JP6697086B2 - 試料分析及び処理のための急速熱サイクル - Google Patents

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Description

本発明は、試料中の核酸の増幅反応を行う方法及び装置に関する。
ポリメラーゼ連鎖反応(PCR)は、分子生物学、食品安全及び環境モニタリングにとってますます重要になっている。多くの生物学研究者らが、その高い感度及び特異性のために、核酸分析に関する研究においてPCRを使用している。PCRの時間サイクルは、主に、DNA変性、アニーリング及び伸長のために試料を含む反応器を異なる温度に加熱及び冷却するのに適合した時間のかかるPCR熱サイクルプロセスのために、典型的には約1時間である。典型的には、熱サイクル装置及び方法は、その温度を核酸増幅反応に必要とされる目標温度に設定した2つの加熱槽の間で反応器を移動させることを使用する。研究者らは、熱サイクルの速度を上げるために常に努力してきた。
熱電クーラー(TEC)又はペルチェ式クーラーもまた、加熱/冷却素子として使用される。しかしながら、それは、反応器の温度を変化させるのにかなり遅い1〜5℃/秒の典型的な勾配率を提供し、不利なことに熱サイクルの時間を増加させる。
熱質量を減少させることによってPCR速度を増加させる試みとして、埋め込まれた薄膜ヒーター及びセンサを有する微細加工されたPCR反応器が開発され、74℃/秒の冷却速度及び約60〜90℃/秒の加熱速度でより速い熱サイクルを達成した。しかしながら、PCR装置を製造するためのそのようなウエハ製造プロセスは非常に高価であり、従って、生物学的試験における低コストの使い捨て用途の要件を満たすには実用的ではない。
TECベースの熱サイクラーよりも高い温度勾配を達成するために、閉鎖チャンバー内で反応器を交互にフラッシュする熱空気と冷空気が記述されている。しかしながら、熱伝達の観点から、空気は液体よりも熱伝導率及び熱容量がはるかに小さいため、空気サイクラーの温度勾配は液体の温度勾配よりも遅い。TECは、それ自体及びTEC上部のヒートブロックを加熱及び冷却するのにかなりの時間を必要とする。さらに、ヒートブロックと反応器との間の接触熱抵抗を克服する必要もある。
2つの異なる温度の水が反応器を交互にフラッシュしてPCR速度を達成する交互水洗サイクラーも開発された。しかしながら、このような装置は、メンテナンスの複雑さを増大させて信頼性を低下させ、同時に高温及び高圧を取り扱う、多くのポンプ、バルブ、及びチューブ式コネクタを含む。循環液体槽媒体とともに、液体は一般に槽から流出する。
従来の水槽PCRサイクラーは、効率的な温度加熱及び冷却を達成するために、水の高い熱伝導率及び熱容量を利用する。しかしながら、このようなサイクラーは、充填及び処分の管理が困難である大量の水を含む大型の加熱槽を有しており、また、熱サイクルが開始できるようになる前の目標温度への加熱時間を非常に長くする。このようなサイクラーはまた、大きな装置重量及び高い電力消費を有する。水は使用に伴って気化する傾向があり、補充する必要がある。さらに、熱サイクルの間、反応器が槽内に交互に挿入される度に、各槽から取り出す際に反応器本体に水の層が付着した状態で残り、それにより、反応器内部の温度変化が望ましくないことに遅くなる。
研究者らはまた、異なる温度の加熱ローラーを移動させて交互に反応器と接触させる試験を行った。しかしながら、長いチューブ式反応器の使用は、大量の反応器のアレイを設置及び操作するのを面倒にするだけでなく、費用がかかる。反応器が大量のアレイ又はパネルにある場合、全ての反応器の間で加熱の均一性を達成することは困難であり得る。
本発明は、複雑で高価な部品又は消耗品を使用することなく、手頃なコストにおいて超高速で核酸を熱サイクルすることを可能にする改善された方法及び装置を提供する。本装置は、頑丈で軽量で使い易く、槽内で少量の槽媒体を必要とし、1つの反応器から次の反応器への相互汚染を回避するために反応物質用の使い捨て反応器を取り扱うことができる。本発明は、生物学的分析に非常に有益な効果を提供する。
別段の指定がない限り、用語「含む(comprising)」及び「含む(comprise)」並びにその文法的変形は、それらが列挙された要素を含むだけでなく、追加の列挙されていない要素を含むことを可能にするような、「開かれた」又は「包括的な」言語を表すことを意図している。用語「第1の槽」、「第2の槽」・・・「第6の槽」は、順番に対応する槽の数を構成するのではなく、単にそれらが果たす目的に関して識別を容易にするための名前である。これらの槽は、それらの幾つかは共有し得るため、別個の物理的存在を表さないことがある。用語「熱処理」は、a)熱サイクルを含み、場合によっては、b)熱サイクルの前及び/又は後の熱処理ステップを含む。用語「熱プロファイル」は、a)のみの間、又はb)を伴うa)の間の反応器の温度−時間変化を指す。
第1の態様によれば、熱プロファイルにおいて核酸を熱処理する装置が提供され、本装置は、核酸を含む反応物質をそれぞれが収容する反応器を保持する反応器ホルダと、チューブ又はウェルプレート又はチップ又はカートリッジなどの任意の形態である反応器とを使用し、本装置は、第1の槽及び第2の槽であって、槽内の槽媒体はそれぞれ、2つの異なる温度THIGH及びTLOWで維持可能である、第1の槽及び第2の槽と、複数の熱サイクルで反応器を2つの槽内に配置し、所定の高い目標温度THTと所定の低い目標温度TLTとに交互に到達することを可能にする移送手段とを含み、さらに、本装置は、a)THTがTHIGHよりも低い、b)TLTがTLOWよりも高い、及びc)a)及びb)の条件、からなる群からの少なくとも1つの条件によって規定された温度オフセット特性に適合し、移送手段は、熱サイクル中に反応器温度センサによって感知されたリアルタイム温度に基づいて動作可能な温度誘導作動制御手段(TeGMCM;temperature guided motion controlling means)と、反応器が槽内に配置される時間周期に基づいて動作可能な時間誘導作動制御手段(TiGMCM;time guided motion controlling means)とからなる群からの少なくとも1つのモードによって動作可能であり、槽の何れかにおける槽媒体は、空気、液体、固体、粉末及びこれらの何れかの混合物を含む任意の相である。有利には、ここでは、ニュートンの法則の概念が用いられ、それは、本体の熱損失率が本体とその周囲との間の温度差に比例することを提示する。第1の槽の温度をTHTよりも著しく高いTHIGHに維持し、第2の槽の温度をTLTよりも著しく低いTLOWに維持することにより、反応器は熱サイクルを著しく高速に受けることができる。TiGMCMは、時間周期に対してユーザーが較正することができる。TeGMCMはより優れた自動化及び精度を可能にするが、非常に高速な温度サンプリング及び信号処理エレクトロニクス、反応器移送機構との高速データ通信、及び反応器移送機構内のモーターやアクチュエーターなどの非常に応答性の高い機械的動作部品を必要とする。他方、TiGMCMは、温度オフセットの程度に基づいたユーザーの較正を必要とするが、このような応答性の高い設備を必要としない。温度オフセット特性の有利な影響は、図12(a)及び(b)の実験グラフによって実証されており、ここでは、40サイクルの熱サイクルの時間が1/5に減少することが示されている。この時間の減少は、温度オフセットの程度を増大させることによって、さらに減少させることができる。
一実施形態によれば、第3の槽が設けられ、槽媒体は、3つのステップで反応器を熱サイクルするための中間温度TMEDIUMで維持可能であり、移送手段は、反応器を第3の槽内に配置し、所定の中間目標温度TMTに到達することを可能にする。TLTからのより速い加熱速度を達成するために、TMTはTMEDIUMより低くてもよく、THTからのより速い冷却速度を達成するために、TMTはTMEDIUMより高くてもよい。TMTは、TMEDIUMと同じに維持されてもよい。
一実施形態によれば、第4の槽が設けられ、槽媒体は、熱サイクル前に反応器に対する追加プロセスを可能にするために温度TAPで維持可能であり、追加プロセスは、逆転写ポリメラーゼ連鎖反応(RT−PCR)、ホットスタートプロセス及び等温増幅反応からなる群からの1つであり、移送手段は、反応器が追加プロセス目標温度TAPTに到達することを可能にし、TAPはTAPTと同じであるか、あるいはTAPTよりも高い又は低い。利点は、温度オフセット特性を使用する場合と同じである。これは、プロセスステップを統合する手助けをし、有利には、適切な温度設定とともに槽の共有も可能にし、それにより、装置の設置面積及び質量を減らす。
第1の槽内の槽媒体は、100℃を超える温度で維持可能であり、そのような高温に加熱することができる適切な槽媒体を用いて温度オフセット特性の利点をより有効に利用することができる。第2の槽内の槽媒体は、室温未満に維持可能であり、温度オフセットの利点をより有効に利用することができる。
一実施形態によれば、移送手段は、反応器の過熱又は過冷却を不必要に引き起こす動作上の電気機械的遅れを相殺するために、反応器がTHTよりも低い第1のリフトオフ温度及びTLTよりも高い第2のリフトオフ温度に到達する場合に反応器の槽からのリフトオフを開始するように較正される。
