JP6721936B2 - 霧化装置 - Google Patents
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Description
本発明に係る好適な第1の実施形態をミストエッチング装置の例で、図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明に係るミストエッチング装置の概略断面図である。ミストエッチング装置1は、原料液体6を霧化するミスト生成部2(霧化装置の一例)と、基板や基板上に形成された薄膜をエッチングするエッチング部3とから構成される。ミスト生成部2とエッチング部3は連結管4により相互に連結されている。ここで、原料液体とは、反応種又は反応前駆体を溶解した液体で、たとえばエッチング液である。
ミスト生成部2によりミスト化された原料液体6a(以下、単に「ミスト」という)は、ミスト状のままミスト排出口54から原料容器5外に排出され、図1の矢印Bに示すように連結管4内をキャリアガスによってエッチング部3に搬送される。エッチング部3に導入されたミスト6aはヒータ33により蒸気化されてエッチングに供される。
キャリアガス導入口55は、原料容器5に設けられることが好ましく、原料液体6の液面6bより上方に設けられることがより好ましい。そうすることで、より効率的に生成したミスト6aが搬送されることとなる。
処理室34にはエッチング対象物10が設置され、処理室34は支持台11上に載置されてエッチング処理が施される。
また、処理室34にはキャリアガスを外部に排出するためのキャリアガス排出口32が設けられる。キャリアガス排出口32を設けることで、エッチングの際に生成する反応生成物が処理室3外に排出される。従って、エッチング対象物10上への反応生成物の残留を防ぐことができる。
次に、本発明に係る好適な第2の実施形態をミストエッチング装置の例で、図面を参照しながら説明する。図1の第1の実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。第1の実施形態では、伝達液体8自体を循環させて温度調整したが、第2の実施形態では伝達液体8は循環させず、所定の温度に保った冷却液体を循環させてこの冷却液体で伝達液体8を温度調整する構成とした。
次に、本発明に係る好適な第3の実施形態をミストエッチング装置の例で、図面を参照しながら説明する。図1の第1の実施形態および図2の第2の実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。第3の実施形態は、第2の実施形態と同様の水冷経路を備えるとともに、密閉容器にシリンジを備えている。
次に、本発明に係る好適な第4の実施形態をミストエッチング装置の例で、図面を参照しながら説明する。第1〜第3の実施形態と同一の構成要素には同一の符号を付して説明を省略する。第4の実施形態は、基本的には第3の実施形態と同じであるが、密閉容器15を原料容器14の周囲に配置し、熱交換部130は密閉容器15の底部に配置している点が異なる。
図4に示すミストエッチング装置を使用して基板上に形成された酸化亜鉛(ZnO)の薄膜に対してエッチング処理を施した。
実施例の薄膜は、スパッタリング法により基板上に成膜(膜厚100nm)した。
レジストパターンを夫々の薄膜に形成した後に、表1に示す条件にてミストエッチング処理を施した。尚、エッチング時間は180秒とした。キャリアガス及び希釈ガスに(圧縮)空気を使用した。
Claims (3)
- 反応種ないしは反応前駆体を溶解した原料液体を霧化する霧化装置であって、
前記原料液体を収容した原料容器と、
前記原料容器と当接して配置され、超音波を伝達し脱気された伝達液体で満たされた密閉容器と、
前記原料容器に対し前記密閉容器内の前記伝達液体を介して前記超音波を照射する超音波発生部と、
前記伝達液体を循環させる密閉された循環経路を有し、
前記循環経路は、前記伝達液体の温度を所定の温度に調整する温度調整手段と、前記密閉容器内の圧力を制御する圧力調整手段と、前記伝達液体を脱気する脱気機構を備えていることを特徴とする霧化装置。 - 前記原料容器の前記密閉容器と当接する当接部が薄く形成され、前記超音波は前記当接部を経由して前記原料容器内の前記原料液体に照射されることを特徴とする請求項1に記載の霧化装置。
- 前記原料容器と前記密閉容器の間に配置される薄膜を有し、前記超音波は前記薄膜を経由して前記原料容器内の前記原料液体に照射されることを特徴とする請求項1に記載の霧化装置。
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Family Applications (1)
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