JP6742531B2 - 時間計測デバイスおよび時間計測装置 - Google Patents

時間計測デバイスおよび時間計測装置 Download PDF

Info

Publication number
JP6742531B2
JP6742531B2 JP2019544521A JP2019544521A JP6742531B2 JP 6742531 B2 JP6742531 B2 JP 6742531B2 JP 2019544521 A JP2019544521 A JP 2019544521A JP 2019544521 A JP2019544521 A JP 2019544521A JP 6742531 B2 JP6742531 B2 JP 6742531B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixel
signal
pixels
time measuring
measuring device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2019544521A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2019065174A1 (ja
Inventor
長谷川 浩一
浩一 長谷川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Semiconductor Solutions Corp
Original Assignee
Sony Semiconductor Solutions Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Semiconductor Solutions Corp filed Critical Sony Semiconductor Solutions Corp
Publication of JPWO2019065174A1 publication Critical patent/JPWO2019065174A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6742531B2 publication Critical patent/JP6742531B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S17/00Systems using the reflection or reradiation of electromagnetic waves other than radio waves, e.g. lidar systems
    • G01S17/88Lidar systems specially adapted for specific applications
    • G01S17/89Lidar systems specially adapted for specific applications for mapping or imaging
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/483Details of pulse systems
    • G01S7/486Receivers
    • G01S7/4861Circuits for detection, sampling, integration or read-out
    • G01S7/4863Detector arrays, e.g. charge-transfer gates
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01SRADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
    • G01S7/00Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
    • G01S7/48Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S17/00
    • G01S7/483Details of pulse systems
    • G01S7/486Receivers
    • G01S7/4865Time delay measurement, e.g. time-of-flight measurement, time of arrival measurement or determining the exact position of a peak
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L31/00Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L31/08Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors
    • H01L31/10Semiconductor devices sensitive to infrared radiation, light, electromagnetic radiation of shorter wavelength or corpuscular radiation and specially adapted either for the conversion of the energy of such radiation into electrical energy or for the control of electrical energy by such radiation; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof in which radiation controls flow of current through the device, e.g. photoresistors characterised by potential barriers, e.g. phototransistors
    • H01L31/101Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation
    • H01L31/102Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier
    • H01L31/107Devices sensitive to infrared, visible or ultraviolet radiation characterised by only one potential barrier the potential barrier working in avalanche mode, e.g. avalanche photodiodes

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Remote Sensing (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Optical Radar Systems And Details Thereof (AREA)
  • Measurement Of Unknown Time Intervals (AREA)
  • Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
  • Light Receiving Elements (AREA)