一実施形態によれば、本装置は、熱サイクルの間に任意の槽内の温度を変更する変更手段を含む。この特徴は、装置内の槽の数を減少させるのに非常に役立ち、それにより、装置の設置面積及び重量を減少させる。
HTは、核酸の変性のために85〜99℃の領域にあることができ、TLTは、核酸上へのプライマー又はプローブのアニーリング又はプライマー伸長のために、45〜75℃の領域にあることができ、第1及び第2の槽は、反応器を熱サイクルしてポリメラーゼ連鎖反応(PCR)の増幅又はプライマー伸長を達成するためのものである。
本装置は、熱プロファイルにおける温度安定化ステップのための第5の槽をさらに含んでもよい。温度プロファイルのために必要とされるならば、温度安定化ステップは目標温度のうちの1つにおけるものであり得る。
本装置は、反応器が槽の何れかの中又は槽の外側の空気中にある場合に核酸を分析するための、蛍光画像化手段又は電気化学的検出手段をさらに含んでもよい。
本装置は、槽媒体が40〜80℃で維持可能な液体又は熱空気である第6の槽をさらに含んでもよく、ここで、槽媒体及び槽壁の少なくとも一部は透明であり、光源からの照射光の透過及び反応器からの放出光の透過を可能にする。
HIGHとTHTとの間の第1のオフセットは、1〜400℃の範囲内にあり得、TLOWとTLTとの間の第2のオフセットは、1〜100℃の範囲内にあり得る。オフセットが高いほど、反応器によって達成される温度の変化が速くなり、それにより、熱サイクルの速度が増加する。
第1の槽内の槽媒体は、混合物中の温度を沸騰させずに100℃を超える温度などのより高い値に維持できるように、より高い沸点を有する第2の液体に添加された第1の液体であってもよい。
本装置は、反応器を槽内に配置することを許容するように開口し、反応器が槽から除去された後に閉じる、槽カバーをさらに含んでもよい。この特性は、周囲に曝された状態の際に失われるか又は得られる熱を減らすことによって、エネルギーを節約するのに役立つ。装置の他の部分もまた、特にTHIGHが周囲温度よりもはるかに高い値に設定されている場合に、加熱されないようにされる。このことはまた、槽媒体の気化及び装置の周囲部分の汚染を減少させる。
本装置は、槽媒体の温度を監視する槽温センサと、熱サイクル中に反応器ホルダとともに移動して反応器のリアルタイム温度を監視することができる反応器温度センサとを含む。本装置はさらに、反応器温度センサを封入する物質を含む容器を含んでもよく、その容器及び物質は、反応器及び反応物質と同様の構成又は熱伝達特性を有し、従って、反応器温度センサによって感知される温度は、如何なる瞬間においても、反応器内の反応物質の温度に近い。
本装置はさらに、反応器を受け入れて、熱サイクル後に融解曲線分析を行いながら徐々に加熱されることができる、第7の槽を含むことができる。これは、プロセスステップを統合するのに役立ち、特に槽共有に関して有利である。
第2の態様によれば、装置の請求項に対応する方法の請求項が提供される。
本発明は、核酸の熱サイクル及び分析のプロセス全体を、槽の加熱準備から反応器の熱サイクル及び蛍光シグナルの取得まで数分の非常に短い持続時間で完了させることを可能にする。本発明は、槽共有の範囲を提供する。
以下の図面では、同じ参照番号は通常、全体を通して同じ部分を指す。図面は縮尺通りではなく、概念を説明することに重点が置かれている。
本発明による核酸を含む反応物質の熱サイクルのための設備の一実施形態の概略図である。 本発明に使用可能な例示的なバイオチップに収容されている反応器の斜視図である。 粉末槽媒体に特に適した不透明チューブ状反応器を有する照明及び蛍光発光検出モジュールを例示するための断面図である。 図1における熱サイクルのプロセスのための装置の一実施形態の等角図である。 図2における装置の光学モジュールを有する反応器アレイ及び槽の一実施形態の等角図である。 一実施形態による、融解曲線分析を伴う典型的な2ステップ熱サイクルプロセスの例示的なグラフ表示である。 一実施形態による、融解曲線分析を伴う典型的な3ステップ熱サイクルプロセスの例示的なグラフ表示である。 加熱速度に対するニュートンの法則のグラフ表示である。 冷却速度に対するニュートンの法則のグラフ表示である。 先に説明した装置を使用しているが温度オフセット特性を使用していない、熱サイクルの40サイクル中の時間による実験的な反応器温度変化のグラフ表示である。 先に説明した装置及び温度オフセット特性を使用した、熱サイクルの40サイクル中の時間による実験的な反応器温度変化のグラフ表示である。 本発明の一実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 本発明の一実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 本発明の一実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 本発明の一実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 本発明の一実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 本発明の様々な実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するための模式的断面図である。 本発明の様々な実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するための正面断面図である。 図8a及び図8bによる温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 温度オフセット特性の概念を説明するためのグラフ表示である。 本発明の様々な実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するための模式図である。 本発明の様々な実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するための模式図である。 本発明の様々な実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するための模式図である。 本発明の様々な実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するための模式図である。 本発明の様々な実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するための模式図である。 本発明の様々な実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するための模式図である。 本発明の様々な実施形態による温度オフセット特性の概念を説明するための模式図である。
以下の説明は、当業者が本発明を作製し使用できるように、本発明の幾つかの好ましい実施形態を十分に詳細に提示する。
図1aは、例えばPCR、プライマー伸長又は他の酵素反応などのための、核酸を熱サイクルする熱サイクル装置の一部の一実施形態の概略図を示す。本装置は、槽媒体75を含む2つの槽50及び51を有する。各槽50又は51は、槽媒体75の温度を制御することができるように、槽表面に沿って取り付けられた槽ヒーター17及び槽温センサ39を有する。別の実施形態によれば、槽温センサ39を槽50、51の内部に配置することができる。槽50は変性のステップに適していることがあり、槽51はアニーリング及び/又は伸長のステップに適していることがある。クーラー16は、槽51を室温未満に積極的に冷却する必要がある場合に有用である。ここに示される槽媒体75は液体であるが、任意の他のタイプの流体又は粉末又は固体槽媒体75を使用することもできる。幾つかの実施形態では、槽51を加熱する必要がない場合、低温槽51上の槽ヒーター17は任意である。熱サイクルのために、反応器15は、槽50、51の間で複数回交互に移送される。反応器15の槽媒体75内への高速押し込みを可能にするために、ガラスキャピラリーなどの細い反応器15が好ましい。反応器15はシーラント又はキャップ77で密閉されており、ここでは反応器15の一部は透明であり、色素又はプローブの励起及び蛍光画像化のための光の通過を可能にする。温度監視ユニット34は、反応器ホルダ33上に取り付けられており、反応器15とともに槽50、51間を移動する。温度監視ユニット34は、内部に高速応答温度センサ38を含む。温度監視ユニット34は、反応器15と同様の形状を有し、反応器15と同様又は同一の定常状態及び過渡的な熱特性を有するように構成されており、温度読取り及び熱応答についても、別の反応器15自体がその目的のために使用されない限り、反応器15と同様又は同一である。例えば、温度監視ユニット34は、水又は油又は水の上の油の層22内に挿入され密閉された、高速応答温度センサ38を有することができる。1つの反応器15のみが示されているが、他の実施形態によれば、反応器ホルダ33は、複数の反応器15を収容することができる。反応器15は、図示のようなチューブ状形態であってもよいし、ウェルプレート又はチップ又はカートリッジの形態であってもよい。反応器移送機構85は、反応器15及び温度監視ユニット34を槽50、51の間で高速で移送し、熱サイクルで必要とされる槽50及び51内の異なる温度にそれらを交互に曝す。反応器移送機構85には、多くの可能な設計がある。