JP6690365B2 - レトルト装置 - Google Patents

Description

本発明は、例えば、スプレー式又はシャワー式を含む熱水噴霧式と蒸気式との両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置に関する。

従来、熱水噴霧式（スプレー式）、熱水噴霧式（シャワー式）、又は蒸気式のレトルト装置が知られている（例えば、特許文献１〜３参照）。例えば、熱水噴霧式（スプレー式）、又は熱水噴霧式（シャワー式）により、缶詰のような食品を加熱殺菌することが知られている。
また、熱水噴霧式（スプレー式又はシャワー式）と蒸気式との両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置も提案されている。

特開平５−０８４０５５号公報 特開平５−３０９１２５号公報 特開２０１２−１０５５４９号公報

熱水噴霧式（スプレー式）、又は熱水噴霧式（シャワー式）のレトルト装置により、缶詰のような食品を加熱殺菌する場合、加圧空気に触れる時間が長くなるため、缶の材料である錫が酸化してくすみとなり、外観が悪くなるという問題があった。
また、蒸気式のレトルト装置により、例えば、レトルト食品を解凍する場合、処理槽内部の温度が均一にならないために、均一に解凍できないという問題があった。
また、ハイブリッド型のレトルト装置においては、例えば、最初に熱水噴霧式による運転を指示した場合、途中で蒸気式による運転に切り換えるためには、熱水噴霧式による運転停止指示を行い、改めて蒸気式による運転を指示し直す必要があった。

本発明は上記のような点に鑑みなされたもので、熱水噴霧式と蒸気式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置において、１回の操作で、被処理物の解凍を熱水噴霧式で行い、被処理物の殺菌を蒸気式で行うことを可能とすることを目的とする。

本発明は、被処理物が収容される処理槽と、前記処理槽に熱水を噴霧する熱水噴霧部と、前記処理槽に蒸気を供給する蒸気供給部と、前記熱水噴霧部及び前記蒸気供給部を制御する制御部と、を備えるレトルト装置であって、前記制御部は、前記熱水噴霧部から前記処理槽に熱水を噴霧させる解凍制御部と、前記解凍制御部による熱水の噴霧時間が予め設定された第１時間経過した場合に熱水の噴霧を停止させ、前記蒸気供給部から前記処理槽に蒸気の供給を開始させる殺菌制御部と、を備えるレトルト装置に関する。

また、前記殺菌制御部は、予め設定された第２時間前記処理槽に蒸気を供給させることが好ましい。

本発明によれば、熱水噴霧式と蒸気式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置において、１回の操作で、被処理物の解凍を熱水噴霧式で行い、被処理物の加熱殺菌を蒸気式で行うことで、被処理物を効率よく解凍するとともに、加熱殺菌時における缶等の被処理物容器の外面の酸化を緩和させることができる。

本発明の第１実施形態の概略構成を説明する模式図である。 本発明の第１実施形態に係る制御部の概略構成を説明する機能ブロック図である。 本発明の第１実施形態に係る解凍工程及び殺菌工程の時系列での温度変化を示したグラフである。 本発明の第２実施形態の概略構成を説明する模式図である。

［第１実施形態］
以下、本発明に係るレトルト装置の実施形態について、図１を参照して説明する。図１は、本発明のレトルト装置１の第１実施形態の概略構成を説明する模式図である。

第１実施形態では、被処理物９は、特に断らない限り、加圧加熱殺菌処理(レトルト)すべき密封包装体を意味し、例えば缶詰等を含み、レトルトパウチに限定されない。

図１に示すように、レトルト装置１は、処理槽２と、熱水噴霧部（スプレー式解凍部）１００と、蒸気供給部（蒸気式殺菌部）２００と、給水部３００と、排水部４００と、圧力調整部５００と、制御部６００とを備えて構成されている。

［処理槽２について］
処理槽２は、水平方向に延びる円筒壁と、この円筒壁の延びる方向の一端に設けられた開口と、円筒壁の他端を閉塞する閉塞壁と、開口を開閉する密閉扉とを備えている。
処理槽２には、台車が出し入れ可能に設けられている。台車には、被処理物９が載置されるトレイが上下方向に積み重ねられて挿脱可能に複数段配置されている。各トレイの底部には、被処理物９に噴射された熱水が下方に流れ落ちるための多数の貫通孔が形成されている。なお、被処理物９が缶詰の場合は、かごの中に缶詰を積み上げた形で納められている。
処理槽２には、水位計２６が設けられている。水位計２６は、処理槽２に貯留された熱水の液面の位置（水位）を検出するものであり、水位の検出方法には公知の技術である電極式水位検出方式又はフロート方式等を用いることができる。
処理槽２には、温度センサ２７と、圧力センサ２８とが設けられている。