Description

本開示は、光を射出したタイミングから光を検出したタイミングまでの時間を計測する時間計測デバイスおよび時間計測装置に関する。
測定対象物までの距離を測定する際、しばしば、TOF(Time Of Flight)法が用いられる。このTOF法では、光を射出するとともに、測定対象物により反射された反射光を検出する。そして、TOF法では、光を射出したタイミングおよび反射光を検出したタイミングの間の時間差を計測することにより、測定対象物までの距離を計測する(例えば、特許文献1)。
特開2015−78953号公報
ところで、一般に、半導体装置では、回路のレイアウトをしやすいことが望まれており、時間計測デバイスにおいても、レイアウトをしやすいことが期待されている。
レイアウトをしやすい時間計測デバイスおよび時間計測装置を提供することが望ましい。
本開示の一実施の形態における第1の時間計測デバイスは、複数の画素と、時間計測部とを備えている。複数の画素は、第1の方向に並設され、それぞれが、第1の半導体基板に形成されたシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成するものである。時間計測部は、第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するものである。上記複数の画素のうちの第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、時間計測部は、複数の画素のうちの第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測する。
本開示の一実施の形態における第2の時間計測デバイスは、複数の画素と、時間計測部とを備えている。複数の画素は、第1の方向に並設され、それぞれが、受光素子を含み、受光素子における検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成するものである。時間計測部は、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するものである。上記複数の画素のうちの第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、時間計測部は、複数の画素のうちの第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測する。
本開示の一実施の形態における第3の時間計測デバイスは、第1の画素、第2の画素、および第3の画素と、時間計測部とを備えている。第1の画素、第2の画素、および第3の画素は、それぞれが、第1の半導体基板に形成されたシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成するものである。時間計測部は、第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、第1の画素、第2の画素、および第3の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するものである。第2の画素は、第1の画素の出力信号と、第2の画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、第3の画素は、第2の画素の出力信号と、第3の画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、時間計測部は、第3の画素の出力信号に基づいて、第1の画素、第2の画素、および第3の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するものである。
本開示の一実施の形態における第1の時間計測装置は、発光部と、ミラーと、複数の画素と、時間計測部とを備えている。発光部は、光を射出するものである。ミラーは、光に対応する反射光を反射させるものである。複数の画素は、第1の方向に並設され、それぞれが、第1の半導体基板に形成され、ミラーにより反射された反射光を検出するシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成するものである。時間計測部は、第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するものである。上記複数の画素のうちの第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、時間計測部は、複数の画素のうちの第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測する。
本開示の一実施の形態における第2の時間計測装置は、発光部と、ミラーと、複数の画素と、時間計測部とを備えている。発光部は、光を射出するものである。ミラーは、光に対応する反射光を反射させるものである。複数の画素は、第1の方向に並設され、それぞれが、ミラーにより反射された反射光を検出する受光素子を含み、受光素子における検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成するものである。時間計測部は、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するものである。上記複数の画素のうちの第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、時間計測部は、複数の画素のうちの第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測する。
本開示の一実施の形態における第3の時間計測装置は、発光部と、ミラーと、第1の画素、第2の画素、および第3の画素と、時間計測部とを備えている。発光部は、光を射出するものである。ミラーは、光に対応する反射光を反射させるものである。第1の画素、第2の画素、および第3の画素は、それぞれが、第1の半導体基板に形成され、ミラーにより反射された反射光を検出するシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成するものである。時間計測部は、第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、第1の画素、第2の画素、および第3の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するものである。第2の画素は、第1の画素の出力信号と、第2の画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、第3の画素は、第2の画素の出力信号と、第3の画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、時間計測部は、第3の画素の出力信号に基づいて、第1の画素、第2の画素、および第3の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するものである。
本開示の一実施の形態における第1の時間計測デバイスおよび第1の時間計測装置では、各画素において、第1の半導体基板に形成されたシングルフォトンアバランシェダイオードにより光が検出され、この検出タイミングに応じた第1の論理信号が生成される。複数の画素のうちの第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素では、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号が生成される。そして、第2の半導体基板に形成された時間計測部では、複数の画素のうちの第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングが計測される。
本開示の一実施の形態における第2の時間計測デバイスおよび第2の時間計測装置では、各画素において、受光素子により光が検出され、この検出タイミングに応じた第1の論理信号が生成される。複数の画素のうちの第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素では、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号が生成される。そして、時間計測部では、複数の画素のうちの第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングが計測される。
本開示の一実施の形態における第3の時間計測デバイスおよび第3の時間計測装置では、各画素において、第1の半導体基板に形成されたシングルフォトンアバランシェダイオードにより光が検出され、この検出タイミングに応じた第1の論理信号が生成される。第2の画素では、第1の画素の出力信号と、第2の画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号が生成される。第3の画素では、第2の画素の出力信号と、第3の画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号が生成される。そして、第2の半導体基板に形成された時間計測部では、第3の画素の出力信号に基づいて、第1の画素、第2の画素、および第3の画素のそれぞれにおける検出タイミングが計測される。
本開示の一実施の形態における第1の時間計測デバイス、第2の時間計測デバイス、第1の時間計測装置、および第2の時間計測装置によれば、複数の画素のうちの第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、時間計測部は、複数の画素のうちの第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、複数の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するようにしたので、レイアウトをしやすくすることができる。
本開示の一実施の形態における第3の時間計測デバイスおよび第3の時間計測装置によれば、第2の画素は、第1の画素の出力信号と、第2の画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、第3の画素は、第2の画素の出力信号と、第3の画素において生成された第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、時間計測部は、第3の画素の出力信号に基づいて、第1の画素、第2の画素、および第3の画素のそれぞれにおける検出タイミングを計測するようにしたので、レイアウトをしやすくすることができる。
なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれの効果があってもよい。
本開示の一実施の形態に係る時間計測装置の一構成例を表す構成図である。 第1の実施の形態に係る時間計測デバイスの一構成例を表すブロック図である。 図2に示した画素の一構成例を表す回路図である。 図2に示した波形整形部および時間計測部の一構成例を表す回路図である。 図1に示した時間計測デバイスの一構成例を表す構成図である。 第1の実施の形態に係る時間計測装置における時間計測動作の一例を表すタイミング波形図である。 図3に示した受光素子の一動作例を表す波形図である。 第1の実施の形態に係る時間計測装置の一動作例を表すタイミング波形図である。 第1の実施の形態に係る時間計測装置におけるキャリブレーション動作の一例を表すタイミング波形図である。 第1の実施の形態の変形例に係る波形整形部および時間計測部の一構成例を表す回路図である。 第1の実施の形態の他の変形例に係る画素の一構成例を表す回路図である。 第1の実施の形態の他の変形例に係る時間計測デバイスの一構成例を表すブロック図である。 図12に示した画素の一構成例を表す回路図である。 第1の実施の形態の他の変形例に係る時間計測装置におけるテスト動作の一例を表すタイミング波形図である。 第1の実施の形態の他の変形例に係る時間計測デバイスの一構成例を表すブロック図である。 第1の実施の形態の他の変形例に係る時間計測デバイスの一構成例を表すブロック図である。 第2の実施の形態に係る時間計測デバイスの一構成例を表すブロック図である。 図17に示した画素の一構成例を表す回路図である。 第2の実施の形態に係る時間計測装置における時間計測動作の一例を表すタイミング波形図である。 第2の実施の形態の変形例に係る画素の一構成例を表す回路図である。 応用例に係る距離計測デバイスの一構成例を表すブロック図である。 車両制御システムの概略的な構成の一例を示すブロック図である。 車外情報検出部及び撮像部の設置位置の一例を示す説明図である。 変形例に係る時間計測デバイスの一構成例を表す構成図である。 SPADの一構成例を表す断面図である。
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
1.第1の実施の形態
2.第2の実施の形態
3.応用例
4.移動体への応用例
<1.第1の実施の形態>
[構成例]
図1は、一実施の形態に係る時間計測装置(時間計測装置1)の一構成例を表すものである。時間計測装置1は、光を射出するとともに、測定対象物により反射された反射光を検出し、光を射出したタイミングおよび反射光を検出したタイミングの間の時間差を計測するものである。時間計測装置1は、発光部11と、拡散レンズ12と、集光ミラー13と、時間計測デバイス20と、制御部14とを備えている。
発光部11は、発光制御信号C1に応じたタイミングで光を射出するように発光動作を行うものであり、例えば、パルスレーザ光源を用いて構成されるものである。
拡散レンズ12は、発光部11から射出した光を所定の角度範囲内に拡散させるものである。そして、拡散レンズ12により拡散された光(出射光L1)は、時間計測装置1から射出されるようになっている。
集光ミラー13は、計測対象物9により反射されて時間計測装置1に入射した光(反射光L2)を、時間計測デバイス20の受光面Sに向けて反射させるものである。なお、集光ミラー13は必ずしも必要な構成要素ではなく、反射光L2が時間計測デバイス20の受光面Sに到達できればどのような構成であってもよい。
時間計測デバイス20は、集光ミラー13により反射された光を検出し、発光部11が光を射出したタイミングおよび時間計測デバイス20の受光素子31(後述)が光を検出したタイミングの間の時間差を計測するものである。
制御部14は、発光部11および時間計測デバイス20の動作を制御するものである。具体的には、制御部14は、発光部11に対して発光制御信号C1を供給することにより、発光部11の発光動作を制御する。また、制御部14は、時間計測デバイス20に対して様々な制御信号(後述するキャリブレーション信号CAL、選択制御信号CTRL、クロック信号CK、およびカウント開始信号ST)を供給することにより、時間計測デバイス20の動作を制御するようになっている。
図2は、時間計測デバイス20の一構成例を表すものである。なお、この図2では、説明の便宜上、制御部14をも描いている。時間計測デバイス20は、画素アレイ21と、選択信号生成部22と、波形整形部23と、時間計測部24とを有している。
画素アレイ21は、マトリクス状に配置された複数の画素30を有している。画素アレイ21では、例えば、図2における横方向にM個(例えば600個)の画素30が配置され、図2における縦方向にN個(例えば150個)の画素30が配置される。この例では、横方向に並ぶ画素30の数Mは、縦方向に並ぶ画素30の数Nよりも多く設定されている。横方向に並ぶ画素30の数Mは、例えば、200個以上が望ましい。縦方向に並ぶ画素30の数Nは、例えば、100個以上が望ましい。
図3は、画素30の一構成例を表すものである。この図3は、複数(M×N)の画素30のうちの、互いに隣り合う4個(=2×2)の画素30を図示している。画素30は、受光素子31と、抵抗素子32と、インバータ33と、論理積回路34と、フリップフロップ(F/F)35と、排他的論理和回路36とを有している。
受光素子31は、光を検出するものであり、例えば、シングルフォトンアバランシェダイオード(SPAD)を用いて構成される。受光素子31のカソードは抵抗素子32の他端およびインバータ33の入力端子に接続され、アノードは接地されている。シングルフォトンアバランシェダイオードは、例えば、ガイガーモードで動作させることが望ましい。なお、この例では、シングルフォトンアバランシェダイオードを用いたが、これに限定されるものではなく、これに代えて、例えば、アバランシェフォトダイオード(APD)を用いてもよいし、感度の高いフォトダイオード(PD)を用いてもよい。
抵抗素子32の一端には、バイアス電圧Vbiasが供給され、他端は受光素子31のカソードおよびインバータ33の入力端子に接続されている。
インバータ33の入力端子は抵抗素子32の他端および受光素子31のカソードに接続され、他端は論理積回路34の第1の入力端子に接続されている。
論理積回路34は、第1の入力端子に入力された信号および第2の入力端子に入力された信号の論理積(AND)を求め、その求めた結果を出力端子から出力するものである。論理積回路34の第1の入力端子は、インバータ33の出力端子に接続され、第2の入力端子には選択信号SELが供給され、出力端子はフリップフロップ(F/F)35のクロック入力端子に接続されている。
フリップフロップ(F/F)35は、D型フリップフロップであり、クロック入力端子に入力された信号の立ち上がりエッジに基づいて、データ入力端子Dに入力された信号をサンプリングし、サンプリング結果を出力端子Qから出力するとともに、そのサンプリング結果の反転信号を反転出力端子QBから出力するものである。フリップフロップ(F/F)35のクロック入力端子は論理積回路34の出力端子に接続され、データ入力端子Dは反転出力端子QBに接続され、出力端子Qは排他的論理和回路36の第1の入力端子に接続され、反転出力端子QBはデータ入力端子Dに接続されている。この構成により、フリップフロップ(F/F)35は、クロック入力端子に入力された信号の立ち上がりエッジに基づいて、トグル動作を行うようになっている。
排他的論理和回路36は、第1の入力端子に入力された信号および第2の入力端子に入力された信号の排他的論理和(ExOR)を求め、その求めた結果を出力端子から出力するものである。排他的論理和回路36の第1の入力端子はフリップフロップ(F/F)35の出力端子Qに接続され、第2の入力端子は画素30の入力端子INに接続され、出力端子は画素30の出力端子OUTに接続されている。
図2に示したように、横方向に並設された1行分のM個の画素30のうちの一番左側の画素30の入力端子INには、制御部14から供給されたキャリブレーション信号CALが入力される。また、このM個の画素30のうちの一番左側の画素30以外の画素30の入力端子INは、図3に示したように、その画素30の左側に隣り合う画素30の出力端子OUTに接続されている。そして、このM個の画素30のうちの一番右側の画素30の出力端子OUTは、図2に示したように、波形整形部23に接続されている。そして、この一番右側の画素30は、信号S1を出力する。具体的には、1行目のM個の画素30のうちの一番右側の画素30は信号S1(1)を出力し、2行目のM個の画素30のうちの一番右側の画素30は信号S1(2)を出力する。3行目〜N行目についても同様である。このように、画素アレイ21では、図2における横方向に並設された1行分のM個の画素30が、いわゆるデイジーチェーン接続されるようになっている。
また、縦方向に並設された1列分のN個の画素30には、1つの選択信号SELが供給され、互いに異なる列に属する画素30には、互いに異なる選択信号SELが供給される。言い換えれば、横方向に並設された1行分のM個の画素30には、対応する選択信号SELがそれぞれ供給される。この構成により、画素アレイ21では、複数の画素30が、選択信号SELを用いて、1列分の画素30を単位として選択されるようになっている。
選択信号生成部22は、制御部14から供給された選択制御信号CTRLに基づいて、複数の選択信号SEL(この例ではM個の選択信号SEL(1)〜SEL(M))を生成するものである。選択信号生成部22は、M個の選択信号SEL(1)〜SEL(M)を、画素アレイ21における画素30のM個の列にそれぞれに供給する。これにより、選択信号生成部22は、複数の画素30を、列単位で順次選択することができるようになっている。
波形整形部23は、画素アレイ21から供給された複数の信号S1(この例ではN個の信号S1(1)〜S1(N))の波形をそれぞれ整形することにより、複数の信号S2(この例ではN個の信号S2(1)〜S2(N))をそれぞれ生成するものである。波形整形部23は、複数の波形整形回路40(この例ではN個の波形整形回路40(1)〜40(N))を有している。波形整形回路40(1)は、信号S1(1)の波形を整形することにより信号S2(1)を生成するものであり、波形整形回路40(2)は、信号S1(2)の波形を整形することにより信号S2(2)を生成するものである。波形整形回路40(3)〜40(N)についても同様である。なお、波形整形部23は必ずしも必要な構成要素ではなく、光が検出されたことを正確に伝達できればどのような構成であってもよい。