そのような機構の1つは、反応器15及び温度監視ユニット34を槽50、51の上部の領域に到達させるためのX軸線形ガイド87に沿って移動するXステージ86と、反応器15を下方に移動させて槽媒体75に入れるか又は槽媒体75から引き抜くためのZ軸線形ガイド89に沿って移動するZステージ88とからなる。このような移送機構85はまた、Z軸線形ガイド89に沿って移動するZステージ88とともに、反応器15及び温度監視ユニット34を角度方向に移動させる回転アーム(図示せず)から構成することもできる。反応器15は、反応物質21を充填するための開口部を有し、その開口部は密閉可能である。シーラント77は、熱サイクル中に固相であるシリコーンゴム又はUV硬化ポリマー、ホットメルト及び/又はワックス及び/又はゲルで作製することができる。密閉はまた、油、粘性ポリマー、及びゲルなどの液体を使用して達成することもできる。高粘性の液体は、反応器15の開口部及び/又は上部に適用することができ、反応物質21から発生した蒸気の漏出を阻止することができる。蛍光画像化のための構成は、当技術分野において見られるような任意の形態であり得る。図1bは、反応器15の別の実施形態による、槽とともに使用するためのカード31に収容されている反応器15の斜視図である。チャネル315のネットワークを介して反応器15と流体連通する少なくとも1つの入口313がある。試験されるべき反応物質21は、続いて反応器15内に流入する入口315内に充填することができる。図1cは、特に反応器15が不透明な反応器15で作製されている場合の一実施形態を示す。蛍光画像化のために、光ファイバ309は、LEDなどの照明光源(図示せず)からの光を反応器15内の反応物質21に伝達する。光ファイバ310は、反応物質21から光検出器(図示せず)への光伝送のためのものである。シーラント又はキャップ77は、光ファイバ309、310を保持する。代替的に、図3に示すように、透明な槽媒体75を有する少なくとも部分的に透明な槽を用いて、少なくとも部分的に透明な反応器15に対して画像化を行うこともできる。場合によっては、反応器15が何れかの槽の外側にある場合に画像化を行うことがある。反応器15が槽媒体75の内部にある間の反応器15の蛍光画像化は重要であるが、なぜなら、反応器15は、多重検出のため又は対照遺伝子の蛍光画像を取得するために異なる波長の複数の画像を撮る場合に、長時間にわたってアニーリング又は伸長温度に維持しなければならないことがあるからである。反応器15の少なくとも一部は、色素又はプローブの励起及び蛍光画像化のための光の通過を可能にするため、透明である必要がある。
図2は、反応器移送機構85を有する装置の等角図を示し、ここで、光学モジュール206は反応器15内の核酸の蛍光検出を行い、温度制御モジュール205は槽温を制御し、作動コントローラ207は全ての作動を制御し、システムコントローラ208は、データ通信及び処理、画像処理及びデータ分析を用いてシステムを制御する。槽モジュール204は、互いに隣接して配置されてそれぞれが所定の温度に維持される、5つの槽50、51、52、53、54を備えるように示されている。光学モジュール206において、反応器15は、この実施形態では、槽媒体75として空気又は透明液体を有する低温槽51内に配置されている。逆転写ポリメラーゼ連鎖反応(RT−PCR)、ホットスタートプロセス及び等温増幅反応などの追加プロセスもまた、熱サイクルのための槽の何れかで行うことができ、それを、熱サイクル前に温度TAPに設定し、上記の追加プロセスの完了後に熱サイクルのための温度に再設定することができる。図3は、槽モジュール204及び光学モジュール206の拡大図を示す。温度監視ユニット34を有する反応器15のアレイは、槽50〜54の間で移送される。この実施形態では、槽51は、矢印の光線経路で示されるような反応器15への照射光及び反応器15からの放出光を通過させる底部の透明な窓25とともに、槽媒体75として空気又は透明液体を有する。槽ヒーター17又はクーラー16は、槽の側壁に接続されている。本装置はさらに、特に画像化の間に反応器15を配置するための熱空気ゾーン(図示せず)を含んでもよい。これは、装置を単純化する。槽の上部又は槽の内部に熱空気ゾーンを形成するために、電気ヒーター又は赤外ヒーターが存在してもよい。ヒーターは好ましくは、反応器ホルダ33に取り付けられ、従って、反応器15が槽の間を移動する間に反応器15の周辺の空気のみが加熱される。この特徴は、エネルギーを節約し、装置の他の部分が望ましくなく加熱されることを防ぐ。複数の槽50〜54は、必要に応じて、熱サイクル及び熱サイクル前後のステップに対する熱プロファイル下で使用され得る。熱サイクルに対する3ステップの熱プロファイルにおいて、反応器15は各熱サイクル内で3つの槽内に挿入される。槽50と槽51との間に、温度監視ユニット34を有する反応器15を中温の第3の槽に挿入してもよいし、アニーリング及び/又は伸長に必要とされる時間の間、熱空気中に配置してもよい。熱サイクル前に、温度監視ユニット34を有する反応器15を第4の槽に挿入してもよく、すなわち、核酸増幅のための熱サイクルの前の追加処理などに対する所定の温度に維持してもよい。追加プロセスは、逆転写ポリメラーゼ連鎖反応(RT−PCR)、ホットスタートプロセス及び等温増幅反応からなる群からのものであり得る。熱サイクル後に槽を用いて、融解曲線分析を行ってもよい。
図4aは、典型的な2ステップ熱サイクルプロセスと、それに続く融解曲線分析との、例示的な時間−温度グラフ表示である。2つの槽を使用した変性及びアニーリングのプロセスに関して、3サイクルのみが示されている。熱サイクルの後、反応器15は、少なくとも部分的に透明な槽媒体75内に配置され、それは、融解曲線分析を行いながら、徐々に加熱される。反応器15からの蛍光シグナルは、複数の温度で取得され、融解曲線分析のための蛍光−温度曲線を形成する。熱サイクルの速度は、温度オフセット特性によって反応器15の温度の上昇及び下降を増大させることによって増大され、ここで、第1の槽50内の槽媒体75の温度は、変性のための温度又は高い目標温度THTよりも著しく高い温度THIGHに維持され、第2の槽51内の槽媒体75の温度は、アニーリングのための温度又は低い目標温度TLTよりも著しく低い温度TLOWに維持される。この特徴は、「物体の温度の変化率は、それ自身の温度と周囲温度(すなわち、その周りの温度)との差に比例する」というニュートンの冷却の法則を有利に用いる。図4bは、典型的な3ステップ熱サイクルプロセスと、それに続く融解曲線分析との、例示的な時間−温度グラフ表示である。3つの槽を使用した変性、アニーリング及び伸長のプロセスに関して、3サイクルのみが示されている。熱サイクルの後、図4aに記載したように融解曲線分析を行う。ここで、図4aに記載された温度オフセット特性はさらに第3の槽52にも拡張され、そこでは、槽媒体75の温度は、伸長のための温度又はTMTよりも著しく高い温度TMEDIUMに維持される。融解曲線分析のための槽媒体75は、空気又は透明な液体であってもよく、槽は透明な窓25を有する必要があり、ともに低い自己蛍光を有することが必要とされる。
図5aは、周囲温度が温度THIGHである場合に温度TLTの物体が時間t1において温度THTまで加熱されることが示されているこの法則を示しており、ここでTHIGH>THTである。周囲温度が温度THTである場合、温度TLTの同じ物体は時間t2において温度THTまで加熱されることが示されている。図示のように、t1<t2であり、このことは、周囲温度が高いほど加熱速度が速いことを示している。図5bは、周囲温度が温度TLOWである場合に温度THTの物体が時間t3において温度TLTまで冷却されることが示されているこの法則を示しており、ここでTLOW<TLTである。周囲温度が温度TLTである場合、温度THTの同じ物体は時間t4において温度TLTまで冷却されることが示されている。図示のように、t3<t4であり、このことは、周囲温度が低いほど冷却速度が速いことを示している。従って、THIGHを変性のための温度よりも著しく高く維持し、TLOWをアニーリングのための温度よりも著しく低く維持することによって、反応器15の温度の変化率は熱サイクルの間に著しく増大し、それにより、熱サイクルは著しく速くなる。
図4a及び図4bで説明したように、温度オフセットを使用する概念は、必要に応じて、任意の数の槽を使用する熱サイクルの任意のステップで使用することができる。温度オフセットを維持するこの特徴は、加熱ステップのみ、又は冷却ステップのみ、又は両方のために選択的に使用することができる。高温槽50内の液体槽媒体75は、反応器温度の上昇をより速めるために、100℃の水よりも高い沸点を有することができる。
図6(a)は、先に説明した装置を使用しているが、THIGH=THT=95℃及びTLOW=TLT=60℃を維持することによって温度オフセット特性を使用していない、熱サイクルの40サイクル中の時間による実験的な反応器温度変化のグラフ表示を示す。時間軸から分かるように、40回の熱サイクルに要した時間は1450秒である。図6(b)は、先に説明した装置を使用し、THIGH=120℃、THT=95℃、TLOW=25℃及びTLT=60℃を維持することによって温度オフセット特性を使用した、熱サイクルの40サイクル中の時間による実験的な反応器温度変化のグラフ表示を示す。時間軸から分かるように、40回の熱サイクルに要した時間は300秒である。従って、温度オフセット特性により、熱サイクルにかかる時間は約1/5に短縮されている。これは、約25分が5分に短縮されるため、非常に有意な改善である。この場合、槽を交換する際の電気機械的システムの遅れのために、高温槽50及び低温槽51の両方に僅かなオーバーシュートが観察される。このようなオーバーシュートは、目標温度に到達する少し前に槽50、51から反応器15をリフトオフして遅れを相殺するように装置を較正することによって、回避することができる。