［熱水噴霧部（スプレー式解凍部）１００について］
熱水噴霧部１００は、処理槽２の水平方向に延びる円筒壁内部の左右側及び天井側に設けられた熱水噴射ノズル１０４から熱水を細かいミストの状態で処理槽２内に噴霧させるスプレー式を採用する

熱水噴霧部１００は、熱水循環ライン１０１と、熱水循環ポンプ１０２と、加熱部１０３と、熱水噴射ノズル１０４と、を備える。

熱水循環ライン１０１は、処理槽２を経由して熱水を循環可能である。なお、図１において、熱水循環ライン１０１は、点線（大）で示される。
熱水循環ポンプ１０２、加熱部１０３、及び熱水噴射ノズル１０４は、熱水循環ライン１０１に設けられる。

熱水循環ポンプ１０２は、処理槽２に貯留された熱水を、加熱部１０３を経由して熱水噴射ノズル１０４に向けて供給させる。熱水循環ポンプ１０２は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。

加熱部１０３は、熱水循環ライン１０１を循環する熱水を加熱する。加熱部１０３は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、熱水循環ライン１０１と連通する度合（「連通状態」ともいう）が制御される。
加熱部１０３は、第１蒸気供給ライン１０６に接続され、この加熱部１０３には、蒸気源（図示せず）から蒸気が供給される。
第１蒸気供給ライン１０６は、第１蒸気制御弁１０７を備える。第１蒸気制御弁１０７は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。第１蒸気制御弁１０７が開放されることにより、蒸気源から蒸気が加熱部１０３に向けて供給され、熱水循環ライン１０１を循環する熱水を加熱する。

熱水噴射ノズル１０４は、熱水循環ライン１０１に接続され、この熱水噴射ノズル１０４には、熱水循環ライン１０１から熱水が供給される。
熱水噴射ノズル１０４は、処理槽２の円筒壁内部の左右側及び天井側に設けられる。熱水噴射ノズル１０４は、熱水循環ライン１０１に連通し加熱された熱水を細かいミストの状態で処理槽２内に噴霧可能である。そうすることで、熱水循環ライン１０１から供給された熱水を、熱水噴射ノズル１０４を介して処理槽２内に均一に降らせることができる。
スプレー式の場合には、熱水を処理槽２の内部に均一に降らせることが可能となるため、処理槽内部の温度を均一にすることができ、効率よく解凍することができるというメリットを有する。
他方、スプレー式の場合には、処理槽２内を加圧するために、缶等の被処理物９の容器の外面が空気に触れる時間が長くなるため、酸化される可能性がある。

［蒸気供給部（蒸気式殺菌部）２００について］
蒸気供給部（蒸気式殺菌部）２００は、第２蒸気供給ライン２０１と、第２蒸気制御弁２０２と、蒸気噴射ノズル２０３と、を備える。蒸気供給部２００は、処理槽２に蒸気を供給するように構成される。なお、図１において、第２蒸気供給ライン２０１は、１点鎖線で示される。

第２蒸気供給ライン２０１は、蒸気源と処理槽２（蒸気噴射ノズル２０３）とを接続する。第２蒸気供給ライン２０１は、蒸気源から蒸気を蒸気噴射ノズル２０３に向けて供給する。

第２蒸気制御弁２０２は、第２蒸気供給ライン２０１に設けられる。この第２蒸気制御弁２０２は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて制御される。第２蒸気制御弁２０２が開放されることにより、蒸気源から蒸気が蒸気噴射ノズル２０３に向けて供給される。

蒸気噴射ノズル２０３は、高温蒸気（例えば、１２０度）を処理槽２内に噴射し供給する。
蒸気式の場合には、スプレー式よりも処理槽２内部の保有空気が少ないため、缶等の被処理物９の容器の外面が保有空気により酸化させられる程度が軽減されるというメリットを有する。
他方、蒸気式の場合には、処理槽２の内部温度が低下（例えば１００度未満）した場合には、空気による伝熱障害が発生し処理槽２内部の温度が均一にならないため、処理槽２内部の温度にムラが生じる可能性がある。

