶手段を有し、前記目標画像を取得した際に前記目標画像に含まれる前記基本パターンを抽出し、前記基本パターンを含む基本画像の位相分布を前記記憶手段から取得し、取得した前記基本画像の位相分布を前記第1位相分布として選択する請求項3乃至5のいずれか一項に記載の投射装置。 - 前記第1処理手段は、
選択した前記基本画像の位相分布を合成し、合成した位相分布を前記第1位相分布として出力する請求項6に記載の投射装置。 - 前記第2処理手段は、
反復フーリエ変換処理によって前記目標画像の位相分布を生成し、生成した位相分布を前記第2位相分布として出力する請求項6または7に記載の投射装置。 - 前記変調素子制御手段は、
前記空間変調素子の表示面を複数の表示領域に分割し、前記複数の表示領域のそれぞれに前記第1位相分布および前記第2位相分布のうちいずれか一方を表示させる制御をする請求項6乃至8のいずれか一項に記載の投射装置。 - 前記変調素子制御手段は、
複数の前記基本パターンを含む目標画像に関して、
前記複数の表示領域に前記目標画像の位相分布を一次表示させる際に、前記複数の基本パターンを含む前記基本画像の位相分布のそれぞれを前記第1位相分布として前記複数の表示領域のいずれかに表示させるように前記空間変調素子を制御し、
前記複数の表示領域に前記目標画像を二次表示させる際に、表示されている前記第1位相分布のうち少なくとも一つを前記第2位相分布に切り替えて前記複数の表示領域に表示させるように前記空間変調素子を制御する請求項9に記載の投射装置。 - 前記変調素子制御手段は、
複数の前記基本パターンを含む目標画像に関して、
前記複数の表示領域に前記目標画像を一次表示させる際に、前記基本パターンを含む前記基本画像の位相分布を合成したものを前記第1位相分布として前記複数の表示領域に表示させるように前記空間変調素子を制御し、
前記複数の表示領域に前記第2位相分布を表示させる際に、表示されている前記第1位相分布のうち少なくとも一つを前記第2位相分布に切り替えて前記複数の表示領域に表示させるように前記空間変調素子を制御する請求項9に記載の投射装置。 - 前記第1処理手段は、
表示中の前記目標画像に新たな基本パターンが追加された新たな目標画像から基本パターンを抽出し、抽出した前記基本パターンの基本画像の位相分布を前記記憶手段から取得し、取得した前記基本画像の位相分布を前記表示中の目標画像の位相分布とともに前記第1位相分布として出力する請求項6乃至11のいずれか一項に記載の投射装置。 - 前記位相分布生成手段は、
低解像度の目標画像の位相分布を反復フーリエ変換処理によって生成する処理を前記第1処理として実行し、高解像度の目標画像の位相分布を反復フーリエ変換処理によって生成する処理を前記第2処理として実行し、
前記位相制御手段は、
前記空間変調素子の表示面を解像度に応じて分割された複数の表示領域に、前記位相分布生成手段によって生成された前記目標画像の位相分布を解像度に応じて表示させる制御をする請求項3に記載の投射装置。 - 前記位相分布生成手段は、
前記第2処理において、異なる複数の解像度で前記目標画像の位相分布を段階的に生成し、解像度が異なる前記目標画像の位相分布を順次切り替えて出力する請求項13に記載の投射装置。 - 前記変調素子制御手段は、
前記空間変調素子の表示面を異なる解像度に対応させた複数の表示領域に分割し、前記複数の表示領域を解像度ごとの領域群にまとめ、前記領域群を構成する前記表示領域ごとに異なる解像度の前記目標画像の位相分布を表示させるように前記空間変調素子を制御する請求項13または14に記載の投射装置。 - 前記変調素子制御手段は、
前記空間変調素子の表示面に表示させる位相分布を前記所定の判定基準に基づいて順次切り替えるように前記空間変調素子を制御する請求項15に記載の投射装置。 - 前記位相分布生成手段は、
前記目標画像の構成要素を更新頻度に応じて処理し、
前記目標画像の構成要素のうち更新頻度が高い構成要素については、前記更新頻度が高い構成要素が更新されるごとに、前記第1処理によって生成された前記更新頻度が高い構成要素の第1位相分布を前記位相制御手段に出力した後に、前記第2処理によって生成された前記更新頻度が高い構成要素の第2位相分布を前記位相制御手段に出力し、
前記目標画像の構成要素のうち更新頻度が低い構成要素については、前記更新頻度が低い構成要素が更新されていない限り、出力済みの前記更新頻度が低い構成要素の位相分布を前記位相制御手段に出力し、
前記位相制御手段は、
前記更新頻度が低い構成要素については、既に表示されている前記位相分布を表示し続けるように前記空間変調素子を制御し、
前記更新頻度が高い構成要素については、前記第1位相分布を表示した後に前記第2位相分布を表示するように前記空間変調素子を制御する請求項2乃至16のいずれか一項に記載の投射装置。 - 請求項1乃至17のいずれか一項に記載の投射装置と、
所定の操作領域を撮像して画像データを生成する撮像手段と、
特定の入力操作を受け付ける操作キーが配置されたユーザインターフェースを含む目標画像を前記所定の操作領域に投射するように前記投射装置を制御するとともに、前記所定の操作領域を撮像するように前記撮像手段を制御する制御手段とを備え、
前記制御手段は、
前記撮像手段によって生成された前記画像データ上における操作位置と、前記操作位置に配置された前記操作キーとを対応させて操作内容を認識し、前記操作内容に応じた目標画像の位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示するように前記投射装置を制御するインターフェース装置。 - 空間変調素子の表示面に照射された光の反射光を投射する投射方法であって、
目標画像の位相分布を生成する第1処理と、前記第1処理よりも計算コストの高い処理によって前記目標画像の位相分布を生成する第2処理とを異なる演算手段によって並行して実行し、
前記第1処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示した後に、前記第2処理によって生成された位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示する投射方法。 - 空間変調素子の表示面に照射された光の反射光を投射する投射プログラムであって、
目標画像の位相分布を生成する第1処理と、前記第1処理よりも計算コストの高い処理によって前記目標画像の位相分布を生成する第2処理とを異なる演算手段によって並行して実行する処理と、
前記第1処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示した後に、前記第2処理によって生成された位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示する処理とをコンピュータに実行させる投射プログラム。
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