JP6743819B2 - 投射装置、投射方法および投射プログラム - Google Patents

投射装置、投射方法および投射プログラム Download PDF

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Description

本発明は、空間変調素子を用いる投射装置、投射方法および投射プログラムに関する。
近年、プロジェクタとカメラとを組み合わせたインターフェース装置の開発が進んでいる。そのようなインターフェース装置は、プロジェクタから投射された画像に対して行われた操作内容をカメラが撮像した画像データ上で認識することによって、インタラクティブな動作を実現する。特許文献1および2には、プロジェクタとカメラとを組み合わせたインターフェース装置が開示されている。
特許文献2のインターフェース装置は、位相変調型の空間変調素子を用いた照射手段を有する。位相変調型の空間変調素子を用いたプロジェクタでは、目標画像を投射するための位相分布を空間変調素子の表示面に表示させ、その表示面に照射された光の反射光を投射することによって所望の目標画像を被投射面に表示させることができる。特許文献2のインターフェース装置は、反復フーリエ変換法などの最適化法を用いて、空間変調素子に表示させる位相分布を逐一形成する。反復フーリエ変換法は、演算結果が収束するまでに何回も処理を反復するため、計算コストが高くなる。そのため、リアルタイムで高画質な目標画像を表示する場合には、計算量が膨大となって処理に遅延が生じることがある。
特許文献3には、反復フーリエ変換法などの最適化法によって計算機ホログラムを作成する際に、計算時間を短縮する方法について開示されている。
特許文献3の方法では、まず、目標再生像の一部の画素を含む副目標再生像を生成し、その副目標再生像を再生するための計算機ホログラムを生成する。次に、生成済みの副目標再生像に画素を付加して解像度を高くした新たな副目標再生像を作成する。そして、新たな副目標再生像を生成するための計算機ホログラムを作成する。特許文献3の方法においては、計算機ホログラムが目標の画素数に達するまで、新たな副目標再生像の生成と、その副目標再生像を生成するための計算機ホログラムの作成とを繰り返す。
国際公開第2014/136292号 国際公開第2015/049866号 特開2005−37682号公報
特許文献3の方法によれば、計算機ホログラムを生成する時間を短縮することができる。しかし、特許文献3の方法では、計算機ホログラムを生成する時間は短縮できるが、計算機ホログラムを生成している最中には、その計算機ホログラムを用いて形成される目標再生像を投射することができない。そのため、特許文献3の方法では、計算機ホログラムを生成している間に目標再生像の状態が変化する状況では、表示された再生像の状態が実時間の状態とずれてしまうという問題点があった。また、特許文献3の方法では、投射された再生像が不鮮明であっても、再計算しない限り鮮明な再生像を得ることができないという問題点があった。
本発明の目的は、所望の目標画像を表示するまでの時間を短縮しながら、最終的に鮮明な目標画像を表示することができる投射装置を提供することにある。
本発明の投射装置は、光源と、目標画像の位相分布を表示させる表示部で光源からの光を反射する空間変調素子と、目標画像の位相分布を生成する第1処理と、第1処理よりも計算コストの高い処理によって目標画像の位相分布を生成する第2処理とを異なる演算部によって並行して実行し、第1処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示させた後に、第2処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示させる変調素子制御手段と、空間変調素子の反射光を投射する投射手段とを備える。
本発明の投射方法においては、空間変調素子の表示面に照射された光の反射光を投射する投射方法であって、目標画像の位相分布を生成する第1処理と、第1処理よりも計算コストの高い処理によって目標画像の位相分布を生成する第2処理とを異なる演算部によって並行して実行し、第1処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示した後に、第2処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示する。
本発明の投射プログラムは、空間変調素子の表示面に照射された光の反射光を投射する投射プログラムであって、目標画像の位相分布を生成する第1処理と、第1処理よりも計算コストの高い処理によって目標画像の位相分布を生成する第2処理とを異なる演算部によって並行して実行する処理と、第1処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示した後に、第2処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示する処理とをコンピュータに実行させる。
本発明によれば、所望の目標画像を表示するまでの時間を短縮しながら、最終的に鮮明な目標画像を表示することができる投射装置を提供することが可能になる。
本発明の第1の実施形態に係る投射装置の構成を示すブロック図である。 本発明の第1の実施形態に係る投射装置の変調素子制御手段の構成を示すブロック図である。 本発明の第1の実施形態に係る投射装置の光学的な構成を示す概念図である。 本発明の第1の実施形態に係る投射装置の位相分布生成手段の構成を示すブロック図である。 本発明の第1の実施形態に係る投射装置の位相分布生成手段の動作例を示すフローチャートである。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布の切り替えについて説明するための概念図である。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布を切り替える一例を示す概念図である。 本発明の第2の実施形態において位相分布を切り替える際の判定基準について説明するための概念図である。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の第1処理手段のブロック図である。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の第1処理手段による並進処理の一例について説明するための概念図である。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の第1処理手段による合成処理の一例について説明するための概念図である。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の第2処理手段のブロック図である。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の第2処理手段による反復フーリエ変換処理の一例を示す概念図である。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の第2処理手段による反復フーリエ変換処理のフローチャートである。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の第2処理手段による反復フーリエ変換処理における反復回数に伴う目標画像の遷移を示す概念図である。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布の切り替えについて説明するための概念図である。 本発明の第2の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布を切り替える一例を示す概念図である。 本発明の第3の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布の切り替えについて説明するための概念図である。 本発明の第3の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布を切り替える一例を示す概念図である。 本発明の第3の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布の切り替えについて説明するための概念図である。 本発明の第3の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布を切り替える一例を示す概念図である。 本発明の第4の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布の切り替えについて説明するための概念図である。 本発明の第4の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面を解像度に応じて複数の表示領域に分割する一例を示す概念図である。 本発明の第4の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面の各表示領域に表示させる位相分布を用いて表示される目標画像の解像度について説明するための概念図である。 本発明の第4の実施形態において位相分布を切り替える際の判定基準について説明するための概念図である。 本発明の第5の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に解像度が異なる位相分布を同時に表示する例を示す概念図である。 本発明の第5の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させた位相分布を用いて表示される目標画像について説明するための概念図である。 本発明の第6の実施形態に係るインターフェース装置の構成を示す概念図である。 本発明の第6の実施形態に係るインターフェース装置の撮像装置の構成を示す概念図である。 本発明の第6の実施形態に係るインターフェース装置の制御装置の構成を示す概念図である。 本発明の第7の実施形態に係る投射装置が投射する表示情報を更新頻度に応じて分割する例を示す概念図である。 本発明の第7の実施形態に係る投射装置の空間変調素子の表示面に表示させる位相分布を更新頻度に応じて異なる処理で生成する例について説明するための概念図である。 本発明の各実施形態に係る投射装置を構成する変調素子制御手段のハードウェア構成の一例を示すブロック図である。
以下に、本発明を実施するための形態について図面を用いて説明する。ただし、以下に述べる実施形態には、本発明を実施するために技術的に好ましい限定がされているが、発明の範囲を以下に限定するものではない。なお、以下の実施形態の説明に用いる全図においては、特に理由が無い限り、同様箇所には同一符号を付す。また、以下の実施形態において、同様の構成・動作に関しては繰り返しの説明を省略する場合がある。
(第1の実施形態)
〔構成〕
まず、本発明の第1の実施形態に係る投射装置10の構成について、図面を参照しながら説明する。
図1は、本実施形態に係る投射装置10の構成を示すブロック図である。図1のように、本実施形態に係る投射装置10は、光源11、変調素子制御手段12、空間変調素子13および投射手段15を備える。
光源11は、特定波長の光を発する。光源11が出射した光は、コヒーレントな光110に変換され、空間変調素子13の表示面に入射される。光源11は、可視領域の光を発するように構成してもよいし、紫外領域や赤外領域などの不可視領域の光を発するように構成してもよい。