［給水部３００について］
給水部３００は、給水タンク３０１と、給水ポンプ３０２と、給水ライン３０３と、を含んで構成されている。

給水タンク３０１は、給水源から供給される水を収容する。
給水ポンプ３０２は、給水ライン３０３に設けられる。

給水ライン３０３は、給水ポンプ３０２よりも下流において、処理槽２に接続される第１給水ライン３０４と、熱水循環ライン１０１に接続される第２給水ライン３０５とに分岐する。

第１給水ライン３０４は、第１給水弁３０６を備える。第１給水弁３０６は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。第１給水弁３０６が開放されることにより、給水タンク３０１から水が処理槽２に供給される。

第２給水ライン３０５は、第２給水弁３０７を備える。第２給水弁３０７は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。第２給水弁３０７が開放されることにより、給水タンク３０１から水が熱水循環ライン１０１に供給される。

［排水部４００について］
排水部４００は、排水ライン４０１と、排水弁４０２と、を備え、処理槽２に貯留されている使用済みの熱水を排出する。
排水ライン４０１は、処理槽２と外部（下水溝）とを接続する。
排水弁４０２は、排水ライン４０１に設けられる。排水弁４０２は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて、制御される。
排水弁４０２が開放されることにより、処理槽２に貯留されている使用済みの熱水が排出される。

［圧力調整部５００について］
圧力調整部５００は、処理槽２の内部の空気圧力を調整する機能を有し、空気圧ライン５０１と、この空気圧ライン５０１に設けた加圧制御弁５０２と、排気制御弁５０３と、を備える。
加圧制御弁５０２は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて制御される。加圧制御弁５０２は、開放されることにより、圧縮空気源（図示省略）からの圧縮空気を処理槽２内へ供給し、処理槽２内を加圧する。
排気制御弁５０３は、制御部６００と電気的に接続され、制御部６００から出力される制御信号に基づいて制御される。排気制御弁５０３は、開放されることにより、処理槽２内の空気を排出する。

本実施形態の熱水噴霧式と蒸気式の両方の機能を有するハイブリッド型のレトルト装置１においては、１回の操作で、被処理物の解凍を熱水噴霧式で行い、その後自動的に被処理物の殺菌を蒸気式で行うように切り換える。
このために、制御部６００は、図２に示すように、解凍制御部６１０と、殺菌制御部６２０と、を備える。
ここに、図２は、本発明の実施形態に係る制御部６００の概略構成を説明する機能ブロック図である。

［解凍制御部６１０について］
解凍制御部６１０は、熱水噴霧部１００等を制御することで、被処理物９の解凍を熱水噴霧式（スプレー式）で行う。このため、解凍制御部６１０は、次のように構成される。

解凍制御部６１０は、起動信号に応じて、第１蒸気制御弁１０７を開弁させ、蒸気源から供給される蒸気を加熱部１０３に供給させ、熱水循環ポンプ１０２を作動させる。この際、解凍制御部６１０は、加圧制御弁５０２を開放し、排気制御弁５０３を閉鎖することにより、処理槽２の内部を加圧する。
解凍制御部６１０は、圧力センサ２８により処理槽２内部の圧力を検出し、検出圧力値に基づいて、圧力調整部５００により、処理槽２内の空気圧力を調整する。
このように、熱水噴霧部１００により解凍する場合に、処理槽２の内部を加圧することで、処理槽２内には、保有空気が少なからず存在する。

解凍制御部６１０は、加熱部１０３により加熱した熱水を熱水循環ライン１０１、熱水噴射ノズル１０４を介して処理槽２内に噴霧させる。また、解凍制御部６１０は、温度センサ２７により処理槽２内部の温度を検出し、検出温度の値に基づいて、処理槽２内の温度を所定の温度（例えば８０度）に保持する。
より具体的には、解凍制御部６１０は、第１蒸気制御弁１０７の開閉動作を制御して、処理槽２内の温度を所定の温度に保持する。
このように、解凍をスプレー式で行うことで処理槽２内を均一な温度に保ち、効率よく均一に解凍することができる。