一実施形態によれば、反応器15の急速加熱を可能にするために、高温槽50内の液体槽媒体75は、125℃、典型的には約95℃であるDNA変性のための高い目標温度THTを超える温度に著しく過熱される。100℃を超える場合に液体の良好な熱伝導率を維持しながら液体沸騰を回避するために、混合比が70:30以上であるグリセロールと水との混合物を使用することができる。反応器15の急速冷却を可能にするために、低温槽51内の液体は、典型的には約58℃であるDNA分子のアニーリング及び/又は伸長のための低い目標温度TLT未満まで、著しく冷却される。例えば、低温槽51内の液体は、室温が20℃である一方、10又は30℃に維持されてもよい。反応器15は、少なくとも1つの核酸分子と、分析用試薬とを有する反応物質21を含む。
反応器15を槽50〜54内に、対応する槽の温度に関係なく対応する目標温度が実質的に得られるまで滞留させるための装置には、温度誘導作動制御手段(TeGMCM)又は時間誘導作動制御手段(TiGMCM)(図示せず)が使用される。反応器15が温度監視ユニット34によって感知されたように目標温度にまさに到達しようとしている際に、反応器15を槽から取り除く際の何らかの操作上の電気機械的遅れによる反応器15の過熱又は過冷却を回避するために、TeGMCM/TiGMCMに事前信号が提供され得る。これは、反応器15によって得られる所定の目標温度のより良い精度を維持する手助けをする。有利には、TeGMCM/TiGMCMを用いて、槽内に滞留されている時間に基づいた複数レベルの温度を反応器15が得ることを可能にすることによって、装置内で必要とされる高温槽及び低温槽の数を減少させることができる。しかしながら、任意の温度レベルでの安定化のためには、その温度の専用槽が必要とされる。
オーバーヒート法及びアンダーヒート法を用いた上記の温度オフセットは、反応器15の温度の上昇/下降をより速くする。この節では、式(1〜7)を含む理論について説明する。作動中の1つのタイプの反応器15は、反応物質を含むチューブを含む。チューブ及び反応物質21は、異なる熱特性及び他の物質特性を有する。熱サイクル中の槽媒体75に浸漬された反応物質21を充填した反応器15の熱伝達特性を説明するために、浸漬された反応物質21を充填した反応器15を、外表面積As、半径R、長さL、浸漬されたシリンダの容積V、熱容量cを有する均質物質からなるシリンダとして近似する。熱サイクル中に、高温槽に浸漬されたシリンダを、シリンダが高温槽に入る際のTLTからTHTに加熱する時間を推定するために、シリンダの平均表面温度Ts,avgを使用することによって、ニュートンの冷却の法則から平均熱伝達率Qavg(実際には、Qの上にはドットが付く。以下の[数1](式(1))参照。)を決定する[文献1:Y.A.Cengel及びA.J.Ghajar、Heat and Mass Transfer:Fundamentals and Applications、第5版、In SI Units by McGraw−Hill Education、2015年]。すなわち、[数1](式(1))であり、ここで、THIGHは高温槽内の槽媒体の温度であり、Ts,avg=(TLT+THT)/2である。高温槽内のオーバーヒートスキーム下で、THIGH>THTである。注記:TLTの一例はPCRでのアニーリング温度であり、THTの一例はPCRでの変性温度である。
次に、シリンダから伝達される全熱を決定するが[文献1]、それは単に、それがTLTからTHTに加熱される際のシリンダのエネルギー変化である:
tоtal= Vc(THT−TLT) ・・式(2)
この計算では、シリンダ全体がシリンダの領域にわたって均一の温度であると仮定した。この仮定では、シリンダをTLTからTHTに加熱する時間Δtは、以下の[数2](式(3))であると決定される。上記の仮定のために、式(3)は正確な温度値をもたらさないが、シリンダを加熱する時間に影響を及ぼす因子を明らかにする。
式(3)の熱伝達係数hは、熱媒体と反応器との相対速度に関係しており、それは、シリンダを横切る外部流れにおける対流熱伝達の以下の分析から得ることができる[文献1]:
シリンダを横断する流れの平均ヌッセルト数は、
Nu=CR ・・文献1の式(7−37)
と簡潔に表すことができ、ここで、定数C、m、及びnは、R=ρvD/μとして定義されるレイノルズ数Rに関係し、ここで、Dはシリンダの直径であり、ρは槽内の液体の密度であり、μは槽内の液体の動粘度であり、vは熱媒体と反応器との相対速度である。
例えば、Rが40〜4,000の範囲にある場合、式(7−37)は、
Nu=0.683R 0.466 1/3 ・・式(4)
と書き直すことができ、それは文献1の表7−1に示されている。
Nu=hD/kであり、hはシリンダ表面における熱伝達係数であり、Dはシリンダの直径であり、kは槽内の液体の熱伝導率であるため、式(4)は、以下の[数3](式(5))と書き直すことができる。
式(5)を式(3)に挿入して、以下の[数4](式(6))を得る。
式(6)は、オーバーヒート戦略を実施する利点を示している:すなわち、オーバーヒート(過熱)された槽の温度Tが高いほど、シリンダをTLTからTHTに加熱する時間Δtが短くなる。実験的に、図5aは、オーバーヒートされた槽の温度THIGHが95℃の温度から115℃に上昇する場合、反応器15が50℃(TLT)から95℃(THT)に到達する時間t1は、槽媒体75が95℃に設定されている場合に反応器15が95℃(THT)に到達する時間t2よりもはるかに短いことを示す。
同様に、シリンダをTHTからTLTに冷却する時間Δtは、以下の[数5](式(7))であると決定される。
式(7)は、アンダーヒート戦略を実施する利点を示している:すなわち、アンダーヒートされた槽の温度TLOWが低いほど、シリンダをTHTからTLTに冷却する時間Δtが短くなる。実験的に、図5bは、アンダーヒートされた槽の温度TLOWが50℃の温度から20℃に低下する場合、反応器15が95℃(THT)から50℃(TLT)に到達する時間t3は、槽が50℃に設定されている場合に反応器15が50℃(TLT)に到達する時間t4よりもはるかに短いことを示す。
上述の装置を用いて急速熱サイクル及び核酸処理を行うための様々な例示的方法を以下に記載する。高温槽50と低温槽51との間で反応器15を交互に移送することによって熱サイクルを行う場合、図7(a)は、高温槽50内のオーバーヒート特性を使用する本発明の方法の好ましい実施形態における反応器温度変化曲線200(点線の曲線)と、高温槽50内のオーバーヒート法を使用しない別の実施形態における温度変化曲線300(破線の曲線)とを示す。従って、熱サイクルの間、反応器15の温度上昇率は、曲線300よりも曲線200においてより速い。ここで、高温槽50は、変性温度に必要とされるようなTHTよりも高い温度THIGHに設定され、低温槽51は、アニーリング及び/又は伸長に適したTLTに設定される。槽がそれぞれの槽温THIGH及びTLTに加熱された後、反応器移送機構85は反応器15を高温槽50に移送し、ホットスタートステップに適切な温度の別個の槽を必要としてもしなくてもよいホットスタートステップの有無にかかわらず、PCR又は他の増幅反応のための熱サイクルを開始する。一旦曲線200又は300に対応する反応器温度が高温槽50においてTHTに到達すると、反応器移送機構85は反応器15を引き出し、低温槽51にそれらを移送して反応器15をTLTに到達させ、続いて、反応器15を熱サイクルのために高温槽50に移送し戻す。この実施形態では、反応器15は、核酸増幅に必要とされる滞留時間tと呼ばれる時間の間、槽51内に留まることができる。一旦槽51内で滞留時間tに到達すると、反応器移送機構85は反応器15を槽51から持ち上げて槽50に移送し、熱サイクルを継続する。同様の滞留時間を高温槽50(図示せず)に適用することもできる。一実施形態では、滞留時間tは、図1aに示すように反応器ホルダ33とともに移動する装置内の反応器温度監視ユニット34によって測定することができる。しかしながら、この方法は実施するのに費用がかかることがある。反応器15が槽内に突入すると、反応器の温度曲線200又は300は、毎秒40℃〜90℃などの非常に高率で変化することがある。反応器移送機構85によって反応器15を持ち上げるタイミングを正確に制御するためには、超高速温度サンプリング及び信号処理エレクトロニクス、反応器移送機構85との高速データ通信、及びモーター及びアクチュエーターなどの非常に応答性の高い機械的作動部品が反応器移送機構85において必要とされる。しかしながら、実際上、このような高速電子装置は、本発明の装置を製造する特定の存在に対して利用可能でないか、又は費用がかかりすぎることがある。別の実施形態では、滞留時間tは、反応器15が槽内に浸漬された瞬間から数えられる。例えば、反応器15が浸漬後1秒以内に目標温度TLT又はその近傍に到達し、目標温度TLT又はその近傍に3秒間留まると仮定すると、反応器15は、槽から取り出される前に、4秒間槽内に浸漬される。この方法は重要であるが、なぜなら、高速の温度サンプリング、処理及びデータ通信が可能な如何なる装置も必要とせずに、低コストで実施できるからである。同様の超急速加熱及び冷却は、様々な形状のプラスチック及び金属反応器15においても観察される。プラスチック反応器15では、熱電クーラーなどの能動的冷却装置を使用して、室温よりも実質的に低いTLTを特に使用する。本装置は、必要に応じて、ユーザーが条件THIGH=THT又はTLOW=TLTを選択することを可能にし得る。