変調素子制御手段12は、投射画像(以下、目標画像と呼ぶ)に関する情報(以下、目標画像情報)を取得し、取得した目標画像情報に基づいて空間変調素子13を制御する。変調素子制御手段12は、例えばサーバなどの上位システムから目標画像情報を入力する。なお、変調素子制御手段12は、ユーザインターフェース(図示しない)から入力された操作内容に基づいて設定される目標画像情報を取得してもよい。
ここで、図2を用いて、変調素子制御手段12の構成について説明する。変調素子制御手段12は、位相分布生成手段20および位相制御手段30を備える。
位相分布生成手段20は、入力された目標画像情報に基づいて、目標画像に相当する光強度分布を被投射面に表示するための位相分布(以下、目標画像の位相分布)を生成する。
位相制御手段30は、空間変調素子13の表示面に照射される光110の位相と、表示面で反射される変調光130の位相との差分を決定づけるパラメータが変化するように空間変調素子13を制御する。変調素子制御手段12は、例えば、空間変調素子13に印加する電圧を制御することによって、空間変調素子13の表示面の屈折率を変化させる。
位相制御手段30は、空間変調素子13の表示面に異なる位相分布を同時に表示させる場合、その表示面を複数の表示領域に分割し、それらの表示領域に異なる位相分布を分散させて表示させる。位相制御手段30は、表示面を複数の表示領域に分割する場合、各表示領域に表示させる位相分布を記憶する記憶部を有していることが好ましい。
空間変調素子13は、変調素子制御部12の制御に応じて、所望の目標画像の位相分布を自身の表示面に表示する。例えば、空間変調素子13は、位相がそろったコヒーレントな光110の入射を受け、入射された光110の位相を変調する位相変調型の空間変調素子によって実現できる。
空間変調素子13は、変調された変調光130を投射手段15に向けて出射する。なお、空間変調素子13は、被投射面に所望の目標画像を投射できるのであれば、位相変調型とは異なる方式の素子であってもよい。
位相変調型の空間変調素子13の表示面には、被投射面に投射される所望の目標画像の位相分布が表示される。空間変調素子13の表示面で反射された変調光130は、一種の回折格子が集合体を形成したような画像になり、これらの回折格子で回折された光が集まることによって所望の目標画像が形成される。
空間変調素子13は、例えば、強誘電性液晶やホモジーニアス液晶、垂直配向液晶などを用いた空間変調素子によって実現される。空間変調素子13は、具体的には、LCOS(Liquid Crystal on Silicon)によって実現できる。また、空間変調素子13は、例えば、MEMS(Micro Electro Mechanical System)によって実現してもよい。
投射手段15は、空間変調素子13の表示面の変調光130を信号光150に変換して被投射面に投射する。
図3は、本実施形態に係る投射装置10の光学的な構成を示す概念図である。図3のように、投射装置10は、図1の構成に加えて、コリメータ111、フーリエ変換レンズ151、アパーチャ152および投射レンズ153を有する。図3のフーリエ変換レンズ151、アパーチャ152および投射レンズ153は、投射手段15を構成する要素である。
コリメータ111は、光源が出射した光をコヒーレントな光110に変換するレンズである。
フーリエ変換レンズ151は、空間変調素子15の表示面で反射された変調光130を無限遠に投射した際に形成される像を、近傍の焦点位置に形成させるための光学レンズである。フーリエ変換レンズ151は、単一のレンズで構成してもよいし、複数のレンズを組み合わせて構成してもよい。
アパーチャ152は、フーリエ変換レンズ151によって集束された光に含まれる高次光を消去し、画像領域を特定する機能を有する。アパーチャ152の開口部は、アパーチャ152の位置における表示情報の画像領域よりも小さく開口され、アパーチャ152の位置に形成される目標画像の周囲を遮るように設置される。例えば、アパーチャ152には、矩形状や円形状の開口部が形成されている。アパーチャ152は、フーリエ変換レンズ151の焦点位置に設置されることが好ましいが、高次光を消去する機能を発揮できれば、焦点位置からずれていても構わない。
投射レンズ153は、フーリエ変換レンズ151によって集束された光を拡大して投射する光学レンズである。投射レンズ153は、空間変調素子15に入力された位相分布に対応する目標画像が被投射面に表示されるように信号光150を投射する。なお、投射レンズ153がなくても被投射面に目標画像を投射できるのであれば、投射レンズ153を省略してもよい。
投射手段15から投射された信号光150は、被投射面の全面に均一に投射されるのではなく、目標画像を構成する文字や記号、枠などの画像部分に集中的に投射される。この場合、光110の照射量を実質的に減らすことができるため、投射装置10の全体的な光出力を抑えることができる。そのため、本実施形態の投射装置10は、小型かつ低電力の光源11と、その光源11を駆動する低出力の電源とによって光源部分を構成できる。
本実施形態においては、図3のように、空間変調素子13の表示面に対して光110の入射角を非垂直にする。すなわち、本実施形態においては、光源11から出射される光の出射軸を空間変調素子13の表示面に対して斜めにする。空間変調素子13の表示面に対して光110の出射軸を斜めに設定すれば、ビームスプリッタを用いなくても空間変調素子13に光110を入射できるため、効率を向上させることができる。
〔位相分布生成手段〕
ここで、位相分布生成手段20の詳細について図面を用いて説明する。図4は、位相分布生成手段20の詳細な構成である。
図4のように、位相分布生成手段20は、目標画像受信手段21、第1処理手段22、第2処理手段23および位相分布切替手段24を有する。
目標画像受信手段21は、上位システムから目標画像を取得する受信部である。目標画像受信手段21は、取得した目標画像を第1処理手段22および第2処理手段23に出力する。なお、目標画像受信手段21は、上位システムにデータを送信する送信機能を有していてもよい。
第1処理手段22は、目標画像受信手段21から取得した目標画像に対して第1処理を実行し、一次表示の位相分布(第1位相分布とも呼ぶ)を生成する。第1処理は、第2処理手段23が実行する第2処理と比較すると計算コストが低い処理である。そのため、第1処理は、第2処理と比べると短時間で完了する。なお、一次表示は、位相分布生成手段20に入力された目標画像に対して第1に行われる表示処理である。第1処理手段22は、第1処理によって生成された一次表示の位相分布を位相分布切替手段24に出力する。
第2処理手段23は、目標画像受信手段21から取得した目標画像に対して第2処理を実行し、二次表示の位相分布(第2位相分布とも呼ぶ)を生成する。第2処理は、第1処理手段22が実行する第1処理と比較すると計算コストが高い処理である。そのため、第2処理は、第1処理と比べると時間がかかる処理である。なお、ニ次表示は、位相分布生成手段20に入力された目標画像に対して行われた一次表示に続いて行われる表示処理である。二次表示は、一次表示に続いて一度だけ行われてもよいし、何回にも分けて漸次的に行われてもよい。第2処理手段23は、第2処理によって生成された二次表示の位相分布を位相分布切替手段24に出力する。
上述の通り、第1処理手段22は、第2処理手段23が実行する第2処理よりも計算コストが低い第1処理を実行する。
第1処理手段22が予め記憶しておいた基本画像の選択や合成などの計算コストの低い第1処理を実行し、第2処理手段23が反復フーリエ変換処理を1000回反復する計算コストの高い第2処理を実行することを一例としてあげられる。また、第1処理手段22が反復フーリエ変換を10回反復する第1処理を実行し、第2処理手段22が反復フーリエ変換処理を1000回反復する第2処理を実行することを一例としてあげられる。
位相分布切替手段24は、第1処理手段22によって出力された一次表示の位相分布、第2処理手段23によって出力された二次表示の位相分布を取得する。
位相分布切替手段24は、一次表示の位相分布を取得した場合、その一次表示の位相分布を位相制御手段30に出力する。位相分布切替手段24は、二次表示の位相分布を取得した場合、後述する判定基準に基づいて、一次表示の位相分布に替えて二次表示の位相分布を位相制御手段30に出力する。なお、二次表示の位相分布が漸次的に入力される場合、位相分布切替手段24は、それらの二次表示の位相分布が入力されるたびに当該位相分布を出力していく。
以上が、本実施形態に係る投射装置10の構成についての説明である。
〔動作〕
続いて、本実施形態に係る投射装置10の動作について説明する。
まず、図5のフローチャートを用いて、位相分布生成手段20が実行する動作について説明する。なお、図5においては、位相分布生成手段20の各構成要素を動作主体として説明するが、一部の構成要素間の入出力処理については割愛する。
まず、目標画像受信手段21は、上位システムから目標画像を取得する(ステップS11)。例えば、上位システムは、投射装置10にインターネットなどのネットワークを通じて接続されたサーバなどに構成すればよい。目標画像受信手段21は、取得した目標画像を第1処理手段22および第2処理手段23に出力する。
図5において、ステップS12およびステップS13の第1処理と、ステップS14〜ステップS16の第2処理とは並行して実行する。第1処理と第2処理は、異なるプロセッサに振り分けて実行することが好ましい。また、第2処理が複数の処理で構成されている場合、それらの処理を単一のプロセッサで連続的に実行してもよいし、複数のプロセッサに分散させて並列して実行してもよい。
第1に、第1処理手段22は、取得した位相分布に関して第1処理を実行する(ステップS12)。
そして、第1処理手段22は、第1処理で生成された位相分布を位相分布切替手段24に出力する(ステップS13)。
第2に、第2処理手段23は、取得した位相分布に関して第2処理を実行する(ステップS14)。
ここで、第2処理を継続する場合(ステップS15でYes)、ステップS14に戻る。一方、第2処理を終了する場合(ステップS15でNo)、ステップS16に進む。なお、ステップS15における第2処理は、例えば後述する判定基準に基づいて継続するか否かを判定すればよい。
そして、第2処理手段23は、第2処理で生成された位相分布を位相分布切替手段24に出力する(ステップS16)。なお、第2処理を逐次的に何度か行う場合は、ステップS16の後に、ステップS14に戻ればよい。
位相分布切替手段24は、ステップS13またはステップS16で出力された位相分布を取得する。
取得した位相分布が第1処理で生成されたものであり、第2処理で生成されたものではない場合(ステップS17でNo)、位相分布切替手段24は、その位相分布をそのまま位相制御手段30に出力する(ステップS18)。
一方、取得した位相分布が第2処理で生成されたものである場合(ステップS17でYes)、位相分布切替手段24は、所定の判定基準に基づいて、新たに取得した位相分布を、既に出力されている位相分布と切り替える(ステップS18)。
位相分布切替手段24は、切り替えた位相分布を位相制御手段30に出力する(ステップS19)。
ここで、その目標画像に関する処理が継続中である場合(ステップS20でYes)、ステップS17に戻って待機する。一方、その目標画像に関する全ての処理が終了している場合(ステップS20でNo)、図5に沿った処理は終了とする。
位相制御手段30は、位相分布生成手段20から取得した位相分布に基づいて、空間変調素子13の表示面に表示させる位相分布を切り替えればよい。
