JP6526748B2 - マルチレベル外側要素を備える計時器を製造する方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 69
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 57
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 57
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 41
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 41
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 claims description 30
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 7
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 claims description 7
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 6
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 148
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 26
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 8
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 6
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 6
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 3
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 2
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 2
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical group 0.000 description 2
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920000049 Carbon (fiber) Polymers 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001680 brushing effect Effects 0.000 description 1
- 239000004917 carbon fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 1
- 239000005300 metallic glass Substances 0.000 description 1
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000010076 replication Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
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- G04D3/00—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials
- G04D3/0074—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for treatment of the material, e.g. surface treatment
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- G04D3/0074—Watchmakers' or watch-repairers' machines or tools for working materials for treatment of the material, e.g. surface treatment
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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Description
− 導電性面を有する基材を用意するステップと、
− 第1の感光性樹脂層で前記基材の前記導電性面を被覆するステップと、
− 所望のパターンに対応するマスクを通して第1の感光性樹脂層に照射するステップと、
− 前記基材の前記導電性面を露出させる開口が形成されるように第1の感光性樹脂層に堆積して、第1のレベルの樹脂型を得るステップと、
− 堆積した樹脂層に別の感光性樹脂層を堆積させて、前記堆積した樹脂層を被覆し、好ましくは、その樹脂層に形成されている前記開口を充填するステップと、
− 所望のパターンに対応するマスクを通して新しい感光性樹脂層に照射するステップと、
− 前記基材の前記導電性面を露出させる開口を形成するように新しい感光性樹脂層を堆積させて、マルチレベル樹脂型を得るステップと、
− 電着によって前記マルチレベル樹脂型に形成された前記開口を金属又は合金で充填するステップと、
− 前記樹脂層を取り除いて、前記開口に堆積した前記金属又は合金によって形成されたマルチレベル金属又は合金要素を露出させるステップと
を有する。
− SU−8タイプの樹脂のような感光性樹脂を基層CBに付着させ、
− SU−8樹脂の場合には紫外線で、基礎モチーフMB1の所望形状に対応するフォトマスクを通して前記樹脂に照射して、基礎モチーフMB1に対応する樹脂の領域を硬化させ、
− 前記樹脂をデベロップして、硬化していない領域を溶かし、基礎モチーフMB1を露出させて、
作られる。
− SU−8タイプの樹脂のような感光性樹脂を中間層CTに付着させ、
− SU−8樹脂の場合には紫外線で、中間モチーフMT2の所望形状に対応するフォトマスクを通して前記樹脂に照射して、中間モチーフMT2に対応する樹脂の領域を硬化させ、
− 樹脂をデベロップして、硬化されていない領域を溶かして中間モチーフMT2を露出させて、
作られる。