また、解凍制御部６１０は、排水弁４０２の開閉動作を制御して、処理槽２内の熱水を排水させるとともに、第１給水弁６０３及び第２給水弁６０５の開閉動作を制御し、給水ポンプ３０２を駆動制御して給水させ、処理槽２内の水位を予め定められた水位に保持させる。

［殺菌制御部６２０について］
殺菌制御部６２０は、被処理物９の解凍が予め設定された第１時間、熱水噴霧式で行われた後、被処理物９の加熱殺菌を蒸気供給部（蒸気式殺菌部）２００等を制御することで、被処理物９の加熱殺菌を蒸気式、即ち、蒸気の供給で行う。このため、殺菌制御部６２０は、次のように構成される。

殺菌制御部６２０は、解凍停止部６２１と、排水制御部６２２と、殺菌蒸気制御部６２３と、殺菌停止部６２４と、を備える。殺菌制御部６２０は、解凍制御部６１０による熱水の噴霧時間が予め設定された第１時間経過した場合に熱水の噴霧を停止させ、蒸気供給部２００から処理槽２に蒸気の供給を開始させるように構成される。

解凍停止部６２１は、予め設定された第１時間を経過した場合、第１蒸気制御弁１０７を閉弁させることで加熱部１０３による加熱を停止させるとともに、熱水循環ポンプ１０２を停止させ、解凍制御部６１０による熱水の噴霧を停止させる。なお、第１時間は、例えば、８０℃の熱水（１００℃未満の熱水）により被処理物９を解凍することができる時間を、被処理物９の特性等に基づいて予め設定することが好ましい。

排水制御部６２２は、予め設定された第１時間が経過した場合、排水部４００により処理槽２の内部に溜まった熱水を排水させる。より具体的には、排水制御部６２２は、排水弁４０２を開弁させ、熱水循環ポンプ１０２を作動させ、処理槽２の内部に溜まった熱水を排水ライン４０１により排水させる。

殺菌蒸気制御部６２３は、予め設定された第２時間、処理槽２に蒸気を供給させるように構成されている。ここで、第２時間は、例えば、１２０℃（１００℃以上）の蒸気により殺菌することができる時間を被処理物９の特性等に基づいて予め設定することが好ましい。

具体的には、殺菌蒸気制御部６２３は、排水制御部６２２により処理槽２の内部に溜まった熱水を排水した後、第２蒸気制御弁２０２を開弁し、第２蒸気供給ライン２０１から供給される高温蒸気を蒸気噴射ノズル２０３によって処理槽２の内部に噴射させる。そうすることで、処理槽２の内部は高温蒸気で満たされる。
また、殺菌蒸気制御部６２３は、加熱殺菌中に発生するドレンを排水部４００から排水させる。

殺菌停止部６２４は、処理槽２内の温度をほぼ一定の温度（例えば１２０℃）に保ったままの状態で、予め設定された第２時間が経過した場合、第２蒸気制御弁２０２を閉弁し、加熱殺菌を停止する。

このような制御部６００は、マイクロコンピュータによって構成することができる。
即ち、マイクロコンピュータは、ＣＰＵと、バスラインを介して接続されたＲＯＭ、ＲＡＭ、インタフェース等を含んで構成されている。ＲＯＭはＣＰＵが実行する解凍殺菌処理用の制御プログラム等を格納し、ＲＡＭはワーキングエリアを提供する。
そして、ＣＰＵが前記の制御プログラムを実行することにより、制御部６００が実現される。

次に図３を参照して、解凍工程及び殺菌工程における解凍制御部６１０及び殺菌制御部６２０の動作について、温度変化とともに説明する。ここで、図３は、本発明の実施形態に係る解凍工程及び殺菌工程の時系列での温度変化を示したグラフである。尚、図３の横軸は時間軸（分）を示し、縦軸は温度（摂氏温度）を示す。

図３に示すように、解凍制御部６１０が、起動信号に応じて、加熱部１０３により熱水循環ライン１０１の熱水を加熱させ、熱水循環ポンプ１０２を作動させると、熱水が熱水噴射ノズル１０４を介して処理槽２内に噴霧され、時間Ｔ０から時間Ｔ１までの間、処理槽２内の温度が上昇する。具体的には、解凍制御部６１０は、起動信号に応じて、第１蒸気制御弁１０７を開弁させることで、蒸気源から供給される蒸気を熱水循環ライン１０１の熱水に噴射させて熱水を加熱し、加熱された熱水が処理槽２内に噴霧され、時間Ｔ０から時間Ｔ１までの間、処理槽２内の温度が上昇する。