以上が、本実施形態に係る投射装置10の動作についての説明である。
以上のように、本実施形態においては、計算コストが低い第1処理で生成された一次表示を行った後に、所定の判定基準に基づいて、計算コストが高い第2処理で生成された二次表示に切り替える。
動画のように目標画像を高速で切り替える場合、それぞれの目標画像の表示時間は短いため、少々の雑音ならば認識されることはない。当然のことながら、静止画のように目標画像の表示時間が長い場合は、同じ目標画像が表示される時間が長くなり、それぞれの目標画像の雑音が認識されやすくなる。そのため、計算コストが低い第1処理で生成した位相分布を一次表示している間に計算コストが高い処理を行い、計算コストが高い処理で生成された二次表示を一次表示と切り替えることによって、最終的にはきれいな目標画像を表示できる。
本実施形態によれば、空間変調素子に表示する位相分布の計算を開始してから、その位相分布を用いて所望の目標画像を表示させるまでの時間を短縮し、最終的に雑音の少ない目標画像を投射することができる投射装置を提供ができる。
(第2の実施形態)
次に、本発明の第2の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る投射装置は、基本画像を選択して合成する処理を第1処理として実行し、反復フーリエ変換処理を第2処理として実行する。
本実施形態で用いられる目標画像情報は、目標画像を構成する基本画像に関する情報を含む。基本画像とは、例えば「○」などの円形、「△」や「□」などの多角形、「☆」や「※」などのマーク、「A」や「B」などの文字、枠や線などといった基本的なパターン(以下、基本パターン)を少なくとも一つ含む画像である。なお、基本パターンには、ここで挙げたパターンに限らず、任意のパターンを用いることができる。
図6は、本実施形態に係る投射装置が実行する処理を説明するための概念図である。また、図7は、図6の処理によって生成した位相分布を空間変調素子13の表示面に表示する例である。なお、実際には空間変調素子13の表示面に位相分布が表示されるが、図7以下の例においては、説明をしやすくするために空間変調素子13の表示面に表示される位相分布を用いて被投射面に表示される画像を表す。
本実施形態において、第1処理手段22−2(後述)は、基本画像の位相分布を選択して合成する処理を第1処理として実行する。また、第2処理手段23−2(後述)は、目標画像を用いた反復フーリエ変換処理を第2処理として実行する。
まず、本実施形態に係る投射装置は、第1処理手段22−2が生成した位相分布を一次表示として空間変調素子13の表示面に表示する。
図6のように、第1処理手段22−2は、取得した目標画像から基本パターンを抽出し、その基本パターンを含む基本画像の位相分布を選択する。第1処理手段22−2は、各基本パターンを含む基本画像の位相分布を予め記憶しておく。第1処理手段22−2は、目標画像を構成する基本パターンを含む基本画像の位相分布を合成することによって、目標画像の位相分布を生成する。
図7の左側が一次表示の例である。図7の例では、空間変調素子13の表示面を4行×6列からなる複数の表示領域に分割し、各表示領域に基本パターンAおよびBを含む基本画像を合成したものを表示する。位相制御手段30は、第1処理手段22−2によって選択・合成された位相分布を一次表示として各表示領域に表示させるように空間変調素子13を制御する。
その後、本実施形態に係る投射装置は、第2処理手段23−2が生成した位相分布を空間変調素子13の表示面に表示する。
図6のように、第2処理手段23−2は、取得した目標画像を用いて、その目標画像の位相分布を生成する。図6には、反復フーリエ変換処理を反復していくことによって、より鮮明な画像になっていく様子を図示している。第2処理手段23−2は、反復フーリエ変換処理を所定回数反復することによって生成された位相分布を位相分布切替手段24に出力する。なお、第2処理手段23−2は、所定回数の反復フーリエ変換処理の途中段階で生成された位相分布を順次出力するようにしてもよい。
位相分布切替手段24は、判定基準に基づいて、第2処理手段2−23によって生成された位相分布を一次表示に用いられている位相分布と切り替える。
図7の右側が二次表示の例である。位相制御手段30は、位相分布切替手段24によって切り替えられた位相分布をニ次表示として各表示領域に表示させるように空間変調素子30を制御する。
〔判定基準〕
続いて、位相分布切替手段24が第1処理で生成された位相分布から第2処理で生成された位相分布へと切り替える判定基準について説明する。図8は、判定基準の一例について説明するためのグラフである。なお、図8の例では、第2処理において特定の処理を反復させるものとして説明する。
図8のグラフにおいて、横軸は第2処理における特定の処理を継続する時間、縦軸は第2処理によって生成される位相分布を用いて目標画像を表示させた際の雑音レベル(以下、第2処理の雑音レベル)を示す。また、図8のグラフには、第1処理によって生成された位相分布を用いて生成された目標画像の雑音レベル(以下、第1処理の雑音レベル)を破線で示している。なお、図8の例では、雑音レベルを縦軸に設定しているが、その他の指標を縦軸に設定してもよい。
図8において、時刻T21は、第2処理の雑音レベルが第1処理の雑音レベルと同一になるポイントを示す。すなわち、時刻T21は、一次表示から二次表示に切り替えてもよいという目安の時刻になる。
ところで、時刻T21になった時点で一次表示から二次表示に切り替えても、目標画像の雑音レベルが改善されたことを認識しにくい。そのため、実際には、第2処理の雑音レベルが第1処理の雑音レベルを大きく下回る時刻T22において、一次表示から二次表示に切り替えてもよい。なお、表示されている目標画像の雑音レベルを故意に認識しにくくするために、時刻T21に近い時刻で一次表示から二次表示への切り替えを行うように設定してもよい。
時刻T22は、例えば、第2の雑音レベルが第1の雑音レベルよりも所定の雑音レベルだけ小さくなる時間に設定されればよい。雑音レベルの判定基準は、雑音レベルの絶対値や割合などで設定すればよい。なお、二次表示の切り替えを複数回行う場合、時刻T22は、二次表示の切り替え回数に応じて複数の時刻に分割して設定してもよい。
基本画像を組み合わせて合成させた位相分布を用いて投射された目標画像は、基本画像ごとのコントラストや解像度の違いによって違和感のある目標画像を生成させることがある。一方、反復フーリエ変換処理で生成された目標画像は、基本パターンごとにコントラストや解像度が異なることはないために鮮明である。しかしながら、反復フーリエ変換処理は計算コストの高い処理であるため、目標画像を表示させたいタイミングにおいて適時に情報を表示させることができない場合がある。
本実施形態においては、計算コストが低い第1処理で生成された目標画像を一次表示として表示し、その後、計算コストが高い第2処理で生成された目標画像を二次表示として切り替えて表示する。その結果、本実施形態によれば、所望の目標画像を表示するまでの時間を短縮しながら、さらに鮮明な目標画像を表示することができる。
〔第1処理手段〕
ここで、本実施形態に係る第1処理手段22−2の構成について図面を参照しながら説明する。図9は、本実施形態に係る第1処理手段22−2の構成を示すブロック図である。
図9のように、第1処理手段22−2は、第1画像取得部221、基本パターン抽出部222、基本画像記憶部223、基本画像抽出部224、第1演算部225および第1出力部226を有する。
第1画像取得部221は、目標画像受信手段21から目標画像情報を取得する。第1画像取得部221は、取得した目標画像情報を基本パターン抽出部222に出力する。
また、基本画像の位相分布を上位システムから取得する場合、第1画像取得部221は、取得した基本画像の位相分布を基本画像記憶部223に記録させる。
目標画像情報は、目標画像に含まれる基本画像を識別するための識別情報を含んでいてもよい。また、目標画像情報は、目標画像において、基本パターンがどのような状態にあるのかを示す情報を含んでいてもよい。なお、基本パターンの状態とは、目標画像における基本パターンの位置や大きさ、向きなどの状態を意味する。
基本パターン抽出部222は、目標画像情報を取得し、目標画像に含まれる基本パターンを抽出する。
例えば、基本パターン抽出部222は、テンプレートマッチングなどの処理によって基本パターンを抽出する。テンプレートマッチングとは、基本パターンをテンプレートとして目標画像上で走査させ、その目標画像上の任意の位置における類似度を順次計算し、類似度が高い位置を検出する処理である。類似度計算としては、SSD(Sum of Squared Difference)やSAD(Sum of Absolute Difference)などを用いることができる。また、NCC(Normalized Cross-Correlation)やZNCC(Zero-means Normalized Cross-Correlation)などを類似度計算に用いてもよい。
また、例えば、基本パターン抽出部222は、入力された目標画像から図形や記号などの基本パターンを抽出し、抽出した基本パターンが基本画像記憶部223に記憶されている基本画像に含まれるか否かを判定してもよい。ただし、目標画像中の基本パターンの検出方法はここで挙げた限りではなく、任意の方法を用いることができる。
基本画像記憶部223は、各基本画像に関して、反復フーリエ変換処理が施された位相分布を記憶する。基本画像記憶部223は、上位システムにおいて生成された基本画像の位相分布を事前に取得しておけばよい。なお、基本画像の位相分布を予め自装置で生成しておき、その位相分布を基本画像記憶部223に記憶するように構成してもよい。
基本画像記憶部223は、例えば各基本画像に付与された固有の識別記号に対応させて各基本画像の位相分布を記憶しておけばよい。なお、基本画像記憶部223は、基本パターンに付与された固有の識別記号に対応させて、その基本パターンを含む基本画像の位相分布を記憶しておいてもよい。
基本画像抽出部224は、基本パターン抽出部222によって抽出された基本パターンを含む基本画像を基本画像記憶部223から抽出する。基本画像抽出部224は、抽出した基本画像を第1演算部225に出力する。
第1演算部225は、基本画像抽出部224から取得した基本画像を合成する。目標画像において基本パターンの位置を変更する場合、第1演算部225は、基本画像上の基本パターンに対して並進処理など移動処理を行う。第1演算部225は、全ての基本画像において基本パターンを適切な位置に移動させると、それらの基本画像に含まれる基本パターンを合成する。なお、基本画像そのものが目標画像に対応する場合、第1演算部225は、その基本画像の位相分布に対して移動処理を行わなくてもよい。第1演算部225は、生成した目標画像の位相分布を第1出力部226に出力する。
第1出力部226は、第1演算部225によって変換処理された目標画像の位相分布を位相分布切替手段24に出力する。
ここで、第1演算部225の行う変換処理について、図10および図11の例を用いて説明する。なお、第1演算部225は、実際には基本画像の位相分布に対して変換処理を実行すればよいが、図10および図11には変換する位相分布に対応する基本画像を図示している。
図10は、第1演算部225が、基本パターンAを基本画像において中央から右上隅の方へ並進移動する例である。第1演算部225は、例えば、基本パターンを含む基本画像の位相分布に対して位相シフト演算による演算(並進処理)を実行することによって、基本画像中の基本パターンを並進移動することができる。位相シフト演算においては、例えば、基本画像の位相に対して位相行列をx方向およびy方向のそれぞれの方向に掛け算してシフトさせればよい。
