JP6703582B2 - 石をクリンプする方法 - Google Patents
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Description
(a)中に前記石が配置される少なくとも1つの凹部が形成された基材を用意するステップであって、前記凹部が、前記基材と前記石の間の少なくとも前記ガードルの近傍及び前記ガードルに隣接している前記クラウンと前記パビリオンの領域の近傍に、周部自由空間を形成するように構成しており、前記周部自由空間の底部には、導電性の表面がある、ステップと、
(b)前記周部自由空間内にて電気めっきを施すことによって、少なくとも前記ガードルの近傍及び前記ガードルに隣接している前記クラウンと前記パビリオンの領域の近傍に、金属層を堆積させて、少なくとも実質的に前記石の前記ガードルのまわりにて前記ガードルを前記金属層内に閉じ込めて、前記セッティング台を形成するステップと、
(c)前記石とそのセッティング台を前記基材から解放するステップと
を有する。
(d)導電性の表面層を有する基材を用意し、前記基材に少なくとも1つの貫通穴を形成するステップと、
(e)前記基材を感光性樹脂層によって覆い、前記基材の平面内における寸法が前記石の前記ガードルの寸法よりも大きい空洞をフォトリソグラフィーによって前記感光性樹脂層内に形成するステップと
によって作られ、
前記空洞には、前記貫通穴に対応する中央開口と、及び樹脂製の側壁及び前記貫通穴のまわりの前記基材の前記導電性の表面層によって占められた底部に接している周部領域とがあり、
前記凹部を形成する前記空洞と前記貫通穴の寸法は、前記石の前記パビリオンが前記貫通穴内に部分的に収容されて、前記空洞の前記中央開口の前記周部に載るように選ばれ、
前記貫通穴よりも上の前記パビリオンの残りは、前記ガードルに隣接している前記パビリオンの領域を定めて、前記ガードルに隣接している前記パビリオンの前記領域から少なくとも前記ガードルに隣接している前記クラウンの領域のレベルまでの前記石の残りは、前記空洞内に収容され、前記石と前記空洞の壁の間に前記周部自由空間を形成する。
2 セッティング台
3 テーブル
4 クラウン
5 ガードル
6 パビリオン
8 基材
10 凹部
12 周部自由空間
14 底部
16 導電性の表面層
18 貫通穴
20 感光性樹脂層
22 空洞
24 中央開口
26 側壁
28 再配置デバイス
36 金属層
38 セッティング
Claims (12)
- テーブル(3)、クラウン(4)、ガードル(5)及びパビリオン(6)があるようにカットされた石(1)をセッティング台(2)上に組み付けてアセンブリーを作る方法であって、
(a)中に前記石(1)が配置される少なくとも1つの凹部(10)が形成された基材(8)を用意するステップであって、前記凹部(10)が、前記基材(8)と前記石(1)の間の少なくとも前記ガードル(5)の近傍及び前記ガードル(5)に隣接している前記クラウン(4)と前記パビリオン(6)の領域(4a、6a)の近傍に、周部自由空間(12)を形成するように構成しており、前記周部自由空間(12)は、導電性の表面を有する底部(14)に接している、ステップと、
(b)前記周部自由空間(12)内にて電気めっきを施すことによって、少なくとも前記ガードル(5)の近傍及び前記ガードル(5)に隣接している前記クラウン(4)と前記パビリオン(6)の領域(4a、6a)の近傍に、金属層(36)を堆積させて、前記ガードル(5)を前記金属層(36)内に閉じ込めて、前記セッティング台(2)を形成するステップと、
(c)前記石(1)とそのセッティング台(2)を前記基材(8)から解放するステップと
を有し、
前記基材(8)とその凹部(10)は、
(d)導電性の表面層(16)を有する基材(8)を用意し、前記基材(8)に少なくとも1つの貫通穴(18)を形成するステップと、
(e)前記基材(8)を感光性樹脂層(20)によって覆い、前記基材(8)の平面内における寸法が前記石(1)の前記ガードル(5)の寸法よりも大きい空洞(22)をフォトリソグラフィーによって前記感光性樹脂層(20)内に形成するステップと
によって作られ、
前記空洞(22)には、前記貫通穴(18)に対応する中央開口(24)と、及び樹脂製の側壁(26)及び前記貫通穴(18)のまわりの前記基材の前記導電性の表面層(16)によって占められた底部(14)に接している周部領域とがあり、
前記凹部(10)を形成する前記空洞(22)と前記貫通穴(18)の寸法は、前記石(1)の前記パビリオン(6)が前記貫通穴(18)内に部分的に収容されて、前記空洞(22)の前記中央開口(24)の前記周部に載るように選ばれ、
前記貫通穴(18)よりも上の前記パビリオン(6)の残りは、前記ガードル(5)に隣接している前記パビリオン(6)の領域(6a)を定めて、前記ガードル(5)に隣接している前記パビリオン(6)の前記領域(6a)から少なくとも前記ガードル(5)に隣接している前記クラウン(4)の領域(4a)のレベルまでの前記石(1)の残りは、前記空洞(22)内に収容され、前記石(1)と前記空洞(22)の壁(26、14)の間に前記周部自由空間(12)形成する
ことを特徴とする方法。 - 前記空洞(22)と前記貫通穴(18)の寸法は、前記石(1)の前記パビリオン(6)が前記貫通穴(18)内に実質的に完全に収容されて、前記ガードル(5)に隣接している前記パビリオン(6)の領域(6a)が前記ガードル(5)のすぐ下のみに延在し、前記ガードル(5)に隣接している前記クラウン(4)の領域(4a)が前記ガードル(5)のすぐ上にのみ延在するように選ばれ、