− SU−8タイプの樹脂のような感光性樹脂を付加層CSに付着させる。なお、付加層CSが厚みが厚い領域を有する場合に、樹脂には、付加層CSの厚みが薄い領域において厚みが厚い領域ZLがある。これは、逆も成り立つ。
− 樹脂をデベロップして、硬化していない領域を溶かし、第1の開口OS1に重ねられた第1のオリフィスOL1、第2の開口OS2に重ねられた第2のオリフィスOL2及び付加的モチーフMS3に対向している第3のオリフィスOL3を露出させる。
− 基礎モチーフMB1は、第1の穴OT1内に位置し、第1の穴OT1は、第1の開口OS1によってカバーされ、第1のオリフィスOL1は、第1の開口OS1に重なる。
− 中間モチーフMT2は、第2の開口OS2内に位置し、第2のオリフィスOL2は、第2の開口OS2に重なる。
− 付加的モチーフMS3は、第3のオリフィスOL3に対向するように位置する。
CL 絶縁層
CM 金属又は金属合金の層
CS 付加層
CT 中間層
EH1、EH2 外側要素
EL 側領域
MB1 基礎モチーフ
MS3 付加モチーフ
MT2 中間モチーフ
OL1 第1のオリフィス
OL2 第2のオリフィス
OL3 第3のオリフィス
OS1 第1の開口
OS2 第2の開口
OT1 第1の穴
PC 物
SC 導電性面
VL 体積物
Claims (15)
- 物(PC)を製造する方法(Pr1)であって、前記物(PC)は、その本体上のレリーフにおける外側要素(EH1)を備え、前記方法は、
貫通した第1のオリフィス(OL1)がある電気的絶縁層(CL)と、前記第1のオリフィス(OL1)と同様な寸法の貫通した第1の開口(OS1)がある付加層(CS)と、貫通した第1の穴(OT1)がある中間層(CT)と、及び基礎モチーフ(MB1)が上にマウントされた基層(CB)とを重ねて、前記基礎モチーフ(MB1)を前記第1の穴(OT1)の内部に配置し、前記第1の穴(OT1)を前記第1の開口(OS1)でカバーし、前記第1の開口(OS1)と前記第1のオリフィス(OL1)を重ねるステップ(Pr1_sup)と、
金属又は金属合金の層(CM)を電着するステップであって、このステップの終わりにおいて、前記金属又は金属合金の層(CM)が、前記基礎モチーフ(MB1)と、前記第1のオリフィス(OL1)と、前記第1の開口(OS1)と、及び前記第1の穴(OT1)との導電性の壁をカバーする殻状体を形成し、前記絶縁層(CL)上に配置された側領域(EL)を有するようにする、ステップ(Pr1_gal)と、
前記絶縁層(CL)を溶かすステップと、
少なくとも部分的に前記物(PC)の基材によって形成された物体(VL)で、前記金属又は金属合金の層(CM)を被覆して、前記物体(VL)が前記金属又は金属合金の層(CM)の形に適合するようにするステップ(Pr1_rec)であって、前記側領域(EL)は、前記物体(VL)内に密封される、前記ステップ(Pr1_rec)と、
前記物体(VL)及び前記金属又は金属合金の層(CM)を取り除くステップ(Pr1_ext)と
を有することを特徴とする方法(Pr1)。 - 前記基礎モチーフ(MB1)、第1の開口(OS1)、第1の穴(OT1)及び/又は第1のオリフィス(OL1)の壁に導電性面(SC)を形成するステップを有する
ことを特徴とする請求項1に記載の方法(Pr1)。 - 前記第1のオリフィス(OL1)の周部に位置する前記絶縁層(CL)の上側面の一部上において導電性面(SCL)を形成するステップを有する
ことを特徴とする請求項2に記載の方法(Pr1)。 - 感光性樹脂の付着、照射及びデベロップを伴って、前記基層(CB)上に前記基礎モチーフ(MB1)を形成するステップ(Pr1_fMB1)を有する
ことを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の方法(Pr1)。 - ケイ素ウェーハーから前記基層(CB)を形成するステップ(Pr1_fCB)を有し、
これには、導電性膜で前記ウェハーを被覆することを伴う
ことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の方法(Pr1)。 - 物(PC)を製造する方法(Pr2)であって、前記物(PC)は、その本体上のレリーフにおける外側要素(EH2)を備え、前記方法は、
貫通した第2のオリフィス(OL2)がある電気的絶縁層(CL)と、前記第2のオリフィス(OL2)と同様な寸法の貫通した第2の開口(OS2)がある付加層(CS)と、及び中間モチーフ(MT2)が上にマウントされた中間層(CT)とを重ねて、前記第2の開口(OS2)の内部に前記中間モチーフ(MT2)を配置し、前記第2の開口(OS2)及び前記第2のオリフィス(OL2)を重ねるステップ(Pr2_sup)と、
金属又は金属合金の層を電着させるステップであって、このステップの終わりにおいて、前記金属又は金属合金の層が、前記中間層(MT2)、第2のオリフィス(OL2)及び第2の開口(OS2)の導電性の壁をカバーする殻状体を形成し、前記絶縁層(CL)上に配置された側領域を有するようにする、ステップと、
前記絶縁層(CL)を溶かすステップと、
前記物(PC)の基材によって少なくとも部分的に形成された物体で、前記金属又は金属合金の層を被覆して、前記物体が前記金属又は金属合金の層の形に適合するようにする、ステップであって、前記側領域は、前記物体内に密封される、前記ステップと、
前記物体及び前記金属又は金属合金の層を取り除くステップ(Pr2_ext)と
を有することを特徴とする方法(Pr2)。 - 前記中間モチーフ(MT2)、前記第2のオリフィス(OL2)及び/又は前記第2の開口(OS2)の壁上に導電性面を形成するステップを有する
ことを特徴とする請求項6に記載の方法(Pr2)。 - 前記第2のオリフィス(OL2)の周部に位置する前記絶縁層(CL)の上側面の一部上に導電性面を形成するステップを有する
ことを特徴とする請求項7に記載の方法(Pr2)。 - 感光性樹脂の付着、照射及びデベロップを行って、前記中間層(CT)上に前記中間モチーフ(MT2)を形成するステップ(Pr2_fMT2)を有する
ことを特徴とする請求項6〜8のいずれかに記載の方法(Pr2)。 - プレートを切断することを伴って、前記中間層(CT)を形成するステップ(Pr12_fCT)を有する
ことを特徴とする請求項1〜9のいずれかに記載の方法(Pr1、Pr2)。 - プレートを切断することを伴って、前記付加層(CS)を形成するステップ(Pr12_fCS)を有する
ことを特徴とする請求項1〜10のいずれかに記載の方法(Pr1、Pr2)。 - 前記付加層(CS)を形成するステップ(Pr12_fCS)は、前記付加層(CS)に付加モチーフ(MS3)を形成するように前記付加層(CS)にスタンピングすることを含み、