図11は、基本パターンAおよびBから基本画像を生成させる第1処理の流れを示す概念図である。
基本画像抽出部224は、基本パターンAを含む基本画像301の位相分布と、基本パターンBを含む基本画像302の位相分布とを基本画像記憶部223から抽出する。
第1演算部225は、基本画像301上で基本パターンAを移動させた基本画像303の位相分布を生成するとともに、基本画像302上で基本パターンBを移動させた基本画像304の位相分布を生成する。そして、第1演算部225は、生成した基本画像303および304の位相分布を合成し、目標画像305を生成する。
〔第2処理手段〕
次に、本実施形態に係る第2処理手段23−2の構成について図面を参照しながら説明する。図12は、本実施形態に係る第2処理手段23−2の構成を示すブロック図である。
図12のように、第2処理手段23−2は、第2画像取得部231、第2演算部232および第2出力部233を有する。
第2画像取得部231は、目標画像受信手段21から目標画像情報を取得する。第2画像取得部231は、取得した目標画像情報を第2演算部232に出力する。
第2演算部232は、目標画像情報を取得し、取得した目標画像情報に含まれる目標画像を用いて反復フーリエ変換処理を実行し、その目標画像の位相分布を生成する。
第2出力部233は、第2演算部232によって生成された目標画像の位相分布を位相分布切替手段24に出力する。
〔反復フーリエ変換処理〕
ここで、第2演算部232が実行する反復フーリエ変換処理について説明する。図13は、反復フーリエ変換処理について説明するための概念図である。ただし、図13に示す各位相分布はダミーパターンであり、それらのダミーパターンを空間変調素子13の表示面に表示させ、その表示面に光を照射したとしたからといって何らかの目標画像が得られるとは限らない。また、図13において、FTはフーリエ変換(Fourier Transform)、IFTは逆フーリエ変換(Inverse Fourier Transform)を示す。
空間変調素子13直後の光電場分布をフーリエ変換すると、被投射面上における光電場分布Eが得られる。この被投射面上の光電場分布Eの2乗が目標画像の光強度分布に相当する。逆に、被投射面上における光電場分布Eを逆フーリエ変換すると、空間変調素子直後の光電場分布が得られる。反復フーリエ変換においては、逆フーリエ変換とフーリエ変換とを繰り返しながら、目標画像の位相分布が得られるまで最適化を行う。
次に、図14のフローチャートを用いて、反復フーリエ変換処理の流れについて説明する。なお、以下の図14に即した説明においては、図13中の振幅分布および位相分布の符号を参照しながら説明する。
まず、図14において、第2演算部232は、目標画像の振幅分布321(F0)と、適切な位相分布322(ΔΦ0)を初期値として設定する(ステップS21)。
位相分布322(ΔΦ0)は、所定の位相分布であり、任意のパターンで構わない。例えば、位相分布322(ΔΦ0)は、ランダムパターンや、2次のレンズ状のパターン、リニアなパターンなどの任意なパターンでよい。
次に、第2演算部232は、取得した振幅分布321(F0)および位相分布322(ΔΦ0)を用いて逆フーリエ変換演算(第1の逆フーリエ変換)を実行し、振幅分布331(f1)および位相分布332(Δφ1)を生成する(ステップS22)。
すなわち、第2演算部232は、第1の逆フーリエ変換において、目標画像の振幅分布と、所定の位相分布とを組み合わせた光電場分布を逆フーリエ変換し、空間変調素子13直後の光電場分布を生成する。なお、初期値として設定する位相分布322(ΔΦ0)は、振幅分布321(F0)とは関係のないパターンであるため、ここで生成される振幅分布331(f1)は意味のないパターンになる。
次に、第2演算部232は、振幅分布331(f1)を適切なパターンに入れ替える。図13の例では、均一なレーザ光が空間変調素子13の表示面に入射されると仮定し、第2演算部232は、振幅分布331(f1)を均一な振幅分布341(f0)と置換する(ステップS23)。
次に、第2演算部232は、均一な振幅分布341(f0)および位相分布332(Δφ1)を用いてフーリエ変換演算(第1のフーリエ変換)を実行し、振幅分布351(F1)および位相分布352(ΔΦ1)を生成する(ステップS24)。
すなわち、第2演算部232は、第1のフーリエ変換において、第1の逆フーリエ変換によって生成した位相分布と、均一な振幅分布とを組み合わせた光電場分布をフーリエ変換し、被投射面上における目標画像の光電場分布を生成させる。最初に生成される振幅分布351(F1)は、目標画像の振幅分布321(F0)のエッジが強調されたような画像になる。この段階では、まだ所望の目標画像の振幅分布は得られていない。
処理を継続させる場合(ステップS25でYes)、第2演算部232は、振幅分布351(F1)を目標画像の振幅分布321(F0)に置換する(ステップS26)。ステップS26の後はステップS22に戻る。
一方、処理を終了させる場合(ステップS25でNo)、図14のフローチャートに沿った処理を終了とする。この段階で得られた位相分布Δφが目標画像の位相分布である。例えば、被投射面上の光強度分布がどのような条件(以下、所定の条件)に達するまで反復フーリエ変換を継続するのかを事前に決めておき、その所定の条件が満たされた段階の位相分布Δφを用いて空間変調素子13を制御するように設定すればよい。
処理を継続させる場合(ステップS25でYes)はステップS22に戻り、第2演算部232は、振幅分布321(F0)および位相分布352(ΔΦ1)を用いて逆フーリエ変換演算(第2の逆フーリエ変換)を実行する(ステップS22)。
すなわち、第2演算部232は、第2の逆フーリエ変換において、第1のフーリエ変換によって生成した位相分布と、目標画像の振幅分布とを組み合わせた光電場分布を逆フーリエ変換し、空間変調素子13直後の光電場分布を生成する。この段階で得られた位相分布(ΔΦ2)を用いれば、位相分布332(Δφ1)を用いたときよりも目標画像に近い光強度分布が得られる。
さらに、第2演算部232は、振幅分布(f2)を均一な振幅分布341(f0)と置換する(ステップS23)。第2演算部232は、均一な振幅分布341(f0)および位相分布(Δφ2)を用いてフーリエ変換演算(第2のフーリエ変換)を実行し、振幅分布(F3)および位相分布(ΔΦ3)を生成する(ステップS24)。
すなわち、第2演算部232は、第2のフーリエ変換において、第2の逆フーリエ変換によって生成した位相分布と、均一な振幅分布とを組み合わせた光電場分布をフーリエ変換し、被投射面上における光電場分布を生成させる。なお、第2演算部232は、第1および第2のフーリエ変換において同様のフーリエ変換処理を行っているが、説明しやすくするために各変換処理を異なる名称で呼んでいる。
ここで、反復フーリエ変換処理を継続させる場合(ステップS25でYes)、第2演算部232は、振幅分布(F4)を目標画像の振幅分布321(F0)に置換し(ステップS56)、ステップS22に戻る。
これ以降は、逆フーリエ変換演算(第2の逆フーリエ変換)とフーリエ変換演算(第2のフーリエ変換処理)とを繰り返し(ステップS22〜S26)、さらに目標画像に近い光強度分布を被投射面上に形成する位相分布Δφを計算する。
図15は、反復フーリエ変換処理の反復回数に伴った目標画像の振幅分布の変化を示す概念図である。図15において、振幅分布351−1は、反復フーリエ変換処理を1回行った際の振幅分布である。振幅分布351の後のハイフンに続く数字は、反復回数を示す。すなわち、振幅分布351−2、351−10、351−20および351−40は、それぞれ反復フーリエ変換処理を2、10、20および40回繰り返した後の振幅分布である。
図15のように、反復フーリエ変換処理を繰り返すことによって、目標画像に近づいていくことがわかる。ただし、反復フーリエ変換処理は、ある程度繰り返すと飽和するため、完全に目標画像と一致する光強度分布は得られない。そのため、第2演算部232は、逆フーリエ変換と反復フーリエ変換とを繰り返しながら、目的とする位相分布が得られるまで最適化を行うことになる。例えば、フーリエ変換によって生成した振幅分布がどの状態になったら反復を終了するかという基準や、反復フーリエ変換の回数の基準を設定しておけばよい。また、例えば、各反復における集束の程度を評価するエラー関数としてフーリエエラーとオブジェクトエラーを設定しておき、そのエラー関数を用いた判定基準によって反復を終了させる判断をするようにしてもよい。
以上のように、反復フーリエ変換処理では、初期値を設定し、逆フーリエ変換とフーリエ変換とを繰り返し実行することによって、所望の目標画像が得られるまで位相分布を最適化する。なお、上述の反復フーリエ変換処理に関する説明は一例であって、実際に用いる処理アルゴリズムを上述の手法に限定するわけではなく、種々の処理を追加・削除してもよい。
以上のように、本実施形態においては、予め取得しておいた基本画像の位相分布を用いた第1処理を実行し、第1処理で得られた位相分布を用いて空間変調素子の表示面に一次表示を表示させる。第1処理では、目標画像に含まれる基本パターンを含む基本画像を抽出し、抽出した基本画像に対して合成処理を加えるなどして目標画像の位相分布を生成する。
そして、本実施形態においては、第1処理と並行させて、目標画像を用いた第2処理を実行し、第2処理で得られた位相分布を用いて空間変調素子の表示面に二次表示を表示させる。第2処理では、目標画像を用いて反復フーリエ変換処理を実行し、所望の目標画像の位相分布を生成させる。一次表示を二次表示に切り替えるタイミングは、第2処理で得られた目標画像が所定の判定基準を満たした後に設定すればよい。
すなわち、本実施形態において、計算コストが低い第1処理と、計算コストが高い第2処理とを並行し、まずは第1処理で得られた位相分布を一次表示として表示する。そして、第2処理によって高画質の目標画像の位相分布が得られると、その位相分布を用いた二次表示を一次表示と切り替えて表示する。
本実施形態によれば、所望の目標画像を素早く表示させ、その目標画像をより高画質な画像に切り替えることができる。
〔変形例〕
次に、図16および図17を用いて、本実施形態に係る投射装置の変形例を示す。
図16は、本実施形態に係る投射装置が実行する処理の変形例を説明するための概念図である。また、図17は、図16の方法を用いて生成した位相分布を空間変調素子13の表示面に表示する例である。なお、実際には空間変調素子13の表示面には位相分布が表示されるが、図17の例においては、説明をしやすくするために空間変調素子13の表示面に表示される位相分布を用いて被投射面に表示される画像を各表示領域に示す。
図16および図17の例において、第1処理手段22−2は、基本画像の位相分布を選択する処理を第1処理として実行する。また、第2処理手段23−2は、目標画像を用いた反復フーリエ変換処理を第2処理として実行する。
図16および図17の例では、空間変調素子13の表示面の表示領域を2つの表示領域群にまとめる。そして、一方の表示領域群には基本パターンAを含む基本画像の位相分布を表示し、他方の表示領域群には基本パターンBを含む基本画像の位相分布を表示する。すなわち、図16および図17の例は、基本画像の合成処理を行わずに、複数の表示領域群ごとに異なる基本パターンを含む基本画像を表示する点が図6および図7の例とは異なる。
図16および図17において、まず、本実施形態に係る投射装置は、第1処理手段22−2が生成した位相分布を一次表示として空間変調素子13の表示面に表示する。