時間計測部24は、複数の信号S2(この例ではN個の信号S2(1)〜S2(N))に基づいて時間計測動作を行うものである。時間計測部24は、カウンタ28と、複数のラッチ29(この例ではN個のラッチ29(1)〜29(N))とを有している。カウンタ28は、クロック信号CKのクロックパルスのカウント動作を行うことにより、カウント値CNTをインクリメントするものである。ラッチ29(1)は、信号S2(1)に基づいてカウント値CNTをラッチすることにより信号S3(1)を生成するものであり、ラッチ29(2)は、信号S2(2)に基づいてカウント値CNTをラッチすることにより信号S3(2)を生成するものである。ラッチ29(3)〜29(N)についても同様である。
図4は、波形整形部23および時間計測部24の一構成例を表すものである。
波形整形部23の波形整形回路40は、フリップフロップ(F/F)42,43と、排他的論理和回路44とを有している。
フリップフロップ(F/F)42,43は、D型フリップフロップである。フリップフロップ(F/F)42のクロック入力端子にはクロック信号CKが供給され、データ入力端子Dには信号S1が供給され、出力端子Qは排他的論理和回路44の第1の入力端子およびフリップフロップ(F/F)43のデータ入力端子Dに接続されている。フリップフロップ(F/F)43のクロック入力端子にはクロック信号CKが供給され、データ入力端子Dはフリップフロップ(F/F)42の出力端子Qおよび排他的論理和回路44の第1の入力端子に接続され、出力端子Qは排他的論理和回路44の第2の入力端子に接続されている。
排他的論理和回路44の第1の入力端子はフリップフロップ(F/F)42の出力端子Qおよびフリップフロップ(F/F)43のデータ入力端子Dに接続され、第2の入力端子はフリップフロップ(F/F)43の出力端子Qに接続されている。
この構成により、波形整形回路40は、信号S1の遷移を検出し、その遷移に応じて、クロック信号CKの周期と同じ時間幅のパルスを生成するようになっている。
時間計測部24において、カウンタ28のクロック入力端子にはクロック信号CKが供給され、リセット端子RSTにはカウント開始信号STが供給される。そして、カウンタ28は、カウント値CNTを、複数ビット(この例ではKビット)の信号を用いて出力端子から出力するようになっている。
ラッチ29は、データ入力端子Dに入力されたNビットの信号(カウント値CNT)を、入力端子LDに入力された信号に応じたタイミングでラッチするものである。ラッチ29のデータ入力端子にはカウント値CNTが供給され、入力端子LDには信号S2が供給され、リセット端子RSTにはカウント開始信号STが供給される。そして、ラッチ29は、ラッチしたカウント値(カウント値CNT1)を、複数ビット(この例ではKビット)の信号S3を用いて出力端子から出力するようになっている。
時間計測デバイス20のこれらの素子および回路は、例えば、2枚の半導体基板に形成される。
図5は、時間計測デバイス20の一構成例を表すものである。時間計測デバイス20は、この例では、重ね合わされた2枚の半導体基板110,120を用いて構成されている。この半導体基板110には、画素アレイ21における受光素子31が形成されており、この受光素子31が形成された面が、時間計測デバイス20の受光面Sになる。半導体基板120のうち、半導体基板110において受光素子31が形成された領域に対応する領域121には、画素アレイ21における、抵抗素子32および回路が形成されている。また、領域122には、選択信号生成部22、波形整形部23、および時間計測部24が形成されている。これらの半導体基板110および半導体基板120は、例えばCu−Cu接合により、電気的に接続されるようになっている。
ここで、画素30は、本開示における「画素」の一具体例に対応する。排他的論理和回路36の第1の入力端子への入力信号は、本開示における「第1の論理信号」の一具体例に対応する。排他的論理和回路36は、本開示における「第1の論理回路」の一具体例に対応する。論理積回路34は、本開示における「第2の論理回路」の一具体例に対応する。論理積回路34の出力信号は、本開示における「第2の論理信号」の一具体例に対応する。フリップフロップ(F/F)35は、本開示における「第3の論理回路」の一具体例に対応する。選択信号生成部22は、本開示における「制御信号生成部」の一具体例に対応する。複数の選択信号SELは、本開示における「複数の第1の制御信号」の一具体例に対応する。キャリブレーション信号CALは、本開示における「第3の論理信号」の一具体例に対応する。半導体基板110は、本開示における「第1の半導体基板」の一具体例に対応する。半導体基板120は、本開示における「第2の半導体基板」の一具体例に対応する。
[動作および作用]
続いて、本実施の形態の時間計測装置1の動作および作用について説明する。
(全体動作概要)
まず、図1,2を参照して、時間計測装置1の全体動作概要を説明する。発光部11は、発光制御信号C1に応じたタイミングで光を射出するように発光動作を行う。拡散レンズ12は、発光部11から射出した光を所定の角度範囲内に拡散させる。拡散レンズ12により拡散された光(出射光L1)は、時間計測装置1から射出される。集光ミラー13は、計測対象物9により反射されて時間計測装置1に入射した光(反射光L2)を、時間計測デバイス20の受光面Sに向けて反射させる。時間計測デバイス20は、集光ミラー13により反射された光を検出し、発光部11が光を射出したタイミングおよび受光素子31が光を検出したタイミングの間の時間差を計測する。制御部14は、発光部11に対して発光制御信号C1を供給することにより、発光部11の発光動作を制御するとともに、時間計測デバイス20に対してキャリブレーション信号CAL、選択制御信号CTRL、クロック信号CK、およびカウント開始信号STを供給することにより、時間計測デバイス20の動作を制御する。
(詳細動作)
次に、画素アレイ21における、1つの行に属するM個の画素30のうちの、横方向に互いに隣り合う2つの画素30A,30Bに着目して、時間計測装置1の動作について詳細に説明する。
図6は、時間計測装置1における時間計測動作の一例を表すものであり、(A)は画素30A,30Bにおける受光素子31から出力される信号S31A,S31Bの波形をそれぞれ示し、(B)は画素30A,30Bに供給される選択信号SEL(選択信号SELA,SELB)の波形をそれぞれ示し、(C)は画素30A,30Bにおけるフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35A,S35Bの波形をそれぞれ示し、(D)は画素30A,30Bに対応する波形整形回路40に供給される信号S1の波形を示し、(E)は画素30A,30Bに対応する波形整形回路40から出力される信号S2の波形を示し、(F)はカウント開始信号STの波形を示し、(G)はカウント値CNTを示し、(H)は画素30A,30Bに対応するラッチ29から出力される信号S3が示すカウント値CNT1を示す。この時間計測動作では、キャリブレーション信号CALの電圧は、低レベルまたは高レベルに固定される。
まず、タイミングt1において、発光部11は発光制御信号C1に基づいて光を照射すると、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図6(F))。これにより、このタイミングt1において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を開始し、このタイミングt1以降において、カウント値CNTを順次インクリメントする(図6(G))。これと同時に、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素30Aに供給される選択信号SELAの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図6(B))。これにより、この選択信号SELAに対応する、画素30Aを含む1列分のN個の画素30が選択される。
次に、この例では、タイミングt2において、画素30Aの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Aの電圧が過渡的に低下する(図6(A))。選択信号SELAの電圧は高レベルであるので(図6(B))、この画素30Aのフリップフロップ(F/F)35はトグル動作を行い、このフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35Aの電圧は、低レベルから高レベルに変化する(図6(C))。これにより、画素30A,30Bに対応する波形整形回路40に供給される信号S1の電圧は、低レベルから高レベルに変化する(図6(D))。なお、この例では、説明の便宜上、画素30Aから波形整形回路40までの信号の遅延時間をゼロとしている。
波形整形回路40は、この信号S1の遷移に基づいて、タイミングt3において信号S2の電圧を低レベルから高レベルに変化させ、タイミングt4において信号S2の電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図6(E))。
画素30A,30Bに対応するラッチ29は、この信号S2に基づいて、カウント値CNTをラッチし、タイミングt4において、ラッチしたカウント値(この例では“2”)をカウント値CNT1として出力する(図6(G),(H))。
また、この例では、タイミングt5において、画素30Aの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Aの電圧が過渡的に低下する(図6(A))。選択信号SELAの電圧は高レベルであるので(図6(B))、この画素30Aのフリップフロップ(F/F)35はトグル動作を行い、このフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35Aの電圧は、高レベルから低レベルに変化する(図6(C))。これにより、画素30A,30Bに対応する波形整形回路40に供給される信号S1の電圧は、高レベルから低レベルに変化する(図6(D))。波形整形回路40は、この信号S1の遷移に基づいて、タイミングt6において信号S2の電圧を低レベルから高レベルに変化させ、タイミングt7において信号S2の電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図6(E))。画素30A,30Bに対応するラッチ29は、この信号S2に基づいて、カウント値CNTをラッチし、タイミングt7において、ラッチしたカウント値(この例では“7”)をカウント値CNT1として出力する(図6(G),(H))。
なお、この例では、タイミングt2とタイミングt5の間のあるタイミングにおいて、画素30Bの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Bの電圧が過渡的に低下する(図6(A))。しかしながら、この例では、選択信号SELBの電圧は低レベルであり(図6(B))、画素30Bは選択されていないので、この画素30Bのフリップフロップ(F/F)35はトグル動作を行わない。よって、このフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35Bの電圧は、この例では低レベルに維持される(図6(C))。
そして、タイミングt8において、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素30Aに供給される選択信号SELAの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図6(B))。これにより、この選択信号SELAに対応する、画素30Aを含む1列分のN個の画素30の選択が解除される。これと同時に、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図6(F))。これにより、このタイミングt8において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を終了し、カウント値CNTをゼロにリセットする(図6(G))。また、ラッチ29は、カウント値CNT1をゼロにリセットする(図6(H))。
このようにして、時間計測装置1は、発光部11が光を射出したタイミングt1および画素30Aの受光素子31が光を検出したタイミングt2,t5の間の時間差に対応する2つのカウント値CNT1(この例では“2”および“7”)を求め、これらのカウント値CNT1を出力する。
次に、タイミングt9において、発光部11は発光制御信号C1に基づいて光を照射すると、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図6(F))。これにより、このタイミングt9において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を開始し、このタイミングt9以降において、カウント値CNTを順次インクリメントする(図6(G))。これと同時に、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素30Bに供給される選択信号SELBの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図6(B))。これにより、この選択信号SELBに対応する、画素30Bを含む1列分のN個の画素30が選択される。
次に、この例では、タイミングt10において、画素30Bの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Bの電圧が過渡的に低下する(図6(A))。選択信号SELBの電圧は高レベルであるので(図6(B))、この画素30Bのフリップフロップ(F/F)35はトグル動作を行い、このフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35Bの電圧は、低レベルから高レベルに変化する(図6(C))。これにより、画素30A,30Bに対応する波形整形回路40に供給される信号S1の電圧は、低レベルから高レベルに変化する(図6(D))。
波形整形回路40は、この信号S1の遷移に基づいて、タイミングt11において信号S2の電圧を低レベルから高レベルに変化させ、タイミングt12において信号S2の電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図6(E))。
画素30A,30Bに対応するラッチ29は、この信号S2に基づいて、カウント値CNTをラッチし、タイミングt12において、ラッチしたカウント値(この例では“4”)をカウント値CNT1として出力する(図6(G),(H))。
なお、この例では、タイミングt10以降において、画素30Aの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Aの電圧が過渡的に低下する(図6(A))。しかしながら、この例では、選択信号SELAの電圧は低レベルであり(図6(B))、画素30Aは選択されていないので、この画素30Aのフリップフロップ(F/F)35はトグル動作を行わない。よって、このフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35Aの電圧は、この例では低レベルに維持される(図6(C))。
そして、タイミングt13において、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素30Bに供給される選択信号SELBの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図6(B))。これにより、この選択信号SELBに対応する、画素30Bを含む1列分のN個の画素30の選択が解除される。これと同時に、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図6(F))。これにより、このタイミングt13において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を終了し、カウント値CNTをゼロにリセットする(図6(G))。また、ラッチ29は、カウント値CNT1をゼロにリセットする(図6(H))。
このようにして、時間計測装置1は、発光部11が光を射出したタイミングt9および画素30Bの受光素子31が光を検出したタイミングt10の間の時間差に対応するカウント値CNT1(この例では“4”)を求め、このカウント値CNT1を出力する。
このように、時間計測装置1では、各画素30にフリップフロップ(F/F)35を設け、受光素子31が光を検出する度にトグル動作を行うようにするとともに、波形整形回路40を設け、このトグル動作に基づく信号S1の遷移をパルスに変換するようにした。これにより、時間計測装置1では、以下に説明するように、消費電力を低減することができるとともに、安定した動作を実現することができる。
図7は、画素30における受光素子31から出力される信号S31の波形を表すものである。図8は、時間計測装置1の一動作例を表すものであり、(A)は画素30における論理積回路34から出力される信号S34の波形を示し、(B)はフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35の波形を示し、(C)は波形整形回路40に入力される信号S1の波形を示し、(D)はクロック信号CKの波形を示し、(E),(F)は波形整形回路40のフリップフロップ(F/F)42,43から出力される信号S42,S43の波形をそれぞれ示し、(G)は波形整形回路40から出力される信号S2の波形を示す。
図7に示したように、タイミングt19において、受光素子31に光が入射すると、受光素子31では、電子正孔対が生成される。そして、生成された電子および正孔が電界により加速され、インパクトイオン化により、電子正孔対が次々に形成される。このように、受光素子31がいわゆるアバランシェ増幅を行うことにより、信号S31の電圧は、バイアス電圧Vbiasから一旦低下する。そして、この信号S31の電圧は、徐々に上昇して最終的にバイアス電圧Vbiasに戻る。
この電圧変化に応じて、図8(A)に示したように、画素30の論理積回路34は、タイミングt21から始まるパルスを有する信号S34を生成する(図8(A))。フリップフロップ(F/F)35は、この信号S34の立ち上がりエッジに基づいてトグル動作を行い、信号S35の電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図8(B))。これにより、波形整形回路40に供給される信号S1の電圧は、低レベルから高レベルに変化する(図8(C))。
波形整形回路40のフリップフロップ(F/F)42は、クロック信号CKの立ち上がりタイミングで、この信号S1をサンプリングすることにより、タイミングt22において、信号S42の電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図8(E))。フリップフロップ(F/F)43は、クロック信号CKの立ち上がりタイミングで、この信号S42をサンプリングすることにより、タイミングt23において、信号S43の電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図8(F))。排他的論理和回路44は、信号S42,S43に基づいて、タイミングt22において、信号S2の電圧を低レベルから高レベルに変化させ、タイミングt23において、信号S2の電圧を高レベルから低レベルに変化させる。
以上では、タイミングt21〜t23の動作を例に説明したが、タイミングt24〜t26の動作についても同様である。
このように、時間計測装置1では、各画素30にフリップフロップ(F/F)35を設け、受光素子31が光を検出する度にトグル動作を行うようにした。これにより、例えば、フリップフロップ(F/F)35を設けない場合に比べて、画素30から波形整形回路40までの経路において、信号が遷移する回数を少なくすることができるので、消費電力を低減することができる。
また、この動作において、論理積回路34から出力される信号S34のパルスのパルス幅PWは、上述した受光素子31の動作によって決まるため、例えば、製造ばらつきや環境変動により変化しやすい。時間計測装置1では、各画素30に、トグル動作を行うフリップフロップ(F/F)35を設けるようにしたので、画素30が幅が狭いパルスを出力することがないので、回路動作が不安定になるおそれを低減することができる。さらに、時間計測装置1では、波形整形回路40を設け、このトグル動作に基づく信号S1の遷移をパルスに変換するようにした。これにより、この信号S1のパルスのパルス幅は、クロック信号CKの周期に対応する時間幅になるため、回路動作が不安定になるおそれを低減することができる。