これによって、前記石(1)と前記空洞(22)の壁(26、14)の間の、実質的に前記ガードル(5)の近傍及び前記ガードル(5)に隣接している前記クラウン(4)と前記パビリオン(6)の前記領域(4a、6a)の近傍にて、前記周部自由空間(12)を形成する
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記凹部(10)の高さは、前記石(1)の前記テーブル(3)が前記凹部(10)を越えるような大きさである
ことを特徴とする請求項1〜2のいずれかに記載の方法 - 前記ステップ(a)と前記ステップ(b)の間に、前記石(1)の向きを変えるステップ(f)を有する
ことを特徴とする請求項3に記載の方法。 - 前記ステップ(f)は、前記石(1)の前記テーブル(3)を、前記石(1)をその凹部(10)内に再配置する再配置デバイス(28)に接触させることを伴う
ことを特徴とする請求項4に記載の方法。 - 前記ステップ(f)と前記ステップ(b)の間に、前記石(1)の前記パビリオン(6)を前記貫通穴(18)内にセッティングするステップ(g)を有する
ことを特徴とする請求項4又は5に記載の方法。 - 前記ステップ(g)の後に、前記再配置デバイス(28)を取り除くステップ(h)を有する
ことを特徴とする請求項5又は6に記載の方法。 - 前記ステップ(b)の間に堆積される金属層(36)は、ニッケル、金、銀、白金、ロジウム、パラジウム、銅及びこれらの合金からなる群から選ばれる材料で作られている
ことを特徴とする請求項1〜7のいずれかに記載の方法。 - 前記ステップ(e)は、所望のセッティング台(2)の輪郭に対応するマスクを通してネガ型の感光性樹脂層(20)に紫外線照射し、前記感光性樹脂層(20)の非照射部分を取り除いて前記セッティング台(2)の輪郭に対応する輪郭を有する空洞(22)を得ることを伴う
ことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記基材(8)は、ケイ素、セラミックス、ガラス及び石英からなる群から選ばれた材料をベースとしている
ことを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の方法。 - 計時器又は装飾品の部品の要素上に石(1)をクリンプする方法であって、
請求項1〜10に記載の方法を使用して得られた石(1)とそのセッティング台(2)のアセンブリーを、前記計時器又は装飾品の部品の要素に加えられたセッティング(38)上に又は前記計時器又は装飾品の部品の要素上に直接、組み付ける
ことを特徴とする方法。 - 請求項1〜10に記載の方法を使用して得られたセッティング台(2)上に組み付けられた少なくとも1つの石(1)を有する計時器又は装飾品の部品の要素。
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Families Citing this family (6)
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Family Cites Families (28)
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JPH0431100A (ja) * | 1990-05-29 | 1992-02-03 | Seiko Epson Corp | 装飾部材の製造方法 |
JPH081297U (ja) * | 1992-03-31 | 1996-08-20 | 健治 宮川 | 電気鋳造で作られた装身具及び装飾品へ宝石を留める方法 |
JPH06240487A (ja) * | 1993-01-14 | 1994-08-30 | Yamada:Kk | 電鋳による装飾品の製造法 |
EP0620987A1 (de) * | 1993-04-22 | 1994-10-26 | Firma Franz Breuning | Schmucksteinbefestigung |
FR2754152B1 (fr) * | 1996-10-09 | 1998-12-24 | Pgcm Conception | Procede d'enchassement de pierres dans la surface d'un bijou realise par electroformage et bijou ainsi obtenu |
AT2273U1 (de) * | 1997-07-18 | 1998-08-25 | Swarovski & Co | Hohlschmuck |
DE19840116A1 (de) * | 1998-09-03 | 1999-03-25 | Gabriele Weinmann | Dekorierte Perle mit integriertem Schmuckelement |
JP2003248068A (ja) * | 2002-02-25 | 2003-09-05 | Seiko Epson Corp | 装飾品の製造方法、装飾材取付用工具、装飾材取付固定部構造、装飾品及び時計 |