図16のように、第1処理手段22−2は、取得した目標画像から基本パターンを含む基本画像の位相分布を選択する。第1処理手段22−2は、各基本パターンを含む基本画像の位相分布を予め記憶しておく。
図17の左側が一次表示の例である。図7とは異なり、各表示領域には、2つの基本パターンAおよびBのうちいずれかの基本パターンを含む基本画像の位相分布がそのまま表示される。位相制御手段30は、第1処理手段22−2によって選択された位相分布を一次表示として各表示領域に表示させるように制御する。
図17の例において、位相制御手段30は、複数の表示領域を二つの表示領域群にまとめる。位相制御手段30は、一方の表示領域群には基本パターンAを含む基本画像の位相分布を表示させ、他方の表示領域には基本パターンBを含む基本画像の位相分布を表示させるように制御する。図17の例では、基本パターンAおよびBを交互に表示させる例を示しているが、基本パターンは任意の表示領域に表示すればよい。
空間変調素子13の表示面に図17のような基本画像の位相分布を表示させると、その表示面の反射光は2つの基本パターンが合成された目標画像に変換されて被表示面に表示される。
その後、本実施形態に係る投射装置は、第2処理手段23−2が生成した位相分布を空間変調素子13の表示面に表示する。
図16のように、第2処理手段23−2は、取得した目標画像を用いて、その目標画像に対応する位相分布を生成する。図16には、反復フーリエ変換処理を反復していくことによって、より鮮明な目標画像の位相分布が得られる様子を図示している。第2処理手段23−2は、所定回数の反復フーリエ変換処理によって生成された位相分布を位相分布切替手段24に出力する。なお、第2処理手段23−2は、所定回数の反復フーリエ変換処理の途中段階で生成された位相分布を順次出力するようにしてもよい。
位相分布切替手段24は、第2処理手段23−2によって生成された位相分布を一次表示に用いられている位相分布と切り替える。
図17の右側が二次表示の例である。位相制御手段30は、位相分布切替手段24によって切り替えられた位相分布をニ次表示として各表示領域に表示させるように制御する。
図16および図17の例では、各基本パターンに関して表示面で反射される光量が半分になるため、一次表示の段階において、目標画像の明るさは、全ての表示領域に同じ位相分布を表示した場合の半分程度になる。それに対し、二次表示では、全ての表示領域に同じ位相分布が表示されるため、目標画像の明るさは一次表示の2倍程度になる。そのまま一次表示から二次表示へと切り替えると、明るさが急激に変化することになってしまう。そのような点を改善するためには、一次表示から二次表示への切り替えの際に、光源11の光量を半分程度にするか、二次表示に用いる位相分布を暗くする処理を行えばよい。
本変形例によれば、基本画像を合成する処理を省略できるため、図6および図7の例よりも速く一次表示を表示させることができる。
(第3の実施形態)
次に、本発明の第3の実施形態に本実施形態にについて図面を参照しながら説明する。本実施形態においては、第1処理で既に生成されていた目標画像に別の基本パターンを追加する点が第2の実施形態とは異なる。なお、本実施形態に係る投射装置の構成は、第2の実施形態に係る投射装置と同様の構成であるために図面は省略する。
図18は、本実施形態に係る投射装置が実行する処理を説明するための概念図である。また、図19は、図18の処理によって生成した位相分布を空間変調素子13の表示面に表示する例である。なお、実際には空間変調素子13の表示面には位相分布が表示されるが、図19の例においては、空間変調素子13の表示面に表示される位相分布を用いた際に被投射面に表示される画像を各表示領域に示す。
本実施形態において、第1処理手段は、既に生成された目標画像の位相分布に、別の基本画像の位相分布を選択して合成する処理を第1処理として実行する。また、第2処理手段は、目標画像を用いた反復フーリエ変換処理を第2処理として実行する。
まず、本実施形態に係る投射装置は、第1処理手段が生成した位相分布を一次表示として空間変調素子13の表示面に表示する。本実施形態においては、基本パターンAおよびBを含む目標画像が既に生成されており、その目標画像に別の基本パターンCを追加する処理を第1処理として実行する。
図18のように、第1処理手段は、取得した目標画像から基本パターンを抽出し、その基本パターンを含む基本画像の位相分布を選択する。第1処理手段は、各基本パターンを含む基本画像の位相分布を予め記憶しておく。図18の例では、3つの基本パターンに関して、基本パターンAおよびBを含む目標画像の位相分布が既に生成されていたものとする。第1処理手段は、生成済みの目標画像の位相分布に新たな基本パターンCを追加することによって、目標画像の位相分布を生成する。
図19の左側が一次表示の例である。位相制御手段30は、第1処理手段によって選択・合成された位相分布を一次表示として各表示領域に表示させるように制御する。
その後、本実施形態に係る投射装置は、第2処理手段が生成した位相分布を空間変調素子13の表示面に表示する。
図18のように、第2処理手段は、取得した目標画像を用いて、その目標画像の位相分布を生成する。図18には、反復フーリエ変換処理を反復していくことによって、より鮮明な目標画像の位相分布が得られる様子を図示している。第2処理手段は、所定回数の反復フーリエ変換処理によって生成された位相分布を位相分布切替手段24に出力する。なお、第2処理手段は、所定回数の反復フーリエ変換処理の途中段階で生成された位相分布を順次出力するようにしてもよい。
位相分布切替手段24は、第2処理手段によって生成された位相分布を一次表示に用いられている位相分布と切り替える。
図19の右側が二次表示の例である。位相制御手段30は、位相分布切替手段24によって切り替えられた位相分布をニ次表示として各表示領域に表示させるように制御する。
図19のように、生成済みの目標画像の位相分布に別の基本パターンを含む基本画像を追加して生成した位相分布は、コントラストや解像度の違いによって違和感のある目標画像を生成させることがある。しかし、本実施形態によれば、3つの基本パターンを別々の基本画像を用いて合成するよりも鮮明な一次表示が得られる。
そのため、本実施形態によれば、複数の基本パターンを含む目標画像の一次表示を表示させる際に、別々の基本画像を用いて複数の基本パターンを合成するよりもきれいな画像を得ることができる。
〔変形例〕
ここで、図20および図21を用いて、図18および図19の変形例について説明する。
図20は、本実施形態に係る投射装置が実行する処理の変形例を説明するための概念図である。また、図21は、図20の処理を実行して生成した位相分布を空間変調素子13の表示面に表示する例である。なお、実際には空間変調素子13の表示面には位相分布が表示されるが、図21の例においては、空間変調素子13の表示面に表示される位相分布を用いた際に被投射面に表示される画像を各表示領域に示す。
図20および図21の例において、第1処理手段は、基本画像の位相分布を選択する処理を第1処理として実行する。また、第2処理手段23は、目標画像を用いた反復フーリエ変換処理を第2処理として実行する。
図20および図21の例では、空間変調素子13の表示面の表示領域を2つの表示領域群にまとめ、一方の表示領域群には基本パターンAおよびBを含む基本画像を表示し、他方の表示領域群には基本パターンCを含む基本画像を表示する。すなわち、図20および図21の例は、既に生成されていた目標画像と、追加する基本画像との合成処理を行わずに、複数の表示領域群ごとに異なる基本パターンを含む基本画像を表示する点が図18および図19の例とは異なる。
図20および図21において、まず、本実施形態に係る投射装置は、第1処理手段が生成した位相分布を一次表示として空間変調素子13の表示面に表示する。
図20のように、第1処理手段は、取得した目標画像から基本パターンを抽出し、その基本パターンを含む基本画像の位相分布を選択する。第1処理手段は、既に生成されていた基本パターンAおよびBを含む画像の位相分布と、基本パターンCを含む基本画像の位相分布とを選択する。
図21の左側が一次表示の例である。図19とは異なり、各表示領域には、2つの基本パターンAおよびBを含む画像の位相分布と、基本パターンCを含む基本画像の位相分布とが合成されずに表示される。位相制御手段30は、第1処理手段によって選択された位相分布を一次表示として各表示領域に表示させるように制御する。
図21の例において、位相制御手段30は、複数の表示領域を二つの表示領域群にまとめる。位相制御手段30は、一方の表示領域群には基本パターンAおよびBを含む画像の位相分布を表示させ、他方の表示領域には基本パターンCを含む基本画像の位相分布表示させるように制御する。
空間変調素子13の表示面に図21のような基本画像を表示させると、その表示面の反射光は2つの画像が合成された目標画像が表示される。
その後、本実施形態に係る投射装置は、第2処理手段が生成した位相分布を空間変調素子13の表示面に表示する。
図20のように、第2処理手段は、取得した目標画像を用いて、その目標画像に対応する位相分布を生成する。図20には、反復フーリエ変換処理を反復していくことによって、より鮮明な目標画像の位相分布が得られる様子を図示している。第2処理手段は、所定回数の反復フーリエ変換処理によって生成された位相分布を位相分布切替手段24に出力する。なお、第2処理手段は、所定回数の反復フーリエ変換処理の途中段階で生成された位相分布を順次出力するようにしてもよい。
位相分布切替手段24は、第2処理手段によって生成された位相分布を一次表示に用いられている位相分布と切り替える。
図21の右側が二次表示の例である。位相制御手段30は、位相分布切替手段24によって切り替えられた位相分布をニ次表示として各表示領域に表示させるように制御する。
本変形例によれば、基本画像を合成する処理を省略できるため、図18および図19の例よりも速く一次表示を表示させることができる。また、本変形例では、表示済みの画像の位相分布と、追加する基本画像の位相分布とを重ねて表示させるため、基本パターンごとの雑音が相殺された画像を表示させることができる。
(第4の実施形態)
次に、本発明の第4の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態においては、第1処理および第2処理の両方の処理で同じ処理を実行するが、第1処理では低解像度の目標画像の位相分布を生成し、第2処理では高解像度の目標画像の位相分布を生成する点が第2の実施形態とは異なる。なお、本実施形態に係る投射装置の構成は、第2の実施形態に係る投射装置と同様の構成であるために図面は省略する。ただし、本実施形態に係る投射装置の構成要素は、第2の実施形態に係る投射装置の構成要素とは一部異なる機能を有する。
図22は、本実施形態に係る投射装置が実行する処理を説明するための概念図である。図23は、解像度の異なる目標画像の位相分布を段階的に生成する様子を図示している。また、図24は、各ステップで生成された位相分布を用いて投射された目標画像の表示例を示す。
本実施形態において、第1処理手段は、低解像度の目標画像の位相分布を反復フーリエ変換処理によって生成する処理を第1処理として実行する。また、第2処理手段は、第1高解像度の目標画像の位相分布を反復フーリエ変換処理によって生成する処理を第2処理として実行する。また、第2処理手段は、第1高解像度よりも解像度が高い第2高解像度の目標画像の位相分布を反復フーリエ変換処理によって生成する処理を第3処理として実行する。