以上の説明では、各画素30から波形整形回路40までの信号の遅延時間をゼロとしたが、実際には、遅延時間が生じえる。この遅延時間は、製造ばらつきや環境変動により変化し得る。この場合には、時間計測動作(図6)により得られた計測結果の精度が悪化するおそれがある。そこで、時間計測装置1では、キャリブレーション動作を行うことにより、画素アレイ21における一番左側の画素30から波形整形回路40までの信号の遅延時間tdを計測することができるようになっている。以下に、この動作について詳細に説明する。
図9は、時間計測装置1におけるキャリブレーション動作の一例を表すものであり、(A)はキャリブレーション信号CALの波形を示し、(B)は選択信号SELA,SELBの波形をそれぞれ示し、(C)は画素30A,30Bに対応する波形整形回路40に供給される信号S1の波形を示し、(D)は画素30A,30Bに対応する波形整形回路40から出力される信号S2の波形を示し、(E)はカウント開始信号STの波形を示し、(F)はカウント値CNTを示し、(G)は、画素30A,30Bに対応するラッチ29から出力される信号S3が示すカウント値CNT1を示す。このキャリブレーション動作では、図9(B)に示したように、M個の選択信号SELの電圧は低レベルに固定される。
まず、タイミングt31において、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図9(E))。これにより、このタイミングt31において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を開始し、このタイミングt31以降において、カウント値CNTを順次インクリメントする(図9(F))。
これと同時に、制御部14は、キャリブレーション信号CALの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図9(A))。これにより、画素30A,30Bに対応する波形整形回路40に供給される信号S1の電圧は、タイミングt32において、低レベルから高レベルに変化する(図9(C))。すなわち、タイミングt31からタイミングt32までの時間が、画素アレイ21における一番左側の画素30から波形整形回路40までの信号の遅延時間tdに対応する。
波形整形回路40は、この信号S1の遷移に基づいて、タイミングt33において信号S2の電圧を低レベルから高レベルに変化させ、タイミングt34において信号S2の電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図9(D))。ラッチ29は、この信号S2に基づいて、カウント値CNTをラッチし、タイミングt34において、ラッチしたカウント値(この例では“2”)をカウント値CNT1として出力する(図9(F),(G))。
そして、タイミングt35において、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図9(E))。これにより、このタイミングt35において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を終了し、カウント値CNTをゼロにリセットする(図9(F))。また、ラッチ29は、カウント値CNT1をゼロにリセットする(図9(G))。
このようにして、時間計測装置1は、画素アレイ21における一番左側の画素30から波形整形回路40までの信号の遅延時間tdに対応するカウント値CNT1(この例では“2”)を求め、このカウント値CNT1を出力する。タイミングt36〜t40の動作についても同様である。
このように、時間計測装置1では、キャリブレーション信号CALを、画素アレイ21における一番左側の画素30の入力端子INに供給するようにした。これにより、時間計測装置1では、画素アレイ21における一番左側の画素30から波形整形回路40までの信号の遅延時間tdを計測することができる。よって、例えば、この時間計測装置1の後段の処理回路(例えばアプリケーションプロセッサなど)が、この計測結果に基づいて、各画素30から波形整形回路40までの信号の遅延時間をそれぞれ求め、求めた遅延時間を利用して、時間計測動作(図6)により得られた計測結果を補正することにより、計測精度を高めることができる。なお、この例では、後段の処理回路が、時間計測動作により得られた計測結果を補正するようにしたが、これに限定されるものではなく、時間計測部24が、時間計測動作により得られた計測結果を補正してもよい。
また、時間計測装置1では、複数(この例ではM個)の画素30を、いわゆるデイジーチェーン接続により接続するようにしたので、レイアウトをしやすくすることができる。すなわち、例えば、M個の画素30のそれぞれから排他的論理和回路36を省き、M個のフリップフロップ(F/F)35の出力信号を、例えばM個の入力端子を有する論理和回路を介して波形整形回路40に供給するように構成した場合には、配線が複雑になるため、回路のレイアウトをしにくくなるおそれがある。特に、このレイアウトのしにくさは、画素の数が例えば200以上になると、顕著になるおそれがある。一方、時間計測装置1では、複数(この例ではM個)の画素30を、いわゆるデイジーチェーン接続により接続するようにしたので、配線をシンプルにすることができるので、レイアウトをしやすくすることができる。
また、時間計測装置1では、図5に示したように、重ね合わされた2枚の半導体基板110,120を用いて時間計測デバイス20を構成するようにした。特に、画素アレイ21における受光素子31を半導体基板110に形成し、画素アレイ21における、受光素子31以外の素子および回路を、半導体基板120に形成するようにした。この場合には、例えば、インバータ33、論理積回路34、フリップフロップ(F/F)35、および排他的論理和回路36は、半導体基板120に形成されるため、これらの回路から受光素子31にノイズが伝わるおそれを低減することができる。同様に、例えば、選択信号SELを伝える信号線や、M個の排他的論理和回路36を介して信号を伝える信号線は、半導体基板120に形成されるため、これらの信号線から受光素子31にノイズが伝わるおそれを低減することができる。また、例えば、半導体基板110には、主に受光素子31が形成されるため、受光素子31の素子サイズを大きくすることができる。また、例えば、半導体基板110は、受光素子31の製造に最適化されたプロセスを用いて製造することができ、半導体基板120は、回路の製造に最適化されたプロセスを用いて製造することができるので、時間計測デバイス20の特性を高めることができる。
[効果]
以上のように本実施の形態では、複数の画素を、いわゆるデイジーチェーン接続により接続したので、レイアウトをしやすくすることができる。
本実施の形態では、各画素にフリップフロップを設け、受光素子が光を検出する度にトグル動作を行うようにするとともに、波形整形回路を設け、このトグル動作に基づく信号の遷移をパルスに変換するようにしたので、消費電力を低減することができるとともに、安定した動作を実現することができる。
本実施の形態では、キャリブレーション信号を、画素アレイにおける一番左側の画素の入力端子に供給するようにしたので、画素アレイにおける一番左側の画素から波形整形回路までの信号の遅延時間を計測することができるので、計測精度を高めることができる。
本実施の形態では、重ね合わされた2枚の半導体基板を用いて時間計測デバイスを構成したので、受光素子にノイズが伝わるおそれを低減することができ、受光素子の素子サイズを大きくすることができる。また、2枚の半導体基板を、最適化されたプロセスを用いてそれぞれ製造することができるので、特性を高めることができる。
[変形例1−1]
上記実施の形態では、図4に示した波形整形部23および時間計測部24を用いて時間計測デバイス20を構成したが、これに限定されるものではない。以下に、本変形例に係る時間計測装置1Cについて詳細に説明する。時間計測装置1Cは、時間計測デバイス20Cを備えている。時間計測デバイス20Cは、波形整形部23Cと、時間計測部24Cとを有している。
図10は、波形整形部23Cおよび時間計測部24Cの一構成例を表すものである。波形整形部23Cは、複数の波形整形回路40C(この例ではN個の波形整形回路40C(1)〜40C(N))を有している。波形整形回路40Cは、フリップフロップ(F/F)41〜43と、排他的論理和回路44とを有している。すなわち、この波形整形回路40Cは、上記実施の形態に係る波形整形回路40(図4)にフリップフロップ(F/F)41を追加したものである。フリップフロップ(F/F)41のクロック入力端子にはクロック信号CKが供給され、データ入力端子Dには信号S1が供給され、出力端子Qはフリップフロップ(F/F)42のデータ入力端子Dに接続されている。
時間計測部24Cは、カウンタ28と、複数のラッチ29C(この例ではN個のラッチ29C(1)〜29C(N))とを有している。ラッチ29Cは、クロック信号CKに基づいて動作を行い、データ入力端子Dに入力されたNビットの信号(カウント値CNT)を、入力端子LDに入力された信号に応じたタイミングでラッチするものである。ラッチ29Cのデータ入力端子にはカウント値CNTが供給され、クロック入力端子にはクロック信号CKが供給され、入力端子LDには信号S2が供給され、リセット端子RSTにはカウント開始信号STが供給される。
[変形例1−2]
上記実施の形態では、図3に示したように、受光素子31のアノードを接地したが、これに限定されるものではない。これに代えて、例えば図11に示す画素30Dのように、抵抗素子を接地してもよい。画素30Dは、受光素子31Dと、抵抗素子32Dと、バッファ37Dとを有している。受光素子31Dのアノードは抵抗素子32Dの一端およびバッファ37Dの入力端子に接続され、カソードにはバイアス電圧Vbiasが供給されている。抵抗素子32Dの一端は受光素子31Dのアノードおよびバッファ37Dの入力端子に接続され、カソードは接地されている。バッファ37Dの入力端子は受光素子31Dのアノードおよび抵抗素子32Dの一端に接続され、出力端子は論理積回路34の第1の入力端子に接続されている。
[変形例1−3]
上記実施の形態では、画素アレイ21における一番左側の画素30から波形整形回路40までの信号の遅延時間tdを計測することができるようにしたが、さらに、例えば、各画素から波形整形回路40までの信号の遅延時間を計測することができるようにしてもよい。以下に、本変形例に係る時間計測装置1Eについて詳細に説明する。時間計測装置1Eは、時間計測デバイス20Eと、制御部14Eとを有している。
図12は、時間計測デバイス20Eの一構成例を表すものである。時間計測デバイス20Eは、画素アレイ21Eを有している。画素アレイ21Eは、マトリクス状に配置された複数の画素30Eを有している。
図13は、画素30Eの一構成例を表すものである。画素30Eは、論理和回路38Eを有している。論理和回路38Eは、第1の入力端子に入力された信号および第2の入力端子に入力された信号の論理和(OR)を求め、その求めた結果を出力端子から出力するものである。論理和回路38Eの第1の入力端子にはテストモード信号TEが入力され、第2の入力端子はインバータ33の出力端子に接続され、出力端子は論理積回路34の第1の入力端子に接続されている。画素アレイ21Eにおける全ての画素30Eには、1つのテストモード信号TEが供給されている。ここで、テストモード信号TEは、本開示における「第2の制御信号」の一具体例に対応する。論理和回路38Eおよび論理積回路34は、本開示における「第4の論理回路」の一具体例に対応する。
制御部14Eは、図12に示したように、テストモード信号TEを生成する機能をも有している。
次に、画素アレイ21Eにおける、1つの行に属するM個の画素30Eのうちの、横方向に互いに隣り合う2つの画素30A,30Bに着目して、時間計測装置1Eの動作を説明する。
図14は、時間計測装置1Eにおけるテスト動作の一例を表すものであり、(A)はテストモード信号TEの波形を示し、(B)は選択信号SELA,SELBの波形をそれぞれ示し、(C)は画素30A,30Bにおけるフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35A,S35Bの波形をそれぞれ示し、(D)は画素30A,30Bに対応する波形整形回路40に供給される信号S1の波形を示し、(E)は画素30A,30Bに対応する波形整形回路40から出力される信号S2の波形を示し、(F)はカウント開始信号STの波形を示し、(G)はカウント値CNTを示し、(H)は画素30A,30Bに対応するラッチ29から出力される信号S3が示すカウント値CNT1を示す。このテスト動作では、図14(A)に示したように、テストモード信号TEの電圧は高レベルに固定される。なお、時間計測動作およびキャリブレーション動作では、テストモード信号TEの電圧は低レベルに固定される。
まず、タイミングt41において、制御部14Eは、カウント開始信号STの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図14(F))。これにより、このタイミングt41において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を開始し、このタイミングt41以降において、カウント値CNTを順次インクリメントする(図14(G))。
次に、この例では、カウント値CNTが“3”になるタイミングt42において、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素30Aに供給される選択信号SELAの電圧を低レベルから高レベルに変化させ、その後のタイミングでこの選択信号SELAの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図14(B))。これにより、この画素30Aのフリップフロップ(F/F)35はトグル動作を行い、このフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35Aの電圧は、低レベルから高レベルに変化する(図14(C))。その結果、画素30A,30Bに対応する波形整形回路40に供給される信号S1の電圧は、タイミングt43において、低レベルから高レベルに変化する(図14(D))。すなわち、タイミングt42からタイミングt43までの時間が、画素30Aから波形整形回路40までの信号の遅延時間tdAに対応する。
波形整形回路40は、この信号S1の遷移に基づいて、タイミングt44において信号S2の電圧を低レベルから高レベルに変化させ、タイミングt45において信号S2の電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図14(E))。
画素30A,30Bに対応するラッチ29は、この信号S2に基づいて、カウント値CNTをラッチし、タイミングt45において、ラッチしたカウント値(この例では“4”)をカウント値CNT1として出力する(図14(G),(H))。
そして、タイミングt46において、制御部14Eは、カウント開始信号STの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図14(F))。これにより、このタイミングt46において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を終了し、カウント値CNTをゼロにリセットする(図14(G))。また、ラッチ29は、カウント値CNT1をゼロにリセットする(図14(H))。
このようにして、時間計測装置1Eは、カウント値CNT1(この例では“4”)を出力する。なお、この例では、カウント値CNTが“3”になるタイミングt42において選択信号SELAの電圧を低レベルから高レベルに変化させているので、画素30Aから波形整形回路40までの信号の遅延時間tdAに対応するカウント値は、カウント値CNT1(この例では“4”)からこのカウント値“3”を引いた値“1”である。
次に、タイミングt47において、制御部14Eは、カウント開始信号STの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図14(F))。これにより、このタイミングt47において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を開始し、このタイミングt47以降において、カウント値CNTを順次インクリメントする(図14(G))。
次に、この例では、カウント値CNTが“4”になるタイミングt48において、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素30Bに供給される選択信号SELBの電圧を低レベルから高レベルに変化させ、その後のタイミングでこの選択信号SELBの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図14(B))。これにより、この画素30Bのフリップフロップ(F/F)35はトグル動作を行い、このフリップフロップ(F/F)35から出力される信号S35Bの電圧は、低レベルから高レベルに変化する(図14(C))。その結果、画素30A,30Bに対応する波形整形回路40に供給される信号S1の電圧は、タイミングt49において、高レベルから低レベルに変化する(図14(D))。すなわち、タイミングt48からタイミングt49までの時間が、画素30Bから波形整形回路40までの信号の遅延時間tdBに対応する。
波形整形回路40は、この信号S1の遷移に基づいて、タイミングt50において信号S2の電圧を低レベルから高レベルに変化させ、タイミングt51において信号S2の電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図14(E))。
画素30A,30Bに対応するラッチ29は、この信号S2に基づいて、カウント値CNTをラッチし、タイミングt51において、ラッチしたカウント値(この例では“5”)をカウント値CNT1として出力する(図14(G),(H))。
そして、タイミングt52において、制御部14Eは、カウント開始信号STの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図14(F))。これにより、このタイミングt52において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を終了し、カウント値CNTをゼロにリセットする(図14(G))。また、ラッチ29は、カウント値CNT1をゼロにリセットする(図14(H))。
このようにして、時間計測装置1Eは、カウント値CNT1(この例では“5”)を出力する。なお、この例では、カウント値CNTが“4”になるタイミングt48において選択信号SELBの電圧を低レベルから高レベルに変化させているので、画素30Bから波形整形回路40までの信号の遅延時間tdBに対応するカウント値は、カウント値CNT1(この例では“5”)からこのカウント値“4”を引いた値“1”である。
このように、時間計測装置1Eでは、各画素30Eに論理和回路38Eを設け、テスト動作時において、フリップフロップ(F/F)35が選択信号SELに基づいてトグル動作を行うようにした。これにより、時間計測装置1Eでは、各画素30Eから波形整形回路40までの信号の遅延時間を計測することができる。よって、例えば、この時間計測装置1Eの後段の処理回路(例えばアプリケーションプロセッサなど)が、計測した遅延時間を利用して、時間計測動作(図6)により得られた計測結果を補正することにより、計測精度を高めることができる。なお、この例では、後段の処理回路が、時間計測動作により得られた計測結果を補正するようにしたが、これに限定されるものではなく、時間計測部24が、時間計測動作により得られ計測結果を補正してもよい。
この時間計測装置1Eでは、画素アレイ21Eの複数の画素30Eのうちの一番左側の画素30Eの入力端子INに、制御部14Eから供給されたキャリブレーション信号CALが入力されるようにしたが、これに限定されるものではない。これに代えて、例えば、図15に示す時間計測装置1Fの時間計測デバイス20Fのように、複数の画素30Eのうちの一番左側の画素30Eの入力端子INには、所定のレベルの電圧(この例では低レベル)が入力されるようにしてもよい。この時間計測装置1Fは、制御部14Fを備えている。制御部14Fは、制御部14Eから、キャリブレーション信号CALを生成する機能を省いたものである。この場合でも、各画素30Eから波形整形回路40までの信号の遅延時間を計測することができるので、計測精度を高めることができる。