図7(b)は、高温槽50でのオーバーヒートと、低温槽51でのアンダーヒートとを使用して熱サイクルを実施する方法を記載する。低温槽51内の温度TLOWはTLT未満に設定されるため、低温槽51における反応器15と槽媒体75との間の熱伝達ははるかに強く、反応器15のより急速な冷却をもたらす。反応器温度がTLTに到達すると、反応器移送機構85は反応器15を直ちに持ち上げ、それらを高温槽50に移送し、熱サイクルを継続する。図7(c)はさらに、THTの上方及びTLTの下方で反応器温度がオーバーシュートする熱サイクル法を記載する。この方法により、反応器15は、変性のためにより長い時間tにわたってTHTの近傍に留まることができ、及び/又はアニーリング及び伸長のためにより長い時間tにわたってTLTの近傍に留まることができる。図7(d)に示す別の実施形態では、反応器15がTLTの近傍の温度に到達した後、反応器15を低温槽51から空気のゾーンに移動させて、PCRにおけるアニーリング及び/又は伸長などの核酸分析に必要とされる時間にわたって反応器温度13をTLTの近傍に維持し、次いで、反応器15を高温槽50に移動させて熱サイクルを継続する。赤外線ヒーター、熱空気を吹き付けるファン、電気抵抗線ヒーターを用いて空気ゾーン内の空気を加熱し、低温槽51の近くに加熱空気ゾーンを設けるか、又は室温の単純な空気ゾーンとすることができる。加熱空気ゾーンを、高温槽50又は低温槽51の何れかの中の槽媒体75の上方に生成して、槽50、51内の閉じた空間を利用して反応器温度13をより良好に維持することもできる。加熱空気ゾーンはまた、高温槽50又は低温槽51の何れかの開口部における槽媒体75の上方に生成されてもよい。THTを所定の時間維持するために、高温槽50にも同様の戦略を適用することができる。
図7(e)に示す別の実施形態では、反応器15が低温槽51内でTLT未満に到達した後、反応器移送機構85が反応器15を槽51から加熱空気ゾーンに移動させ、TLTを超える温度に反応器15を加熱し、続いて反応器15を低温槽51内に移動させて反応器15をTLT未満に冷却し、この操作を必要な回数繰り返し、アニーリング及びプライマー伸長のためにTLT近傍の振動温度変動を発生させる。所定の時間THTを維持するために、冷却空気ゾーンを使用することによって、高温槽50にも同様の戦略を適用することができる。
図8(a)は、TLT未満の温度35に維持された1つのアンダーヒート槽61を使用して反応器15を急速冷却することによる熱サイクルの別の実施形態を示す。次いで、反応器15を低温槽51に移動させて、反応器温度13をTLTの近傍に維持する。反応器移送経路56に沿った熱サイクルの間、反応器15は過熱状態であり得る高温槽50を出て、アンダーヒート槽61内に移動してTLTの近傍に急速に到達し、次いで低温槽51内に移動し、必要とされる時間TLTを持続し、熱サイクルのために反応器15を高温槽50に移動し戻す前に、リアルタイム定量PCRを行うために反応器15の蛍光画像化を行う。上述した熱サイクルの各サイクルでの反応器15の蛍光画像化は、あらゆる用途に必要でないことがある。幾つかの用途では、核酸分析の合計時間を短縮するために、反応器15の蛍光画像化を数サイクルごとに行うことができる。反応器15の蛍光画像化は、エンドポイントPCR検出を行うために、熱サイクルの終わりに行うことができる。図8(b)は、本実施形態における高温槽50、アンダーヒート槽61、及び低温槽51の概略図を示す。また、アンダーヒート槽61を室温未満に冷却することもできる。アンダーヒート槽61の温度が低いほど、反応器15のTLT近傍への冷却は速くなる。反応器15をアンダーヒート槽61から移動させる前に、反応器温度13はTLTと同じであってもよく、それより低くてもよく、それより高くてもよい。低温槽51に移送する前にアンダーヒート槽61において反応器15をTLTちょうどに冷却することは困難であり得る。このような困難性には、温度センサからの高いサンプリングレートが可能な温度コントローラの利用可能性、高速温度信号処理、通信ポートを介した温度コントローラ又は信号処理コントローラへの高速温度データ転送、反応器15を低温槽51の外に移動させる作動機構の遅れなどが含まれる。従って、低温槽51に移送する前に、アンダーヒート槽61において、TLTよりも0.5〜5℃低いか又は高い温度範囲であるTLTの近傍に冷却された反応器15を有することが現実的である。反応器15をアンダーヒート槽61から低温槽51に移動した後にTLTに到達する温度変化を速めるために、低温槽51をTLTと異なる温度に設定することができる。例えば、温度35のアンダーヒート槽61において反応器15をTLT未満に冷却する場合、図8(c)に示すように、低温槽51における温度14をTLTより高く設定することができる。同様に、アンダーヒート槽61において反応器15をTLTよりも高い温度に冷却する場合、低温槽51における温度14をTLTより低く設定することができる。具体的には、低温槽51内の温度をTLTの近傍にすることができる。アンダーヒート槽61内の槽媒体温度の選択は、反応器15の熱伝達特性に応じて変えることができる。例えば、ガラス又は金属材料からなる反応器15の場合、アンダーヒート槽61の温度35を室温又はその近傍に設定することができ、一方で、プラスチックからなる反応器15の場合、アンダーヒート槽61の温度35を室温よりも実質的に低く、又は室温に設定することができる。上記の温度設定はまた、反応器15の容積及び反応器15の壁厚にも依存する。大型反応器15及びプラスチックからなる反応器15の場合、熱電クーラー又は再循環液体冷却システムによってアンダーヒート槽61を積極的に冷却し、0℃を僅かに超える温度から20℃までなどの非常に低い槽温を達成することができる。凍結防止剤の使用又は塩の使用により、アンダーヒート槽61においてサブゼロ液を使用して反応器の冷却速度をさらに高めることができる。上記の非常に強いアンダーヒート又は冷却手段は、プラスチック反応器15を急速に冷却するだけでなく、ガラス又は金属又はプラスチック−金属反応器15を急速に冷却する。さらに、図7(c)に示す熱サイクルスキームがTHTへの急速加熱のためにオーバーヒート槽を組み込む場合、熱サイクルプロセス全体をさらに短縮することができる。さらに、反応器15をアンダーヒート槽61から低温槽51に移送した後の時間を短縮するために、低温槽51をTLTよりも高い温度に設定することができ、それにより反応器温度がTLTを超えて上昇し、必要とされる時間TLTの近傍に到達することを可能にするか、又は、図6(e)に示すプロセスと同様にアンダーヒート槽61と低温槽51との間で反応器15の循環移送を行い、必要とされる時間TLTの近傍に到達することを可能にする。上記スキームにおいて、アンダーヒート槽61は、室温又は室温未満又は室温を超える温度に維持することができる。図7(a、b、c)に示す時間にわたって反応器温度13を目標温度に維持する同じ戦略を、反応器温度13を一定時間にわたってTHTに維持するために、高温槽50にも適用することができる。
図9(a)は、安定化槽の配備を伴う実施形態(3ステップPCR)を記載する。反応器温度13は、温度THIGHに設定された場合に、高温槽50内で上昇する(82)。反応器温度13は、反応器15がTHTの安定化槽内にある場合、安定化する(92)。反応器温度83は、温度Tに設定された低温槽51内で下降する。反応器温度13は、反応器15がTLTの安定化槽内にある場合、安定化する(93)。反応器温度13は、TMEDIUMの中間温度に上昇する(84)。反応器温度94は、反応器15をTMTに維持するための安定化槽内に反応器15がある場合である。図9(b)は、3ステップPCRの別の実施形態であり、図8(a)においてTHT及びTLTの安定化槽を配備しないような実施形態を記載する。図9(c)は、安定化槽を配備した3ステップPCRの別の実施形態を記載し、ここで、異なる槽内の槽媒体75は異なる。例えば、高温槽50内の槽媒体75は、熱伝導性粒子であってもよいし、100℃を超えるような高い蒸発温度を有する液体であってもよく、低温槽51の槽媒体75は純水である。反応器温度13は、温度THIGHに設定され、金属粉末又は液体を含む場合に、高温槽50内で上昇する(82)。反応器温度13は、温度TLOWに設定され、金属粉末又は液体を含む低温槽51内で下降する(83)。反応器温度13は、金属粉末又は液体を含む温度TMEDIUMに設定された中温又は高温槽内で上昇する(84)。反応器温度13は、反応器15を中間目標温度TMTに維持するための安定化槽であって、金属粉末又は液体又は加熱空気を含む安定化槽内で反応器15が安定化している(94)場合である。反応器温度13は、反応器15の少なくとも1つの蛍光画像を撮影するために、加熱空気を含む別の安定化槽又は安定化槽の外側の空気ゾーンで反応器15が安定化している(95)場合に達成される。図9(d)は、槽を温度TMEDIUMに設定せず、安定化(94、95)をTLTで行う図8(c)の方法を示す。