図22の例では、第2処理手段が、異なる解像度の目標画像の位相分布を生成する例を示す。この場合、第2処理手段は、複数のプロセッサで構成すればよい。ただし、第2処理手段とは異なる第3の処理手段(図示しない)によって第3処理を行うように構成してもよい。
図23の第1処理において、第1処理手段は、16行×32列(低解解像度)の目標画像の位相分布を生成する。第2処理において、第2処理手段は、8行×16列(第1高解像度)の目標画像の位相分布を生成する。第3処理において、第2処理手段は、4行×8列(第2高解像度)の目標画像の位相分布を生成する。なお、第1〜第3処理は、並列して実行される。
本実施形態に係る処理は、第1および第2処理手段のうちいずれかで低解像度および高解像度の目標画像の位相分布を逐次生成するように構成してもよい。また、本実施形態に係る処理は、3つの処理だけではなく、4つ以上の処理を並列して実行するようにしてもよい。
まず、第1処理において、第1処理手段は、空間変調素子13の表示面を16行×32列に分割した際の各表示領域に対応する低解像度の目標画像の位相分布を生成する。
位相制御手段30は、第1処理で生成された位相分布を用いて投射手段15に目標画像を投射させる制御をする。このとき、位相制御手段30は、空間変調素子13の表示面を16行×32列の表示領域に分割させ、各表示領域に第1処理で生成された位相分布を表示させる。第1処理で生成された位相分布を用いて投射された画像は、例えば図24の左側に示す画像(一次表示)のように表示される。
次に、第2処理において、第2処理手段は、空間変調素子の表示面を8行×16列に分割した際の各表示領域に対応する高解像度(第1高解像度)の目標画像の位相分布を生成する。
位相切替手段24は、第1処理で生成された低解像度の目標画像の位相分布から、第2処理で生成された第1高解像度の目標画像の位相分布へと切り替える。
位相制御手段30は、第2処理で生成された位相分布を用いて投射手段15に目標画像を投射させる制御をする。このとき、位相制御手段30は、空間変調素子13の表示面を8行×16列の表示領域に分割させ、各表示領域に第2処理で生成された位相分布を表示させる。第2処理で生成された位相分布を用いて投射された画像は、例えば図24の中央に示す画像(二次表示)のように表示される。第2処理で生成された位相分布を用いて投射された目標画像(第1高解像度)は、第1処理で生成された位相分布を用いて投射された目標画像(低解像度)よりも解像度が高い。
次に、第3処理において、第2処理手段は、空間変調素子の表示面を4行×8列に分割した際の各表示領域に対応する高解像度(第2高解像度)の目標画像の位相分布を生成する。
位相切替手段24は、第2処理で生成された第1高解像度の目標画像の位相分布から、第3処理で生成された第2高解像度の目標画像の位相分布へと切り替える。
位相制御手段30は、第3処理で生成された位相分布を用いて投射手段15に目標画像を投射させる制御をする。このとき、位相制御手段30は、空間変調素子13の表示面を4行×8列の表示領域に分割させ、各表示領域に第3処理で生成された位相分布を表示させる。第3処理で生成された位相分布を用いて投射された画像は、例えば図24の右側に示す画像(三次表示)のように表示される。第3処理で生成された位相分布を用いて投射された目標画像(第2高解像度)は、第2処理で生成された位相分布を用いて投射された目標画像(第1高解像度)よりも解像度が高い。
〔判定基準〕
続いて、本実施形態において位相分布を切り替える際の判定基準について説明する。図25は、本実施形態における判定基準について説明するためのグラフである。
図25のグラフにおいて、横軸は各処理を実行する時間、縦軸は各処理によって生成される位相分布を用いて目標画像を表示させた際の雑音レベルを示す。図25のグラフには、第1処理の雑音レベルの継時変化を破線、第2処理の雑音レベルの継時変化を実線、第3処理の雑音レベルの継時変化を一点鎖線で示している。なお、図25の例では、雑音レベルを縦軸に設定しているが、その他の指標を縦軸に設定してもよい。
図25において、時刻T41は、第2処理の雑音レベルが第1処理の雑音レベルと同一になる時刻を示す。すなわち、時刻T41は、一次表示から二次表示に切り替えてもよいという目安の時刻になる。また、時刻T42は、第3処理の雑音レベルが第2処理の雑音レベルと同一になる時刻を示す。すなわち、時刻T42は、二次表示から三次表示に切り替えてもよいという目安の時刻になる。なお、位相分布を実際に切り替える際には、時刻T41やT42になった時点ではなく、それらの時刻に近い時刻でありさえすればよい。
以上のように、本実施形態に係る投射装置においては、解像度を段階的にあげた目標画像の位相分布を生成し、生成した位相分布を空間変調素子の表示面に順次切り替えて表示させる。本実施形態においては、空間変調素子に表示させる位相分布の解像度を段階的にあげていくことによって、表示面の分割数を逐次減らしていく。その結果、本実施形態によれば、所望の目標画像の解像度を順次大きくしていくことができる。
(第5の実施形態)
次に、本発明の第5の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態は、空間変調素子の表示面を複数の表示領域に分割したうえで少なくとも二つの表示領域群(以下、領域群)にまとめ、それらの領域群に表示させる位相分布の演算を領域群ごとに異なるプロセッサに分担させる点が第4の実施形態とは異なる。なお、本実施形態に係る投射装置の構成は、第2の実施形態に係る投射装置と同様の構成であるために図面は省略する。ただし、本実施形態に係る投射装置の構成要素は、第2の実施形態に係る投射装置の構成要素とは一部異なる機能を有する。
図26は、空間変調素子13の表示面を複数の表示領域に分割し、それらの表示領域をいくつかの領域群にまとめる例である。図26の枠内は、空間変調素子13の表示面を領域群1〜4という4つ領域群にまとめる例である。各領域群は、それぞれ異なる大きさに分割された表示領域によって構成される。領域群1は、8行×8列の表示領域に分割される。領域群2は、4行×4列の表示領域に分割される。領域群3は、2行×2列の表示領域に分割される。領域群4は、単一の表示領域で構成される。領域群1に表示される位相分布を用いた目標画像(左上)が最も低解像度であり、領域群2(左下)、領域群3(右上)、領域群4(右下)の順で解像度が高くなる。本実施形態においては、各領域群における位相分布の演算を異なるプロセッサで並列して実行する。
図27は、本実施形態において、異なる解像度の目標画像の位相分布を各領域群に同時に表示させる一例を示す。
図27の上段は、各領域群によって形成される目標画像を個別に図示している。最も低い解像度の領域群1は、基本パターンのエッジの凹凸が目立つが、演算の収束が速いために、より短時間で均一な光強度分布になる。一方、最も高い解像度の領域群4による基本パターンのエッジは、滑らかではあるが、演算の収束が遅いために、均一な光強度分布になるのに時間がかかる。そのため、領域群4では、エッジに対する中央部分の暗さが目立つ時間が長い。なお、領域群2および3に関しては、領域群1および4の中間的な状態になっている。
本実施形態においては、各領域群に解像度の異なる位相分布を同時に表示させる。その結果、図27の下段のように、エッジ部分が滑らかであるとともに、光強度分布が均一である基本パターンが演算初期の段階から表示される。基本画像のエッジ部分は、高解像度の位相分布によって滑らかになる。基本画像の中央部分は、低解像度の位相分布によって均一な光強度分布になる。
また、本実施形態においては、異なる領域群に関して異なる解像度で位相分布の演算を開始し、領域群ごとに逐次生成される位相分布を順次表示面に表示させ、その位相分布を用いて目標画像を投射する。そして、判定条件に従って、低解像度の目標画像の位相分布を高解像度の目標画像の位相分布に順次切り替えていき、最終的には解像度の高い目標画像を表示させることができる。
ここで、本実施形態において位相分布を切り替える一例について説明する。
まず、領域群1よりも領域群2の位相分布を用いた目標画像の方が低い雑音レベルになったら、領域群1を表示していた領域の分割数を領域群2と同じにし、その領域に領域群2の位相分布を表示させる。この段階では、空間変調素子13の表示面のうち半分の領域で領域群2の位相分布が表示されている。続いて、領域群2よりも領域群3の位相分布を用いた目標画像の方が低い雑音レベルになったら、領域群2を表示していた領域の分割数を領域群3と同じにし、領域群2を表示していた領域に領域群3の位相分布を表示させる。この段階で、空間変調素子13の表示面のうち4分の3の領域で領域群3の位相分布が表示されている。さらに、領域群3よりも領域群4の位相分布を用いた目標画像の方が低い雑音レベルになったら、領域群3を表示していた領域の分割数を領域群4と同じにし、領域群3を表示していた領域に領域群4の位相分布を表示させる。この段階で、空間変調素子13の表示面には領域群4の位相分布のみが表示されている。
本実施形態によれば、各領域群に異なる解像度の位相分布を同時に表示させることによって、高解像度の位相分布による滑らかなエッジと、低解像度の位相分布による均一な光強度分布とを併せもつ目標画像を表示させることができる。さらに、本実施形態においては、解像度の高い位相分布の雑音レベルが判定基準を満たしていくにつれて、低解像度の位相分布を高解像度の位相分布に順次切り替えていくため、他の実施形態と同様の雑音レベルの目標画像をより速く表示させることができる。
(第6の実施形態)
次に、本発明の第6の実施形態に係るインターフェース装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態に係るインターフェース装置は、第1〜第5の実施形態に係る投射装置を備える。
図28は、本実施形態に係るインターフェース装置100の構成を示す概念図である。インターフェース装置100は、投射装置10、撮像装置40および制御装置50を備える。インターフェース装置100は、投射装置10によって操作領域200(所定の操作領域)にユーザインターフェース300を投射しながら、撮像装置40によって操作領域200を撮像する。制御手段50は、撮像装置40によって撮像された画像データを解析することによって、操作領域200に表示されたユーザインターフェース300に対して行われた操作内容を認識する。なお、投射装置10は、第1〜第5の実施形態において説明した装置である。
撮像装置40は、ユーザインターフェース300を表示する操作領域200を撮像する。撮像装置40は、例えば一般的なカメラの機能によって実現できる。
図29は、撮像装置40の構成を示すブロック図である。図29のように、撮像装置40は、撮像素子41、画像処理プロセッサ43、内部メモリ45およびデータ出力部47を有する。
撮像素子41は、操作領域200を撮像し、画像データを生成するための素子である。撮像素子41は、半導体部品が集積回路化された光電変換素子である。撮像素子41は、例えば、CCD(Charge-Coupled Device)やCMOS(Complementary Metal-Oxide-Semiconductor)などの固体撮像素子によって実現できる。通常、撮像素子41は、可視領域の光を撮像する素子によって構成するが、赤外線や紫外線、X線、ガンマ線、電波、マイクロ波などの電磁波を撮像・検波できる素子によって構成してもよい。
画像処理プロセッサ43は、撮像素子41によって撮像された画像情報に対して、暗電流補正や補間演算、色空間変換、ガンマ補正、収差の補正、ノイズリダクション、画像圧縮などの画像処理を実行する集積回路である。なお、画像情報を加工せずに出力する場合は、画像処理プロセッサ43を省略してもよい。