[変形例1−4]
上記実施の形態では、画素アレイ21の複数の画素30のうちの一番左側の画素30の入力端子INに、制御部14から供給されたキャリブレーション信号CALが入力されるようにしたが、これに限定されるものではない。これに代えて、例えば、図16に示す時間計測装置1Gの時間計測デバイス20Gのように、複数の画素30のうちの一番左側の画素30の入力端子INには、所定のレベルの電圧(この例では低レベル)が入力されるようにしてもよい。この時間計測装置1Gは、例えば、画素アレイ21内における信号の遅延時間が、計測精度にさほど影響を与えないような用途に使用することができる。また、例えば、この時間計測装置1Gの後段の処理回路(例えばアプリケーションプロセッサなど)が、設計時に見積もられた遅延時間や、出荷前の検査時において実測した遅延時間などを用いて、時間計測動作(図6)により得られた計測結果を補正してもよい。
[その他の変形例]
また、これらの変形例のうちの2以上を組み合わせてもよい。
<2.第2の実施の形態>
次に、第2の実施の形態に係る時間計測装置2について説明する。本実施の形態は、フリップフロップ(F/F)35を含まない画素を用いて時間計測デバイスを構成したものである。なお、上記第1の実施の形態に係る時間計測装置1と実質的に同一の構成部分には同一の符号を付し、適宜説明を省略する。
図1に示したように、時間計測装置2は、時間計測デバイス50を備えている。
図17は、時間計測デバイス50の一構成例を表すものである。時間計測デバイス50は、画素アレイ51と、選択信号生成部22と、時間計測部24とを有している。画素アレイ51は、マトリクス状に配置された複数の画素60を有している。
図18は、画素60の一構成例を表すものである。画素60は、受光素子31と、抵抗素子32と、インバータ33と、論理積回路34と、論理和回路66とを有している。論理和回路66は、第1の入力端子に入力された信号および第2の入力端子に入力された信号の論理和(OR)を求め、その求めた結果を出力端子から出力するものである。論理和回路66の第1の入力端子は論理積回路34の出力端子に接続され、第2の入力端子は画素60の入力端子INに接続され、出力端子は画素60の出力端子OUTに接続されている。すなわち、この画素60は、上記第1の実施の形態に係る画素30(図3)において、フリップフロップ(F/F)35を省くとともに、排他的論理和回路36を論理和回路66に置き換えたものである。
図17に示したように、横方向に並設された1行分のM個の画素60のうちの一番左側の画素60の入力端子INには、制御部14から供給されたキャリブレーション信号CALが入力される。また、このM個の画素60のうちの一番左側の画素60以外の画素60の入力端子INは、図18に示したように、その画素60の左側に隣り合う画素60の出力端子OUTに接続されている。そして、このM個の画素60のうちの一番右側の画素60の出力端子OUTは、図17に示したように、時間計測部24に接続されている。そして、この一番右側の画素60は、信号S2を出力する。具体的には、1行目のM個の画素60のうちの一番右側の画素60は信号S2(1)を出力し、2行目のM個の画素60のうちの一番右側の画素60は信号S2(2)を出力する。3行目〜N行目についても同様である。
ここで、画素60は、本開示における「画素」の一具体例に対応する。論理和回路66の第1の入力端子への入力信号は、本開示における「第1の論理信号」の一具体例に対応する。論理和回路66は、本開示における「第1の論理回路」の一具体例に対応する。
次に、画素アレイ51における、1つの行に属するM個の画素60のうちの、横方向に互いに隣り合う2つの画素60A,60Bに着目して、時間計測装置2の動作を説明する。
図19は、時間計測装置2における時間計測動作の一例を表すものであり、(A)は画素60A,60Bにおける受光素子31から出力される信号S31A,S31Bの波形をそれぞれ示し、(B)は画素60A,60Bに供給される選択信号SEL(選択信号SELA,SELB)の波形をそれぞれ示し、(C)は画素60A,60Bにおける論理積回路34から出力される信号S34A,S34Bの波形をそれぞれ示し、(D)は画素60A,60Bに対応するラッチ29に供給される信号S2の波形を示し、(E)はカウント開始信号STの波形を示し、(F)はカウント値CNTを示し、(G)は画素60A,60Bに対応するラッチ29から出力される信号S3が示すカウント値CNT1を示す。
まず、タイミングt61において、発光部11は発光制御信号C1に基づいて光を照射すると、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図19(E))。これにより、このタイミングt61において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を開始し、このタイミングt61以降において、カウント値CNTを順次インクリメントする(図19(F))。これと同時に、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素60Aに供給される選択信号SELAの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図19(B))。これにより、この選択信号SELAに対応する、画素60Aを含む1列分のN個の画素60が選択される。
次に、この例では、タイミングt62において、画素60Aの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Aの電圧が過渡的に低下する(図19(A))。選択信号SELAの電圧は高レベルであるので(図19(B))、論理積回路34から出力される信号S34Aの電圧は、このタイミングt62において低レベルから高レベルに変化し、その後のタイミングで高レベルから低レベルに変化する(図19(C))。これにより、画素60A,60Bに対応するラッチ29に供給される信号S2の電圧は、タイミングt63において低レベルから高レベルに変化し、その後のタイミングで高レベルから低レベルに変化する(図19(D))。
画素60A,60Bに対応するラッチ29は、この信号S2に基づいて、カウント値CNTをラッチし、タイミングt64において、ラッチしたカウント値(この例では“2”)をカウント値CNT1として出力する(図19(F),(G))。
また、この例では、タイミングt65において、画素60Aの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Aの電圧が過渡的に低下する(図19(A))。選択信号SELAの電圧は高レベルであるので(図19(B))、論理積回路34から出力される信号S34Bの電圧は、このタイミングt65において低レベルから高レベルに変化し、その後のタイミングで高レベルから低レベルに変化する(図19(C))。これにより、画素60A,60Bに対応するラッチ29に供給される信号S2の電圧は、タイミングt66において低レベルから高レベルに変化し、その後のタイミングで高レベルから低レベルに変化する(図19(D))。画素60A,60Bに対応するラッチ29は、この信号S2に基づいて、カウント値CNTをラッチし、タイミングt67において、ラッチしたカウント値(この例では“7”)をカウント値CNT1として出力する(図19(F),(G))。
なお、この例では、タイミングt62とタイミングt65の間のあるタイミングにおいて、画素60Bの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Bの電圧が過渡的に低下する(図19(A))。しかしながら、この例では、選択信号SELBの電圧は低レベルであり(図19(B))、画素60Bは選択されていないので、この画素60Bの論理積回路34から出力される信号S34Bの電圧は、この例では低レベルに維持される(図19(C))。
そして、タイミングt68において、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素60Aに供給される選択信号SELAの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図19(B))。これにより、この選択信号SELAに対応する、画素60Aを含む1列分のN個の画素60の選択が解除される。これと同時に、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図19(E))。これにより、このタイミングt68において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を終了し、カウント値CNTをゼロにリセットする(図19(F))。また、ラッチ29は、カウント値CNT1をゼロにリセットする(図19(G))。
このようにして、時間計測装置2は、発光部11が光を射出したタイミングt61および画素60Aの受光素子31が光を検出したタイミングt62,t65の間の時間差に対応する2つのカウント値CNT1(この例では“2”および“7”)を求め、これらのカウント値CNT1を出力する。
次に、タイミングt69において、発光部11は発光制御信号C1に基づいて光を照射すると、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図19(E))。これにより、このタイミングt69において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を開始し、このタイミングt69以降において、カウント値CNTを順次インクリメントする(図19(F))。これと同時に、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素60Bに供給される選択信号SELBの電圧を低レベルから高レベルに変化させる(図19(B))。これにより、この選択信号SELBに対応する、画素60Bを含む1列分のN個の画素60が選択される。
次に、この例では、タイミングt70において、画素60Bの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Bの電圧が過渡的に低下する(図19(A))。選択信号SELBの電圧は高レベルであるので(図19(B))、論理積回路34から出力される信号S34Bの電圧は、このタイミングt70において低レベルから高レベルに変化し、その後のタイミングで高レベルから低レベルに変化する(図19(C))。これにより、画素60A,60Bに対応するラッチ29に供給される信号S2の電圧は、タイミングt71において低レベルから高レベルに変化し、その後のタイミングで高レベルから低レベルに変化する(図19(D))。
画素60A,60Bに対応するラッチ29は、この信号S2に基づいて、カウント値CNTをラッチし、タイミングt72において、ラッチしたカウント値(この例では“4”)をカウント値CNT1として出力する(図19(F),(G))。
なお、この例では、タイミングt70以降において、画素60Aの受光素子31が光を検出し、この受光素子31から出力される信号S31Aの電圧が過渡的に低下する(図19(A))。しかしながら、この例では、選択信号SELAの電圧は低レベルであり(図19(B))、画素60Aは選択されていないので、この画素60Aの論理積回路34から出力される信号S34Aの電圧は、この例では低レベルに維持される(図19(C))。
そして、タイミングt73において、選択信号生成部22は、選択制御信号CTRLに基づいて、画素60Bに供給される選択信号SELBの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図19(B))。これにより、この選択信号SELBに対応する、画素60Bを含む1列分のN個の画素60の選択が解除される。これと同時に、制御部14は、カウント開始信号STの電圧を高レベルから低レベルに変化させる(図19(E))。これにより、このタイミングt73において、時間計測部24のカウンタ28は、クロックパルスのカウント動作を終了し、カウント値CNTをゼロにリセットする(図19(F))。また、ラッチ29は、カウント値CNT1をゼロにリセットする(図19(G))。
このようにして、時間計測装置2は、発光部11が光を射出したタイミングt69および画素60Bの受光素子31が光を検出したタイミングt70の間の時間差に対応するカウント値CNT1(この例では“4”)を求め、このカウント値CNT1を出力する。
このように構成しても、上記第1の実施の形態の場合と同様の効果を得ることができる。
すなわち、本実施の形態では、複数の画素を、いわゆるデイジーチェーン接続により接続したので、レイアウトをしやすくすることができる。
本実施の形態では、キャリブレーション信号を、画素アレイにおける一番左側の画素の入力端子に供給するようにしたので、画素アレイにおける一番左側の画素から波形整形回路までの信号の遅延時間を計測することができるので、計測精度を高めることができる。
本実施の形態では、重ね合わされた2枚の半導体基板を用いて時間計測デバイスを構成したので、受光素子にノイズが伝わるおそれを低減することができ、受光素子の素子サイズを大きくすることができる。また、2枚の半導体基板を、最適化されたプロセスを用いてそれぞれ製造することができるので、特性を高めることができる。
[変形例2]
上記実施の形態に係る時間計測装置2に、上記第1の実施の形態の各変形例を適用してもよい。時間計測装置2に、上記第1の実施の形態に係る変形例1−3を適用した例を図20に示す。図20に示した画素60Eは、上記第1の実施の形態に係る画素30E(図13)と同様に、論理和回路38Eを有している。論理和回路38Eの第1の入力端子にはテストモード信号TEが入力され、第2の入力端子はインバータ33の出力端子に接続され、出力端子は論理積回路34の第1の入力端子に接続されている。
<3.応用例>
次に、上記実施の形態に係る時間計測デバイスの応用例について説明する。
図21は、応用例1に係る距離計測デバイス70の一構成例を表すものである。距離計測デバイス70は、SPADアレイ71と、SPAD制御部72と、制御部73と、PLL(Phase Locked Loop)74と、クロック生成部75と、基準電流源76と、温度計77と、発光タイミング制御部78と、測距処理部80と、送信部79とを備えている。
SPADアレイ71は、シングルフォトンアバランシェダイオード(SPAD)がマトリクス状に配置されたものである。SPAD制御部72は、制御部73からの指示に基づいて、SPADアレイ71の動作を制御するものである。制御部73は、距離計測デバイス70の動作を制御するものである。また、制御部73は、端子COMを介して、外部の装置との間で、例えばI2Cを用いて通信を行う機能をも有している。PLL74は、端子CKINを介して供給された入力クロックに基づいて動作を行うものである。クロック生成部75は、距離計測デバイス70において使用される1または複数のクロック信号を生成するものである。基準電流源76は、距離計測デバイス70において使用される1または複数の基準電流を生成するものである。温度計77は、距離計測デバイス70における温度を検出するものである。発光タイミング制御部78は、端子TRGINを介して供給された発光トリガ信号に基づいて、発光タイミングを制御するものである。発光タイミング制御部78は、発光トリガ信号を生成し、この発光トリガ信号を測距処理部80に供給するとともに、この発光トリガ信号を端子TRGOUTを介して出力するようになっている。測距処理部80は、SPADアレイ71における検出結果に基づいて、デプス画像を生成するものである。測距処理部80は、TDC(Time to Digital Converter)81と、ヒストグラム生成部82と、処理部83とを有している。TDC81は、SPADアレイ71における検出結果に基づいて、受光タイミングをデジタル値に変換するものである。ヒストグラム生成部82は、TDC81により得られたデジタル値に基づいてヒストグラムを生成するものである。処理部83は、ヒストグラム生成部82が生成したヒストグラムに基づいて、様々な処理を行うものである。例えば、処理部83は、FIR(Finite Impulse Response)フィルタ処理、エコー判定、デプス値(距離値)算出処理、ピーク検出処理などを行うようになっている。送信部79は、測距処理部80が生成したデプス画像を、端子DOUTを介して、例えばシリアルデータにより出力するものである。送信部79のインタフェースは、例えばMIPI(Mobile Industry Processor Interface)を用いることができる。
この距離計測デバイス70は、例えば、重ね合わされた2枚の半導体基板88,89を用いて構成される。半導体基板88には、SPADアレイ71が形成される。また、半導体基板89には、距離計測デバイス70におけるSPADアレイ71以外の回路が形成される。具体的には、半導体基板89には、SPAD制御部72、制御部73、PLL74、クロック生成部75、基準電流源76、温度計77、発光タイミング制御部78、測距処理部80、および送信部79が形成される。
<4.移動体への応用例>
本開示に係る技術(本技術)は、様々な製品へ応用することができる。例えば、本開示に係る技術は、自動車、電気自動車、ハイブリッド電気自動車、自動二輪車、自転車、パーソナルモビリティ、飛行機、ドローン、船舶、ロボット等のいずれかの種類の移動体に搭載される装置として実現されてもよい。
図22は、本開示に係る技術が適用され得る移動体制御システムの一例である車両制御システムの概略的な構成例を示すブロック図である。
車両制御システム12000は、通信ネットワーク12001を介して接続された複数の電子制御ユニットを備える。図22に示した例では、車両制御システム12000は、駆動系制御ユニット12010、ボディ系制御ユニット12020、車外情報検出ユニット12030、車内情報検出ユニット12040、及び統合制御ユニット12050を備える。また、統合制御ユニット12050の機能構成として、マイクロコンピュータ12051、音声画像出力部12052、及び車載ネットワークI/F(interface)12053が図示されている。
駆動系制御ユニット12010は、各種プログラムにしたがって車両の駆動系に関連する装置の動作を制御する。例えば、駆動系制御ユニット12010は、内燃機関又は駆動用モータ等の車両の駆動力を発生させるための駆動力発生装置、駆動力を車輪に伝達するための駆動力伝達機構、車両の舵角を調節するステアリング機構、及び、車両の制動力を発生させる制動装置等の制御装置として機能する。
ボディ系制御ユニット12020は、各種プログラムにしたがって車体に装備された各種装置の動作を制御する。例えば、ボディ系制御ユニット12020は、キーレスエントリシステム、スマートキーシステム、パワーウィンドウ装置、あるいは、ヘッドランプ、バックランプ、ブレーキランプ、ウィンカー又はフォグランプ等の各種ランプの制御装置として機能する。この場合、ボディ系制御ユニット12020には、鍵を代替する携帯機から発信される電波又は各種スイッチの信号が入力され得る。ボディ系制御ユニット12020は、これらの電波又は信号の入力を受け付け、車両のドアロック装置、パワーウィンドウ装置、ランプ等を制御する。
車外情報検出ユニット12030は、車両制御システム12000を搭載した車両の外部の情報を検出する。例えば、車外情報検出ユニット12030には、撮像部12031が接続される。車外情報検出ユニット12030は、撮像部12031に車外の画像を撮像させるとともに、撮像された画像を受信する。車外情報検出ユニット12030は、受信した画像に基づいて、人、車、障害物、標識又は路面上の文字等の物体検出処理又は距離検出処理を行ってもよい。
撮像部12031は、光を受光し、その光の受光量に応じた電気信号を出力する光センサである。撮像部12031は、電気信号を画像として出力することもできるし、測距の情報として出力することもできる。また、撮像部12031が受光する光は、可視光であっても良いし、赤外線等の非可視光であっても良い。
車内情報検出ユニット12040は、車内の情報を検出する。車内情報検出ユニット12040には、例えば、運転者の状態を検出する運転者状態検出部12041が接続される。運転者状態検出部12041は、例えば運転者を撮像するカメラを含み、車内情報検出ユニット12040は、運転者状態検出部12041から入力される検出情報に基づいて、運転者の疲労度合い又は集中度合いを算出してもよいし、運転者が居眠りをしていないかを判別してもよい。
マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車内外の情報に基づいて、駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置の制御目標値を演算し、駆動系制御ユニット12010に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両の衝突回避あるいは衝撃緩和、車間距離に基づく追従走行、車速維持走行、車両の衝突警告、又は車両のレーン逸脱警告等を含むADAS(Advanced Driver Assistance System)の機能実現を目的とした協調制御を行うことができる。
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030又は車内情報検出ユニット12040で取得される車両の周囲の情報に基づいて駆動力発生装置、ステアリング機構又は制動装置等を制御することにより、運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
また、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で取得される車外の情報に基づいて、ボディ系制御ユニット12020に対して制御指令を出力することができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車外情報検出ユニット12030で検知した先行車又は対向車の位置に応じてヘッドランプを制御し、ハイビームをロービームに切り替える等の防眩を図ることを目的とした協調制御を行うことができる。
音声画像出力部12052は、車両の搭乗者又は車外に対して、視覚的又は聴覚的に情報を通知することが可能な出力装置へ音声及び画像のうちの少なくとも一方の出力信号を送信する。図22の例では、出力装置として、オーディオスピーカ12061、表示部12062及びインストルメントパネル12063が例示されている。表示部12062は、例えば、オンボードディスプレイ及びヘッドアップディスプレイの少なくとも一つを含んでいてもよい。
図23は、撮像部12031の設置位置の例を示す図である。
図23では、車両12100は、撮像部12031として、撮像部12101,12102,12103,12104,12105を有する。