図10(a)は、熱サイクル中に反応器15を移送する経路56にオーバーヒート槽60を追加してオーバーヒート槽60内のTHTへの温度勾配を速める、別の実施形態を示す。熱サイクルの間、反応器15は低温槽51を出てオーバーヒート槽60内に移動してTHTの近傍に急速に到達し、次いで高温槽50内に移動して、低温槽51に移動し戻す前に、場合によっては低温槽51に移動する前にアンダーヒート槽61を介して、必要とされる時間にわたってTHTの近傍を持続する。オーバーヒート槽60の温度が高いほど、反応器15のTHT近傍への加熱は速くなる。好ましくは、オーバーヒート槽60内の温度は、100℃と135℃の間である。図7a〜cに記載された槽の設定及び温度制御と同様に、高温槽50をTHTとは異なる温度に設定することができる。具体的には、高温槽50内の温度をTHTの近傍又は外側にすることができる。図10(b)は、図9(a)の実施形態から高温槽50を取り除いた別の実施形態を示す。この実施形態における熱サイクルの間、反応器15は低温槽51を出て、オーバーヒート槽60内に移動してTHTの近傍に急速に到達し、次いで低温槽51に移動し戻し、場合によっては低温槽51に移動する前にアンダーヒート槽61を介する。
図11(a)は、3ステップPCRを含む3つの温度を含む生物学的又は生化学的反応を実施する方法を示しており、3つの加熱槽が熱サイクルのための反応器15を移送する経路56内に取り付けられている。3つの槽は、変性のための高温槽50、プライマー伸長のための中温槽52、及びアニーリングのための低温槽51を含む。図11(b)は、追加のアンダーヒート槽61を低温槽51の前に熱サイクル経路56内に任意に追加すること、及び、それぞれ中温槽52及び高温槽50の前にオーバーヒート槽60を熱サイクル経路56内に任意に追加することを示す。図11(c)は、図10(b)に示す実施形態を変形した実施形態を示しており、中温槽52の前に加えられたオーバーヒート槽60が熱サイクル経路56から取り除かれている。この実施形態における熱サイクルの間、反応器15は低温槽51を出て、高温槽50のために設定されたオーバーヒート槽60に入るか、又は破線において高温槽50に入り、図8(a)に示すように中間目標温度5の近傍に急速に到達し、次いで中温槽52に移動して、伸長のために必要とされる時間にわたって中間目標温度5で安定化される。一旦伸長が完了すると、反応器15はオーバーヒート槽60に移動してTHTの近傍まで急速に到達し、次いで、低温槽51に移動し戻す前に、又は場合によっては低温槽51に移動する前にアンダーヒート槽61を介して、変性のために必要とされる時間、高温槽50に移動する。図11(d)は、図10(c)に示す実施形態を変形した実施形態を示しており、低温槽51及び高温槽50が移動されている。この実施形態における熱サイクルの間、反応器15はアンダーヒート槽61に入り、図8(b)に示すように一旦反応器15がTLTに到達すると、反応器はアンダーヒート槽61を出て高温槽50のために設定されたオーバーヒート槽60に入り、図8(b)に示すように中間目標温度5の近傍に急速に到達し、次いで中温槽52に移動して、伸長のために必要とされる時間にわたって中間目標温度5で安定化される。一旦伸長が完了すると、反応器15はオーバーヒート槽60に移動して、アンダーヒート槽61に移動し戻す前にTHTの近傍まで急速に到達する。図10から図11に記載する実施形態では、内部の槽媒体75が光透過性であり、自己蛍光が低い場合、反応器15は、槽51、52、60、及び61のうちの1つの内部において蛍光検出のために画像化することができ、このような槽媒体75は、水、水−グリセロール混合物、油、及び加熱された又は加熱されていない空気であり得る。槽51、52、60、及び61内部の槽媒体75が光透過性ではなく、又は自己蛍光が高い場合、蛍光画像化のために、槽の外側又は槽内部の槽媒体の上方の加熱された又は加熱されていない空気のゾーンに反応器15を移動させることができる。核酸試料に対して異なる温度に設定された加熱槽の中で反応器15を急速に移送する本方法は、逆転写及び/又は等温増幅及び/又はプライマー伸長などの少なくとも1つの前処理を追加的に組み込むことができる。図12は、PCRを開始する前に少なくとも1つの予熱槽53を含む、生物学的又は生化学的反応を実施する方法を示す。少なくとも1つの予熱槽53は、逆転写及び/又は等温増幅及び/又はプライマー伸長に適した温度に設定することができる。反応器15を予熱槽53に曝した後、反応器を等温DNA処理ステップ及び/又はPCR熱サイクルのために他の槽に移送する。図示された実施形態では、核酸処理要件に応じて多くの槽が任意であり、任意の槽は、オーバーヒート槽60、アンダーヒート槽61、及び中温槽52を含む。別の実施形態では、目標温度を超える加熱法、すなわちオーバーヒートもアンダーヒートも使用されていない。この実施形態では、槽は、核酸分析又は処理に必要とされる目標温度に設定される。この実施形態では、1つ以上の以下の手段が使用される:
1)反応器は、少なくとも1つの槽の内部を往復するように高速で移動する、
2)反応器移送機構85は、4秒未満、好ましくは1秒未満で、反応器を1つの槽から別の槽に移送する、
3)槽は、より短い槽寸法を形成する槽表面に配置された槽ヒーター17を伴って、高いアスペクト比の幾何学的形状を有する、
4)より低い温度を有する槽51は、槽51内部に位置する反応器15内の液体試料の蛍光画像化のために、光学的に透明な窓27を有する。
小さいボアガラスキャピラリーなどの狭い内部空洞を有する小型反応器15は、反応器空洞内の液体の下に空気を閉じ込めることがあるため、通常のピペットで試料及び試薬液を充填することは困難である。そのような狭い空洞内に液体を充填するために、以下の手段を使用することができる:1)分配された液体を反応器空洞の入口に遠心分離すること、2)空洞の内部通路よりも細いチューブを空洞の底部の下に挿入すること、3)液体を充填する前に、真空を使用して空洞内の空気を除去すること、4)予め真空にされた空洞を使用して液体を充填すること、及び5)液体を充填する際に少なくとも1つの通気孔を有する空洞を使用し、その通気孔を密閉すること。液体を充填した後、熱サイクルが始まる前に充填ポートを密閉する。
異なる槽は、所望の特定の利点のために異なる槽媒体75を含むことができる。反応器15は、プラスチック、エラストマー、ガラス、金属、セラミック及びそれらの組み合わせから構成されてもよく、ここでプラスチックは、ポリプロピレン及びポリカーボネートを含む。ガラス反応器15は、0.1mm〜3mmのOD及び0.02mm〜2mmのIDのような小さい直径のガラスキャピラリーの形態で作製することができ、金属は、薄膜、細い空洞、及びキャピラリーの形態のアルミニウムであり得る。反応器の材料は、化学的又は生物学的安定性を有する非生物活性材料から作製することができる。反応器15の少なくとも一部は透明であることが好ましい。別の実施形態では、反応器15は、反応器アレイチップ又はマイクロ流体反応器チップ又はアレイチップの形態であり得る。例えば、反応器15は、基板プレートのウェル又はチャネルの形態であってもよく、場合によっては、固体材料層で覆われて反応物質21が配置された閉鎖反応チャンバーを形成してもよい。
反応器ホルダ33における全ての反応器15内の反応物質21は同一でなくてもよい。槽温が適切である場合、異なる物質に対して同時のPCRを有利に行うことができる。反応器壁の少なくとも一部は、厚さ1μm〜2mmの金属シートで作製することができる。この特徴は、槽と反応物質21との間の熱伝達率を高める。反応器壁の少なくとも一部は、厚さ0.5μm〜500μmのプラスチック又はガラスシートで作製することができる。反応器壁の少なくとも一部は、画像化及び検出プロセスを可能にするように透明材料で作製される。
本発明は、反応器ホルダ33における単一の反応器15又は複数の反応器15にも等しく適用可能である。上記の説明で使用される用語「液体」は、熱媒体の総称である。本発明の場合、熱媒体は、液体、水、溶媒又は他の化学流体又は他の固体粒子、固体粒子、金属粒子、銅粒子及び粉末と混合された水のような異なる形態であってもよい。
本発明をさらに説明し明確に理解するために、以下の幾つかの実施例及び図解を組み合わせて、本発明、特に試料試験を行うために装置を使用する方法をさらに指示する。
実施例1.1:核酸分析のための方法であって、以下のステップ:少なくとも1種の反応物質21を少なくとも1つの反応器15に添加するステップ、反応器15を密閉するステップ、核酸を増幅させるステップ、及び、核酸増幅中にオーバーヒート及び/又はアンダーヒート法を使用するステップを含み、ここでは、少なくとも1つの加熱槽の温度は核酸増幅に必要とされる目標温度よりも高いか又は低いと記載される。反応器15は、核酸が増幅される際、熱サイクルのために異なる温度を有する少なくとも2つの加熱槽内に交互に配置される。反応器15の温度が核酸増幅に必要とされる目標温度に近づくか又は等しい場合、反応器15は、反応器15が入っている加熱槽から別の加熱槽に迅速に移動する。オーバーヒート及び/又はアンダーヒート法が核酸増幅のために3ステップ法を使用する場合、加熱槽Iの温度を予備変性及び変性に必要とされる目標温度よりも高く設定し、加熱槽IIの温度を変性に必要とされる目標温度よりも低く設定し、加熱槽IIIの温度を伸長に必要とされる目標温度よりも高く設定し、反応器の熱サイクルを、加熱槽I、加熱槽II、加熱槽III、加熱槽Iの順序に従って交互に行う。