その後、時間Ｔ１において、処理槽２内の温度が所定の温度（例えば８０℃）に到達すると、解凍制御部６１０は、時間Ｔ２までの間、処理槽２内の温度を所定の温度に保持する。

時間Ｔ１から時間Ｔ２までの間、解凍制御部６１０は、排水弁４０２の開閉動作を制御して、処理槽２内の蒸気の凝縮による水量増加分を排水させ、処理槽２内の水位を予め定められた水位に保持させる。

予め設定された第１時間を経過した時間Ｔ２において、解凍停止部６２１は、第１蒸気制御弁１０７を閉弁して加熱部１０３による加熱を停止させるとともに、熱水循環ポンプ１０２を停止させる。そうすることで、熱水の処理槽２内への噴霧が停止される。

時間Ｔ２から時間Ｔ３までの間、排水制御部６２２は、排水弁４０２を開弁させ、熱水循環ポンプ１０２を作動させ、処理槽２の内部に溜まった熱水を排水ライン４０１により排水させる。

時間Ｔ３において、殺菌蒸気制御部６２３は、熱水循環ポンプ１０２を停止させ、第２蒸気制御弁２０２を開弁し、第２蒸気供給ライン２０１から供給される高温蒸気を蒸気噴射ノズル２０３によって処理槽２の中に噴射させ供給させる。

時間Ｔ４において、処理槽２内の温度が所定の温度（例えば１２０℃）に到達すると、殺菌蒸気制御部６２３は、予め設定された第２時間後の時間Ｔ５までの間、処理槽２内の温度を所定の温度に保持する。

第２時間経過後の時間Ｔ５において、殺菌停止部６２４は、第２蒸気制御弁２０２を閉弁し、加熱殺菌を停止する。

以上のように、第１実施形態のレトルト装置１においては、処理槽２の水平方向に延びる円筒壁内部の左右側及び天井側に設けられた熱水噴射ノズル１０４から熱水を細かいミストで処理槽２内に噴霧させるスプレー式の熱水噴霧部１００と、蒸気式の蒸気供給部２００と、熱水噴霧部１００から処理槽２に熱水を噴霧させることで、処理槽２に収容された被処理物９を解凍する解凍制御部６１０と、解凍制御部６１０による熱水の噴霧時間が予め設定された第１時間経過した場合に熱水の噴霧を停止させ、蒸気供給部２００から処理槽２に蒸気の供給を開始させる、被処理物９を加熱殺菌する殺菌制御部６２０と、を備える。
このように、解凍をスプレー式で行うことで処理槽２の内部温度を均一にすることができ、被処理物９を均一に効率よく解凍できる。また、レトルト装置１において、解凍をスプレー式で行い、所定時間経過後、加熱殺菌を蒸気式で行うように運転モードが自動的に切り換わることで、作業効率も向上させることができる。

また、第１実施形態のレトルト装置１においては、予め設定された第２時間の間、加熱殺菌を蒸気式で行う。
これにより、缶等の被処理物９の容器の外面の酸化を抑制することができる。例えば、被処理物９が例えば缶詰の場合には、缶の材料である錫の酸化によるくすみを抑制することが可能となる。

以上、この発明を実施形態により説明したが、この発明は、その主旨を変更しない範囲で種々変更実施可能である。

［第２実施形態］

第１実施形態においては、熱水噴霧部１００は、処理槽２の水平方向に延在する円筒壁内部の左右側及び天井側に設けられた熱水噴射ノズル１０４から熱水を細かいミストで処理槽２内に噴霧させるスプレー式を適用した。これに対して、スプレー式に替えて、処理槽２の上方に設けられたシャワープレート（分散板）の小孔から熱水を降らせるシャワー式を適用してもよい。
ここで、シャワー式とスプレー式とは、ともに熱水を処理層内に噴霧する点で共通である。相違点は、前者が上部の分散版の小孔から処理槽２内に熱水を降らせるのに対して、後者はノズルから処理層内に細かいミストで熱水を噴霧させる点である。スプレー式は、熱水噴射ノズルのそれぞれの開口部の開口面積が小さいので、シャワー式に比較して水滴の大きさがより細かいことである。