撮像部12101,12102,12103,12104,12105は、例えば、車両12100のフロントノーズ、サイドミラー、リアバンパ、バックドア及び車室内のフロントガラスの上部等の位置に設けられる。フロントノーズに備えられる撮像部12101及び車室内のフロントガラスの上部に備えられる撮像部12105は、主として車両12100の前方の画像を取得する。サイドミラーに備えられる撮像部12102,12103は、主として車両12100の側方の画像を取得する。リアバンパ又はバックドアに備えられる撮像部12104は、主として車両12100の後方の画像を取得する。撮像部12101及び12105で取得される前方の画像は、主として先行車両又は、歩行者、障害物、信号機、交通標識又は車線等の検出に用いられる。
なお、図23には、撮像部12101ないし12104の撮影範囲の一例が示されている。撮像範囲12111は、フロントノーズに設けられた撮像部12101の撮像範囲を示し、撮像範囲12112,12113は、それぞれサイドミラーに設けられた撮像部12102,12103の撮像範囲を示し、撮像範囲12114は、リアバンパ又はバックドアに設けられた撮像部12104の撮像範囲を示す。例えば、撮像部12101ないし12104で撮像された画像データが重ね合わせられることにより、車両12100を上方から見た俯瞰画像が得られる。
撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、距離情報を取得する機能を有していてもよい。例えば、撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、複数の撮像素子からなるステレオカメラであってもよいし、位相差検出用の画素を有する撮像素子であってもよい。
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104から得られた距離情報を基に、撮像範囲12111ないし12114内における各立体物までの距離と、この距離の時間的変化(車両12100に対する相対速度)を求めることにより、特に車両12100の進行路上にある最も近い立体物で、車両12100と略同じ方向に所定の速度(例えば、0km/h以上)で走行する立体物を先行車として抽出することができる。さらに、マイクロコンピュータ12051は、先行車の手前に予め確保すべき車間距離を設定し、自動ブレーキ制御(追従停止制御も含む)や自動加速制御(追従発進制御も含む)等を行うことができる。このように運転者の操作に拠らずに自律的に走行する自動運転等を目的とした協調制御を行うことができる。
例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104から得られた距離情報を元に、立体物に関する立体物データを、2輪車、普通車両、大型車両、歩行者、電柱等その他の立体物に分類して抽出し、障害物の自動回避に用いることができる。例えば、マイクロコンピュータ12051は、車両12100の周辺の障害物を、車両12100のドライバが視認可能な障害物と視認困難な障害物とに識別する。そして、マイクロコンピュータ12051は、各障害物との衝突の危険度を示す衝突リスクを判断し、衝突リスクが設定値以上で衝突可能性がある状況であるときには、オーディオスピーカ12061や表示部12062を介してドライバに警報を出力することや、駆動系制御ユニット12010を介して強制減速や回避操舵を行うことで、衝突回避のための運転支援を行うことができる。
撮像部12101ないし12104の少なくとも1つは、赤外線を検出する赤外線カメラであってもよい。例えば、マイクロコンピュータ12051は、撮像部12101ないし12104の撮像画像中に歩行者が存在するか否かを判定することで歩行者を認識することができる。かかる歩行者の認識は、例えば赤外線カメラとしての撮像部12101ないし12104の撮像画像における特徴点を抽出する手順と、物体の輪郭を示す一連の特徴点にパターンマッチング処理を行って歩行者か否かを判別する手順によって行われる。マイクロコンピュータ12051が、撮像部12101ないし12104の撮像画像中に歩行者が存在すると判定し、歩行者を認識すると、音声画像出力部12052は、当該認識された歩行者に強調のための方形輪郭線を重畳表示するように、表示部12062を制御する。また、音声画像出力部12052は、歩行者を示すアイコン等を所望の位置に表示するように表示部12062を制御してもよい。
以上、本開示に係る技術が適用され得る車両制御システムの一例について説明した。本開示に係る技術は、以上説明した構成のうち、撮像部12031に適用され得る。これにより、車両制御システム12000では、撮像部12031のレイアウトをしやすくすることができるので、例えば、撮像部12031のレイアウトをシンプルにすることができ、ノイズの影響を抑えることができる。その結果、例えば、撮像部12031の性能を高めることができる。これにより、車両制御システム12000では、車両の衝突回避あるいは衝突緩和機能、車間距離に基づく追従走行機能、車速維持走行機能、車両の衝突警告機能、車両のレーン逸脱警告機能等の精度を高めることができる。
以上、いくつかの実施の形態および変形例を挙げて本技術を説明したが、本技術はこれらの実施の形態等には限定されず、種々の変形が可能である。
例えば、上記の各実施の形態では、半導体基板110に画素アレイにおける複数の受光素子31を形成し、半導体基板120に、画素アレイにおける受光素子31以外の素子および回路を形成したが、これに限定されるものではない。これに代えて、例えば、半導体基板110に、画素アレイにおける複数の受光素子31および複数の抵抗素子32を形成してもよい。
また、例えば、上記の各実施の形態では、時間計測デバイスは、時間計測部24における計測結果をそのまま出力したが、これに限定されるものではない。以下に、上記第1の実施の形態に係る時間計測装置1に本変形例を適用した時間計測装置1Hを例に挙げて、詳細に説明する。時間計測装置1Hは、時間計測デバイス20Hと、制御部14Hとを備えている。
図24は、時間計測デバイス20Hの一構成例を表すものである。時間計測デバイス20Hは、ヒストグラム生成部25Hを有している。ヒストグラム生成部25Hは、複数のヒストグラム生成回路26(この例ではN個のヒストグラム生成回路26(1)〜26(N))を有している。ヒストグラム生成回路26は、制御信号CTRL2に基づいて、信号S3に含まれる1行分の画素30のそれぞれにおけるカウント値CNT1を複数収集し、各画素30におけるカウント値CNT1のヒストグラムを生成するものである。そして、ヒストグラム生成回路26は、各画素30におけるヒストグラムにおいて、頻度が最も多いカウント値CNT1を、信号S4を用いて出力するようになっている。
ヒストグラム生成回路26は、カウント値CNT1のヒストグラムを生成する際、例えば、キャリブレーション動作(図9)により得られた遅延時間を用いて、時間計測動作(図6)により得られたカウント値CNT1を補正し、その補正されたカウント値を用いてヒストグラムを生成してもよい。
この例では、上記第1の実施の形態に係る時間計測装置1に本変形例を適用したが、これに限定されるものではない。例えば、上記第1の実施の形態に係る時間計測装置1E(図12)に本変形例を適用してもよい。この場合には、ヒストグラム生成回路26は、カウント値CNT1のヒストグラムを生成する際、例えば、テスト動作(図14)により得られた遅延時間を用いて、時間計測動作(図6)により得られたカウント値CNT1を補正し、その補正されたカウント値を用いてヒストグラムを生成してもよい。
また、例えば、上記第2の実施の形態に係る時間計測装置2に本変形例を適用してもよい。
また、例えば、上記の各実施の形態では、シングルフォトンアバランシェダイオード(SPAD)を用いて画素を構成したが、この画素は、例えば、裏面照射型の画素を用いることができる。図25は、裏面照射型の画素(画素230)の一例を表すものである。図中下方から参照すると、画素230では、オンチップレンズ223上にSPAD221が配置され、SPAD221上にセンサ基板241が配置され、さらにセンサ基板241上に回路基板242が配置される。光は、オンチップレンズ223(図中、下方)から入射され、SPAD221に入射される。
SPAD221は、N型半導体層201と、P型半導体層202と、ウェル203と、アノード205と、ホール蓄積層207とを有している。
N型半導体層201は、例えばシリコン(Si)からなる、不純物濃度が高い、導電型がN型である半導体層である。P型半導体層202は、不純物濃度が高い、導電型がP型である半導体層である。N型半導体層201およびP型半導体層202は、界面においてPN接合を構成する。P型半導体層202は、N型半導体層201の下に形成される。N型半導体層201およびP型半導体層202は、ウェル203内に形成される。P型半導体層202は、光の入射によって生じたキャリアをアバランシェ増倍する増倍領域を有する。P型半導体層202は、空乏化していることが好ましく、これによりPDE(Photon
Detection Efficiency)の向上を図ることができる。
ウェル203は、導電型がN型である半導体層であっても良いし、導電型がP型である半導体層であっても良い。また、ウェル203における不純物濃度は、例えば、1E14オーダー以下であることが好ましい。これにより、ウェル203を空乏化させやすくすることができ、PDEの向上を図ることができる。
N型半導体層201は、カソードとして機能し、コンタクト204を介して回路に接続される。アノード205は、コンタクト206を介して回路に接続される。このアノード205は、N型半導体層201と同じN型半導体層であり、N型半導体層201と分離層208との間に形成されている。コンタクト204,206は、例えば銅(Cu)やアルミニウム(Al)などの金属により形成される。
ホール蓄積層207は、導電型がP型である半導体層である。ホール蓄積層207は、分離層208とウェル203との間において、アノード205の下に形成され、アノード205と電気的に接続される。ホール蓄積層207は、異なる材質が接する部分に形成される。すなわち、図に示した例では、分離層208は、例えばシリコン酸化膜から成り、ウェル203とは異なる材料で構成される。このため、ホール蓄積層207は、分離層208およびウェル203の界面で発生する暗電流を抑制するために設けられる。さらに、ホール蓄積層207は、ウェル203の下部(SPAD221の裏面)にも形成される。すなわち、ホール蓄積層207は、オンチップレンズ223とウェル203と間にも形成される。
分離層208は、隣り合うSPAD221の間に形成され、各SPAD221を分離する。これにより、各SPAD221と1対1に対応する増倍領域が形成される。分離層208は、各増倍領域(SPAD221)の周囲を囲うように2次元格子状に形成される。分離層208は、図に示したように、積層方向でウェル203の上面から下面まで貫通するように形成されている。なお、上面から下面まで全部貫通する構成以外、例えば、一部分のみ貫通し、基板の途中まで分離層208が挿入されている構成などであっても良い。
なお、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものでは無く、また他の効果があってもよい。
なお、本技術は以下のような構成とすることができる。
(1)第1の方向に並設され、それぞれが、第1の半導体基板に形成されたシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する複数の画素と、
前記第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
を備え、
前記複数の画素のうちの前記第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
前記時間計測部は、前記複数の画素のうちの前記第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
時間計測デバイス。
(2)前記複数の画素のうちの前記第1の画素以外の画素のそれぞれは、前記第2の半導体基板に形成され、その画素以外の一の画素の出力信号が入力された第1の入力端子と、前記第1の論理信号が入力された第2の入力端子と、出力端子とを有する第1の論理回路を含む
前記(1)に記載の時間計測デバイス。
(3)前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
前記複数の画素のそれぞれは、
前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、およびその画素の前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける受光結果に応じた信号に基づいて第2の論理信号を生成する第2の論理回路と、
前記第2の半導体基板に形成され、前記第2の論理信号に基づいてトグル動作を行うことにより前記第1の論理信号を生成する第3の論理回路と
を含む
前記(1)または(2)に記載の時間計測デバイス。
(4)前記第2の画素の出力信号の遷移に基づいてパルス信号を生成する波形整形部をさらに備え、
前記時間計測部は、前記パルス信号に基づいて前記検出タイミングを計測する
前記(3)に記載の時間計測デバイス。
(5)前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
前記複数の画素のそれぞれは、前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、およびその画素の前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける受光結果に応じた信号に基づいて前記第1の論理信号を生成する第2の論理回路を含む
前記(1)または(2)に記載の時間計測デバイス。
(6)前記時間計測部は、
カウンタと、
前記第2の画素の前記出力信号に基づいて、前記カウンタにおけるカウント値をラッチするラッチと
をさらに備えた
前記(1)から(5)のいずれかに記載の時間計測デバイス。
(7)前記第1の画素は、第3の論理信号と、前記第1の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、前記第1の画素の前記出力信号を生成する
前記(1)から(6)のいずれかに記載の時間計測デバイス。
(8)前記時間計測部は、前記第3の論理信号が変化したときの、前記第2の画素の前記出力信号に基づいて、各画素から前記時間計測部までの遅延時間を計測する
前記(7)に記載の時間計測デバイス。
(9)前記時間計測部は、前記遅延時間の計測結果に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングの計測結果を補正する
前記(8)に記載の時間計測デバイス。
(10)前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
前記複数の画素のそれぞれは、
前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、第2の制御信号、およびその画素の前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける受光結果に応じた信号に基づいて第2の論理信号を生成する第4の論理回路と、
前記第2の半導体基板に形成され、前記第2の論理信号に基づいてトグル動作を行うことにより前記第1の論理信号を生成する第3の論理回路と
を含む
前記(1)または(2)に記載の時間計測デバイス。
(11)前記時間計測部は、前記第2の制御信号を用いて前記複数の画素のうちの第3の画素の前記第1の論理信号を変化させたときの、前記第2の画素の前記出力信号に基づいて、前記第3の画素から前記時間計測部までの遅延時間を計測する
前記(10)に記載の時間計測デバイス。
(12)前記時間計測部は、前記遅延時間の計測結果に基づいて、前記第3の画素における前記検出タイミングの計測結果を補正する
前記(11)に記載の時間計測デバイス。
(13)前記複数の画素の数は、200以上である
前記(1)から(12)のいずれかに記載の時間計測デバイス。
(14)第1の方向に並設され、それぞれが、受光素子を含み、前記受光素子における検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する複数の画素と、
前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
を備え、
前記複数の画素のうちの前記第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
前記時間計測部は、前記複数の画素のうちの前記第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
時間計測デバイス。
(15)前記複数の画素のそれぞれは、その画素以外の一の画素の出力信号が入力された第1の入力端子と、前記第1の論理信号が入力された第2の入力端子と、出力端子とを有する第1の論理回路を含む
前記(14)に記載の時間計測デバイス。
(16)前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
前記複数の画素のそれぞれは、
前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、およびその画素の前記受光素子における受光結果に応じた信号に基づいて第2の論理信号を生成する第2の論理回路と、
前記第2の論理信号に基づいてトグル動作を行うことにより前記第1の論理信号を生成する第3の論理回路と
を含む
前記(14)または(15)に記載の時間計測デバイス。
(17)前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
前記複数の画素のそれぞれは、前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、およびその画素の前記受光素子における受光結果に応じた信号に基づいて前記第1の論理信号を生成する第2の論理回路を含む
前記(14)または(15)に記載の時間計測デバイス。
(18)前記受光素子は、シングルフォトンアバランシェダイオードまたはアバランシェフォトダイオードである
前記(14)から(17)のいずれかに記載の時間計測デバイス。
(19)それぞれが、第1の半導体基板に形成されたシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する第1の画素、第2の画素、および第3の画素と、
前記第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、前記第1の画素、前記第2の画素、および前記第3の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
を備え、
前記第2の画素は、前記第1の画素の出力信号と、前記第2の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
前記第3の画素は、前記第2の画素の出力信号と、前記第3の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
前記時間計測部は、前記第3の画素の出力信号に基づいて、前記第1の画素、前記第2の画素、および前記第3の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
時間計測デバイス。
(20)光を射出する発光部と、
前記光に対応する反射光を反射させるミラーと、
第1の方向に並設され、それぞれが、第1の半導体基板に形成され、前記ミラーにより反射された前記反射光を検出するシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する複数の画素と、
前記第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
を備え、
前記複数の画素のうちの前記第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
前記時間計測部は、前記複数の画素のうちの前記第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
時間計測装置。
(21)光を射出する発光部と、
前記光に対応する反射光を反射させるミラーと、
第1の方向に並設され、それぞれが、前記ミラーにより反射された前記反射光を検出する受光素子を含み、前記受光素子における検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する複数の画素と、
前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
を備え、
前記複数の画素のうちの前記第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
前記時間計測部は、前記複数の画素のうちの前記第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
時間計測装置。
(22)光を射出する発光部と、
前記光に対応する反射光を反射させるミラーと、
それぞれが、第1の半導体基板に形成され、前記ミラーにより反射された前記反射光を検出するシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する第1の画像、第2の画素、および第3の画素と、
前記第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、前記第1の画素、前記第2の画素、および前記第3の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
を備え、
前記第2の画素は、前記第1の画素の出力信号と、前記第2の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
前記第3の画素は、前記第2の画素の出力信号と、前記第3の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
前記時間計測部は、前記第3の画素の出力信号に基づいて、前記第1の画素、前記第2の画素、および前記第3の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
時間計測装置。
本出願は、日本国特許庁において2017年9月29日に出願された日本特許出願番号2017−190304号を基礎として優先権を主張するものであり、この出願のすべての内容を参照によって本出願に援用する。
当業者であれば、設計上の要件や他の要因に応じて、種々の修正、コンビネーション、サブコンビネーション、および変更を想到し得るが、それらは添付の請求の範囲やその均等物の範囲に含まれるものであることが理解される。