内部メモリ45は、画像処理プロセッサ43によって処理しきれない画像データや、処理済みの画像データを一時的に格納する記憶素子である。なお、撮像素子41によって撮像された画像データを内部メモリ45に一時的に記憶するように構成してもよい。内部メモリ45は、一般的なメモリによって構成すればよい。
データ出力部47は、画像処理プロセッサ43によって処理された画像データを制御装置50に出力する。
図30は、本実施形態に係る制御装置50の構成を示すブロック図である。制御装置50は、撮像制御手段51、操作認識手段53、投射条件設定手段55および投射制御手段57を有する。
撮像制御手段51は、撮像装置40を制御して操作領域200を撮像させ、撮像装置40が生成した画像データを取得する。撮像制御手段51は、取得した画像データを操作認識手段53に出力する。
操作認識手段53は、撮像制御手段51から画像データを取得し、その画像データを解析することによって、ユーザの操作内容を認識する。操作認識手段53は、認識した操作内容を投射条件設定手段55に出力する。例えば、ユーザインターフェース300上に特定の入力操作を受け付ける操作キーを設定しておく。操作認識手段53は、画像データから操作位置を判定し、ユーザインターフェース300上の操作キーと操作位置とを対応させて操作内容を認識すればよい。
投射条件設定手段55は、操作認識手段53が認識した操作内容を入力し、入力された操作内容に基づいて投射条件を設定する。なお、投射条件とは、投射装置10によって所望の表示情報を操作領域200に表示させるための条件である。投射条件設定手段55は、操作内容ごとの目標画像情報を投射条件に含めて記憶しておく。例えば、投射条件設定手段55は、ユーザインターフェース300に対する操作内容ごとに、どの目標画像をどこに表示させるのかという投射条件を予め記憶しておけばよい。
投射条件設定手段55は、設定した投射条件を投射条件出力部57に送信する。
投射条件出力部57は、投射条件設定手段55によって設定された投射条件を投射装置10に送信する。
投射装置10は、制御手段50から投射条件を取得し、投射条件に含まれる目標画像情報に基づいて、ユーザインターフェース300を操作領域200に投射する。投射装置10が投射するユーザインターフェース300は、第1〜第5の実施形態に係る投射装置と同様に表示される。
以上のように、本実施形態に係るインターフェース装置によれば、所望のユーザインターフェースを表示するまでの時間を短縮しながら、最終的に鮮明なユーザインターフェースを表示することが可能となる。また、本実施形態に係るインターフェース装置は、投射装置を小型化できるため、ウエアラブルな構成とすることができる。
(第7の実施形態)
次に、本発明の第7の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態に係る投射装置は、第1〜第5の実施形態に係る投射装置を備える。本実施形態に係る投射装置は、投射する目標画像(以下、表示情報)の構成要素を更新頻度に応じて分割して処理する。本実施形態に係る投射装置は、第6の実施形態に係るインターフェース装置に好適である。なお、本実施形態に係る投射装置の構成は、第2の実施形態に係る投射装置と同様の構成であるために図面は省略する。
図31は、本実施形態に係る投射装置が投射する表示情報を2つの副表示情報に分割する例である。図31の例では、第6の実施形態のインターフェース装置に本実施形態に係る投射装置を用いることを想定する。本実施形態に係る投射装置は、ユーザインターフェースを含む表示情報を操作領域に投射する。ユーザインターフェースは、更新頻度が低い部分と、更新頻度が高い部分とを含む。
図31の上段の表示情報は、枠や操作キーによって構成されたインターフェース画像(左下)を形成する構成要素と、線を組み合わせたマップ画像(右下)を形成する構成要素とを含む。すなわち、本実施形態に係る投射装置は、投射する表示情報の構成要素を更新頻度に応じて分割して処理する。
インターフェース装置が投射するユーザインターフェースにおいては、枠や操作キーのような構成要素の更新頻度は低い。そのため、投射装置は、枠や操作キーなどの構成要素を含む画像はそのまま表示し続ければよい。一方、マップ画像に関しては、拡大・縮小や位置の変更などを頻繁にする必要があるため、更新頻度が高い。そのため、投射装置は、第1〜第5の実施形態のようにマップ画像を逐次表示させればよい。
図32は、空間変調素子13の表示面を複数の表示領域に分割し、各表示領域にインターフェース画像またはマップ画像を分散して表示させる例である。図32の例では、更新頻度の低いインターフェース画像を領域Iに表示させ、更新頻度の高いマップ画像を領域mに表示させる。
一次表示としては、インターフェース画像の位相分布を領域Iに表示させるとともに、マップ画像の目標画像を領域mに表示させる。この場合、図21のように、既に生成しておいたインターフェース画像の位相分布と、低解像度のマップ画像の位相分布とを異なる表示領域に同時に表示させればよい。一次表示においては、インターフェース画像は鮮明であり、マップ画像は低解像度である。
一方、二次表示としては、第1〜第5の実施形態の手法を用いて段階的に解像度をあげて演算されたマップ画像を領域mに逐次表示させる。なお、領域Iに表示させるインターフェース画像は、一次表示をそのまま表示し続ければよい。二次表示においては、インターフェース画像は鮮明であり、マップ画像は次第に解像度が高くなっていく。ただし、マップ画像は、所定の解像度になった段階で一次表示と置換するようにしてもよい。
以上のように、位相分布生成手段は、目標画像の構成要素を更新頻度に応じて分割して処理する。位相分布生成手段は、更新頻度が高い構成要素については、その構成要素が更新されるごとに、第1処理によって生成された第1位相分布を位相制御手段に出力した後に、第2処理によって生成された第2位相分布を前記位相制御手段に出力する。位相分布生成手段は、更新頻度が低い構成要素については、その構成要素が更新されていない限り、出力済みの第2位相分布を位相制御手段に出力する。
そして、位相制御手段は、更新頻度が低い構成要素については、既に表示されている位相分布を表示し続けるように空間変調素子を制御する。一方、位相制御手段は、更新頻度が高い構成要素については、第1位相分布を表示した後に第2位相分布を表示するように空間変調素子を制御する。
以上のように、本実施形態に係る投射装置によれば、常に表示させておく画像と、更新が頻繁な画像とを空間変調素子の表示面の異なる表示領域に分散して表示させる。そのため、常に表示させておく画像の演算を省略できるため、目標画像を演算する際の計算コストを軽減することができる。
(ハードウェア構成)
次に、各実施形態に係る投射装置およびインターフェース装置を可能とするためのハードウェア構成について、図33のコンピュータ90を一例として挙げて説明する。なお、図33のコンピュータ90は、各実施形態に係る投射装置を可能とするための一構成例であって、本発明の範囲を限定するものではない。また、第6の実施形態に係るインターフェース装置100をウエアラブルな構成とする場合、図33のコンピュータ90の機能をマイクロコンピュータによって実現することが好ましい。
図33のように、コンピュータ90は、プロセッサ91、主記憶装置92、補助記憶装置93、入出力インターフェース95および通信インターフェース96を備える。プロセッサ91、主記憶装置92、補助記憶装置93、入出力インターフェース95および通信インターフェース96は、バス99を介して互いにデータ授受可能に接続される。また、プロセッサ91、主記憶装置92、補助記憶装置93および入出力インターフェース95は、通信インターフェース96を介して、インターネットやイントラネットなどのネットワークと接続される。コンピュータ90は、ネットワークを介して上位システムのサーバやコンピュータに接続され、基本画像の位相分布や目標画像情報を上位システムから取得する。なお、本発明の各実施形態に係る投射装置およびインターフェース装置を可能とするためのハードウェア構成において、プロセッサ91は、複数の演算装置(第1演算装置91−1、・・・、第n演算装置91−n)を含む構成とする(nは2以上の自然数)。
プロセッサ91は、補助記憶装置93等に格納されたプログラムを主記憶装置92に展開し、展開されたプログラムを実行する。本実施形態においては、コンピュータ90にインストールされたソフトウェアプログラムを用いる構成とすればよい。プロセッサ91は、本実施形態に係る制御手段の演算処理や制御処理を実行する。プロセッサ91は、複数の演算部91−1〜nを含むマルチコアプロセッサとして実現される。各演算部91−1〜nは、それぞれ独立して動作するコアとして構築すればよい。
主記憶装置92は、プログラムが展開される領域を有する。主記憶装置92は、例えばDRAM(Dynamic Random Access Memory)などの揮発性メモリとすればよい。また、MRAM(Magnetoresistive Random Access Memory)などの不揮発性メモリを主記憶装置92として構成・追加してもよい。
補助記憶装置93は、基本画像の位相分布のようなデータを記憶する手段である。補助記憶装置93は、ハードディスクやフラッシュメモリなどのローカルディスクによって構成される。なお、基本画像の位相分布を主記憶装置92に記憶させる構成とし、補助記憶装置93を省略することも可能である。
入出力インターフェース95は、コンピュータ90と周辺機器とを接続規格に基づいて接続する装置である。通信インターフェース96は、インターネットやイントラネットなどのネットワークに接続するためのインターフェースである。なお、図33においては、インターフェースをI/F(Interface)と略して表記している。入出力インターフェース95および通信インターフェース96は、外部機器と接続するインターフェースとして共通化してもよい。
コンピュータ90には、必要に応じて、キーボードやマウス、タッチパネルなどといった入力機器を接続できるように構成してもよい。それらの入力機器は、情報や設定の入力に使用される。なお、タッチパネルを入力機器として用いる場合は、表示機器の表示画面が入力機器のインターフェースを兼ねる構成とすればよい。プロセッサ91と入力機器との間のデータ授受は、入力インターフェース95に仲介させればよい。
通信インターフェース96は、ネットワークを通じて、別のコンピュータやサーバなどの上位システムに接続される。上位システムは、通信インターフェース96を介して、各実施形態で用いる基本画像の位相分布をコンピュータ90に送信する。また、上位システムは、通信インターフェース96を介して、各実施形態で用いる目標画像情報をコンピュータ90に送信する。上位システムは、各実施形態で用いる基本画像の位相分布を自システムで生成してもよいし、別のシステムから取得してもよい。
また、コンピュータ90には、情報を表示するための表示機器を備え付けてもよい。表示機器を備え付ける場合、コンピュータ90には、表示機器の表示を制御するための表示制御装置(図示しない)が備えられていることが好ましい。表示機器は、入力インターフェース95を介してコンピュータ90に接続すればよい。