実施例1.2:本実施例と実施例1.1との違いは、反応器15の温度が核酸増幅に必要とされる目標温度に到達すると、反応器15を加熱浴Iから移動させて加熱浴IIに迅速に移送することである。
実施例1.3:本実施例と実施例1.1との違いは、反応器15の温度が核酸増幅に必要とされる目標温度を超えると、反応器15を加熱槽IIIから加熱槽IVに迅速に移動させ、加熱槽IVの温度を伸長に必要とされる目標温度に設定することである。
実施例2.1:本実施例と実施例1.1との違いは、それが核酸増幅の前に逆転写(逆転写ポリメラーゼ連鎖反応)も含むことである。
実施例2.2:本実施例と実施例2.1との違いは、逆転写が核酸増幅の熱サイクルの前又は同時に行われることである。
実施例2.3:本実施例と実施例2.2との違いは、核酸増幅の前に逆転写が行われ、それは加熱槽を添加する必要があるか、又は加熱槽の温度を逆転写に必要とされる目標温度に設定する必要があり、次いで、加熱槽の温度を核酸増幅に必要とされる目標温度に設定する必要があることである。
実施例3.1:本実施例と実施例1.1との違いは、温度過上昇(overtemperature)法が核酸増幅のために3ステップ法を使用する場合、第1加熱槽の温度を予備変性及び変性に必要とされる目標温度よりも高く設定し、加熱槽IIの温度を予備変性及び変性に必要とされる目標温度に設定し、加熱槽IIIの温度をアニーリングに必要とされる目標温度よりも低く設定し、加熱槽IVの温度をアニーリングに必要とされる目標温度に設定し、加熱槽Vの温度を伸長に必要とされる目標温度に設定し、反応器15の熱サイクルを、加熱槽I、加熱槽II、加熱槽III、加熱槽IV、加熱槽V、加熱槽Iなどの順序に従って、異なる温度を有する加熱槽の間で交互に行うことである。
実施例3.2:本実施例と実施例1.1との違いは、温度過上昇法を用いてポリメラーゼ連鎖反応を行い、反応器15を異なる温度を有する加熱槽内に交互に配置することである。加熱槽はそれぞれ、加熱槽I、加熱槽II、加熱槽III、加熱槽IV、加熱槽V、加熱槽VIである。加熱槽Iの選択温度は105〜135℃である。加熱槽IIの選択温度は95℃である。加熱槽IIIの選択温度は10〜40℃である。加熱槽IVの選択温度は50℃である。加熱槽Vの選択温度は82〜112℃である。加熱槽VIの選択温度は72℃である。加熱槽Iの選択温度は、予備変性及び変性に必要とされる目標温度よりも高く、加熱槽IIIの選択温度は、アニーリングに必要とされる目標温度よりも低く、加熱槽Vの選択温度は、伸長に必要とされる目標温度よりも高い。加熱槽I内の反応器の温度は、数秒間の間に目標温度95℃に到達するか、それに近づくか、又はそれを超え、反応器は加熱槽Iから加熱槽IIに迅速に移動される。加熱槽III内の反応系の温度は、数秒間の間に目標温度50℃に到達するか、それに近づくか、又はそれを超え、次いで、反応器は加熱槽IVに迅速に移動される。加熱槽V内の反応系の温度は、数秒間の間に目標温度72℃に到達するか、それに近づくか、又はそれを超え、次いで、反応器15は加熱槽VIに迅速に移動される。次いで、反応器15を作動トラックAに従って、順番に加熱槽I、加熱槽II、加熱槽III、加熱槽IV、加熱槽V、加熱槽VI、加熱槽Iに移動させ、そのような35サイクルの全プロセスは数分のみを必要とする。もちろん、ここでの移送は人工的なものでもよく、図1に示す反応器移送機構85を用いて機械化することもできる。この種の方法は、どのような種類であっても、通常のPCRと比較して時間を節約でき、高速で、高効率であり、出現時の検出に適している。PCR装置を使用する場合は、そのプロセスは、35サイクルにわたる、95℃での予備変性4分、95℃での変性1分、50℃でのアニーリング1分、72℃での伸長1.5分、72℃での伸長5分、95℃での変性1分、50℃でのアニーリング1分、72℃での伸長1.5分に分割され、最後は4℃で保持される。全プロセスは2時間近くかかり、低速で低効率である。
実施例3.3:本実施例と実施例1.1との違いは、上記の何れのスキームにおいても、好ましくは、温度過上昇法が核酸増幅のために2ステップ法を使用する場合、加熱槽Iの温度を予備変性及び変性に必要とされる目標温度よりも高く設定し、加熱槽IIの温度をアニーリング又は伸長に必要とされる目標温度よりも低く設定することである。
実施例3.4:本実施例と実施例3.3との違いは、温度過上昇法が核酸増幅のために2ステップ法を使用する場合、加熱槽Iの温度を予備変性及び変性に必要とされる目標温度よりも高く設定し、加熱槽IIの温度をアニーリングに必要とされる目標温度よりも低く設定し、加熱槽IIIの温度をアニーリングに必要とされる目標温度に設定し、反応器15を加熱槽Iから加熱槽IIに移送し、アニーリングに必要とされる目標温度よりも低い温度として加熱槽IIIに迅速に移送し、交互の循環のために一定時間後に加熱槽Iに移送し、核酸増幅の熱サイクルステップが加熱槽I、加熱槽II、加熱槽III、次いで加熱槽IIであることである。
前述の説明から、特許請求の範囲に定義された本発明から逸脱することなく、設計、構成及び動作の詳細の多くの変形又は修正がなされ得ることが、当業者に理解されるであろう。
15 反応器
16 クーラー
17 槽ヒーター
21 反応物質
22 水又は油又は水の上の油の層
25 透明な窓
31 カード
33 反応器ホルダ
34 温度監視ユニット
38 高速応答温度センサ
39 槽温センサ
50 槽(高温槽)
51 槽(低温槽)
52 槽(中温槽)
53 槽(予熱槽)
54 槽
56 反応器移送経路
60 オーバーヒート槽
61 アンダーヒート槽
75 槽媒体
77 シーラント又はキャップ
85 反応器移送機構
86 Xステージ
87 X軸線形ガイド
88 Zステージ
89 Z軸線形ガイド
204 槽モジュール
205 温度制御モジュール
206 光学モジュール
207 作動コントローラ
208 システムコントローラ
309 光ファイバ
310 光ファイバ
313 入口
315 チャネル

Claims (39)

  1. 熱プロファイルを用いて核酸を熱処理する装置であって、前記装置は、核酸を含む反応物質をそれぞれが収容する反応器を保持する反応器ホルダと、チューブ又はウェルプレート又はチップ又はカートリッジなどの任意の形態である反応器とを使用し、前記装置はまた、反応器温度センサと槽媒体とを使用し、前記装置は、
    第1の槽及び第2の槽であって、槽内の槽媒体はそれぞれ、2つの異なる温度THIGH及びTLOWで維持可能である、第1の槽及び第2の槽と、
    複数の熱サイクルで前記反応器を2つの前記槽内に配置し、
    −所定の高い目標温度THTと、
    −所定の低い目標温度TLT
    に交互に到達することを可能にする反応器移動機構
    を含み、
    さらに、前記装置は、
    a)THTがTHIGHよりも低い、
    b)TLTがTLOWよりも高い、及び
    c)a)及びb)の条件、
    からなる群からの少なくとも1つの条件によって規定された温度オフセット特性に適合し、
    前記反応器移動機構は、
    熱サイクル中に前記反応器温度センサによって感知されたリアルタイム温度に基づいて動作可能な温度誘導作動制御手段(TeGMCM)と、
    前記反応器が前記槽内に配置される時間周期に基づいて動作可能な時間誘導作動制御手段(TiGMCM)と
    からなる群からの少なくとも1つのモードによって動作可能であり、
    前記槽の何れかにおける槽媒体は、空気、液体、固体、粉末及びこれらの何れかの混合物を含む任意の相である、装置。
  2. TiGMCMは、時間周期に対してユーザーが較正することができる、請求項1に記載の装置。
  3. さらに第3の槽を含み、槽媒体は中間温度TMEDIUMで維持可能であり、前記反応器移動機構は、前記反応器を前記第3の槽内に配置し、所定の中間目標温度TMTに到達することを可能にし、TMEDIUMはTMTと同じであるか、又はTMTからオフセットされている、請求項1に記載の装置。
  4. さらに第4の槽を含み、槽媒体は、熱サイクル前に反応器に対する追加プロセスを可能にするために温度TAPで維持可能であり、前記追加プロセスは、
    e)逆転写ポリメラーゼ連鎖反応(RT−PCR)、
    f)ホットスタートプロセス及び
    c)等温増幅反応
    からなる群からの1つであり、
    前記反応器移動機構は、前記反応器を前記第4の槽内に配置し、追加プロセス目標温度TAPTに到達することを可能にし、TAPはTAPTと同じであるか、又はTAPからオフセットされている、請求項1に記載の装置。
  5. 前記第1の槽内の槽媒体は、100℃を超えて維持可能である、請求項1に記載の装置。
  6. 前記第2の槽内の槽媒体は、室温よりも低く維持可能である、請求項1に記載の装置。
  7. 前記反応器移動機構は、前記反応器の過熱又は過冷却を不必要に引き起こす動作上の電気機械的遅れを相殺するために、前記反応器がTHTよりも低い第1のリフトオフ温度及びTLTよりも高い第2のリフトオフ温度に到達する場合に前記反応器の槽からのリフトオフを開始するようにユーザーが較正することができる、請求項1に記載の装置。
  8. 熱サイクルの間に任意の槽内の温度を変更する変更手段をさらに含む、請求項1に記載の装置。