Claims (22)

  1. 第1の方向に並設され、それぞれが、第1の半導体基板に形成されたシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する複数の画素と、
    前記第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
    を備え、
    前記複数の画素のうちの前記第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
    前記時間計測部は、前記複数の画素のうちの前記第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
    時間計測デバイス。
  2. 前記複数の画素のうちの前記第1の画素以外の画素のそれぞれは、前記第2の半導体基板に形成され、その画素以外の一の画素の出力信号が入力された第1の入力端子と、前記第1の論理信号が入力された第2の入力端子と、出力端子とを有する第1の論理回路を含む
    請求項1に記載の時間計測デバイス。
  3. 前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
    前記複数の画素のそれぞれは、
    前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、およびその画素の前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける受光結果に応じた信号に基づいて第2の論理信号を生成する第2の論理回路と、
    前記第2の半導体基板に形成され、前記第2の論理信号に基づいてトグル動作を行うことにより前記第1の論理信号を生成する第3の論理回路と
    を含む
    請求項1に記載の時間計測デバイス。
  4. 前記第2の画素の出力信号の遷移に基づいてパルス信号を生成する波形整形部をさらに備え、
    前記時間計測部は、前記パルス信号に基づいて前記検出タイミングを計測する
    請求項3に記載の時間計測デバイス。
  5. 前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
    前記複数の画素のそれぞれは、前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、およびその画素の前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける受光結果に応じた信号に基づいて前記第1の論理信号を生成する第2の論理回路を含む
    請求項1に記載の時間計測デバイス。
  6. 前記時間計測部は、
    カウンタと、
    前記第2の画素の前記出力信号に基づいて、前記カウンタにおけるカウント値をラッチするラッチと
    有する
    請求項1に記載の時間計測デバイス。
  7. 前記第1の画素は、第3の論理信号と、前記第1の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、前記第1の画素の前記出力信号を生成する
    請求項1に記載の時間計測デバイス。
  8. 前記時間計測部は、前記第3の論理信号が変化したときの、前記第2の画素の前記出力信号に基づいて、各画素から前記時間計測部までの遅延時間を計測する
    請求項7に記載の時間計測デバイス。
  9. 前記時間計測部は、前記遅延時間の計測結果に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングの計測結果を補正する
    請求項8に記載の時間計測デバイス。
  10. 前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
    前記複数の画素のそれぞれは、
    前記第2の半導体基板に形成され、前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、第2の制御信号、およびその画素の前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける受光結果に応じた信号に基づいて第2の論理信号を生成する第4の論理回路と、
    前記第2の半導体基板に形成され、前記第2の論理信号に基づいてトグル動作を行うことにより前記第1の論理信号を生成する第3の論理回路と
    を含む
    請求項1に記載の時間計測デバイス。
  11. 前記時間計測部は、前記第2の制御信号を用いて前記複数の画素のうちの第3の画素の前記第1の論理信号を変化させたときの、前記第2の画素の前記出力信号に基づいて、前記第3の画素から前記時間計測部までの遅延時間を計測する
    請求項10に記載の時間計測デバイス。
  12. 前記時間計測部は、前記遅延時間の計測結果に基づいて、前記第3の画素における前記検出タイミングの計測結果を補正する
    請求項11に記載の時間計測デバイス。
  13. 前記複数の画素の数は、200以上である
    請求項1に記載の時間計測デバイス。
  14. 第1の方向に並設され、それぞれが、受光素子を含み、前記受光素子における検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する複数の画素と、
    前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
    を備え、
    前記複数の画素のうちの前記第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
    前記時間計測部は、前記複数の画素のうちの前記第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
    時間計測デバイス。
  15. 前記複数の画素のそれぞれは、その画素以外の一の画素の出力信号が入力された第1の入力端子と、前記第1の論理信号が入力された第2の入力端子と、出力端子とを有する第1の論理回路を含む
    請求項14に記載の時間計測デバイス。
  16. 前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
    前記複数の画素のそれぞれは、
    前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、およびその画素の前記受光素子における受光結果に応じた信号に基づいて第2の論理信号を生成する第2の論理回路と、
    前記第2の論理信号に基づいてトグル動作を行うことにより前記第1の論理信号を生成する第3の論理回路と
    を含む
    請求項14に記載の時間計測デバイス。
  17. 前記複数の画素に対応する複数の第1の制御信号を生成する制御信号生成部をさらに備え、
    前記複数の画素のそれぞれは、前記複数の第1の制御信号のうちの対応する第1の制御信号、およびその画素の前記受光素子における受光結果に応じた信号に基づいて前記第1の論理信号を生成する第2の論理回路を含む
    請求項14に記載の時間計測デバイス。
  18. 前記受光素子は、シングルフォトンアバランシェダイオードまたはアバランシェフォトダイオードである
    請求項14に記載の時間計測デバイス。
  19. それぞれが、第1の半導体基板に形成されたシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する第1の画素、第2の画素、および第3の画素と、
    前記第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、前記第1の画素、前記第2の画素、および前記第3の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
    を備え、
    前記第2の画素は、前記第1の画素の出力信号と、前記第2の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
    前記第3の画素は、前記第2の画素の出力信号と、前記第3の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
    前記時間計測部は、前記第3の画素の出力信号に基づいて、前記第1の画素、前記第2の画素、および前記第3の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
    時間計測デバイス。
  20. 光を射出する発光部と、
    前記光に対応する反射光を反射させるミラーと、
    第1の方向に並設され、それぞれが、第1の半導体基板に形成され、前記ミラーにより反射された前記反射光を検出するシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する複数の画素と、
    前記第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
    を備え、
    前記複数の画素のうちの前記第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
    前記時間計測部は、前記複数の画素のうちの前記第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
    時間計測装置。
  21. 光を射出する発光部と、
    前記光に対応する反射光を反射させるミラーと、
    第1の方向に並設され、それぞれが、前記ミラーにより反射された前記反射光を検出する受光素子を含み、前記受光素子における検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する複数の画素と、
    前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
    を備え、
    前記複数の画素のうちの前記第1の方向の一端に配置された第1の画素以外の各画素は、その画素以外の一の画素の出力信号と、その画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
    前記時間計測部は、前記複数の画素のうちの前記第1の方向の他端に配置された第2の画素の出力信号に基づいて、前記複数の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
    時間計測装置。
  22. 光を射出する発光部と、
    前記光に対応する反射光を反射させるミラーと、
    それぞれが、第1の半導体基板に形成され、前記ミラーにより反射された前記反射光を検出するシングルフォトンアバランシェダイオードを含み、前記シングルフォトンアバランシェダイオードにおける検出タイミングに応じた第1の論理信号を生成する第1の画素、第2の画素、および第3の画素と、
    前記第1の半導体基板に貼り合わせられた第2の半導体基板に形成され、前記第1の画素、前記第2の画素、および前記第3の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する時間計測部と
    を備え、
    前記第2の画素は、前記第1の画素の出力信号と、前記第2の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
    前記第3の画素は、前記第2の画素の出力信号と、前記第3の画素において生成された前記第1の論理信号とに基づいて、出力信号を生成し、
    前記時間計測部は、前記第3の画素の出力信号に基づいて、前記第1の画素、前記第2の画素、および前記第3の画素のそれぞれにおける前記検出タイミングを計測する
    時間計測装置。
JP2019544521A 2017-09-29 2018-09-10 時間計測デバイスおよび時間計測装置 Active JP6742531B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2017190304 2017-09-29
JP2017190304 2017-09-29
PCT/JP2018/033381 WO2019065174A1 (ja) 2017-09-29 2018-09-10 時間計測デバイスおよび時間計測装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2019065174A1 JPWO2019065174A1 (ja) 2020-02-06
JP6742531B2 true JP6742531B2 (ja) 2020-08-19