また、コンピュータ90には、必要に応じて、リーダライタを備え付けてもよい。リーダライタは、バス99に接続され、プロセッサ91と図示しない記録媒体(プログラム記録媒体)との間で、記録媒体からのデータ・プログラムの読み出し、コンピュータ90の処理結果の記録媒体への書き込みなどを仲介する。記録媒体は、例えばSD(Secure Digital)カードやUSB(Universal Serial Bus)メモリなどの半導体記録媒体などで実現できる。また、記録媒体は、フレキシブルディスクなどの磁気記録媒体、CD(Compact Disk)やDVD(Digital Versatile Disc)などの光学記録媒体やその他の記録媒体によって実現してもよい。
以上が、本発明の実施形態に係る投射装置を可能とするためのハードウェア構成の一例である。なお、図33のハードウェア構成は、本実施形態に係る投射装置を可能とするためのハードウェア構成の一例であって、本発明の範囲を限定するものではない。また、本実施形態に係る投射装置による処理をコンピュータに実行させる処理プログラムも本発明の範囲に含まれる。さらに、本発明の実施形態に係る処理プログラムを記録したプログラム記録媒体も本発明の範囲に含まれる。
以上、実施形態を参照して本発明を説明してきたが、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。
この出願は、2015年7月17日に出願された日本出願特願2015−142770を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。
10 投射装置
11 光源
12 変調素子制御手段
13 空間変調素子
15 投射手段
20 位相分布生成手段
21 目標画像受信手段
22 第1処理手段
23 第2処理手段
24 位相分布切替手段
30 位相制御手段
221 第1画像取得部
222 基本パターン抽出部
223 基本画像記憶部
224 基本画像抽出部
225 第1演算部
226 第1出力部
231 第2画像取得部
232 第2演算部
233 第2出力部

Claims (20)

  1. 光源と、
    目標画像の位相分布を表示させる表示手段で前記光源からの光を反射する空間変調素子と、
    前記目標画像の位相分布を生成する第1処理と、前記第1処理よりも計算コストの高い処理によって前記目標画像の位相分布を生成する第2処理とを異なる演算手段によって並行して実行し、前記第1処理によって生成された位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示させた後に、前記第2処理によって生成された位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示させる変調素子制御手段と、
    前記空間変調素子の反射光を投射する投射手段とを備える投射装置。
  2. 前記変調素子制御手段は、
    前記第1処理と前記第2処理とを並行して実行し、前記第1処理によって生成された第1位相分布を出力した後に、前記第2処理によって生成された第2位相分布を前記第1位相分布から切り替えて出力する位相分布生成手段と、
    前記位相分布生成手段によって出力された前記第1位相分布を前記空間変調素子の表示面に一次表示させる制御をし、前記位相分布生成手段によって出力された前記第2位相分布を前記空間変調素子の表示面にニ次表示させる制御をする位相制御手段とを有する請求項1に記載の投射装置。
  3. 前記位相分布生成手段は、
    上位システムから前記目標画像を受信する目標画像受信手段と、
    前記目標画像を用いて前記第1処理によって前記第1位相分布を生成する第1処理手段と、
    前記目標画像を用いて前記第2処理によって前記第2位相分布を生成する第2処理手段と、
    前記第1位相分布が生成された段階で前記第1位相分布を出力し、前記第2位相分布が生成された段階で所定の判定基準に基づいて前記第1位相分布から前記第2位相分布へと切り替えて出力する位相分布切替手段とを有する請求項2に記載の投射装置。
  4. 前記位相分布切替手段は、
    前記所定の判定基準として目標画像の雑音レベルを用いる請求項3に記載の投射装置。
  5. 前記位相分布切替手段は、
    前記所定の判定基準として、前記第1位相分布を用いて投射された目標画像の雑音レベルよりも、前記第2位相分布を用いて投射された目標画像の雑音レベルの方が小さくなった時点以降において前記第1位相分布から前記第2位相分布へと切り替えるという基準を用いる請求項4に記載の投射装置。
  6. 前記第1処理手段は、
    基本パターンを含む基本画像の位相分布を記憶する記憶手段を有し、前記目標画像を取得した際に前記目標画像に含まれる前記基本パターンを抽出し、前記基本パターンを含む基本画像の位相分布を前記記憶手段から取得し、取得した前記基本画像の位相分布を前記第1位相分布として選択する請求項3乃至5のいずれか一項に記載の投射装置。
  7. 前記第1処理手段は、
    選択した前記基本画像の位相分布を合成し、合成した位相分布を前記第1位相分布として出力する請求項6に記載の投射装置。
  8. 前記第2処理手段は、
    反復フーリエ変換処理によって前記目標画像の位相分布を生成し、生成した位相分布を前記第2位相分布として出力する請求項6または7に記載の投射装置。
  9. 前記変調素子制御手段は、
    前記空間変調素子の表示面を複数の表示領域に分割し、前記複数の表示領域のそれぞれに前記第1位相分布および前記第2位相分布のうちいずれか一方を表示させる制御をする請求項6乃至8のいずれか一項に記載の投射装置。
  10. 前記変調素子制御手段は、
    複数の前記基本パターンを含む目標画像に関して、
    前記複数の表示領域に前記目標画像の位相分布を一次表示させる際に、前記複数の基本パターンを含む前記基本画像の位相分布のそれぞれを前記第1位相分布として前記複数の表示領域のいずれかに表示させるように前記空間変調素子を制御し、
    前記複数の表示領域に前記目標画像を二次表示させる際に、表示されている前記第1位相分布のうち少なくとも一つを前記第2位相分布に切り替えて前記複数の表示領域に表示させるように前記空間変調素子を制御する請求項9に記載の投射装置。
  11. 前記変調素子制御手段は、
    複数の前記基本パターンを含む目標画像に関して、
    前記複数の表示領域に前記目標画像を一次表示させる際に、前記基本パターンを含む前記基本画像の位相分布を合成したものを前記第1位相分布として前記複数の表示領域に表示させるように前記空間変調素子を制御し、
    前記複数の表示領域に前記第2位相分布を表示させる際に、表示されている前記第1位相分布のうち少なくとも一つを前記第2位相分布に切り替えて前記複数の表示領域に表示させるように前記空間変調素子を制御する請求項9に記載の投射装置。
  12. 前記第1処理手段は、
    表示中の前記目標画像に新たな基本パターンが追加された新たな目標画像から基本パターンを抽出し、抽出した前記基本パターンの基本画像の位相分布を前記記憶手段から取得し、取得した前記基本画像の位相分布を前記表示中の目標画像の位相分布とともに前記第1位相分布として出力する請求項乃至11のいずれか一項に記載の投射装置。
  13. 前記位相分布生成手段は、
    低解像度の目標画像の位相分布を反復フーリエ変換処理によって生成する処理を前記第1処理として実行し、高解像度の目標画像の位相分布を反復フーリエ変換処理によって生成する処理を前記第2処理として実行し、
    前記位相制御手段は、
    前記空間変調素子の表示面を解像度に応じて分割された複数の表示領域に、前記位相分布生成手段によって生成された前記目標画像の位相分布を解像度に応じて表示させる制御をする請求項に記載の投射装置。
  14. 前記位相分布生成手段は、
    前記第2処理において、異なる複数の解像度で前記目標画像の位相分布を段階的に生成し、解像度が異なる前記目標画像の位相分布を順次切り替えて出力する請求項13に記載の投射装置。
  15. 前記変調素子制御手段は、
    前記空間変調素子の表示面を異なる解像度に対応させた複数の表示領域に分割し、前記複数の表示領域を解像度ごとの領域群にまとめ、前記領域群を構成する前記表示領域ごとに異なる解像度の前記目標画像の位相分布を表示させるように前記空間変調素子を制御する請求項13または14に記載の投射装置。
  16. 前記変調素子制御手段は、
    前記空間変調素子の表示面に表示させる位相分布を前記所定の判定基準に基づいて順次切り替えるように前記空間変調素子を制御する請求項15に記載の投射装置。
  17. 前記位相分布生成手段は、
    前記目標画像の構成要素を更新頻度に応じて処理し、
    前記目標画像の構成要素のうち更新頻度が高い構成要素については、前記更新頻度が高い構成要素が更新されるごとに、前記第1処理によって生成された前記更新頻度が高い構成要素の第1位相分布を前記位相制御手段に出力した後に、前記第2処理によって生成された前記更新頻度が高い構成要素の第2位相分布を前記位相制御手段に出力し、
    前記目標画像の構成要素のうち更新頻度が低い構成要素については、前記更新頻度が低い構成要素が更新されていない限り、出力済みの前記更新頻度が低い構成要素の位相分布を前記位相制御手段に出力し、
    前記位相制御手段は、
    前記更新頻度が低い構成要素については、既に表示されている前記位相分布を表示し続けるように前記空間変調素子を制御し、
    前記更新頻度が高い構成要素については、前記第1位相分布を表示した後に前記第2位相分布を表示するように前記空間変調素子を制御する請求項2乃至16のいずれか一項に記載の投射装置。
  18. 請求項1乃至17のいずれか一項に記載の投射装置と、
    所定の操作領域を撮像して画像データを生成する撮像手段と、
    特定の入力操作を受け付ける操作キーが配置されたユーザインターフェースを含む目標画像を前記所定の操作領域に投射するように前記投射装置を制御するとともに、前記所定の操作領域を撮像するように前記撮像手段を制御する制御手段とを備え、
    前記制御手段は、
    前記撮像手段によって生成された前記画像データ上における操作位置と、前記操作位置に配置された前記操作キーとを対応させて操作内容を認識し、前記操作内容に応じた目標画像の位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示するように前記投射装置を制御するインターフェース装置。
  19. 空間変調素子の表示面に照射された光の反射光を投射する投射方法であって、
    目標画像の位相分布を生成する第1処理と、前記第1処理よりも計算コストの高い処理によって前記目標画像の位相分布を生成する第2処理とを異なる演算手段によって並行して実行し、
    前記第1処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示した後に、前記第2処理によって生成された位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示する投射方法。
  20. 空間変調素子の表示面に照射された光の反射光を投射する投射プログラであって、
    目標画像の位相分布を生成する第1処理と、前記第1処理よりも計算コストの高い処理によって前記目標画像の位相分布を生成する第2処理とを異なる演算手段によって並行して実行する処理と、
    前記第1処理によって生成された位相分布を空間変調素子の表示面に表示した後に、前記第2処理によって生成された位相分布を前記空間変調素子の表示面に表示する処理とをコンピュータに実行させる投射プログラ
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