前記電気的絶縁層(CL)には、第3のオリフィス(OL3)があり、
前記第3のオリフィス(OL3)は、前記絶縁層(CL)及び前記付加層(CS)が重なっているときに前記付加モチーフ(MS3)に対向するように配置される
ことを特徴とする請求項11に記載の方法(Pr1、Pr2)。 - 前記付加層(CS)を形成するステップ(Pr12_fCS)は、前記付加層(CS)にエッチングして、前記付加層(CS)の厚みを局所的に小さくすることを伴い、
前記絶縁層(CL)には、重ねられた前記付加層(CS)及び前記絶縁層(CL)を有するアセンブリーの厚みが一定となるように、厚みが厚い領域がある
ことを特徴とする請求項11又は12に記載の方法(Pr1、Pr2)。 - 感光性樹脂の付着、照射及びデベロップを行って第3のオリフィス(OL3)を形成するように、付加層(CS)上に前記絶縁層(CL)を形成するステップ(Pr12_fCL)を有し、
前記第3のオリフィス(OL3)は、前記絶縁層(CL)及び前記付加層(CS)が重なっているときに前記付加モチーフ(MS3)に対向するように配置される
ことを特徴とする請求項12又は13に記載の方法(Pr1、Pr2)。 - 前記物体(VL)は、前記第2の材料が前記金属又は金属合金の殻状体の内部の空間を充填するように、前記基材とは異なる第2の材料によって部分的に作られる
ことを特徴とする請求項1〜14のいずれかに記載の方法(Pr1、Pr2)。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP16178118.2 | 2016-07-06 | ||
EP16178118.2A EP3266738B1 (fr) | 2016-07-06 | 2016-07-06 | Procédé de fabrication d'une pièce d'horlogerie dotée d'un élément d'habillage multi-niveaux |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018003158A JP2018003158A (ja) | 2018-01-11 |
JP6526748B2 true JP6526748B2 (ja) | 2019-06-05 |
Family
ID=56360304
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2017130236A Active JP6526748B2 (ja) | 2016-07-06 | 2017-07-03 | マルチレベル外側要素を備える計時器を製造する方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10301732B2 (ja) |
EP (1) | EP3266738B1 (ja) |
JP (1) | JP6526748B2 (ja) |
CN (1) | CN107587171B (ja) |
HK (1) | HK1248777A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP4206829A1 (fr) * | 2021-12-28 | 2023-07-05 | Montres Breguet S.A. | Elément d'habillage pour pièce d'horlogerie ou de bijouterie et procédé de fabrication d'un tel élément d'habillage |
Family Cites Families (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2594820A (en) * | 1947-04-10 | 1952-04-29 | Stern Charles | Process for manufacturing timepiece dials |
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JPH11323592A (ja) * | 1998-05-14 | 1999-11-26 | Athene Kk | 電鋳金属体およびその製造方法 |
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-
2016
- 2016-07-06 EP EP16178118.2A patent/EP3266738B1/fr active Active
-
2017
- 2017-07-03 US US15/640,650 patent/US10301732B2/en active Active
- 2017-07-03 JP JP2017130236A patent/JP6526748B2/ja active Active
- 2017-07-05 CN CN201710542563.7A patent/CN107587171B/zh active Active
-
2018
- 2018-06-29 HK HK18108417.8A patent/HK1248777A1/zh unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
HK1248777A1 (zh) | 2018-10-19 |
US10301732B2 (en) | 2019-05-28 |
EP3266738A1 (fr) | 2018-01-10 |
JP2018003158A (ja) | 2018-01-11 |
CN107587171B (zh) | 2019-10-15 |
US20180016686A1 (en) | 2018-01-18 |
CN107587171A (zh) | 2018-01-16 |
EP3266738B1 (fr) | 2019-03-06 |
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A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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R250 | Receipt of annual fees |
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R250 | Receipt of annual fees |
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