Family

ID=65901323

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019544521A Active JP6742531B2 (ja) 2017-09-29 2018-09-10 時間計測デバイスおよび時間計測装置

Country Status (5)

Country Link
US (2) US11092677B2 (ja)
EP (2) EP3968046A3 (ja)
JP (1) JP6742531B2 (ja)
CN (2) CN112687713A (ja)
WO (1) WO2019065174A1 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101938984B1 (ko) * 2017-08-09 2019-04-10 연세대학교 산학협력단 Spad 거리측정 센서 기반의 2단계 트래킹을 이용한 거리 측정 장치 및 방법
JP7218193B2 (ja) * 2019-01-31 2023-02-06 キヤノン株式会社 撮像装置
JP2023085575A (ja) * 2020-04-24 2023-06-21 ソニーセミコンダクタソリューションズ株式会社 測距装置
US11476372B1 (en) * 2020-05-13 2022-10-18 Apple Inc. SPAD-based photon detectors with multi-phase sampling TDCs
US11735677B2 (en) 2020-07-20 2023-08-22 ActLight SA Photodetectors and photodetector arrays
CN111856497A (zh) * 2020-07-29 2020-10-30 北京深测科技有限公司 一种单光子成像方法和系统
CN112038360A (zh) * 2020-09-08 2020-12-04 上海大芯半导体有限公司 距离传感器像素阵列结构、距离传感器及工作方法
CN112285675B (zh) * 2020-12-15 2021-05-28 深圳市汇顶科技股份有限公司 飞行时间量测电路及相关芯片及电子装置
JP2023028992A (ja) 2021-08-20 2023-03-03 キヤノン株式会社 撮像装置およびその制御方法

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4206654A (en) * 1978-10-19 1980-06-10 Keller John T Video display control for diagnostic scanners
GB2289983B (en) * 1994-06-01 1996-10-16 Simage Oy Imaging devices,systems and methods
JPH09304112A (ja) * 1996-05-17 1997-11-28 Mitsutoyo Corp 光学式エンコーダ
US7843029B2 (en) * 2006-03-31 2010-11-30 National University Corporation Shizuoka University Semiconductor range-finding element and solid-state imaging device
JP4932460B2 (ja) * 2006-12-04 2012-05-16 ルネサスエレクトロニクス株式会社 スミア補正方法及びスミア補正ユニット
JP2012501608A (ja) * 2008-08-28 2012-01-19 メサ・イメージング・アー・ゲー デイジーチェーン構成の電荷格納領域を有する復調ピクセルおよびそれを操作する方法
US8207954B2 (en) * 2008-11-17 2012-06-26 Global Oled Technology Llc Display device with chiplets and hybrid drive
JP5521721B2 (ja) * 2009-08-28 2014-06-18 ソニー株式会社 撮像素子およびカメラシステム
KR101788032B1 (ko) * 2011-03-24 2017-10-19 삼성전자주식회사 깊이 센서, 상기 깊이 센서의 깊이 정보 에러 보상 방법, 및 상기 깊이 센서를 포함하는 신호 처리 시스템
WO2013070942A1 (en) * 2011-11-08 2013-05-16 Rambus Inc. Image sensor sampled at non-uniform intervals
US8686367B2 (en) * 2012-03-01 2014-04-01 Omnivision Technologies, Inc. Circuit configuration and method for time of flight sensor
JP6236758B2 (ja) * 2012-10-09 2017-11-29 株式会社豊田中央研究所 光学的測距装置
JP6245882B2 (ja) * 2013-08-01 2017-12-13 キヤノン株式会社 光電変換装置および撮像システム
US9344649B2 (en) * 2013-08-23 2016-05-17 Semiconductor Components Industries, Llc Floating point image sensors with different integration times
JP6314418B2 (ja) 2013-10-18 2018-04-25 株式会社デンソー レーダ装置
US9523765B2 (en) 2014-07-14 2016-12-20 Omnivision Technologies, Inc. Pixel-level oversampling for a time of flight 3D image sensor with dual range measurements
US9658336B2 (en) * 2014-08-20 2017-05-23 Omnivision Technologies, Inc. Programmable current source for a time of flight 3D image sensor
FR3034204A1 (ja) * 2015-03-23 2016-09-30 Stmicroelectronics (Grenoble 2) Sas
US11153515B2 (en) 2015-04-24 2021-10-19 Sony Corporation Solid state image sensor comprising stacked substrates, semiconductor device, and electronic device
US9843756B2 (en) * 2015-05-27 2017-12-12 Samsung Electronics Co., Ltd. Imaging devices, arrays of pixels receiving photocharges in bulk of select transistor, and methods
JP6406449B2 (ja) * 2015-06-24 2018-10-17 株式会社村田製作所 距離センサ
ES2682097T3 (es) * 2015-08-03 2018-09-18 Fundació Institut De Ciències Fotòniques Sensor de imagen con circuito de lectura no local y dispositivo optoelectronico que comprende dicho sensor de imagen
WO2017085916A1 (ja) * 2015-11-16 2017-05-26 パナソニックIpマネジメント株式会社 撮像装置、及びそれに用いられる固体撮像素子
DE102016122831A1 (de) * 2015-11-26 2017-06-01 Odos Imaging Ltd. Bildgebendes System, Abstandsmessvorrichtung, Verfahren zum Betreiben des bildgebenden Systems und der Abstandsmessvorrichtung
KR102065288B1 (ko) * 2016-01-29 2020-01-10 바렉스 이미징 코포레이션 매트릭스 유형 집적 회로용 행 구동기 장애 분리 회로
JP6910010B2 (ja) * 2016-02-17 2021-07-28 パナソニックIpマネジメント株式会社 距離測定装置
JP2017150893A (ja) * 2016-02-23 2017-08-31 ソニー株式会社 測距モジュール、測距システム、および、測距モジュールの制御方法
US9829710B1 (en) * 2016-03-02 2017-11-28 Valve Corporation Display with stacked emission and control logic layers
JP6774660B2 (ja) 2016-04-14 2020-10-28 花王株式会社 油性毛髪化粧料
US20180341009A1 (en) * 2016-06-23 2018-11-29 Apple Inc. Multi-range time of flight sensing
CN106226776A (zh) * 2016-07-06 2016-12-14 天津大学 一种用于测量光子飞行时间的lfsr计数器
WO2018085841A1 (en) * 2016-11-07 2018-05-11 BioSensing Systems, LLC Calibration method and apparatus for active pixel hyperspectral sensors and cameras
CN107105177B (zh) * 2017-04-26 2020-01-17 天津大学 单光子雪崩光电二极管时间延迟积分cmos图像传感器

Also Published As

Publication number Publication date
EP3968046A3 (en) 2022-06-08
EP3572833B1 (en) 2021-11-24
EP3572833A4 (en) 2020-03-04
JPWO2019065174A1 (ja) 2020-02-06
US11092677B2 (en) 2021-08-17
CN112687713A (zh) 2021-04-20
CN110462425B (zh) 2020-12-18
CN110462425A (zh) 2019-11-15
EP3572833A1 (en) 2019-11-27
WO2019065174A1 (ja) 2019-04-04
US20190353760A1 (en) 2019-11-21
US20210302552A1 (en) 2021-09-30
EP3968046A2 (en) 2022-03-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6742531B2 (ja) 時間計測デバイスおよび時間計測装置
EP3748316B1 (en) Solid-state imaging element, imaging device, and control method for solid-state imaging element
TWI829718B (zh) 時間計測元件及時間計測裝置
CN112513678B (zh) 光电检测器和距离测量设备
US20230408692A1 (en) Distance measuring sensor and distance measuring system
WO2020184224A1 (ja) 距離測定装置及びスキュー補正方法
TW202135519A (zh) 感測裝置及測距裝置
JP7478526B2 (ja) 固体撮像素子、および、測距システム
CN114424524A (zh) 固态成像元件和电子设备
US20240085177A1 (en) Photodetection device and photodetection system
US20240111033A1 (en) Photodetection device and photodetection system
WO2022044686A1 (ja) Apdセンサ及び測距システム
WO2024075409A1 (en) Photodetection device
WO2022176532A1 (ja) 受光装置、測距装置及び受光装置の信号処理方法
WO2022239459A1 (ja) 測距装置及び測距システム
WO2022074939A1 (ja) 受光素子、測距モジュール、測距システム、および、受光素子の制御方法
TW202209868A (zh) 固態攝像元件、感測系統及固態攝像元件之控制方法
JP2022007152A (ja) 光検出装置および測距システム
KR20230058691A (ko) 비행 시간 회로 및 비행 시간 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190910

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20190910

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20200630

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20200728

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6742531

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150