図４は、本発明の第２実施形態の概略構成を説明する模式図である。図４に示すように、第２実施形態に係るレトルト装置１ａは、熱水噴霧部（シャワー式解凍部）１００ａと、蒸気供給部（蒸気式殺菌部）２００と、給水部３００と、排水部４００と、圧力調整部５００と、制御部６００ａとを備えて構成される。
第２実施形態に係るレトルト装置１ａは、第１実施形態に係るレトルト装置１と、熱水噴霧部１００ａに関する構成で異なり、その他の構成については同様である。以下の説明において、その詳細説明を省略する。

図４に示すように、熱水噴霧部（シャワー式解凍部）１００ａは、熱水循環ライン１０１と、熱水循環ポンプ１０２と、加熱部１０３と、熱水導入管１０４ａと、シャワープレート（分散板）１０５ａと、を備える。
シャワープレート（分散板）１０５ａは、処理槽２内の被処理物９が積層されたトレイの上方に設置され、小孔が均等に設けられたプレートである。そうすることで、熱水循環ライン１０１から供給された熱水をシャワープレート（分散板）１０５ａの小孔を介して処理槽２内に均等に降らせることができる。
これにより、第１実施形態の場合と同様に、第２実施形態においても処理槽２内を均一な温度に保ち、効率よく均一に解凍することができる。
なお、第１実施形態の場合と同様に、第２実施形態においても、処理槽２内を加圧することから、処理槽２内の保有空気が少なからず存在するという特性がある。

第２実施形態のレトルト装置１ａにおいても、第１実施形態のレトルト装置１と同様に、解凍時に処理槽２の内部温度を均一にすることができ、被処理物９を均一に効率よく解凍できる。また、第２実施形態のレトルト装置１ａにおいても、解凍をシャワー式で行い、所定時間経過後、加熱殺菌を蒸気式で行うように運転モードが自動的に切り換わることで、作業効率も向上させることができるという効果を奏する。

そのほか、次に示す変形例を挙げることができる。
［変形例１］
第１実施形態においては、「殺菌制御部６２０の備える解凍停止部６２１」により、「解凍制御部６１０による熱水の噴霧」を停止させた。
これに対して、「解凍制御部６１０」が「解凍停止部６２１」を備えるようにしてもよい。また、「解凍停止部６２１」を、「殺菌制御部６２０」から独立した機能部としてもよい。第２実施形態についても同様である。

［変形例２］
同様に、第１実施形態において、「排水制御部６２２、殺菌蒸気制御部６２３、及び殺菌停止部６２４」を「殺菌制御部６２０」の備える機能部としたが、「殺菌制御部６２０」から独立した機能部としてもよい。第２実施形態についても同様である。

［変形例３］
第１実施形態において、処理槽２の密閉扉の形状を片側扉としたが、両側扉としてもよい。

１、１ａ レトルト装置
２ 処理槽
１００ 熱水噴霧部（スプレー式解凍部）
１００ａ 熱水噴霧部（シャワー式解凍部）
２００ 蒸気供給部（蒸気式殺菌部）
６００ 制御部
６１０ 解凍制御部
６２０ 殺菌制御部

Claims (2)

1. 被処理物が収容される処理槽と、
   前記処理槽に熱水を噴霧する熱水噴霧部と、
   前記処理槽に蒸気を供給する蒸気供給部と、
   前記熱水噴霧部及び前記蒸気供給部を制御する制御部と、を備えるレトルト装置であって、
   前記制御部は、
   前記熱水噴霧部から前記処理槽に熱水を噴霧させ、予め設定された第１時間、前記処理槽内部の温度を所定の温度に保持することで前記被処理物の解凍を行う解凍制御部と、
   前記解凍制御部による熱水の噴霧時間が前記第１時間経過した場合に熱水の噴霧を停止させ、前記蒸気供給部から前記処理槽に蒸気の供給を開始させることで前記被処理物の加熱殺菌を行う殺菌制御部と、を備えるレトルト装置。
2. 前記殺菌制御部は、予め設定された第２時間前記処理槽に蒸気を供給させる請求項１に記載のレトルト装置。

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