JP6696808B2 - 地盤改良構造および地盤の掘削方法 - Google Patents
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Description
前記略鉛直方向に沿った地盤改良体は、対向する位置にある両山留壁の掘削部側に設けられる前記略水平方向に沿った地盤改良体を接続するように配置されてもよい。
図1、2は本発明の実施形態に係る地盤改良構造1を示す図である。図1(a)は地盤改良構造1の鉛直方向の断面を示し、図1(b)は地盤改良構造1の水平方向の断面を示す。図1(a)は図1(b)の矢印B−Bによる断面図、図1(b)は図1(a)の矢印A−Aによる断面図である。図2は地盤改良構造1を示す斜視図である。図2において地盤9の図示は省略している。
本実施形態では、地盤9を掘削する際に、まず図3(a)に示すように地盤9の掘削部の両側に山留壁3を設けるとともに、各山留壁3の掘削部側の地盤9に図1等で説明した地盤改良体5、7を形成し、地盤改良構造1を構築する。
3;山留壁
5、7、7a;地盤改良体
9;地盤
15;切梁
Claims (4)
- 山留壁の掘削部側の地盤に構築される地盤改良構造であって、
略水平方向に沿った地盤改良体と、
略鉛直方向に沿った地盤改良体と、
を具備し、
前記略水平方向に沿った地盤改良体は、前記略水平方向に沿った板状であり、平面において前記山留壁の幅方向に沿って設けられ、前記山留壁に側面が当接するように、鉛直方向に間隔を空けて複数段配置され、
前記略鉛直方向に沿った地盤改良体は、前記略鉛直方向に沿った板状であり、平面において前記略水平方向に沿った地盤改良体から掘削部側に向かう方向に設けられ、前記山留壁の幅方向に間隔を空けて複数列配置され、前記略水平方向に沿った各地盤改良体の前記側面と反対側の側面に当接するように配置されたことを特徴とする地盤改良構造。 - 前記略鉛直方向に沿った地盤改良体の下端部が、地盤の支持層に達することを特徴とする請求項1に記載の地盤改良構造。
- 前記略鉛直方向に沿った地盤改良体は、対向する位置にある両山留壁の掘削部側に設けられる前記略水平方向に沿った地盤改良体を接続するように配置されることを特徴とする請求項1または請求項2記載の地盤改良構造。
- 山留壁の掘削部側の地盤を掘削する掘削方法であって、
地盤に山留壁を設けるとともに、前記山留壁の掘削部側の地盤に、略水平方向に沿った地盤改良体と、略鉛直方向に沿った地盤改良体とを形成する工程と、
前記山留壁の掘削部側の地盤を、前記地盤改良体とともに掘削する工程と、
を具備し、
前記略水平方向に沿った地盤改良体は、前記略水平方向に沿った板状であり、平面において前記山留壁の幅方向に沿って設けられ、前記山留壁に側面が当接するように、鉛直方向に間隔を空けて複数段配置され、
前記略鉛直方向に沿った地盤改良体は、前記略鉛直方向に沿った板状であり、平面において前記略水平方向に沿った地盤改良体から掘削部側に向かう方向に設けられ、前記山留壁の幅方向に間隔を空けて複数列配置され、前記略水平方向に沿った各地盤改良体の前記側面と反対側の側面に当接するように配置されることを特徴とする地盤の掘削方法。
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