US6668584B1 (en) * | 2002-05-07 | 2003-12-30 | Giuliano Tosti | Housing for setting a stone in jewelry |
JP2005290428A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-10-20 | Seiko Instruments Inc | 装飾溝を含む電鋳部品の製造方法 |
US7140199B2 (en) * | 2004-04-06 | 2006-11-28 | Suberi Brothers | Mounting system for cut stones |
WO2006129303A2 (en) * | 2005-06-01 | 2006-12-07 | Camellia Diamonds Ltd. | Encrusted diamond |
AT8573U1 (de) * | 2005-07-22 | 2006-10-15 | Swarovski & Co | Verfahren zum aufkleben von schmucksteinen |
DE602006003522D1 (de) * | 2006-02-28 | 2008-12-18 | Blancpain Sa | Verfahren zum Einfassen von Steinen in einem Trägerelement |
DE06405114T1 (de) * | 2006-03-15 | 2008-04-24 | Doniar S.A. | LIGA Verfahren zur Herstellung einer einzel- oder mehrlagigen metallischen Struktur und damit hergestellte Struktur |
US20080066310A1 (en) * | 2006-09-05 | 2008-03-20 | Siu Chung Pang | Setting stones in the surface of electroformed piece |
US8215126B2 (en) * | 2007-03-01 | 2012-07-10 | Rany Mattar | Setting for gemstones, particularly diamonds |
AT507129B1 (de) * | 2008-07-23 | 2010-08-15 | Swarovski & Co | Verfahren zur herstellung einer schmucksteinanordnung |
JP5379311B2 (ja) * | 2009-11-25 | 2013-12-25 | ドレス・ユア・ボディ・アーゲー | インビジブル・セッティングによる装飾用部品 |
US8789251B2 (en) * | 2010-09-16 | 2014-07-29 | Edward D. Labow | Method and apparatus for embedding ornamental objects into sheet material |
US9084457B2 (en) * | 2011-06-03 | 2015-07-21 | Krush To Pleve Llc | Multiple piece jewelry piece and method of manufacture |
US20120304890A1 (en) * | 2011-06-03 | 2012-12-06 | Ron Rizzo | Slurry for jewelry pieces |
EP3326485A1 (en) * | 2012-08-20 | 2018-05-30 | Forever Mount, LLC | A brazed joint for attachment of gemstones to a metallic mount |
CN104936478B (zh) * | 2012-12-21 | 2018-04-10 | 奥米加股份有限公司 | 通过镶嵌形成的装饰件 |
CH707581B1 (fr) * | 2013-02-08 | 2020-01-15 | Les Ateliers Horlogers Dior Sa | Pièce pour l'horlogerie et procédé de fabrication d'une telle pièce. |
US9462859B2 (en) * | 2013-09-16 | 2016-10-11 | John William Disinger | Light emitting jewelry |
EP3090645B1 (fr) * | 2015-05-04 | 2020-01-22 | The Swatch Group Research and Development Ltd. | Procédé de montage d'un élément décoratif sur un support et ledit support |
DE102016222905B4 (de) * | 2016-11-21 | 2019-03-07 | Realization Desal Ag | Uhrglas und Verfahren zum Herstellen eines Uhrglases |
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