  9. HTは、核酸の変性のために85〜99℃の領域にあり、TLTは、核酸上へのプライマー又はプローブのアニーリング又はプライマー伸長のために45〜75℃の領域にあり、前記第1及び第2の槽は、反応器を熱サイクルしてポリメラーゼ連鎖反応(PCR)の増幅又はプライマー伸長を達成するためのものである、請求項1に記載の装置。
  10. 熱プロファイルにおける温度安定化ステップのための第5の槽をさらに含む、請求項1に記載の装置。
  11. 前記温度安定化ステップは目標温度のうちの1つにおけるものである、請求項10に記載の装置。
  12. 前記反応器が槽の何れかの中又は槽の外側の空気中にある場合に核酸を分析するための、蛍光画像化手段又は電気化学的検出手段をさらに含む、請求項1に記載の装置。
  13. 槽媒体が40〜80℃の範囲内の一定温度で、かつ蛍光画像化を含む熱サイクルプロセスを通して維持可能な液体又は熱空気である第6の槽をさらに含み、前記槽媒体及び前記第6の槽の少なくとも一部は透明であり、光源からの照射光の透過及び前記反応器からの放出光の透過を可能にする、請求項1に記載の装置。
  14. HIGHとTHTとの間の第1のオフセットは、1〜400℃の範囲内にあり、TLOWとTLTとの間の第2のオフセットは、1〜100℃の範囲内にある、請求項9に記載の装置。
  15. 前記第1の槽内の槽媒体は、第2の液体に添加された第1の液体であり、前記第2の液体の沸点は前記第1の液体の沸点よりも高い、請求項1に記載の装置。
  16. 前記第1の液体と前記第2の液体との混合物の沸点は100℃よりも高い、請求項15に記載の装置。
  17. 前記槽上の槽カバーであって、前記反応器を槽内に配置することを許容するように開口し、前記反応器が槽から除去された後に閉じる、槽カバーをさらに含む、請求項1に記載の装置。
  18. 前記槽媒体の温度を監視する槽センサと、
    熱サイクル中に前記反応器ホルダとともに移動して前記反応器の温度を監視することができる反応器温度センサと
    をさらに含む、請求項1に記載の装置。
  19. 前記反応器温度センサを封入する物質を含む容器をさらに含み、前記容器及び前記物質は、前記反応器及び前記反応物質と同様の構成又は熱伝達特性を有する、請求項18に記載の装置。
  20. 前記反応器を受け入れて、熱サイクル後に融解曲線分析を行いながら徐々に加熱されることができる、第7の槽をさらに含む、請求項1に記載の装置。
  21. 熱プロファイルを用いて核酸を熱処理する方法であって、
    核酸を含む反応物質をそれぞれが収容する反応器を保持する反応器ホルダと、チューブ又はウェルプレート又はチップ又はカートリッジなどの任意の形態である反応器とを使用するステップと、
    第1の槽及び第2の槽を含む装置を使用するステップと、
    前記第1の槽内の槽媒体を温度THIGHに、前記第2の槽内の槽媒体を温度TLOWに維持するステップと、
    前記装置において反応器移動機構を使用するステップであって、複数の熱サイクルで前記反応器を2つの槽内に配置し、
    −所定の高い目標温度THTと、
    −所定の低い目標温度TLT
    に交互に到達することを可能する、ステップと、
    a)THTがTHIGHよりも低い、
    b)TLTがTLOWよりも高い、及び
    c)a)及びb)の条件、
    からなる群からの少なくとも1つの条件によって規定された温度オフセット特性に適合させるステップと
    を含み、
    前記反応器移動機構は、
    熱サイクル中に反応器温度センサによって感知されたリアルタイム温度に基づいて動作可能な温度誘導作動制御手段(TeGMCM)と、
    前記反応器が槽内に配置される時間に基づいて動作可能な時間誘導作動制御手段(TiGMCM)と
    からなる群からの少なくとも1つのモードによって動作可能であり、
    前記槽の何れかにおける槽媒体は、空気、液体、固体、粉末及びこれらの何れかの混合物を含む任意の相である、方法。
  22. 前記装置において第3の槽を中間温度TMEDIUMに維持するステップであって、前記反応器移動機構は、前記反応器を前記第3の槽内に配置し、所定の中間目標温度TMTに到達することを可能にし、TMTはTMEDIUMと同じであるか、又はTMEDIUMからオフセットされている、ステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
  23. 熱サイクル前に反応器に対する追加プロセスを第4の槽において可能にするステップであって、槽媒体は、温度TAPで維持され、前記追加プロセスは、
    g)逆転写ポリメラーゼ連鎖反応(RT−PCR)、
    h)ホットスタートプロセス及び
    c)等温増幅反応
    からなる群からの1つである、ステップと、
    前記反応器移動機構を使用するステップであって、前記反応器を前記第4の槽内に配置し、追加プロセス目標温度TAPTに到達することを可能にし、TAPはTAPTと同じであるか、又はTAPからオフセットされている、ステップと
    をさらに含む、請求項21に記載の方法。
  24. 前記第1の槽内の槽媒体を100℃を超えて維持するステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
  25. 前記第2の槽内の槽媒体を室温よりも低く維持するステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
  26. 前記反応器の過熱又は過冷却を不必要に引き起こす動作上の電気機械的遅れを相殺するために、前記反応器がTHTよりも低い第1のリフトオフ温度及びTLTよりも高い第2のリフトオフ温度に到達する場合に前記反応器の槽からのリフトオフを開始するように、前記反応器移動機構を較正するステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
  27. 熱サイクルの間に前記装置における変更手段によって任意の槽内の温度を変更するステップをさらに含む、請求項21から26の何れか1項に記載の方法。
  28. HTは、核酸の変性のために85〜99℃の領域にあり、TLTは、核酸上へのプライマー又はプローブのアニーリング又はプライマー伸長のために、45〜75℃の領域にあり、前記第1及び第2の槽は、反応器を熱サイクルしてポリメラーゼ連鎖反応(PCR)の増幅又はプライマー伸長を達成するためのものである、請求項21に記載の方法。
  29. 熱プロファイルにおける温度安定化ステップのために第5の槽を使用するステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
  30. 前記温度安定化ステップは目標温度のうちの1つにおけるものである、請求項29に記載の方法。
  31. 前記反応器が槽の何れかの中又は槽の外側の空気中にある場合に核酸を分析するために、前記装置において蛍光画像化又は電気化学的検出を行うステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
  32. 槽媒体が液体又は熱空気である、アニーリング及び伸長のための第6の槽を使用するステップと、
    前記第6の槽において前記槽媒体を、40〜80℃の範囲内の一定温度で、かつ熱サイクルプロセスを通して維持するステップと、
    前記一定温度で前記第6の槽を通して蛍光画像化を行うステップであって、前記槽媒体及び前記第6の槽の少なくとも一部は透明であり、光源からの照射光の透過及び前記反応器からの放出光の透過を可能にする、ステップと
    をさらに含む、請求項21に記載の方法。
  33. HIGHとTHTとの間の第1のオフセットを1〜400℃の範囲内に設定するステップと、
    LOWとTLTとの間の第2のオフセットを1〜100℃の範囲内に設定するステップと
    をさらに含む、請求項21に記載の方法。
  34. 前記第1の槽内の槽媒体において、第2の液体を第1の液体に添加するステップであって、前記第2の液体の沸点は前記第1の液体の沸点よりも高い、ステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
  35. 前記第1の液体と前記第2の液体との混合物の沸点は100℃よりも高い、請求項34に記載の方法。
  36. 前記槽上に槽カバーを使用するステップであって、前記カバーは、前記反応器を槽内に配置することを許容するように開口し、前記反応器が前記槽から除去された後に閉じる、ステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
  37. 熱サイクル中に反応器温度センサを前記反応器ホルダとともに移動するステップであって、前記反応器の温度を監視する、ステップをさらに含む、請求項21に記載の方法。
  38. 前記反応器温度センサを封入する物質を含む容器を使用するステップであって、前記容器及び前記物質は、前記反応器及び前記反応物質と同様の構成又は熱伝達特性を有する、ステップをさらに含む、請求項37に記載の方法。
  39. 前記反応器を受け入れるために前記装置において第7の槽を使用するステップと、
    前記第7の槽を徐々に加熱しながら熱サイクル後に融解曲線分析を行うステップと
    をさらに含む、請求項21に記載の方法。
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